JP5917610B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 156
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 60
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 104
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims description 66
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 40
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 18
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 16
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 14
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 14
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 32
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 14
- -1 fluorine ions Chemical class 0.000 description 14
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
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- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
第2の実施形態について図3を参照して説明する。
第3の実施形態について図4を参照して説明する。
前述の第1乃至第3の実施形態においては、搬送部2として、ステージ2a及び搬送機構2bを用いているが、これに限るものではなく、例えば、複数の搬送ローラを所定間隔で平行に並べて用いるようにしても良い。
11 ワイプ部材
11a 弾性体
11b 布
14 液供給部
4 洗浄部
5 乾燥部
B1 傾斜部
B2 延伸部
W 基板
Wa 帯電防止膜
Claims (8)
- 基板上の帯電防止膜の表面に接触して相対移動し、その帯電防止膜の表面を払拭するワイプ部材を備え、
前記ワイプ部材は、
基体となる弾性体と、
前記弾性体の表面に設けられ、前記相対移動する前記帯電防止膜の表面に接触する布と、
を具備し、
前記弾性体は、
前記帯電防止膜の前記相対移動方向の上流側に倒されて前記帯電防止膜の表面に対して傾斜する傾斜部と、
前記帯電防止膜の前記相対移動方向に沿って伸びる延伸部と、
を有しており、
前記基板上の前記帯電防止膜と、前記傾斜部および前記延伸部を有する前記弾性体とは、両者が一方向に相対移動するにつれ、前記傾斜部に設けられた前記布に前記帯電防止膜がまず接触し、さらに前記基板が前記一方向に相対移動することに伴い前記弾性体が変形することにより前記傾斜部に設けられた前記布が前記帯電防止膜に押しつけられ、この状態で前記基板がさらに前記一方向に相対移動することにより前記帯電防止膜が前記延伸部に設けられた前記布に接触して前記帯電防止膜を払拭する位置関係にあることを特徴とする基板処理装置。 - 前記帯電防止膜の表面に対する前記ワイプ部材の荷重は、前記ワイプ部材が前記基板から前記帯電防止膜を剥離せずに前記帯電防止膜の表面上のパーティクルを除去することが可能となる荷重であることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記布は、前記帯電防止膜の表面と接触する部分を含み前記帯電防止膜の相対移動方向の上流側の領域が処理液により濡れており、前記帯電防止膜の相対移動方向の下流側の領域が乾燥している状態であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記布に処理液を供給する液供給部をさらに備えることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記処理液はアルコールであることを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の基板処理装置。
- 前記弾性体の少なくとも前記延伸部に、その厚さ方向に延び、かつ厚さ方向両端部に開口する複数の微細孔が設けられ、
前記延伸部における前記布が設けられる表面と反対の表面に設けられ、前記布に前記複数の微細孔を通してエアを供給するエア供給機構をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至5記載の基板処理装置。 - 前記基板の搬送方向において前記帯電防止膜の相対移動方向の下流側に設けられ、前記布の前記帯電防止膜の表面と接する部分に対してエアを供給することによって前記布の表面に付着したパーティクルを除去するエア供給機構をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至6記載の基板処理装置。
- 前記帯電防止膜の表面を液体の一流体、又は、液体及び気体の二流体により洗浄する洗浄部と、
前記帯電防止膜の表面に向けて気体を放出する乾燥部と、
をさらに備えることを特徴とする請求項1ないし請求項7のいずれか一項に記載の基板処理装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014129595A JP5917610B2 (ja) | 2013-11-28 | 2014-06-24 | 基板処理装置 |
TW103138194A TWI559432B (zh) | 2013-11-28 | 2014-11-04 | Substrate processing device |
KR1020140161412A KR101623277B1 (ko) | 2013-11-28 | 2014-11-19 | 기판 처리 장치 |
CN201410679982.1A CN104668217B (zh) | 2013-11-28 | 2014-11-24 | 基板处理装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013246413 | 2013-11-28 | ||
JP2013246413 | 2013-11-28 | ||
JP2014129595A JP5917610B2 (ja) | 2013-11-28 | 2014-06-24 | 基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015127043A JP2015127043A (ja) | 2015-07-09 |
JP5917610B2 true JP5917610B2 (ja) | 2016-05-18 |
Family
ID=53837302
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014129595A Active JP5917610B2 (ja) | 2013-11-28 | 2014-06-24 | 基板処理装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5917610B2 (ja) |
TW (1) | TWI559432B (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6750040B2 (ja) * | 2016-12-28 | 2020-09-02 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
CN115635264B (zh) * | 2022-12-26 | 2023-05-16 | 怡隆(廊坊)环保科技发展有限公司 | 一种加工件抛光成型装置及其生产流程 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4836658U (ja) * | 1971-09-03 | 1973-05-02 | ||
JPS52138934A (en) * | 1976-05-14 | 1977-11-19 | Fujitsu Ltd | Cleaning device for electrostatic printer |
DE3720502A1 (de) * | 1987-06-20 | 1989-01-05 | Walter Vick | Vorrichtung zum reinigen von empfindlichen flaechen, insbesondere optischen glaesern |
JP2792551B2 (ja) * | 1994-04-08 | 1998-09-03 | ノーリツ鋼機株式会社 | 写真感光材料用の除塵装置 |
JPH10323632A (ja) * | 1997-05-23 | 1998-12-08 | Furukawa Electric Co Ltd:The | ディスク洗浄装置 |
JP3237659B2 (ja) * | 1999-07-02 | 2001-12-10 | 松下電器産業株式会社 | 薄板表面のクリーニング装置及びそれを用いた回路基板の製造装置 |
DE19955066C2 (de) * | 1999-11-15 | 2002-01-24 | Wandres Micro Cleaning | Verfahren und Vorrichtung zum Entfernen von Verunreinigungen von Oberflächen |
JP4031629B2 (ja) * | 2001-10-05 | 2008-01-09 | 大日本印刷株式会社 | 基材洗浄装置およびその方法 |
JP2005199299A (ja) * | 2004-01-15 | 2005-07-28 | Vantage Kogyo Kk | 付着物除去装置 |
JP5584404B2 (ja) * | 2008-10-22 | 2014-09-03 | 住友大阪セメント株式会社 | 液晶パネルとその製造方法及び液晶パネルの帯電防止膜形成用塗料並びに画像表示装置 |
DE102010013925B4 (de) * | 2010-04-01 | 2015-11-12 | Wandres Brush-Hitec Gmbh | Bandförmiges Mikrofaser-Wischelement zur Entfernung organischer Verunreinigungen |
-
2014
- 2014-06-24 JP JP2014129595A patent/JP5917610B2/ja active Active
- 2014-11-04 TW TW103138194A patent/TWI559432B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015127043A (ja) | 2015-07-09 |
TW201535559A (zh) | 2015-09-16 |
TWI559432B (zh) | 2016-11-21 |
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Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151014 |
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