JP2017154111A - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents

Abstract

【課題】端面部分に付着した汚れを基板表面に移すことなく基板に対する所定の処理を行うことのできる基板処理装置を提供することである。【解決手段】搬送機構１２０によって搬送される平板状の基板（ガラス基板１０）に対して流体による処理を施す基板処理装置であって、搬送される前記基板１０に前記流体を吐出する処理機構の搬送方向Ｄ上流側において当該基板１０の端辺部分の汚れを除去する端部汚れ除去機構を有する構成となる。【選択図】図２Ａ

Description

本発明は、基板処理装置及び基板処理方法に関する。

従来、特許文献１に記載された基板の処理装置が知られている。この基板の処理装置では、搬送ローラによって搬送される平板状の基板の表面にシャワーノズルからエッチング液、現像液等が吹付けられて基板に対するエッチング処理、現像処理等が行われる。その後、基板の表面にリンス液（純水等）が吹付けられて当該基板のリンス処理が行われる。更に、その後、リンス処理の施された基板の表面に圧縮気体がエアーナイフによって吹付けられ、そのエアーナイフによって吹付けられる圧縮気体によって基板の乾燥処理が行われる。

特開２００４−１６９９７

しかしながら、本発明者によると、上述した基板の処理装置では、搬送される基板の端部分に付着したパーティクルが、処理に用いる流体の流れに乗って基板表面に運ばれてしまうことが判明した。このような現象が生じると、パーティクルが基板表面に付着して残ってしまうおそれがあり、基板の処理を良好に行なえない。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、基板の端部分に付着した汚れによって基板表面が汚れることを防止し、良好な基板処理を行なうことのできる基板処理装置及び基板処理方法を提供するものである。

本発明に係る基板処理装置は、搬送機構によって搬送される平板状の基板に対して流体による処理を施す基板処理装置であって、搬送される前記基板に前記流体を吐出する処理機構の搬送方向上流側において当該基板の端辺部分の汚れを除去する端部汚れ除去機構を有する構成となる。

また、本発明に係る基板処理方法は、搬送機構によって搬送される平板状の基板に対して流体による処理を施す基板処理方法であって、搬送される前記基板に対する前記流体による処理が行われる領域の搬送方向上流側において当該基板の端部分の汚れを除去する端部汚れ除去ステップを有する構成となる。

本発明に係る基板処理装置及び基板処理方法によれば、基板の端部分に付着した汚れによって基板表面が汚れることを防止し、良好な基板処理を行なうことができる。

本発明の実施形態に係る基板処理装置の全体構成を示す図である。 図１に示す基板処理装置における乾燥処理室の第１の内部構成例を示す平面図である。 図１に示す基板処理装置における乾燥処理室の第１の内部構成例を示す側面図である。 図２Ａ及び図２Ｂに示す乾燥処理室内での処理の状況を示す図である。 図１に示す基板処理装置における乾燥処理室の第２の内部構成例を示す平面図である。 図１に示す基板処理装置における乾燥処理室の第３の内部構成例を示す平面図である。

以下、本発明の第１の実施形態について図面を用いて説明する。

本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置の基本的な構造が図１に示される。

図１において、基板処理装置１００は、順次配列される複数の搬送ローラ１２によって処理の対象となるガラス基板１０（基板）を搬送するローラコンベア１２０（搬送機構）を備えている。この基板処理装置１００には、ブラシ洗浄室１５、リンス処理室１６、高圧洗浄室１７及び乾燥処理室１８が、この順番で配列されるように、設けられており、すべての処理室を貫通するようにローラコンベア１２０が配列されている。ブラシ洗浄室１５には、回転ブラシ（図示略）が設けられている。ローラコンベア１２０で搬送されるガラス基板１０がブラシ洗浄室１５を通過する際に、そのガラス基板１０の表面が回転ブラシによって洗浄される。リンス処理室１６には、リンス液を噴射するノズルユニット（図示略）が設けられている。ローラコンベア１２０で搬送されるブラシ洗浄済みのガラス基板１０がリンス処理室１６を通過する際に、そのガラス基板１０の表面がノズルユニットから噴出するリンス液によりリンス処理される。高圧洗浄室１７には、高圧にて洗浄液を噴射するノズルユニット（図示略）が設けられている。ローラコンベア１２０で搬送されるリンス処理済みのガラス基板１０が高圧洗浄室１７を通過する際に、そのガラス基板１０の表面が高圧噴射される洗浄液によって洗浄処理される。なお、以下、リンス液、洗浄液等を総称して「処理液」ともいう。乾燥処理室１８には、処理機構としての第１乾燥用のナイフツール２１（乾燥機構）が設けられている。ローラコンベア１２０によって搬送される高圧洗浄済みのガラス基板１０が乾燥処理室１８を通過する際に、そのガラス基板１０の表面上に残った液体（処理液）を第１乾燥用ナイフツール２１から噴射される気体によって吹き飛ばすことによって乾燥処理が施される。

乾燥処理室１８の第１の内部構成例は、図２Ａ及び図２Ｂに示される。なお、図２Ａは、その第１の内部構成例を示す平面図であり、図２Ｂは、その第１の内部構成を示す側面図である。

図２Ａ及び図２Ｂにおいて、ローラコンベア１２０による搬送路の両側には複数のガイドローラ１３が所定の間隔で設けられており、矩形状のガラス基板１０は、各ガイドローラ１３によって両側端面をガイドされつつローラコンベア１２０（搬送ローラ１２）によって搬送される。高圧洗浄処理を終えて高圧洗浄室１７から出てくる表面に洗浄液が残ったガラス基板１０は、乾燥処理室１８内に導入される。

乾燥処理室１８内には、第１乾燥用のナイフツール２１（乾燥機構、乾燥気体噴射機構）及び第１汚れ除去用のナイフツール２２（端部汚れ除去機構、側端部汚れ除去機構、汚れ除去流体吹付け機構、流体噴射機構）が設けられている。ナイフツール２１は、ローラコンベア１２０による搬送路の幅の全体にわたって、ガラス基板１０の搬送方向Ｄに対して左端が上流側、搬送方向Ｄに対して右端が下流側になるように当該搬送方向Ｄに対して斜めに延びている。ナイフツール２２は、ナイフツール２１より短く、ナイフツール２１の搬送方向Ｄにおける上流側に設けられている。そして、ナイフツール２２は、ローラコンベア１２０による搬送路の左端の近傍に設けられ、ナイフツール２１とは逆に、搬送方向Ｄに対して左端が下流側、搬送方向Ｄに対して右端が上流側となるように当該搬送方向Ｄに対して斜めに延びている。

ナイフツール２１には、ローラコンベア１２０による搬送面に対向するようにスリット２１ａが形成されており、そのスリット２１ａから気体（例えば、空気）が噴射する。スリット２１ａからの気体の噴射方向は、ガラス基板１０に垂直な方向に対して搬送方向Ｄにおける上流側に傾く斜め下方に設定されている。ナイフツール２１の配置位置、及びナイフツール２１から噴射される気体の噴射方向が先に述べたようなことから、ナイフツール２１からは、結果的に図２に示すＡ方向に気体が噴射されることとなる。また、ナイフツール２２にも、前記搬送面に対向するようにスリット２２ａが形成されており、そのスリット２２ａから気体（例えば、空気）が噴射する。スリット２２ａからの気体の噴射方向も、ガラス基板１０に垂直な方向に対して搬送方向Ｄにおける上流側に傾く斜め下方に設定されている。ナイフツール２２の配置位置、及びナイフツール２２から噴射される気体の噴射方向が先に述べたようなことから、ナイフツール２２からは、結果的に図３に示すＢ方向に気体が噴射されることとなる。なお、ナイフツール２２に形成されたスリット２２ａからの気体の噴射方向は、後述するように、搬送されるガラス基板１０の左端辺部分１１ｄ側の端面（ガラス基板１０の側面）及びエッジ部分の少なくとも一方に付着したパーティクルをこの噴射気体によって除去することを考慮して設定される。

乾燥処理室１８において、ローラコンベア１２０によって搬送されるガラス基板１０は、その前端辺部分１１ａがナイフツール２１の気体吐出領域を通過して後端辺部分１１ｃがナイフツール２１の気体吐出領域を通過するまでの過程で、次のように処理される。

図３に示すように、ナイフツール２１のスリット２１ａからの気体は、ガラス基板１０の幅全体（搬送方向Ｄを横切る方向における全域）にわたって、かつ、ガラス基板１０の搬送方向Ｄに延びる左端辺部分１１ｄ側から右端辺部分１１ｂ側に斜めに向かう方向（方向Ａ）に吹き付けられ、搬送方向Ｄにおける上流側に向けて斜め下方のガラス基板１０の表面に噴射される。ガラス基板１０の表面には上流側の高圧洗浄室１７（図２Ａ、図２Ｂ参照）で使用された処理液が液膜として残っている。ナイフツール２１のスリット２１ａから噴射される気体が、搬送されるガラス基板１０の表面に吹き付けられることにより、その吹き付けられる気体でガラス基板１０の表面に残った処理液が、図３に示すように、ガラス基板１０の左側前方角部から右側後方角部に向けて斜めに押しやられて、ガラス基板１０の右端辺部分１１ｂ及び後端辺部分１１ｃから排出される。これにより、ガラス基板１０の表面において、ナイフツール２１から噴射される気体が通過した部分から順次乾燥していく。

搬送されるガラス基板１０に対する上述したような乾燥処理が行われる領域の搬送方向Ｄの上流側において、図３に示すように、ナイフツール２２のスリット２２ａからの気体が、ガラス基板１０の左端辺部分１１ｄの内側から外側に斜めに向かう方向（方向Ｂ）であって、搬送方向Ｄにおける上流側に向けて斜め下方のガラス基板１０の表面の左端辺部分１１ｄ近傍の領域に噴射される。このナイフツール２２のスリット２２ａから噴射される気体が、搬送されるガラス基板１０の表面に吹き付けられることにより、ガラス基板１０の左端辺部分１１ｄ側の端面（側面）及びエッジ部分の少なくとも一方に付着した、例えば、ガイドローラ１３との擦れに起因したパーティクルがその左端辺部分１１ｄ（端辺部分、側端辺部分）から外方に除去される。

ここで、このナイフツール２２が設けられていない場合について検討する。まず、ナイフツール２１からの気体は、最初に、ガラス基板１０の下流左側角部に当たり、ガラス基板１０表面上の処理液を上流右側角部へ向けて押しやるとともに、ガラス基板１０の左端辺部分１１ｄ側の端面及びエッジ部分の少なくとも一方に付着しているパーティクルをガラス基板１０表面中央部分へと運んでしまうことが判明した。これは、ナイフツール２１からの気体が、ガラス基板１０が搬送されるに従って、順次、ガラス基板１０の左端辺部分１１ｄ側の端面及びエッジ部分の少なくとも一方に付着している処理液をもガラス基板１０上流右側角部方向（図３に示す方向Ａ参照）へと運ぶため、ガラス基板１０の表面にはその左端辺部分１１ｄ側の端面及びエッジ部分の少なくとも一方に付着していたパーティクルが運ばれてきてしまうからと考えられる。このように、ガラス基板１０の左端辺部分１１ｄ側の端面及びエッジ部分の少なくとも一方に付着していたパーティクルがガラス基板１０の表面中央部分に運ばれてくると、そのガラス基板１０の乾燥が完了したあとにもそのパーティクルがガラス基板１０表面上に残ってしまい、製品として使用できない場合がある。

よって、本実施形態のように、ガラス基板１０が搬送される過程で、ガラス基板１０の左端辺部分１１ｄ側の端面及びエッジ部分の少なくとも一方に付着したパーティクル等の汚れがナイフツール２２から吹き付けられる気体によって除去された後に、ガラス基板１０に対するナイフツール２１から吹き付けられる気体による乾燥処理が行われるようになる。

上述した基板処理装置１００によれば、第１の内部構成例の乾燥処理室１８において、ガラス基板１０が搬送される過程で、ガラス基板１０の左端辺部分１１ｄ側の端面及びエッジ部分の少なくとも一方の汚れが除去された後に、当該ガラス基板１０に対するナイフツール２１から吹き付けられる気体による乾燥処理が行われるので、その左端辺部分１１ｄ側の端面及びエッジ部分の少なくとも一方に付着した汚れをナイフツール２１から吹き付けられる気体よってガラス基板１０の表面の内方に移すことなくガラス基板１０に対する乾燥処理を行うことができる。

なお、ナイフツール２１から吹き付けられる気体の量と、ナイフツール２２から吹きつけられる気体の量は、例えば単位面積当たりの量が同程度となるように設定するのが好ましい。これは、ナイフツール２２によって、ガラス基板１０の左端辺部分１１ｄの端面及び（または）エッジ部分に付着している処理液を完全に除去しておくためである。ガラス基板１０の左端辺部分１１ｄの端面及びエッジ部分に付着している処理液を完全に除去しておくことによって、この部分にパーティクルが残っていたとしても、ナイフツール２１からの気体によって、ガラス基板１０の左端辺部分から表面内方へと処理液が移動することがなくなるので、パーティクルの移動も防止することができる。この点、ナイフツール２２からの気体の量が、乾燥用のナイフツールであるナイフツール２１からの気体の量と同程度であることによって、ガラス基板１０の端部及びエッジ部分に付着している処理液を完全に除去することが可能である。

次に、第２の実施形態について、図４を用いて説明する。

図４に示す乾燥処理室１８は、前述した第１の実施形態と同様のナイフツール２１、２２の他に、第２汚れ除去用のナイフツール２３（前端部汚れ除去機構）が設けられている。ナイフツール２３は、ナイフツール２２の更にガラス基板１０の搬送方向Ｄにおける上流側に設けられている。ナイフツール２３は、ローラコンベア１２０による搬送路の幅の全体にわたって、搬送方向Ｄに直交する方向に延びている。ナイフツール２３には、ローラコンベア１２０による搬送面に対向するようにスリット２３ａが形成されており、そのスリット２３ａから流体（例えば、空気または純水）が噴射するようになっている。スリット２３ａからの流体の噴射方向は、ガラス基板１０に垂直な方向に対して搬送方向Ｄにおける下流側に傾く斜め下方に設定されている。このスリット２３ａからの流体の噴射方向は、後述するように、噴射気体によって搬送されるガラス基板１０の前端辺部分１１ａ側の端面（ガラス基板１０の前端面）及びエッジ部分の少なくとも一方に付着したパーティクルを除去することを考慮して設定される。

このように、第１汚れ除去用のナイフツール２２とともに第２汚れ除去用のナイフツール２３が設けられた乾燥処理室１８においては、搬送されるガラス基板１０の前端辺部分１１ａ（端辺部分）がナイフツール２３の下方を通過する前後の所定時間にだけナイフツール２３のスリット２３ａから、ガラス基板１０の前端辺部分１１ａの上流側から下流側に向けて、即ち、搬送方向Ｄに流体が噴射される。なお、ナイフツール２３のスリット２３ａから流体を噴射させる期間は、例えば、ガラス基板１０の前端辺部分１１ａがナイフツール２３の真下位置の直前の所定位置を通過したことをセンサで検出したタイミング（開始タイミング）から予め実験的に定めた所定時間としてもよいし、前記開始タイミングから、ガラス基板１０の前端辺部分１１ａがナイフツール２３から下流側の所定位置を通過したことをセンサで検出したタイミング（終了タイミング）までとしてもよい。このナイフツール２３のスリット２３ａから噴射される流体が搬送されるガラス基板１０の前端辺部分１１ａ側の端面及びエッジ部分の少なくとも一方に吹き付けられることにより、ガラス基板１０の前端辺部分１１ａ側の端面及びエッジ部分の少なくとも一方に付着したパーティクル等の汚れがその前端辺部分１１ａの上流側から下流側に除去される。即ち、ガラス基板１０が搬送される過程で、ガラス基板１０の前端辺部分１１ａ側の端面及びエッジ部分の少なくとも一方に付着したパーティクル等の汚れがナイフツール２３から吹き付けられる流体によって除去された後に、第１の実施形態と同様、ガラス基板１０に対するナイフツール２１から吹き付けられる気体による乾燥処理が行われる。また、乾燥処理室１８の前述した第１の内部構成例（図２Ａ及び図２Ｂ参照）と同様に、第１汚れ除去用のナイフツール２２のスリット２２ａから噴射される気体が、搬送されるガラス基板１０の表面に吹き付けられることにより、ガラス基板１０の左端辺部分１１ｄ側の端面及びエッジ部分の少なくとも一方に付着したパーティクル等の汚れが、その左端辺部分１１ｄ側の端面及びエッジ部分の少なくとも一方から外方に除去される。よって、ガラス基板１０が搬送される過程で、ガラス基板１０の左端辺部分１１ｄ側及び前端辺部分１１ａ側それぞれの端面及びエッジ部分の少なくとも一方に付着したパーティクル等の汚れが、第１汚れ除去用のナイフツール２２及び第２汚れ除去用のナイフツール２３それぞれから吹き付けられる流体によって除去された後に、ガラス基板１０に対するナイフツール２１から吹き付けられる気体による乾燥処理が行われる。

上述した基板処理装置１００によれば、第２の内部構成例の乾燥処理室１８において、ガラス基板１０が搬送される過程で、ガラス基板１０の左端辺部分１１ｄ側及び前端辺部分１１ａ側それぞれの端面及びエッジ部分の少なくとも一方の汚れが除去された後に、当該ガラス基板１０に対するナイフツール２１から吹き付けられる気体による乾燥処理が行われるので、その左端辺部分１１ｄ側及び前端辺部分１１ａ側それぞれの端面及びエッジ部分の少なくとも一方に付着した汚れを第１乾燥用ナイフツール２１から吹き付けられる気体よってガラス基板１０の内方に移すことなくガラス基板１０に対する乾燥処理を行うことができる。

なお、第２汚れ除去用のナイフツール２３のスリット２３ａからの気体の噴射方向は、ガラス基板１０に垂直な方向に対して搬送方向Ｄにおける下流側に傾く斜め下方に設定されたが、ガラス基板１０に垂直な方向に設定するようにしてもよい。この場合、ガラス基板１０の前端辺部分１０ａがナイフツール２３の真下を通過する際に、その前端辺部分１０ａ側の端面及びエッジ部分の少なくとも一方に付着していたパーティクルは真上から吹き付けられる流体によって除去される。

次に、第３の実施形態について、図５を用いて説明する。

図５に示す乾燥処理室１８は、第２の実施形態（図４参照）の場合と同様の第１汚れ除去用のナイフツール２２及び第２汚れ除去用のナイフツール２３の他に、第３汚れ除去用のナイフツール２４（側端部汚れ除去機構）が設けられるとともに、第１乾燥用のナイフツール２１に代えて第２乾燥用のナイフツール２５（乾燥機構、乾燥気体噴射機構）が設けられている。

ナイフツール２４は、搬送方向Ｄにおいてナイフツール２２と略同じ位置にあって、ローラコンベア１２０による搬送路の右端の近傍に設けられている。そして、ナイフツール２４は、ナイフツール２２と略同じサイズである一方、ナイフツール２２とは逆に、搬送方向Ｄに対して右端が下流側、搬送方向Ｄに対して左端が上流側となるように当該搬送方向Ｄに対して斜めに延びている。また、ナイフツール２５は、ナイフツール２２、２３、２４の３つの汚れ除去用のナイフツール全ての搬送方向Ｄにおける下流側に設けられており、ローラコンベア１２０による搬送路の幅の全体にわたって、搬送方向Ｄに直交する方向に延びている。ナイフツール２４及びナイフツール２５のそれぞれは、ローラコンベア１２０による搬送面に対向するようにスリット２４ａ、２５ａが形成されており、ナイフツール２４のスリット２４ａからは気体（例えば、空気）が噴射し、ナイフツール２５のスリット２５ａからも気体（例えば、空気）が噴射するようになっている。

第１汚れ除去用のナイフツール２２、２３には、前述した第１の実施形態（図２Ａ、図２Ｂ参照）及び第２の実施形態（図４参照）と同様の方向に気体を噴射するスリット２２ａ、２３ａが形成されている。第３汚れ除去用のナイフツール２４のスリット２４ａからの気体の噴射方向は、ガラス基板１０に垂直な方向に対して搬送方向Ｄにおける上流側に傾く斜め下方に設定されている。なお、ナイフツール２４に形成されたスリット２４ａからの気体の噴射方向は、後述するように、噴射気体によって搬送されるガラス基板１０の右端辺部分１１ｂ側の端面（ガラス基板１０の側面）及びエッジ部分の少なくとも一方に付着したパーティクルを除去することを考慮して設定される。また、ナイフツール２５のスリット２５ａからの気体の噴射方向は、ガラス基板１０に垂直な方向に対して搬送方向Ｄにおける上流側に傾く斜め下方に設定されている。

このような第３の実施形態の乾燥処理室１８においては、前述した第２の実施形態の場合と同様に、搬送されるガラス基板１０の前端辺部分１１ａがナイフツール２３の下方を通過する前後の所定時間だけナイフツール２３のスリット２３ａから、ガラス基板１０の前端辺部分１１ａの上流側から下流側に向けて、即ち、搬送方向Ｄに気体が噴射される。また、ナイフツール２４のスリット２４ａからの気体が、ガラス基板１０の右端辺部分１１ｂ（端辺部分、側端辺部分）の内側から外側に斜めに向かう方向であって、搬送方向Ｄにおける上流側に向けて斜め下方のガラス基板１０の表面の右端辺部分１１ａ近傍の領域に噴射される。このナイフツール２２のスリット２２ａから噴射される気体が移動するガラス基板１０の表面に吹き付けられることにより、ガラス基板１０の右端辺部分１１ｂ側の端面（側面）及びエッジ部分の少なくとも一方に付着した、例えば、ガイドローラ１３との擦れに起因したパーティクルがその右端辺部分１１ｂから外方に除去される。更に、乾燥処理室１８の前述した第１の実施形態（図２Ａ及び図２Ｂ参照）と同様に、ナイフツール２２のスリット２２ａから噴射される流体が、搬送されるガラス基板１０の表面に吹き付けられることにより、ガラス基板１０の左端辺部分１１ｄ側の端面及びエッジ部分の少なくとも一方に付着したパーティクル等の汚れがその左端辺部分１１ｄ側の端面及びエッジ部分の少なくとも一方から外方に除去される。

よって、ガラス基板１０が搬送される過程で、ガラス基板１０の左端辺部分１１ｄ側、前端辺部分１１ａ側及び右端辺部分１１ｂ側それぞれの端面及びエッジ部分の少なくとも一方に付着したパーティクル等の汚れが、ナイフツール２２、２３、２４それぞれから吹き付けられる気体によって除去された後に、ガラス基板１０に対してナイフツール２５のスリット２５ａから吹き付けられる気体よって、ガラス基板１０の表面に残った処理液が、ガラス基板１０の前端辺部分１１ａから後端辺部分１１ｃに向けて押しやられて、ガラス基板１０の後端辺部分１１ｃから排出される。これにより、ガラス基板１０の表面においてナイフツール２５から噴射する気体が通過した部分から順次乾燥していく。

上述した基板処理装置１００によれば、第３の実施形態の乾燥処理室１８において、ガラス基板１０が搬送される過程で、ガラス基板１０の左端辺部分１１ｄ側、前端辺部分１１ａ側及び右端辺部分１１ｂ側それぞれの端部及びエッジ部分の少なくとも一方の汚れが除去された後に、当該ガラス基板１０に対するナイフツール２５から吹き付けられる気体による乾燥処理が行われるので、その左端辺部分１１ｄ側、前端辺部分１１ａ側及び右端辺部分１１ｂ側それぞれの端部及びエッジ部分の少なくとも一方に付着した汚れをナイフツール２５から吹き付けられる気体よってガラス基板１０の表面の内方に移すことなくガラス基板１０に対する乾燥処理を行うことができる。

上記各実施形態においては、処理対象物をガラス基板としたが、処理の対象となる基板は、ガラス基板に限られず他の種類の基板（例えば、半導体ウェハ）であってもよい。
上記各実施形態においては、ガラス基板１０の各端面及びエッジ部分の少なくとも一方の汚れを除去した後に行う処理は、乾燥処理と、処理機構である乾燥用のナイフツールによるものとしたが、に限定されず、他の処理であってもよい。例えば、ガラス基板１０上に形成された処理液の液膜を別の処理液に置換するような処理を行う場合、処理機構としての乾燥用のナイフツールを、液体を吐出するナイフツールとしてもよい。このとき、第１汚れ除去用のナイフツール２２、第２汚れ除去用のナイフツール２３及び第３汚れ除去用のナイフツール２４のそれぞれからは、純水を供給するようにしてもよいし、異なる液体を供給してもよい。
この場合、第１汚れ除去用のナイフツール２２、第２汚れ除去用のナイフツール２３及び第３汚れ除去用のナイフツール２４のそれぞれから気体に代えて液体（例えば、洗浄液）を噴射するようにすることもできる。
各ナイフツールから噴射される液体中には、気体を気泡として含有させるようにしてもよい。
各ナイフツールは、基板の両面のそれぞれに対向するように設けるようにしてもよい。
上記各実施形態において、各ナイフツールはガラス基板１０の上方に設けられるものとしたが、これに限らず、ガラス基板１０の下面側（すなわち、ローラコンベアの下方）にも設けることもできる。

また、第２乾燥用のナイフツール２５のように、搬送方向に直交するように乾燥用のナイフツールを配置する場合においては、基板を水平面内において搬送方向に対して傾くような姿勢で搬送させることもできる。この構成では、基板には、一方の角部分から対角線上の逆側の角部分まで順次乾燥用ナイフツールから噴射される気体が吹付けられる。このため、第１の実施形態（図２Ａ及び図２Ｂ参照）の場合と略同様に、基板の一方の角部分から乾燥用のナイフツールの真下を順次通過して基板の対角線上の反対側の角部分から乾燥用のナイフツールの真下を通過していく。そして、その吹き付けられる気体で基板の表面に残った処理液が、基板の一方の角部分から他方の角部分に向けて斜めに押しやられて、基板１０の後方側の２つの端辺部分から排出される。この場合、基板の前記一方の角部分で接合する前方側の各端辺部分の内側から外側に向かい、かつ、ガラス基板１０に垂直な方向に対して搬送方向における下流側に傾く斜め下方に気体が噴射するように各汚れ除去用ナイフツールが設定される。これにより、基板の表面の乾燥処理の前に、前方側の各端辺部分の端面及びまたはエッジ部分に付着した汚れを除去することができる。いかなる場合においても、処理機構としての乾燥用のナイフツール、あるいは、液体を吐出するナイフツールからの流体が最初に到達するガラス基板１０の角部に近接する端辺部に対応する箇所に、汚れ除去用のナイフツールが設けられることが望ましい。

以上、本発明のいくつかの実施形態及び各部の変形例を説明したが、この実施形態や各部の変形例は、一例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。上述したこれら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明に含まれる。

１０ ガラス基板（基板）
１１ａ 前端辺部分
１１ｂ 右端辺部分
１１ｃ 後端辺部分
１１ｄ 左端辺部分
１２ 搬送ローラ
１３ ガイドローラ
１５ ブラシ洗浄室
１６ リンス処理室
１７ 高圧洗浄室
１８ 乾燥処理室
２１ 第１乾燥用のナイフツール
２１ａ スリット
２２ 第１汚れ除去用のナイフツール
２２ａ スリット
２３ 第２汚れ除去用のナイフツール
２３ａ スリット
２４ 第３汚れ除去用のナイフツール
２４ａ スリット
２５ 第２乾燥用ナイフツール
２５ａ スリット
１００ 基板処理装置
１２０ 搬送機構

Claims (10)

1. 搬送機構によって搬送される平板状の基板に対して流体による処理を施す基板処理装置であって、
   搬送される前記基板に前記流体を吐出する処理機構の搬送方向上流側において当該基板の端辺部分の汚れを除去する端部汚れ除去機構を有する基板処理装置。
2. 前記端部汚れ除去機構は、前記搬送方向に延びる前記基板の一方の側端辺部分の汚れを除去する側端部汚れ除去機構を含む請求項１記載の基板処理装置。
3. 前記端部汚れ除去機構は、前記基板の前記搬送方向を横切る方向に延びる前端辺部分の汚れを除去する前端部汚れ除去機構を含む請求項１または２記載の基板処理装置。
4. 前記基板の表面に気体を吹付けて当該基板の表面を乾燥させる乾燥処理を前記所定の処理として実行する乾燥機構を有し、
   前記端部汚れ除去機構は、前記乾燥機構の上流側に設けられ、前記端部分の内側から外側に向けて流体を吹付けて前記端部分の汚れを除去する汚れ除去流体吹付け機構を含む請求項１記載の基板処理装置。
5. 前記乾燥機構は、前記基板の搬送方向を横切る方向における幅の全域にわたって、前記搬送方向に延びる前記基板の一方の側端部分側から他方の側端部分側に斜めに向かう方向であって、前記搬送方向における上流側に向けて前記気体を前記基板表面に噴射する乾燥気体噴射機構を有し、
   前記汚れ除去流体吹付け機構は、前記基板の前記一方の側端部分の内側から外側に向かう方向であって、前記搬送方向における上流側に向けて前記流体を前記基板表面に噴射する流体噴射機構を含む請求項４記載の基板処理装置。
6. 搬送機構によって搬送される平板状の基板に対して流体による処理を施す基板処理方法であって、
   搬送される前記基板に対する前記流体による処理が行われる領域の搬送方向上流側において当該基板の端部分の汚れを除去する端部汚れ除去ステップを有する基板処理方法。
7. 前記端部汚れ除去ステップは、前記搬送方向に延びる前記基板の一方の側端部分の汚れを除去する側端部汚れ除去ステップを含む請求項６記載の基板処理方法。
8. 前記端部汚れ除去ステップは、前記基板の前記搬送方向を横切る方向に延びる前端部分の汚れを除去する前端部汚れ除去ステップを含む請求項６または７記載の基板処理方法。
9. 前記基板の表面に気体を吹き付けて当該基板の表面を乾燥させる乾燥処理を前記流体による処理として実行する乾燥ステップを有し、
   前記端部汚れ除去ステップは、搬送される前記基板に対する乾燥ステップによる前記乾燥処理が行われる領域の搬送方向上流側において、前記端部分の内側から外側に向けて流体を吹付けて前記端部分の汚れを除去する汚れ除去流体吹付けステップを含む請求項６記載の基板処理方法。
10. 前記乾燥ステップは、前記基板の搬送方向を横切る方向における幅の全域にわたって、前記搬送方向に延びる前記基板の一方の側端部分側から他方の側端部分側に斜めに向かう方向であって、前記搬送方向における上流側に向けて前記気体を前記基板表面に噴射する乾燥気体噴射ステップを有し、
    前記汚れ除去流体吹付けステップは、前記基板の前記一方の側端部分の内側から外側に向かう方向であって、前記搬送方向における上流側に向けて前記流体を前記基板表面に噴射する流体噴射ステップを含む請求項９記載の基板処理方法。

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