JP6060140B2 - 乾式指紋洗浄装置 - Google Patents
乾式指紋洗浄装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6060140B2 JP6060140B2 JP2014254298A JP2014254298A JP6060140B2 JP 6060140 B2 JP6060140 B2 JP 6060140B2 JP 2014254298 A JP2014254298 A JP 2014254298A JP 2014254298 A JP2014254298 A JP 2014254298A JP 6060140 B2 JP6060140 B2 JP 6060140B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- substrate
- unit
- towel
- cleaned
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 173
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 75
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 37
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 claims description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 claims description 3
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 claims 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 3
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 238000005108 dry cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Description
100:本発明の一実施形態による乾式指紋洗浄装置
110:基板搬送部
120:超音波洗浄部
130:洗浄液洗浄部
140:プラズマ洗浄部
Claims (5)
- 被洗浄基板を一方の方向に搬送する基板搬送部と、
前記基板搬送部の入口の上側に配設され、前記基板搬送部により搬送される被洗浄基板の上面を超音波を用いて洗浄する超音波洗浄部と、
前記超音波洗浄部に隣設され、前記被洗浄基板の上面を洗浄液が塗布されている洗浄タオルでこすって洗浄する洗浄液洗浄部と、
前記洗浄液洗浄部に隣設され、前記被洗浄基板の上面にプラズマを噴射して洗浄するプラズマ洗浄部と、
を備える乾式指紋洗浄装置であって、前記基板搬送部が、前記基板搬送部の両側端部に配設される一対の回転ローラと、多数の吸着孔が均一に形成され、前記一対の回転ローラに巻き取られた状態で無限軌道に沿って回動しながら前記被洗浄基板を水平に移動させるコンベヤと、前記基板搬送部における前記洗浄液洗浄部の下側に配設され、前記コンベヤの下面を真空吸着して前記コンベヤの上面に載置された洗浄液洗浄部において基板の下面を吸着する真空吸着モジュールと、を備えることを特徴とする前記乾式指紋洗浄装置。 - 前記洗浄液洗浄部が、
前記真空吸着モジュールの上側に配設され、洗浄タオルを巻き取った状態で供給する洗浄タオル繰出ロールと、
前記洗浄タオル繰出ロールに隣設され、使用済みの洗浄タオルを巻き取って回収する洗浄タオル回収ロールと、
前記洗浄タオル繰出ロールと洗浄タオル回収ロールとの間に配設され、前記洗浄タオルを前記洗浄用基板の上面に向かって押し付けて前記洗浄タオルを前記洗浄用基板の上面に押し当てる加圧ローラと、
前記加圧ローラの前方に配設され、前記洗浄タオルに洗浄液を噴射する洗浄液噴射部と、
前記洗浄液洗浄部を前後方向に往復駆動させる往復駆動部と、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の乾式指紋洗浄装置。 - 前記洗浄液が、
イソプロピルアルコール(IPA)であることを特徴とする請求項2に記載の乾式指紋洗浄装置。 - 前記加圧ローラが、
伸縮性を有する発泡シリコン材質からなることを特徴とする請求項2に記載の乾式指紋洗浄装置。 - 前記プラズマ洗浄部が、
常圧アルゴンプラズマ噴射装置であることを特徴とする請求項1に記載の乾式指紋洗浄装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20140155914 | 2014-11-11 | ||
KR10-2014-0155914 | 2014-11-11 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016093801A JP2016093801A (ja) | 2016-05-26 |
JP6060140B2 true JP6060140B2 (ja) | 2017-01-11 |
Family
ID=56070358
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014254298A Active JP6060140B2 (ja) | 2014-11-11 | 2014-12-16 | 乾式指紋洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6060140B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108179613A (zh) * | 2018-02-10 | 2018-06-19 | 杭州吴氏实业有限公司 | 一种验布机 |
CN111706171B (zh) * | 2020-06-24 | 2021-06-04 | 常州市大华锁厂有限公司 | 一种自清洁型智能家居指纹锁 |
KR102440883B1 (ko) * | 2020-09-16 | 2022-09-06 | 주식회사 다원시스 | 기판 이송 시스템 및 이의 기판 정렬 장치 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09252178A (ja) * | 1996-03-15 | 1997-09-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 基板のクリーニング方法及び電子部品接合方法 |
JP4946837B2 (ja) * | 2007-12-04 | 2012-06-06 | パナソニック株式会社 | 基板洗浄装置及び洗浄方法 |
JP2010036999A (ja) * | 2008-07-31 | 2010-02-18 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス基板の搬送ユニット、及びガラス基板の搬送装置、並びにガラス基板の搬送方法 |
-
2014
- 2014-12-16 JP JP2014254298A patent/JP6060140B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016093801A (ja) | 2016-05-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6336801B2 (ja) | 基板乾燥装置 | |
KR101005955B1 (ko) | 예비 토출장치 및 예비 토출방법 | |
JP6060140B2 (ja) | 乾式指紋洗浄装置 | |
US8689686B2 (en) | Screen printing device with infinite loop stencil | |
JP2007165554A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
KR101484272B1 (ko) | 약액 예비토출장치 | |
JP4387938B2 (ja) | 基板処理装置 | |
KR101594860B1 (ko) | 디스플레이용 유리기판 건조기의 이송장치 | |
TWI344398B (ja) | ||
JP2009165968A (ja) | ベルト状被洗浄物の洗浄方法及び洗浄装置 | |
JP6720659B2 (ja) | 基材の液切り装置 | |
JP2018107466A (ja) | 基板乾燥装置 | |
JP2012232269A (ja) | 基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置 | |
CN105665376B (zh) | 干式指纹清洗装置 | |
JP2004057862A (ja) | 洗浄装置及び洗浄方法 | |
KR20150062122A (ko) | 기판 처리 장치 | |
JP5917610B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP4250122B2 (ja) | 洗浄システム | |
KR20130131924A (ko) | 디스플레이 기판 세정장치 | |
JP6552363B2 (ja) | 基板乾燥装置および基板処理装置 | |
JP2016077936A (ja) | 被洗浄体の異物除去装置およびその異物除去方法 | |
KR200295029Y1 (ko) | 기판 세정 장치 | |
JP5298083B2 (ja) | 塗布装置及びノズルのプライミング処理方法 | |
KR102278080B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
JP2007175653A (ja) | 洗浄装置及びそれを用いた表示装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160311 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160610 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161118 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161212 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6060140 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |