JP6226641B2 - エッジ搬送機能を有する基板処理装置 - Google Patents
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Description
本願の発明は、半導体基板、液晶基板等の基板処理装置に関し、特に、少なくとも薬液による化学的処理、水によるリンス処理、エアーナイフによる乾燥処理を行う基板処理装置において、基板の上下面に接触することなく、基板を搬送させつつ、基板の上面と下面の両方又は上面のみに処理を行う、エッジ搬送機能を有する基板処理装置に関する。
液晶基板の製造プロセスにおいては、例えば、スマートフォンやタブレット端末に使用されているタッチパネルのように、基板の両面に回路パターンを形成するものが増えて来ている。この場合、基板の上面のみならず、基板の下面の汚染も問題となってくる。
ところが、従来の基板処理装置では、特開２００７―２５３０６８号公報（特許文献１）に記載されている例で、該公報からの抜粋である図１２に示すように、基板０１１は、基板の搬送路の下部に配置された複数の搬送ローラー０３１の上に載り、該搬送ローラー０３１の回転によって、薬液処理工程、リンス処理工程、エアーナイフによる乾燥処理工程と運ばれながら処理されていくため、処理中に、基板の裏面に搬送ローラー０３１が接触することによる、ローラー痕等の汚染が発生してしまうという問題がある。
また、特開平９―２１４１８１号公報（特許文献２）に記載されている例では、該公報からの抜粋である図１３に示すように、基板の左右両端に設けられ、それらの軸心が、その延長線上でＶ字状に交差するように配置された、Ｖ字型の溝を持った一対の搬送ローラー０３２の、Ｖ斜面の一つの面に基板０１１を載せ、Ｖ斜面のもう一つの面によって、進行方向左右の蛇行を規制しながら、該搬送ローラー０３２の回転によって基板０１１を搬送する方式が提案されているが、この方式においても、基板０１１の下面の端部が搬送ローラー０３２に接触しているため、当該部分の汚染は避けられない。
本願の発明は、従来の基板処理装置が有する前記のような問題点を解決して、基板を高速かつ安定的に、かつ、基板の上下面に非接触で搬送し、基板の上下面にローラー痕などによる汚染を生成せずに、基板の上面と下面の両方又は上面のみに処理を行う、エッジ搬送機能を有する基板処理装置を提供することを課題とする。
前記のような課題は、本願の特許請求の範囲の各請求項に記載された次のような発明により解決される。
すなわち、その請求項１に記載された発明は、液晶等の基板を移動させながら、前記基板の上面と下面の両方又は上面のみに、少なくとも薬液による化学的処理、水によるリンス処理、基板上下より吹き付けられる空気又は窒素ガスといった気体による乾燥処理を行う、薬液処理部、リンス処理部、乾燥処理部からなる複数の処理部を備えるとともに、これら複数の処理部の前後に、ローダー部及びアンローダー部をそれぞれ備えてなる基板処理装置において、前記複数の処理部には、前記基板の搬送方向から見て、前記基板の左右両側のエッジ部に水平方向から接触して前記基板を移動させる、ローラー表面円周にＶ字形の切れ込みが入れられた、前記基板の上面と下面に接触しない搬送ローラーが、複数配置され、前記ローダー部及び前記アンローダー部には、前記基板の搬送方向から見て、前記基板の左右両側のエッジ部に水平方向から接触して前記基板を移動させる、２段にテーパーの付いた、上方に向って先細りの円錐台形状の搬送ローラーが、複数配置され、前記円錐台形状の搬送ローラーは、前記２段のテーパーが交わる角部が、前記基板の左右両側のエッジ部に水平方向から接触することにより、前記基板の上面と下面に接触しない構造とされている、ことを特徴とするエッジ搬送機能を有する基板処理装置である。
すなわち、その請求項１に記載された発明は、液晶等の基板を移動させながら、前記基板の上面と下面の両方又は上面のみに、少なくとも薬液による化学的処理、水によるリンス処理、基板上下より吹き付けられる空気又は窒素ガスといった気体による乾燥処理を行う、薬液処理部、リンス処理部、乾燥処理部からなる複数の処理部を備えるとともに、これら複数の処理部の前後に、ローダー部及びアンローダー部をそれぞれ備えてなる基板処理装置において、前記複数の処理部には、前記基板の搬送方向から見て、前記基板の左右両側のエッジ部に水平方向から接触して前記基板を移動させる、ローラー表面円周にＶ字形の切れ込みが入れられた、前記基板の上面と下面に接触しない搬送ローラーが、複数配置され、前記ローダー部及び前記アンローダー部には、前記基板の搬送方向から見て、前記基板の左右両側のエッジ部に水平方向から接触して前記基板を移動させる、２段にテーパーの付いた、上方に向って先細りの円錐台形状の搬送ローラーが、複数配置され、前記円錐台形状の搬送ローラーは、前記２段のテーパーが交わる角部が、前記基板の左右両側のエッジ部に水平方向から接触することにより、前記基板の上面と下面に接触しない構造とされている、ことを特徴とするエッジ搬送機能を有する基板処理装置である。
また、その請求項２に記載された発明は、前記薬液処理部と前記リンス処理部との間に、超音波洗浄処理部を更に備え、前記超音波洗浄処理部には、前記基板の搬送路の上方と下方に、前記基板の上面と下面に向って超音波を照射する超音波照射器が、前記基板を挟んで互いに対向するようにして、それぞれ配置され、下方の前記超音波照射器は、前記基板と対向する壁面に設けられた複数の穴から噴出する水により、前記基板を浮遊した状態に保持するとともに、前記基板との間に水の膜を形成し、前記水の膜を通して、基板面に超音波を伝播させる構造とされ、上方の前記超音波照射器は、前記基板と対向する壁面に設けられた複数の穴から噴出する水により、前記基板との間に水の膜を形成し、前記水の膜を通して、基板面に超音波を伝播させる構造とされるとともに、前記基板の搬送方向から見て、前記基板の左右両側のエッジ部に水平方向から接触して前記基板を移動させる、フラットな円筒形の、前記基板の上面と下面に接触しない搬送ローラーが、複数配置されている、ことを特徴とする請求項１に記載のエッジ搬送機能を有する基板処理装置である。
さらに、その請求項３に記載された発明は、前記薬液処理部と前記リンス処理部との間に、スポンジローラー洗浄処理部を更に備え、前記スポンジローラー洗浄処理部には、前記基板の搬送路の上方と下方に、前記基板の上面と下面に接するようにして、スポンジローラーが、それぞれ複数配置されるとともに、前記基板の搬送方向から見て、前記基板の左右両側のエッジ部に水平方向から接触して前記基板を移動させる、フラットな円筒形の、前記基板の上面と下面に接触しない搬送ローラーが、複数配置されている、ことを特徴とする請求項１又は２に記載のエッジ搬送機能を有する基板処理装置である。
本願の発明は、前記のように構成されているので、次のような効果を奏することができる。
薬液処理部、リンス処理部、乾燥処理部からなる複数の処理部では、薬液による化学的処理や水によるリンス処理をされる基板は、最初の化学的処理工程から最後の乾燥処理工程までの全ての処理工程において、基板の左右両側のエッジ部が、基板を水平方向から挟むように複数配置された、ローラー表面円周にＶ字形の切れ込みが入れられた搬送ローラー（Ｖ字溝付き搬送ローラー）のＶ字の谷底部にのみ接触して保持され、該Ｖ字の谷底部の下側のテーパー面は、基板の下面に対し、ある角度を持って開いており、該Ｖ字の谷底部の上側のテーパー面は、基板の上面に対し、ある角度を持って開いているため、基板の上下面共に、前記Ｖ字溝付き搬送ローラーに接触することはなく、基板の上面も下面も、搬送ローラーとの接触による汚染を防ぐことができる。
また、基板の左右両側のエッジ部にのみ、水平方向から接触して回転するＶ字溝付き搬送ローラーによる機械的な力により、基板を高速かつ安定的に移動させることができる。
薬液処理部、リンス処理部、乾燥処理部からなる複数の処理部では、薬液による化学的処理や水によるリンス処理をされる基板は、最初の化学的処理工程から最後の乾燥処理工程までの全ての処理工程において、基板の左右両側のエッジ部が、基板を水平方向から挟むように複数配置された、ローラー表面円周にＶ字形の切れ込みが入れられた搬送ローラー（Ｖ字溝付き搬送ローラー）のＶ字の谷底部にのみ接触して保持され、該Ｖ字の谷底部の下側のテーパー面は、基板の下面に対し、ある角度を持って開いており、該Ｖ字の谷底部の上側のテーパー面は、基板の上面に対し、ある角度を持って開いているため、基板の上下面共に、前記Ｖ字溝付き搬送ローラーに接触することはなく、基板の上面も下面も、搬送ローラーとの接触による汚染を防ぐことができる。
また、基板の左右両側のエッジ部にのみ、水平方向から接触して回転するＶ字溝付き搬送ローラーによる機械的な力により、基板を高速かつ安定的に移動させることができる。
ローダー部及びアンローダー部では、基板は、基板の左右両側のエッジ部が、基板を水平方向から挟むように複数配置された、２段にテーパーの付いた、上方に向って先細りの円錐台形状の搬送ローラー（２段テーパー付き搬送ローラー）の、前記２段のテーパーが交わる角部にのみ接触して保持され、該角部の下側のテーパー面は、基板の下面に対し、ある角度を持って開いており、該角部の上側のテーパー面は、基板の上面に対し、ある角度を持って開いているため、基板の上下面共に、前記２段テーパー付き搬送ローラーに接触することはなく、基板の上面も下面も、搬送ローラーとの接触による汚染を防ぐことができる。
また、基板の左右両側のエッジ部にのみ、水平方向から接触して回転する２段テーパー付き搬送ローラーの回転による機械的な力により、基板を高速かつ安定的に移動させることができる。
また、基板の左右両側のエッジ部にのみ、水平方向から接触して回転する２段テーパー付き搬送ローラーの回転による機械的な力により、基板を高速かつ安定的に移動させることができる。
前記２段テーパー付き搬送ローラーは、また、次のような効果を奏することができる。
２段テーパー付き搬送ローラーは、２段にテーパーの付いた、上方に向って先細りの円錐台形状をしているため、ローダー部で、装置上方より基板を装置内にセットする時に、前記搬送ローラーを退避させるために、搬送ローラーを基板に対し水平方向外側に移動させる機構が不要で、シンプルかつ安価に製作することができる。
さらに、アンローダー部においても、ローダー部と同様に、２段テーパー付き搬送ローラーの退避機構が不要で、処理の終了した基板を、装置の上方に容易に取り出すことができる。
２段テーパー付き搬送ローラーは、２段にテーパーの付いた、上方に向って先細りの円錐台形状をしているため、ローダー部で、装置上方より基板を装置内にセットする時に、前記搬送ローラーを退避させるために、搬送ローラーを基板に対し水平方向外側に移動させる機構が不要で、シンプルかつ安価に製作することができる。
さらに、アンローダー部においても、ローダー部と同様に、２段テーパー付き搬送ローラーの退避機構が不要で、処理の終了した基板を、装置の上方に容易に取り出すことができる。
超音波洗浄処理部では、基板は、下方に配置された超音波照射器から噴出する水により、浮遊状態に保持されて垂直方向（重力方向）に支えられており、基板の左右両側のエッジ部が、基板を水平方向から挟むように複数配置された、フラットな円筒形の搬送ローラー（フラット搬送ローラー）の円筒面にのみ接触するため、基板の上下面共に、前記フラット搬送ローラーに接触することはなく、基板の上面も下面も、搬送ローラーとの接触による汚染を防ぐことができる。
また、基板の左右両側のエッジ部にのみ、水平方向から接触して回転するフラット搬送ローラーの回転による機械的な力により、基板を高速かつ安定的に移動させることができる。さらに、その搬送ローラーは、他の搬送ローラーに比べて、構造がシンプルであるので、安価に製作することができる。
また、基板の左右両側のエッジ部にのみ、水平方向から接触して回転するフラット搬送ローラーの回転による機械的な力により、基板を高速かつ安定的に移動させることができる。さらに、その搬送ローラーは、他の搬送ローラーに比べて、構造がシンプルであるので、安価に製作することができる。
前記超音波照射器は、また、次のような効果を奏することができる。
基板の上方及び下方に配置された超音波照射器から発する超音波により、基板の上下両面に付着した汚染物質に、振動といった機械的な力を付加して、基板表面からこれを剥離除去することができ、前段の薬液による化学的処理との相乗効果により、基板表面の洗浄効果を更に向上させることができる。
基板の上方及び下方に配置された超音波照射器から発する超音波により、基板の上下両面に付着した汚染物質に、振動といった機械的な力を付加して、基板表面からこれを剥離除去することができ、前段の薬液による化学的処理との相乗効果により、基板表面の洗浄効果を更に向上させることができる。
この場合において、超音波を伝播する媒体として、従来からある、ノズルから噴出する水の噴流ではなく、超音波照射器と、対向する基板の面との間に形成される水の膜を使用する構造であるため、水の使用量を少なくすることができる。また、ノズルから噴出する水の噴流を超音波の伝播媒体とする方法に対し、水の膜を超音波の伝播媒体とする方法では、少ない水の使用量にも関わらず、超音波を伝播させる領域（面積）を大きくすることができ、超音波による洗浄効果を一層高めることができる。
また、この場合において、超音波照射器と、対向する基板の面との間に水の膜を形成する水は、基板と対向する超音波照射器の壁面に設けられた複数の穴から連続的に噴出して来て、基板の面に沿ってスムーズに流れるので、基板表面から剥離した汚染物質を基板表面からスムーズに運び去ることができる。
スポンジローラー洗浄処理部では、基板は、基板の下面に接触する複数のスポンジローラーにより、垂直方向（重力方向）に支えられており、基板の上面に接触する複数のスポンジローラーを含めた、複数のスポンジローラーに接触する部分以外では、基板は、前記超音波洗浄処理部と同様、基板の左右両側のエッジ部が、基板を水平方向から挟むように複数配置された、フラットな円筒形の搬送ローラー（フラット搬送ローラー）の円筒面にのみ接触するため、基板の上下面共に、前記フラット搬送ローラーに接触することはなく、基板の上面も下面も、搬送ローラーとの接触による汚染を防ぐことができる。
前記スポンジローラー洗浄処理部は、また、次のような効果を奏することができる。
スポンジローラー洗浄処理部では、複数のスポンジローラーが、基板を上下から挟むようにして配置されており、回転するスポンジローラーの機械的な力で、基板上下面の汚染物質を払い落すことができ、基板上下面の洗浄効果を更に向上させることができる。
スポンジローラー洗浄処理部では、複数のスポンジローラーが、基板を上下から挟むようにして配置されており、回転するスポンジローラーの機械的な力で、基板上下面の汚染物質を払い落すことができ、基板上下面の洗浄効果を更に向上させることができる。
次に、本願の発明のエッジ搬送機能を有する基板処理装置の好適な一実施例を、図面を参照しつつ、詳細に説明する。
半導体基板、液晶基板等の基板を処理するプロセスとしては、パーティクル等の汚染物質を除去する洗浄プロセス、回路パターンを形成するためのエッチングプロセス、フォトレジストを除去する剥離プロセス等があるが、本願の発明のエッジ搬送機能を有する基板処理装置は、パーティクル等の汚染物質を除去する洗浄プロセスで使用されるものである。
半導体基板、液晶基板等の基板を処理するプロセスとしては、パーティクル等の汚染物質を除去する洗浄プロセス、回路パターンを形成するためのエッチングプロセス、フォトレジストを除去する剥離プロセス等があるが、本願の発明のエッジ搬送機能を有する基板処理装置は、パーティクル等の汚染物質を除去する洗浄プロセスで使用されるものである。
（概略構成）
本実施例のエッジ搬送機能を有する基板処理装置１は、図１に示すように、基板１１を装置に投入するローダー部２、水素水にアルカリ（炭酸カリウム Ｋ２ＣＯ３）を添加した機能水を噴霧して汚染物質を除去する薬液処理部３、基板１１の上下から超音波を照射して汚染物質を除去する超音波洗浄処理部４、スポンジ状のスポンジローラー２６ａで基板１１表面を機械的に擦って汚染物質を除去するスポンジローラー洗浄処理部５、基板１１の上下から、水のシャワーで前段のリンスを行うリンス処理部６、水のシャワーで仕上げのリンスを行うファイナルリンス処理部７、エアーナイフ２７を用いて基板１１を乾燥させる乾燥処理部８、基板１１を装置から取り出すアンローダー部９とにより、概略構成されている。
以下に、前記各部について、それぞれ詳細に説明する。
本実施例のエッジ搬送機能を有する基板処理装置１は、図１に示すように、基板１１を装置に投入するローダー部２、水素水にアルカリ（炭酸カリウム Ｋ２ＣＯ３）を添加した機能水を噴霧して汚染物質を除去する薬液処理部３、基板１１の上下から超音波を照射して汚染物質を除去する超音波洗浄処理部４、スポンジ状のスポンジローラー２６ａで基板１１表面を機械的に擦って汚染物質を除去するスポンジローラー洗浄処理部５、基板１１の上下から、水のシャワーで前段のリンスを行うリンス処理部６、水のシャワーで仕上げのリンスを行うファイナルリンス処理部７、エアーナイフ２７を用いて基板１１を乾燥させる乾燥処理部８、基板１１を装置から取り出すアンローダー部９とにより、概略構成されている。
以下に、前記各部について、それぞれ詳細に説明する。
（ローダー部）
先ず、基板１１を装置に投入するローダー部２を図２と図３で説明する。
基板１１は、図２に示すように、装置の上部から、手又は図示しない基板投入装置にて装置内にセットされる。
装置上部から下りてきた基板１１は、ローダー部２内に、基板１１の進行方向の左右に複数配置された、２段にテーパーの付いた、上方に向って先細りの円錐台形状をした搬送ローラー（２段テーパー付き搬送ローラー）１２の、該２段のテーパーが交わる角部１５に、基板１１の左右両側のエッジ部（端面又は角部）のみが接触するようにして、載せられる。
先ず、基板１１を装置に投入するローダー部２を図２と図３で説明する。
基板１１は、図２に示すように、装置の上部から、手又は図示しない基板投入装置にて装置内にセットされる。
装置上部から下りてきた基板１１は、ローダー部２内に、基板１１の進行方向の左右に複数配置された、２段にテーパーの付いた、上方に向って先細りの円錐台形状をした搬送ローラー（２段テーパー付き搬送ローラー）１２の、該２段のテーパーが交わる角部１５に、基板１１の左右両側のエッジ部（端面又は角部）のみが接触するようにして、載せられる。
前記２段テーパー付き搬送ローラー１２は、装置の電源が入れられると、回転を開始する。基板１１が、該２段テーパー付き搬送ローラー１２に載せられると、図３に示すように、該２段テーパー付き搬送ローラー１２の回転によって、図３の右方向へ搬送され、次の薬液処理部３へ移動する。
基板１１が次の処理部へ移動しても、装置の電源が入っている限り、２段テーパー付き搬送ローラー１２は回転を続けるが、後述のアンローダー部９で、基板１１が装置から取り出されず、２枚渋滞すると、該２段テーパー付き搬送ローラー１２を含めた、全ての搬送ローラーの回転が停止する。
基板１１が次の処理部へ移動しても、装置の電源が入っている限り、２段テーパー付き搬送ローラー１２は回転を続けるが、後述のアンローダー部９で、基板１１が装置から取り出されず、２枚渋滞すると、該２段テーパー付き搬送ローラー１２を含めた、全ての搬送ローラーの回転が停止する。
２段テーパー付き搬送ローラー１２の、２段のテーパーが交わる角部１５の下側のテーパー面は、基板１１の下面に対し、ある角度を持って開いており、さらに、角部１５の上側のテーパー面は、基板１１の上面に対し、ある角度を持って開いているため、基板１１の上下面共に、２段テーパー付き搬送ローラー１２に接触することはない。
また、２段テーパー付き搬送ローラー１２は、２段にテーパーの付いた、上方に向って先細りの円錐台形状をしているため、ローダー部２で、装置上方より基板１１を装置内にセットする時に、搬送ローラー１２が退避動作をする必要はなく、搬送ローラー１２を基板１１に対し水平方向外側に移動させる機構が不要である。
また、２段テーパー付き搬送ローラー１２は、２段にテーパーの付いた、上方に向って先細りの円錐台形状をしているため、ローダー部２で、装置上方より基板１１を装置内にセットする時に、搬送ローラー１２が退避動作をする必要はなく、搬送ローラー１２を基板１１に対し水平方向外側に移動させる機構が不要である。
（薬液処理部）
次に、薬液処理部３を図１、図４と図５で説明する。
図５で示すように、薬液処理部３には、液切りエアーナイフ１７と、基板１１の進行方向の左右に複数配置された、ローラー表面円周にＶ字形の切れ込みが入れられた搬送ローラー（Ｖ字溝付き搬送ローラー）１３と、基板１１の搬送路の上方に、薬液を基板１１上に噴霧する２流体ノズル１８とが配置されている。２流体ノズル１８は、本実施例では、基板１１の搬送路の上方にのみ配置されているが、必要に応じて、基板１１の搬送路の下方にも追加配置されて良い。薬液は、図１に示す、機能水貯蔵タンク１０１に貯蔵されている。
基板１１は、前記ローダー部２から、薬液処理部３に移動すると、Ｖ字溝付き搬送ローラー１３によって搬送される。基板１１は、該Ｖ字溝付き搬送ローラー１３のＶ字形の切れ込みの谷底部１６に、基板１１の左右両側のエッジ部のみが接触するようにして、載せられる。
次に、薬液処理部３を図１、図４と図５で説明する。
図５で示すように、薬液処理部３には、液切りエアーナイフ１７と、基板１１の進行方向の左右に複数配置された、ローラー表面円周にＶ字形の切れ込みが入れられた搬送ローラー（Ｖ字溝付き搬送ローラー）１３と、基板１１の搬送路の上方に、薬液を基板１１上に噴霧する２流体ノズル１８とが配置されている。２流体ノズル１８は、本実施例では、基板１１の搬送路の上方にのみ配置されているが、必要に応じて、基板１１の搬送路の下方にも追加配置されて良い。薬液は、図１に示す、機能水貯蔵タンク１０１に貯蔵されている。
基板１１は、前記ローダー部２から、薬液処理部３に移動すると、Ｖ字溝付き搬送ローラー１３によって搬送される。基板１１は、該Ｖ字溝付き搬送ローラー１３のＶ字形の切れ込みの谷底部１６に、基板１１の左右両側のエッジ部のみが接触するようにして、載せられる。
液切りエアーナイフ１７は、図４及び図５に示すように、ローダー部２と薬液処理部３との境目に、基板１１を上下から挟むようにして、適当な間隔を置いて配置されている。該液切りエアーナイフ１７は、その先端のノズルから、上下のノズルの間を通過する基板１１の表面に向ってエアーを吹き出して、エアーカーテンを形成し、薬液処理部３で基板１１上に噴霧された薬液が、基板１１表面上を前記ローダー部２に逆流して流れ込むのを抑える。
基板１１は、前記２流体ノズル１８から噴霧される薬液によって洗浄されるが、本実施例では、薬液として、水素水にアルカリ（炭酸カリウム Ｋ２ＣＯ３）を添加した機能水を使用している。この薬液は、２流体ノズル１８により、ミスト状に微粒化され、基板１１に付着した汚染物質に浸透して、これを分解除去する。
装置の電源が入れられると、前記Ｖ字溝付き搬送ローラー１３が回転を開始し、液切りエアーナイフ１７からエアーの噴出が開始され、装置の電源が切られるまで連続して動作を続ける。２流体ノズル１８からの薬液の噴霧は、ローダー部２で、基板１１を検知すると噴霧が開始され、基板１１を検知すると同時にスタートするタイマーの設定時間を過ぎても、次の基板１１が検知されない場合、薬液の噴霧は停止される。
ただし、後述のアンローダー部９で、基板１１が装置から取り出されず、２枚渋滞すると、該Ｖ字溝付き搬送ローラー１３を含めた、全ての搬送ローラーの回転が停止する。
ただし、後述のアンローダー部９で、基板１１が装置から取り出されず、２枚渋滞すると、該Ｖ字溝付き搬送ローラー１３を含めた、全ての搬送ローラーの回転が停止する。
Ｖ字溝付き搬送ローラー１３において、Ｖ字形の切れ込みの谷底部１６の下側のテーパー面は、基板１１の下面に対し、ある角度を持って開いており、Ｖ字形の切れ込みの谷底部１６の上側のテーパー面は、基板１１の上面に対し、ある角度を持って開いているため、基板１１の上下面共に、Ｖ字溝付き搬送ローラー１３に接触することはない。
（超音波洗浄処理部）
次に、超音波洗浄処理部４を図６と図７で説明する。
図６で示すように、超音波洗浄処理部４には、基板１１の搬送路の上方と下方に、基板１１の上面と下面に向って超音波を照射する超音波照射器１９が、それぞれ１組又は２組（本実施例では２組）ずつ配置されている。上下の超音波照射器１９は、基板１１を挟んで、互いに対向するようにして配置されている。
基板１１を搬送するために、基板１１の進行方向の左右に複数配置された、前記薬液処理部３と同様のＶ字溝付き搬送ローラー１３と、前記超音波照射器１９の前後に配置された、複数のフラットな円筒形の搬送ローラー（フラット搬送ローラー）１４とが備えられている。
次に、超音波洗浄処理部４を図６と図７で説明する。
図６で示すように、超音波洗浄処理部４には、基板１１の搬送路の上方と下方に、基板１１の上面と下面に向って超音波を照射する超音波照射器１９が、それぞれ１組又は２組（本実施例では２組）ずつ配置されている。上下の超音波照射器１９は、基板１１を挟んで、互いに対向するようにして配置されている。
基板１１を搬送するために、基板１１の進行方向の左右に複数配置された、前記薬液処理部３と同様のＶ字溝付き搬送ローラー１３と、前記超音波照射器１９の前後に配置された、複数のフラットな円筒形の搬送ローラー（フラット搬送ローラー）１４とが備えられている。
超音波照射器１９の内部は、２つの箱に分かれており、基板１１に近い方の箱には、水供給口２０から注水がされ、この箱を満たした水は、箱の基板１１に対向した壁面に設けられた複数の穴２３から基板１１に向って噴出する。また、基板１１から遠い方の箱には、超音波振動子２１が複数（本実施例では３個）取り付けられている。
基板１１の搬送路の上下に配置された超音波照射器１９の間に搬送された基板１１は、搬送路の下側に配置された超音波照射器１９の、基板１１に対向した壁面に設けられた複数の穴２３から噴出する水によって、浮遊した状態に保持される。
同時に、搬送路の上側に配置された超音波照射器１９の、基板１１に対向した壁面に設けられた複数の穴２３からも水が噴出し、基板１１の上下から噴出した水が、基板１１と上下の超音波照射器１９との間を満たして、水の膜２４を形成する。
同時に、搬送路の上側に配置された超音波照射器１９の、基板１１に対向した壁面に設けられた複数の穴２３からも水が噴出し、基板１１の上下から噴出した水が、基板１１と上下の超音波照射器１９との間を満たして、水の膜２４を形成する。
超音波照射器１９の超音波振動子２１が発生した超音波２２は、基板１１に近い方の箱に満たされた水を伝い、次に、基板１１と超音波照射器１９との間に形成された水の膜２４を伝って、基板１１の表面に伝播される。
基板１１の表面の汚染物質は、超音波２２により振動させられて、基板１１の表面から剥離し、基板１１の面に沿ってスムーズに流れる水の膜２４を形成している水により、基板１１の表面からスムーズに運び去られる。
基板１１の表面の汚染物質は、超音波２２により振動させられて、基板１１の表面から剥離し、基板１１の面に沿ってスムーズに流れる水の膜２４を形成している水により、基板１１の表面からスムーズに運び去られる。
装置の電源が入れられると、基板１１の進行方向の左右に複数配置されたＶ字溝付き搬送ローラー１３と、超音波照射器１９の前後に配置されたフラット搬送ローラー１４とが回転を始め、同時に、超音波照射器１９に注水が開始される。
ローダー部２で、最初の基板１１を検知すると、超音波２２の照射が開始され、前記Ｖ字溝付き搬送ローラー１３、フラット搬送ローラー１４の回転や、超音波照射器１９への注水及び超音波２２の照射は、装置の電源が切られるまで連続して動作を続ける。
ただし、後述のアンローダー部９で、基板１１が装置から取り出されず、２枚渋滞すると、該Ｖ字溝付き搬送ローラー１３、該フラット搬送ローラー１４を含めた、全ての搬送ローラーの回転が停止し、超音波２２の照射も停止する。
ローダー部２で、最初の基板１１を検知すると、超音波２２の照射が開始され、前記Ｖ字溝付き搬送ローラー１３、フラット搬送ローラー１４の回転や、超音波照射器１９への注水及び超音波２２の照射は、装置の電源が切られるまで連続して動作を続ける。
ただし、後述のアンローダー部９で、基板１１が装置から取り出されず、２枚渋滞すると、該Ｖ字溝付き搬送ローラー１３、該フラット搬送ローラー１４を含めた、全ての搬送ローラーの回転が停止し、超音波２２の照射も停止する。
基板１１は、超音波洗浄処理部４の入口部分と出口部分では、Ｖ字溝付き搬送ローラー１３によって搬送されるため、薬液処理部３と同様、基板１１の上下面共に、搬送ローラー１３に接触することはない。
また、基板１１は、上下の超音波照射器１９の間を通過する部分では、基板搬送路の下側に配置された超音波照射器１９から噴出する水で浮遊させられながら、基板１１の左右両側のエッジ部にのみ水平方向から接触する、フラットな円筒形の、フラット搬送ローラー１４の回転によって搬送されるため、基板１１の上下面共に、搬送ローラー１４に接触することはない。
また、基板１１は、上下の超音波照射器１９の間を通過する部分では、基板搬送路の下側に配置された超音波照射器１９から噴出する水で浮遊させられながら、基板１１の左右両側のエッジ部にのみ水平方向から接触する、フラットな円筒形の、フラット搬送ローラー１４の回転によって搬送されるため、基板１１の上下面共に、搬送ローラー１４に接触することはない。
（スポンジローラー洗浄処理部）
次に、スポンジローラー洗浄処理部５を図８で説明する。
図８で示すように、スポンジローラー洗浄処理部５には、基板１１の搬送路の上方と下方に、基板１１の上面に接するようにスポンジローラーＡ２６ａが２本と、スポンジローラーＢ２６ｂが３本と、基板１１の下面に接するようにスポンジローラーＡ２６ａが２本と、スポンジローラーＢ２６ｂが５本の、ベルクリンと呼ばれる、ポリビニールアルコール樹脂でできたスポンジ状のローラーが、それぞれ配置されている。
基板１１を搬送するために、基板１１の進行方向の左右に複数配置された、前記薬液処理部３と同様のＶ字溝付き搬送ローラー１３と、前記超音波洗浄処理部４と同様のフラット搬送ローラー１４とが、それぞれ配置されている。フラット搬送ローラー１４は、スポンジローラーのローラーとローラーとの間に配置されている。
次に、スポンジローラー洗浄処理部５を図８で説明する。
図８で示すように、スポンジローラー洗浄処理部５には、基板１１の搬送路の上方と下方に、基板１１の上面に接するようにスポンジローラーＡ２６ａが２本と、スポンジローラーＢ２６ｂが３本と、基板１１の下面に接するようにスポンジローラーＡ２６ａが２本と、スポンジローラーＢ２６ｂが５本の、ベルクリンと呼ばれる、ポリビニールアルコール樹脂でできたスポンジ状のローラーが、それぞれ配置されている。
基板１１を搬送するために、基板１１の進行方向の左右に複数配置された、前記薬液処理部３と同様のＶ字溝付き搬送ローラー１３と、前記超音波洗浄処理部４と同様のフラット搬送ローラー１４とが、それぞれ配置されている。フラット搬送ローラー１４は、スポンジローラーのローラーとローラーとの間に配置されている。
さらに、基板１１の表面を洗浄するためと、スポンジローラーＡ２６ａ及びスポンジローラーＢ２６ｂに水を供給するために、基板１１の搬送路の上方に４組と、下方に３組の、シャワーノズル２５が、それぞれがスポンジローラーＡ２６ａ、スポンジローラーＢ２６ｂに対向するようにして、上下交互に配置されている。
また、スポンジローラー洗浄処理部５の下部には、図１で示すように、シャワー水を貯める、スポンジローラーシャワー水循環タンク１０２と、シャワーノズル２５へ水を圧送する、スポンジローラーシャワー用ポンプ１０４とが、それぞれ配置されている。
また、スポンジローラー洗浄処理部５の下部には、図１で示すように、シャワー水を貯める、スポンジローラーシャワー水循環タンク１０２と、シャワーノズル２５へ水を圧送する、スポンジローラーシャワー用ポンプ１０４とが、それぞれ配置されている。
水のシャワーによって濡れた、スポンジローラーＡ２６ａは、そのローラー表面が、基板１１の表面の進行方向に対し、逆の方向に向うように回転し、基板１１の上下両面を機械的に擦って、基板１１の表面の汚染物質を除去する。また、水のシャワーによって濡れた、スポンジローラーＢ２６ｂは、その周速が基板１１の進行速度と同じ速度で、ローラー表面が、基板１１の表面の進行方向に対し、同じ方向に向うように回転し、基板１１のスポンジローラーＡ２６ａ部への進行速度（送り込み速度）を制御する。
先頭と後尾のスポンジローラーＢ２６ｂは、単独で基板１１を垂直方向（重力方向）に支える機能も果たしている。
先頭と後尾のスポンジローラーＢ２６ｂは、単独で基板１１を垂直方向（重力方向）に支える機能も果たしている。
装置の電源が入れられると、基板１１の進行方向の左右に複数配置された、前記Ｖ字溝付き搬送ローラー１３と、フラット搬送ローラー１４と、スポンジローラーＡ２６ａ及びスポンジローラーＢ２６ｂとが回転を始め、同時に、スポンジローラーシャワー用ポンプ１０４が作動し、シャワーノズル２５から水の噴射が開始される。
シャワーノズル２５から噴射された水は、スポンジローラー洗浄処理部５の下部に設けられた、スポンジローラーシャワー水循環タンク１０２に戻り、スポンジローラーシャワー用ポンプ１０４で圧送されて、再びシャワーノズル２５から噴射される。
シャワーノズル２５から噴射された水は、スポンジローラー洗浄処理部５の下部に設けられた、スポンジローラーシャワー水循環タンク１０２に戻り、スポンジローラーシャワー用ポンプ１０４で圧送されて、再びシャワーノズル２５から噴射される。
前記Ｖ字溝付き搬送ローラー１３と、フラット搬送ローラー１４と、スポンジローラーＡ２６ａ及びスポンジローラーＢ２６ｂの回転や、シャワーノズル２５からの水の噴射は、装置の電源が切られるまで連続して動作を続ける。
ただし、後述のアンローダー部９で、基板１１が装置から取り出されず、２枚渋滞すると、該Ｖ字溝付き搬送ローラー１３、該フラット搬送ローラー１４を含めた、全ての搬送ローラーの回転が停止し、スポンジローラーＡ２６ａ及びスポンジローラーＢ２６ｂの回転も停止する。
ただし、後述のアンローダー部９で、基板１１が装置から取り出されず、２枚渋滞すると、該Ｖ字溝付き搬送ローラー１３、該フラット搬送ローラー１４を含めた、全ての搬送ローラーの回転が停止し、スポンジローラーＡ２６ａ及びスポンジローラーＢ２６ｂの回転も停止する。
基板１１は、スポンジローラー洗浄処理部５の入口部分と出口部分では、Ｖ字溝付き搬送ローラー１３によって搬送されるため、薬液処理部３と同様、基板１１の上下面共に、搬送ローラー１３に接触することはない。
また、基板１１は、スポンジローラーＡ２６ａによる機械的洗浄を受ける部分では、基板１１の下面に接触するスポンジローラーＡ２６ａ及びスポンジローラーＢ２６ｂによって垂直方向（重力方向）に支えられながら、基板１１の左右両側のエッジ部にのみ水平方向から接触する、フラットな円筒形の、フラット搬送ローラー１４の回転によって搬送されるため、前記超音波洗浄処理部４と同様、基板１１の上下面共に、搬送ローラー１４に接触することはない。
なお、この場合において、スポンジローラーＢ２６ｂに基板１１の搬送力も担わせ、フラット搬送ローラー１４は、フリーの状態にしておくようにしても良い。
また、基板１１は、スポンジローラーＡ２６ａによる機械的洗浄を受ける部分では、基板１１の下面に接触するスポンジローラーＡ２６ａ及びスポンジローラーＢ２６ｂによって垂直方向（重力方向）に支えられながら、基板１１の左右両側のエッジ部にのみ水平方向から接触する、フラットな円筒形の、フラット搬送ローラー１４の回転によって搬送されるため、前記超音波洗浄処理部４と同様、基板１１の上下面共に、搬送ローラー１４に接触することはない。
なお、この場合において、スポンジローラーＢ２６ｂに基板１１の搬送力も担わせ、フラット搬送ローラー１４は、フリーの状態にしておくようにしても良い。
（リンス処理部、乾燥処理部）
次に、基板１１のリンスと乾燥の処理部を図１と図９で説明する。
図１に示すように、基板１１のリンスのために、前段のリンス処理部６と後段のファイナルリンス処理部７の２つの処理室が設けられ、前段のリンス処理部６で一度洗浄した後、後段のファイナルリンス処理部７でもう一度仕上げの洗浄を行う。
前記ファイナルリンス処理部７の後に、乾燥処理部８が配置されている。
次に、基板１１のリンスと乾燥の処理部を図１と図９で説明する。
図１に示すように、基板１１のリンスのために、前段のリンス処理部６と後段のファイナルリンス処理部７の２つの処理室が設けられ、前段のリンス処理部６で一度洗浄した後、後段のファイナルリンス処理部７でもう一度仕上げの洗浄を行う。
前記ファイナルリンス処理部７の後に、乾燥処理部８が配置されている。
基板１１のリンスと乾燥の処理部には、基板１１を搬送するために、基板１１の進行方向の左右に、前記薬液処理部３と同様のＶ字溝付き搬送ローラー１３が、複数配置されている。
さらに、前段のリンス処理部６と後段のファイナルリンス処理部７とには、基板１１をリンスするための複数のシャワーノズル２５が、リンス処理部６には、基板搬送路の上方と下方に各３組、ファイナルリンス処理部７には、基板搬送路の上方と下方に各２組、上下のシャワーノズル２５が互いの水の噴出口を対向させるようにして、それぞれ配置されている。
さらに、前段のリンス処理部６と後段のファイナルリンス処理部７とには、基板１１をリンスするための複数のシャワーノズル２５が、リンス処理部６には、基板搬送路の上方と下方に各３組、ファイナルリンス処理部７には、基板搬送路の上方と下方に各２組、上下のシャワーノズル２５が互いの水の噴出口を対向させるようにして、それぞれ配置されている。
また、乾燥処理部８には、基板１１の搬送路の上方と下方に、基板１１を乾燥するためのエアーナイフ２７が、それらの噴出口を対向させるようにして、それぞれ配置され、さらに、乾燥処理部８の出口付近の基板搬送路の上方に、基板１１の表面の静電気を除去するためのイオナイザー２９（図１参照）が配置されている。
図９は、前記ファイナルリンス処理部7と、基板１１を乾燥するためのエアーナイフ２７が設けられた部分の処理部とを、それらの中央断面図で示している。
前段のリンス処理部６は、リンスのためのシャワーノズル２５の本数が異なるほかは、図９に示されたファイナルリンス処理部７と同じ構造である。
前段のリンス処理部６は、リンスのためのシャワーノズル２５の本数が異なるほかは、図９に示されたファイナルリンス処理部７と同じ構造である。
リンスは、基板１１が、Ｖ字溝付き搬送ローラー１３によって搬送されながら、シャワーノズル２５から噴出されるシャワー水によって行われる。
乾燥は、基板１１が、Ｖ字溝付き搬送ローラー１３によって搬送されながら、上下エアーナイフ２７の間を通過する時、エアーナイフ２７から噴射される空気又は窒素ガスによって、基板１１表面の水を吹き飛ばすことによって行われる。
乾燥した基板１１は、アンローダー部９へ移動するが、乾燥時に基板１１表面に吹き付けられた空気又は窒素ガスとの摩擦等によって発生した静電気が、乾燥処理部８の出口付近の基板搬送路の上方に設けられたイオナイザー２９によって除去される。
乾燥は、基板１１が、Ｖ字溝付き搬送ローラー１３によって搬送されながら、上下エアーナイフ２７の間を通過する時、エアーナイフ２７から噴射される空気又は窒素ガスによって、基板１１表面の水を吹き飛ばすことによって行われる。
乾燥した基板１１は、アンローダー部９へ移動するが、乾燥時に基板１１表面に吹き付けられた空気又は窒素ガスとの摩擦等によって発生した静電気が、乾燥処理部８の出口付近の基板搬送路の上方に設けられたイオナイザー２９によって除去される。
装置の電源が入れられると、リンス処理部６及びファイナルリンス処理部７内の、Ｖ字溝付き搬送ローラー１３が回転を始め、同時に、リンスシャワー用ポンプ１０５（図１参照）が作動し、リンス処理部６及びファイナルリンス処理部７内のシャワーノズル２５から、水の噴射が開始される。
シャワーノズル２５から噴射された水は、リンス処理部の下部に設けられた、リンスシャワー水循環タンク１０３に戻り、リンスシャワー用ポンプ１０５で圧送されて、再びシャワーノズル２５から噴射される。
シャワーノズル２５から噴射された水は、リンス処理部の下部に設けられた、リンスシャワー水循環タンク１０３に戻り、リンスシャワー用ポンプ１０５で圧送されて、再びシャワーノズル２５から噴射される。
該Ｖ字溝付き搬送ローラー１３の回転や、シャワーノズル２５からの水の噴射は、装置の電源が切られるまで連続して動作を続ける。
ただし、後述のアンローダー部９で、基板１１が装置から取り出されず、２枚渋滞すると、該Ｖ字溝付き搬送ローラー１３を含めた、全ての搬送ローラーの回転が停止する。
ただし、後述のアンローダー部９で、基板１１が装置から取り出されず、２枚渋滞すると、該Ｖ字溝付き搬送ローラー１３を含めた、全ての搬送ローラーの回転が停止する。
乾燥処理部８においても、装置の電源が入れられると、乾燥処理部８内の、Ｖ字溝付き搬送ローラー１３が回転を始め、基板１１を乾燥するエアーナイフ２７から空気又は窒素ガスの噴射が開始される。同時にイオナイザー２９も放電を始める。
該Ｖ字溝付き搬送ローラー１３の回転や、エアーナイフ２７からの空気又は窒素ガスの噴射や、イオナイザー２９の放電は、装置の電源が切られるまで連続して動作を続ける。
ただし、後述のアンローダー部９で、基板１１が装置から取り出されず、２枚渋滞すると、該Ｖ字溝付き搬送ローラー１３を含めた、全ての搬送ローラーの回転が停止する。
該Ｖ字溝付き搬送ローラー１３の回転や、エアーナイフ２７からの空気又は窒素ガスの噴射や、イオナイザー２９の放電は、装置の電源が切られるまで連続して動作を続ける。
ただし、後述のアンローダー部９で、基板１１が装置から取り出されず、２枚渋滞すると、該Ｖ字溝付き搬送ローラー１３を含めた、全ての搬送ローラーの回転が停止する。
基板１１は、Ｖ字溝付き搬送ローラー１３によって搬送されるため、薬液処理部３と同様、基板１１の上下面共に、搬送ローラー１３に接触することはない。
図１０は、基板処理装置１のリンス処理部の、水シャワー部分の斜視図であって、基板１１と、シャワーノズル２５と、Ｖ字溝付き搬送ローラー１３との位置関係を立体的に示している。
図１０は、基板処理装置１のリンス処理部の、水シャワー部分の斜視図であって、基板１１と、シャワーノズル２５と、Ｖ字溝付き搬送ローラー１３との位置関係を立体的に示している。
（アンローダー部）
次に、基板１１を装置から取り出すアンローダー部９を図１１で説明する。
アンローダー部９には、ローダー部２と同様に、２段テーパー付き搬送ローラー１２が、基板１１の進行方向の左右に複数配置され、さらに、基板１１の停止位置を定めるための、基板１１の先端が当たるストッパー２８が配置されている。
次に、基板１１を装置から取り出すアンローダー部９を図１１で説明する。
アンローダー部９には、ローダー部２と同様に、２段テーパー付き搬送ローラー１２が、基板１１の進行方向の左右に複数配置され、さらに、基板１１の停止位置を定めるための、基板１１の先端が当たるストッパー２８が配置されている。
装置の電源が入れられると、アンローダー部９内の２段テーパー付き搬送ローラー１２が回転を始める。
該２段テーパー付き搬送ローラー１２の回転は、装置の電源が切られるまで連続して動作を続ける。
ただし、アンローダー部９から基板１１が取り出されず、１枚目の基板１１のセンサーと２枚目の基板１１のセンサーとが同時に各基板１１を検知すると、基板が渋滞したと判断され、該２段テーパー付き搬送ローラー１２を含めた、全ての搬送ローラーの回転が停止する。
該２段テーパー付き搬送ローラー１２の回転は、装置の電源が切られるまで連続して動作を続ける。
ただし、アンローダー部９から基板１１が取り出されず、１枚目の基板１１のセンサーと２枚目の基板１１のセンサーとが同時に各基板１１を検知すると、基板が渋滞したと判断され、該２段テーパー付き搬送ローラー１２を含めた、全ての搬送ローラーの回転が停止する。
基板１１は、乾燥処理部８から出て来ると、該２段テーパー付き搬送ローラー１２の、２段のテーパーが交わる角部１５に、該基板１１の左右両側のエッジ部が接触するように載せられ、アンローダー部９内に搬送され、基板１１の先端が、ストッパー２８に当たる所まで搬送される。
基板１１は、手又は図示しない基板取り出し装置にて、装置から上方に取り出される。
２段テーパー付き搬送ローラー１２の、２段のテーパーが交わる角部１５の下側のテーパー面は、基板１１の下面に対し、ある角度を持って開いており、角部１５の上側のテーパー面も、基板１１の上面に対し、ある角度を持って開いているため、基板１１の上下面共に、２段テーパー付き搬送ローラー１２に接触することはないし、基板１１の取り出し時に、２段テーパー付き搬送ローラー１２が退避動作をする必要もない。
２段テーパー付き搬送ローラー１２の、２段のテーパーが交わる角部１５の下側のテーパー面は、基板１１の下面に対し、ある角度を持って開いており、角部１５の上側のテーパー面も、基板１１の上面に対し、ある角度を持って開いているため、基板１１の上下面共に、２段テーパー付き搬送ローラー１２に接触することはないし、基板１１の取り出し時に、２段テーパー付き搬送ローラー１２が退避動作をする必要もない。
（実施例の効果）
本実施例のエッジ搬送機能を有する基板処理装置は、前記のように構成されていて、前記のように作動するので、次のような効果を奏することができる。
薬液処理部３、リンス処理部６、ファイナルリンス処理部７、乾燥処理部８からなる複数の処理部では、薬液による化学的処理や水によるリンス処理をされる基板は、最初の化学的処理工程から最後の乾燥処理工程までの全ての処理工程において、基板１１の左右両側のエッジ部が、基板１１を水平方向から挟むように複数配置された、ローラー表面円周にＶ字形の切れ込みが入れられた搬送ローラー（Ｖ字溝付き搬送ローラー）１３のＶ字の谷底部にのみ接触して保持され、該Ｖ字の谷底部の下側のテーパー面は、基板１１の下面に対し、ある角度を持って開いており、該Ｖ字の谷底部の上側のテーパー面は、基板１１の上面に対し、ある角度を持って開いているため、基板１１の上下面共に、該Ｖ字溝付き搬送ローラー１３に接触することはなく、基板１１の上面も下面も、搬送ローラー１３との接触による汚染を防ぐことができる。
また、基板１１の左右両側のエッジ部にのみ、水平方向から接触して回転するＶ字溝付き搬送ローラー１３による機械的な力により、基板１１を高速かつ安定的に移動させることができる。
本実施例のエッジ搬送機能を有する基板処理装置は、前記のように構成されていて、前記のように作動するので、次のような効果を奏することができる。
薬液処理部３、リンス処理部６、ファイナルリンス処理部７、乾燥処理部８からなる複数の処理部では、薬液による化学的処理や水によるリンス処理をされる基板は、最初の化学的処理工程から最後の乾燥処理工程までの全ての処理工程において、基板１１の左右両側のエッジ部が、基板１１を水平方向から挟むように複数配置された、ローラー表面円周にＶ字形の切れ込みが入れられた搬送ローラー（Ｖ字溝付き搬送ローラー）１３のＶ字の谷底部にのみ接触して保持され、該Ｖ字の谷底部の下側のテーパー面は、基板１１の下面に対し、ある角度を持って開いており、該Ｖ字の谷底部の上側のテーパー面は、基板１１の上面に対し、ある角度を持って開いているため、基板１１の上下面共に、該Ｖ字溝付き搬送ローラー１３に接触することはなく、基板１１の上面も下面も、搬送ローラー１３との接触による汚染を防ぐことができる。
また、基板１１の左右両側のエッジ部にのみ、水平方向から接触して回転するＶ字溝付き搬送ローラー１３による機械的な力により、基板１１を高速かつ安定的に移動させることができる。
また、前記薬液処理部３では、基板１１は、前記２流体ノズル１８から噴霧される薬液によって洗浄されるが、本実施例では、薬液として、水素水にアルカリ（炭酸カリウム Ｋ２ＣＯ３）を添加した機能水を使用しており、この薬液は、２流体ノズル１８により、ミスト状に微粒化され、基板１１に付着した汚染物質に浸透して、これを分解除去するという効果を奏することができる。
ローダー部２及びアンローダー部９では、基板１１は、基板１１の左右両側のエッジ部が、基板１１を水平方向から挟むように複数配置された、２段にテーパーの付いた、上方に向って先細りの円錐台形状の搬送ローラー（２段テーパー付き搬送ローラー）１２の、前記２段のテーパーが交わる角部にのみ接触して保持され、該角部の下側のテーパー面は、基板１１の下面に対し、ある角度を持って開いており、該角部の上側のテーパー面は、基板１１の上面に対し、ある角度を持って開いているため、基板１１の上下面共に、前記２段テーパー付き搬送ローラー１２に接触することはなく、基板１１の上面も下面も、搬送ローラー１２との接触による汚染を防ぐことができる。
また、基板１１の左右両側のエッジ部にのみ、水平方向から接触して回転する２段テーパー付き搬送ローラー１２の回転による機械的な力により、基板１１を高速かつ安定的に移動させることができる。
また、基板１１の左右両側のエッジ部にのみ、水平方向から接触して回転する２段テーパー付き搬送ローラー１２の回転による機械的な力により、基板１１を高速かつ安定的に移動させることができる。
前記２段テーパー付き搬送ローラー１２は、また、次のような効果を奏することができる。
２段テーパー付き搬送ローラー１２は、２段にテーパーの付いた、上方に向って先細りの円錐台形状をしているため、ローダー部２で、装置上方より基板１１を装置内にセットする時に、搬送ローラー１２を退避させるために、該搬送ローラー１２を基板１１に対し水平方向外側に移動させる機構が不要で、シンプルかつ安価に製作することができる。
さらに、アンローダー部９においても、ローダー部２と同様に、２段テーパー付き搬送ローラー１２の退避機構が不要で、処理の終了した基板１１を、装置の上方に容易に取り出すことができる。
２段テーパー付き搬送ローラー１２は、２段にテーパーの付いた、上方に向って先細りの円錐台形状をしているため、ローダー部２で、装置上方より基板１１を装置内にセットする時に、搬送ローラー１２を退避させるために、該搬送ローラー１２を基板１１に対し水平方向外側に移動させる機構が不要で、シンプルかつ安価に製作することができる。
さらに、アンローダー部９においても、ローダー部２と同様に、２段テーパー付き搬送ローラー１２の退避機構が不要で、処理の終了した基板１１を、装置の上方に容易に取り出すことができる。
超音波洗浄処理部４では、基板１１は、下方に配置された超音波照射器１９から噴出する水により、浮遊状態に保持されて垂直方向（重力方向）に支えられており、基板１１の左右両側のエッジ部が、基板１１を水平方向から挟むように複数配置された、フラットな円筒形の搬送ローラー（フラット搬送ローラー）１４の円筒面にのみ接触するため、基板１１の上下面共に、前記フラット搬送ローラー１４に接触することはなく、基板１１の上面も下面も、搬送ローラー１４との接触による汚染を防ぐことができる。
また、基板１１の左右両側のエッジ部にのみ、水平方向から接触して回転するフラット搬送ローラー１４の回転による機械的な力により、基板１１を高速かつ安定的に移動させることができる。さらに、その搬送ローラー１４は、他の搬送ローラーに比べて、構造がシンプルであるので、安価に製作することができる。
また、基板１１の左右両側のエッジ部にのみ、水平方向から接触して回転するフラット搬送ローラー１４の回転による機械的な力により、基板１１を高速かつ安定的に移動させることができる。さらに、その搬送ローラー１４は、他の搬送ローラーに比べて、構造がシンプルであるので、安価に製作することができる。
前記超音波照射器１９は、また、次のような効果を奏することができる。
基板１１の上方及び下方に配置された超音波照射器１９から発する超音波により、基板１１の上下両面に付着した汚染物質に、振動といった機械的な力を付加して、基板表面からこれを剥離除去することができ、前段の薬液による化学的処理との相乗効果により、基板表面の洗浄効果を更に向上させることができる。本発明者の実験によれば、Ｐｈ１２．５のアルカリ水を用いて化学的処理を行った場合に、本超音波洗浄との相乗効果が、特に顕著であった。
基板１１の上方及び下方に配置された超音波照射器１９から発する超音波により、基板１１の上下両面に付着した汚染物質に、振動といった機械的な力を付加して、基板表面からこれを剥離除去することができ、前段の薬液による化学的処理との相乗効果により、基板表面の洗浄効果を更に向上させることができる。本発明者の実験によれば、Ｐｈ１２．５のアルカリ水を用いて化学的処理を行った場合に、本超音波洗浄との相乗効果が、特に顕著であった。
この場合において、超音波を伝播する媒体として、従来からある、ノズルから噴出する水の噴流ではなく、超音波照射器１９と、対向する基板１１の面との間に形成される水の膜２４を使用する構造であるため、水の使用量を少なくすることができる。
また、ノズルから噴出する水の噴流を超音波の伝播媒体とする方法に対し、水の膜２４を超音波の伝播媒体とする方法では、少ない水の使用量にも関わらず、超音波を伝播させる領域（面積）を大きくすることができ、超音波による洗浄効果を一層高めることができる。
また、ノズルから噴出する水の噴流を超音波の伝播媒体とする方法に対し、水の膜２４を超音波の伝播媒体とする方法では、少ない水の使用量にも関わらず、超音波を伝播させる領域（面積）を大きくすることができ、超音波による洗浄効果を一層高めることができる。
また、この場合において、超音波照射器１９と、対向する基板１１の面との間に水の膜２４を形成する水は、基板１１と対向する超音波照射器１９の壁面に設けられた複数の穴２３から連続的に噴出して来て、基板１１の面に沿ってスムーズに流れるので、基板表面から剥離した汚染物質を基板表面からスムーズに運び去ることができる。
スポンジローラー洗浄処理部５では、基板１１は、基板１１の下面に接触するスポンジローラーＡ２６ａ及びスポンジローラーＢ２６ｂにより、垂直方向（重力方向）に支えられており、前記超音波洗浄処理部４と同様、基板１１の左右両側のエッジ部が、基板１１を水平方向から挟むように複数配置された、フラットな円筒形の搬送ローラー１４の円筒面にのみ接触するため、基板１１の上下面共に、前記フラット搬送ローラー１４に接触することはなく、基板１１の上面も下面も、搬送ローラー１４との接触による汚染を防ぐことができる。
また、基板１１の左右両側のエッジ部にのみ、水平方向から接触して回転するフラット搬送ローラー１４の回転による機械的な力により、基板１１を高速かつ安定的に移動させることができる。さらに、その搬送ローラー１４は、他の搬送ローラーに比べて、構造がシンプルであるので、安価に製作することができる。
また、基板１１の左右両側のエッジ部にのみ、水平方向から接触して回転するフラット搬送ローラー１４の回転による機械的な力により、基板１１を高速かつ安定的に移動させることができる。さらに、その搬送ローラー１４は、他の搬送ローラーに比べて、構造がシンプルであるので、安価に製作することができる。
前記スポンジローラー洗浄処理部５は、また、次のような効果を奏することができる。
水のシャワーによって濡れた、スポンジローラーＡ２６ａは、そのローラー表面が、基板１１の表面の進行方向に対し、逆の方向に向うように回転し、基板１１の上下両面を機械的に擦って、基板１１の表面の汚染物質を除去することができ、基板１１上下面の洗浄効果を更に向上させることができる。また、スポンジローラーＢ２６ｂは、その周速が基板１１の進行速度と同じ速度で、ローラー表面が、基板１１の表面の進行方向に対し、同じ方向に向うように回転し、基板１１のスポンジローラーＡ２６ａ部への進行速度（送り込み速度）を制御することができる。
水のシャワーによって濡れた、スポンジローラーＡ２６ａは、そのローラー表面が、基板１１の表面の進行方向に対し、逆の方向に向うように回転し、基板１１の上下両面を機械的に擦って、基板１１の表面の汚染物質を除去することができ、基板１１上下面の洗浄効果を更に向上させることができる。また、スポンジローラーＢ２６ｂは、その周速が基板１１の進行速度と同じ速度で、ローラー表面が、基板１１の表面の進行方向に対し、同じ方向に向うように回転し、基板１１のスポンジローラーＡ２６ａ部への進行速度（送り込み速度）を制御することができる。
（実施例の主要効果の概括）
本実施例のエッジ搬送機能を有する基板処理装置１を構成するローダー部２、薬液処理部３、超音波洗浄処理部４、スポンジローラー洗浄処理部５、前段リンス処理部６、ファイナルリンス処理部７、乾燥処理部８、アンローダー部９の各処理・操作部において、基板１１を搬送するために使用される搬送ローラーは、処理・操作の内容に応じて、３種類の搬送ローラー、すなわち、２段テーパー付き搬送ローラー１２、Ｖ字溝付き搬送ローラー１３、フラット搬送ローラー１４、が適宜使い分けられるが、いずれの搬送ローラーが使用される場合であっても、それらの搬送ローラーは、基板１１を水平方向から挟むように複数配置され、基板１１の左右両側のエッジ部にのみ、水平方向から接触して回転することによって、基板１１を搬送するものであり、このため、基板１１の上下面共に、これらの搬送ローラーに接触することはなく、基板１１の上面も下面も、これらの搬送ローラーとの接触による汚染を防ぐことができる。
また、基板１１の左右両側のエッジ部にのみ、水平方向から接触して回転する、これらの搬送ローラーによる機械的な力により、基板１１を高速かつ安定的に移動させることができる。
本実施例のエッジ搬送機能を有する基板処理装置１を構成するローダー部２、薬液処理部３、超音波洗浄処理部４、スポンジローラー洗浄処理部５、前段リンス処理部６、ファイナルリンス処理部７、乾燥処理部８、アンローダー部９の各処理・操作部において、基板１１を搬送するために使用される搬送ローラーは、処理・操作の内容に応じて、３種類の搬送ローラー、すなわち、２段テーパー付き搬送ローラー１２、Ｖ字溝付き搬送ローラー１３、フラット搬送ローラー１４、が適宜使い分けられるが、いずれの搬送ローラーが使用される場合であっても、それらの搬送ローラーは、基板１１を水平方向から挟むように複数配置され、基板１１の左右両側のエッジ部にのみ、水平方向から接触して回転することによって、基板１１を搬送するものであり、このため、基板１１の上下面共に、これらの搬送ローラーに接触することはなく、基板１１の上面も下面も、これらの搬送ローラーとの接触による汚染を防ぐことができる。
また、基板１１の左右両側のエッジ部にのみ、水平方向から接触して回転する、これらの搬送ローラーによる機械的な力により、基板１１を高速かつ安定的に移動させることができる。
本願の発明は、以上の実施例に限定されず、その要旨を逸脱しない範囲において種々の変形が可能である。
１…基板処理装置、２…ローダー部、３…薬液処理部、４…超音波洗浄処理部、５…スポンジローラー洗浄処理部、６…リンス処理部、７…ファイナルリンス処理部、８…乾燥処理部、９…アンローダー部、１１…基板、１２…２段テーパー付き搬送ローラー、１３…Ｖ字溝付き搬送ローラー、１４…フラット搬送ローラー、１５…角部、１６…谷底部、１７…液切りエアーナイフ、１８…２流体ノズル、１９…超音波照射器、２０…水供給口、２１…超音波振動子、２２…超音波、２３…穴、２４…水の膜、２５…シャワーノズル、２６ａ…スポンジローラーＡ、２６ｂ…スポンジローラーＢ、２７…エアーナイフ、２８…ストッパー、２９…イオナイザー、１０１…機能水貯蔵タンク、１０２…スポンジローラーシャワー水循環タンク、１０３…リンスシャワー水循環タンク、１０４…スポンジローラーシャワー用ポンプ、１０５…リンスシャワー用ポンプ。
Claims (3)
- 液晶等の基板を移動させながら、前記基板の上面と下面の両方又は上面のみに、少なくとも薬液による化学的処理、水によるリンス処理、基板上下より吹き付けられる空気又は窒素ガスといった気体による乾燥処理を行う、薬液処理部、リンス処理部、乾燥処理部からなる複数の処理部を備えるとともに、これら複数の処理部の前後に、ローダー部及びアンローダー部をそれぞれ備えてなる基板処理装置において、
前記複数の処理部には、前記基板の搬送方向から見て、前記基板の左右両側のエッジ部に水平方向から接触して前記基板を移動させる、ローラー表面円周にＶ字形の切れ込みが入れられた、前記基板の上面と下面に接触しない搬送ローラーが、複数配置され、
前記ローダー部及び前記アンローダー部には、前記基板の搬送方向から見て、前記基板の左右両側のエッジ部に水平方向から接触して前記基板を移動させる、２段にテーパーの付いた、上方に向って先細りの円錐台形状の搬送ローラーが、複数配置され、
前記円錐台形状の搬送ローラーは、前記２段のテーパーが交わる角部が、前記基板の左右両側のエッジ部に水平方向から接触することにより、前記基板の上面と下面に接触しない構造とされている、
ことを特徴とするエッジ搬送機能を有する基板処理装置。 - 前記薬液処理部と前記リンス処理部との間に、超音波洗浄処理部を更に備え、
前記超音波洗浄処理部には、
前記基板の搬送路の上方と下方に、前記基板の上面と下面に向って超音波を照射する超音波照射器が、前記基板を挟んで互いに対向するようにして、それぞれ配置され、
下方の前記超音波照射器は、前記基板と対向する壁面に設けられた複数の穴から噴出する水により、前記基板を浮遊した状態に保持するとともに、前記基板との間に水の膜を形成し、前記水の膜を通して、基板面に超音波を伝播させる構造とされ、
上方の前記超音波照射器は、前記基板と対向する壁面に設けられた複数の穴から噴出する水により、前記基板との間に水の膜を形成し、前記水の膜を通して、基板面に超音波を伝播させる構造とされるとともに、
前記基板の搬送方向から見て、前記基板の左右両側のエッジ部に水平方向から接触して前記基板を移動させる、フラットな円筒形の、前記基板の上面と下面に接触しない搬送ローラーが、複数配置されている、
ことを特徴とする請求項１に記載のエッジ搬送機能を有する基板処理装置。 - 前記薬液処理部と前記リンス処理部との間に、スポンジローラー洗浄処理部を更に備え、
前記スポンジローラー洗浄処理部には、
前記基板の搬送路の上方と下方に、前記基板の上面と下面に接するようにして、スポンジローラーが、それぞれ複数配置されるとともに、
前記基板の搬送方向から見て、前記基板の左右両側のエッジ部に水平方向から接触して前記基板を移動させる、フラットな円筒形の、前記基板の上面と下面に接触しない搬送ローラーが、複数配置されている、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のエッジ搬送機能を有する基板処理装置。
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