KR101091080B1 - 슬릿 노즐 세정 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치 - Google Patents

슬릿 노즐 세정 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치 Download PDF

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Abstract

포토레지스트 도포 장치의 슬릿 노즐 세정 유닛은 몸체, 롤러, 세정액 분사 노즐, 가스 분사 노즐 및 이송부를 포함한다. 몸체는 포토레지스트를 도포하기 위한 슬릿 노즐을 수용하는 수용홈을 갖는다. 롤러는 수용홈에 회전가능하도록 구비되며, 슬릿 노즐의 토출구와 접촉하여 슬릿 노즐의 토출구를 세정한다. 세정액 분사 노즐은 몸체의 내측벽에 배치되며, 슬릿 노즐의 토출구를 향해 세정액을 분사한다. 가스 분사 노즐은 몸체의 내측벽에 배치되며, 슬릿 노즐의 토출구를 향해 건조 가스를 분사한다. 이송부는 몸체를 슬릿 노즐의 길이 방향을 따라 수평 이동시킨다.

Description

슬릿 노즐 세정 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치{Unit for cleaning a slit nozzle and apparatus for coating photoresist on a substrate having the unit}
본 발명은 슬릿 노즐 세정 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 대기 상태의 슬릿 노즐 토출구에 잔류하는 포토레지스트를 세정하기 위한 슬릿 노즐 세정 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 장치의 제조 또는 디스플레이 장치의 제조는 기판 상에 박막의 형성하고, 상기 박막을 일부 제거하여 패턴을 형성하는 반복된 과정을 포함한다.
상기 박막의 일부를 제거하여 패턴을 형성하는 방법으로, 포토레지스트를 식각 마스크로 이용한다. 상기 디스플레이 장치의 제조에 사용되는 대면적의 기판에 상기 포토레지스트를 도포하기 위해서는 슬릿 노즐을 이용한다. 상기 대면적 기판을 지지대에 로딩한 상태에서 상기 슬릿 노즐이 상기 대면적 기판과 일정 간격 이격되어 균일한 속도로 이동하면서 상기 포토레지스트를 토출하여 상기 포토레지스 트 도포 공정이 이루어진다.
상기 포토레지스트 도포가 완료된 기판은 지지대에서 언로딩되며, 새로운 대면적 기판이 지지대에 로딩된다. 상기와 같이 대면적 기판이 로딩될 때까지 상기 슬릿 노즐은 대기상태로 있으며, 상기 대기 시간 동안 공기와의 접촉에 의해 상기 슬릿 노즐의 토출구에 잔류하는 포토레지스트의 농도가 상승한다. 상기와 같은 상태의 슬릿 노즐로 도포 공정을 진행하는 경우, 고농도화된 포토레지스트에 의해 상기 기판에 세로줄 형태의 도포 얼룩이 발생하거나, 상기 포토레지스트가 불연속적으로 도포하는 현상이 발생한다.
본 발명은 포토레지스트의 도포 공정이 수행되기 전에 슬릿 노즐의 토출구를 세정하는 슬릿 노즐 세정 유닛을 제공한다.
본 발명은 상기 슬릿 노즐 세정 유닛을 포함하는 포토레지스트 도포 장치를 제공한다.
본 발명에 따른 슬릿 노즐 세정 유닛은 포토레지스트를 도포하기 위한 슬릿 노즐을 수용하는 수용홈을 갖는 몸체 및 상기 수용홈에 회전가능하도록 구비되며, 상기 슬릿 노즐의 토출구와 접촉하여 상기 슬릿 노즐의 토출구를 세정하는 롤러를 포함한다.
본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 롤러의 회전축은 상기 슬릿 노즐의 길이 방향과 수직한 방향으로 배치될 수 있다.
본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 슬릿 노즐 세정 유닛은 상기 몸체의 내측벽에 배치되며, 상기 슬릿 노즐의 토출구를 향해 세정액을 분사하는 세정액 분사 노즐 및 상기 몸체의 내측벽에 배치되며, 상기 슬릿 노즐의 토출구를 향해 건조 가스를 분사하는 가스 분사 노즐을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 세정액 분사 노즐과 상기 가스 분사 노즐은 상기 토출구와 상기 롤러의 접촉면과 대응하는 높이에 배치될 수 있다.
본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 세정액 분사 노즐과 상기 가스 분사 노즐은 교대로 배치될 수 있다.
본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 슬릿 노즐 세정 유닛은 상기 몸체를 상기 슬릿 노즐의 길이 방향을 따라 수평 이동시키는 이송부를 더 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 포토레지스트 도포 장치는 기판을 지지하는 지지대와, 상기 지지대 상에 배치되며, 상기 기판으로 포토레지스트를 도포하기 위한 슬릿 노즐과, 상기 슬릿 노즐을 상기 지지대 상에 놓여진 기판의 상면과 평행하게 이송하기 위한 이송 유닛 및 상기 지지대의 일측에 배치되며, 상기 슬릿 노즐이 상기 기판으로 포토레지스트를 도포하기 전에 상기 슬릿 노즐의 토출구를 세정하는 슬릿 노즐 세정 유닛을 포함하고, 상기 슬릿 노즐 세정 유닛은 상기 슬릿 노즐을 수용하는 수용홈을 갖는 몸체 및 상기 수용홈에 회전가능하도록 구비되며, 상기 슬릿 노즐의 토출구와 접촉하여 상기 슬릿 노즐의 토출구를 세정하는 롤러를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 슬릿 노즐 세정 유닛은 슬릿 노즐의 토출구를 향해 세정액을 분사하면서 롤러를 슬릿 노즐의 토출구와 접촉하여 회전시키므로, 상기 토출구의 세정 효과를 향상시킬 수 있다. 따라서, 고농도화된 포토레지스트로 인한 포토레지스트 도포 불량을 방지할 수 있고, 상기 세정 유닛을 포함하는 포토레지스트 도포 장치의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 슬릿 노즐 세정 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양 한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 노즐 세정 유닛을 설명하기 위한 단면도이고, 도 2는 도 1의 A-A' 선을 기준으로 절단한 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 상기 슬릿 노즐 세정 유닛(100)은 몸체(110), 롤러(120), 세정액 분사 노즐(130), 가스 분사 노즐(140), 이송부(150) 및 회수부(160)를 포함한다.
상기 몸체(110)는 포토레지스트를 분사하기 위한 슬릿 노즐(10)을 수용하기 위한 수용홈(112)을 갖는다. 상기 몸체(110)는 상기 슬릿 노즐(10)보다 작은 길이를 갖는다.
바(bar) 형태를 갖는 상기 슬릿 노즐(10)을 수용하기 위해 상기 수용홈(110)은 상기 몸체(110)의 상면에 상기 슬릿 노즐(10)의 길이 방향을 따라 연장한다. 또한, 상기 수용홈(110)은 저면으로 갈수록 폭이 좁아지는 형태를 갖는다.
상기 롤러(120)는 상기 수용홈(110)에 회전 가능하도록 구비되며, 상기 슬릿 노즐(10)의 토출구(12)와 접촉한다. 상기 롤러(120)의 회전축(122)은 상기 슬릿 노즐(10)의 길이 방향과 수직하는 방향, 즉 폭 방향을 따라 배치된다. 다시 말하면, 상기 회전축(122)의 양단은 상기 몸체(110)의 양측벽에 각각 고정된다. 따라서, 상 기 롤러(120)는 상기 슬릿 노즐(10)의 길이 방향을 따라 회전한다.
일 예로, 상기 롤러(120)는 하나가 구비될 수도 있다. 다른 예로, 상기 롤러(120)는 다수개가 일정 간격 이격되어 배치될 수 있다.
한편, 상기 롤러(120)는 친수성, 흡수성 및 탄성이 우수하고, 내구성 및 내약품성이 우수한 재질로 만들어진다. 일 예로, 상기 롤러(120)는 폴리우레탄(poly urethane), 고무, 테프론 등의 재질로 이루어질 수 있다.
상기 세정액 분사 노즐(130)은 상기 몸체(110)의 양측벽에 일정한 간격으로 배치된다. 이때, 상기 세정액 분사 노즐(130)은 상기 토출구(12)와 상기 롤러(120)의 접촉면과 동일한 높이에 배치된다. 상기 세정액 분사 노즐(130)은 상기 토출구(12)와 상기 롤러(120)의 접촉면을 향해 세정액을 분사한다. 상기 세정액의 예로는 시너(thinner), 아세톤 등을 들 수 있다.
상기 세정액 분사 노즐(130)에서 분사된 세정액은 상기 토출구(12)의 포토레지스트를 세정한다. 또한, 상기 롤러(120)는 상기 토출구(12)와 접촉하여 회전하므로, 상기 토출구(12)에 잔류하는 포토레지스트의 세정 효율을 향상시킬 수 있다.
상기 가스 분사 노즐(140)은 상기 몸체(110)의 양측벽에 일정한 간격으로 배치된다. 이때, 상기 가스 분사 노즐(140)은 상기 토출구(12)와 상기 롤러(120)의 접촉면과 동일한 높이에 배치된다. 상기 세정액 분사 노즐(130)과 상기 가스 분사 노즐(140)은 교대로 배치될 수 있다. 상기 가스 분사 노즐(140)은 상기 토출구(12)와 상기 롤러(120)의 접촉면을 향해 가스를 분사한다. 상기 가스의 예로는 질소 가스와 같은 불활성 기체 또는 깨끗한 건조 공기 등을 들 수 있다. 상기 가스 분사 노즐(140)은 가스를 분사하여 상기 토출구(12)에 잔류하는 세정액을 건조한다.
한편, 상기 세정액 분사 노즐(130)과 상기 가스 분사 노즐(140)은 교대로 배치되므로, 상기 토출구(12)에 대한 세정 공정과 건조 공정이 반복적으로 수행될 수 있다. 따라서, 상기 토출구(12)에 대한 세정 공정이 과도하게 수행되는 것을 방지할 수 있다.
상기 이송부(150)는 상기 몸체(110)와 연결되며, 상기 몸체(110)를 상기 슬릿 노즐(10)의 길이 방향을 따라 수평 이동시킨다. 상기 몸체(110)의 길이가 상기 슬릿 노즐(10)의 길이보다 짧으므로, 상기 이송부(150)가 상기 몸체(110)를 상기 길이 방향으로 수평 이동시켜 상기 슬릿 노즐(10)의 토출구(12) 전체를 세정할 수 있다.
상기 이송부(150)의 예로는 직선 왕복 운동 수단이면 어느 것이나 무방하다. 상기 직선 왕복 운동 수단의 예로는 실린더, 리니어 모터, 볼 스크류 등을 들 수 있다.
상기 회수부(160)는 상기 몸체(110)의 하부에 배치되며, 상부가 개방된 용기 형태를 갖는다. 상기 회수부(160)는 상기 토출구(12)를 향해 분사된 세정액 및 상기 세정액에 의해 제거된 포토레지스트를 회수한다.
상기 회수부(160)의 폭은 상기 몸체(110)의 폭보다 크다. 따라서, 상기 회수부(160)는 상기 몸체(110)를 수용할 수 있다. 또한, 상기 회수부(160)의 길이는 상기 슬릿 노즐(10)의 길이보다 길다. 따라서, 상기 몸체(110)가 상기 슬릿 노즐(10)의 길이 방향을 따라 이동하더라도 상기 회수부(160)는 상기 몸체(110)를 수용한 상태를 유지할 수 있다. 그러므로, 상기 회수부(160)는 상기 세정액 및 상기 세정액에 의해 제거된 포토레지스트를 손실없이 회수할 수 있다.
한편, 상기 회수부(160)는 배출구(미도시)를 가지며, 상기 배출구를 통해 상기 세정액 및 상기 세정액에 의해 제거된 포토레지스트를 외부로 배출한다.
상기 슬릿 노즐 세정 유닛(100)은 세정액을 이용한 습식 세정과 상기 롤러(120)를 이용한 접촉 세정을 병행하여 상기 토출구(12)의 포토레지스트를 세정한다. 따라서, 상기 슬릿 노즐 세정 유닛(100)의 세정 효율을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 슬릿 노즐 세정 유닛(100)은 상기 세정액 분사 노즐(130)과 상기 가스 분사 노즐(140)을 교대로 배치하여 상기 토출구(12)의 포토레지스트에 대한 습식 세정과 건조를 반복적으로 수행한다. 따라서, 상기 포토레지스트에 대한 습식 세정이 과도하게 수행되는 것을 방지할 수 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 포토레지스트 도포 장치를 설명하기 위한 사시도이다.
도 3을 참조하면, 상기 포토레지스트 도포 장치(200)는 기판(20) 상에 포토레지스트를 도포하기 위한 것으로, 지지대(210), 슬릿 노즐(220), 이송 유닛(230) 및 슬릿 노즐 세정 유닛(240)을 포함한다.
상기 지지대(210)는 평판 형태를 가지며, 상기 기판(20)에 대한 포토레지스트 도포 공정이 진행되는 동안 상기 기판(20)을 지지한다.
상기 슬릿 노즐(220)은 상기 기판(20)이 놓여진 지지대(210) 상에 상기 기 판(20)의 폭 방향으로 연장하도록 배치되고, 상기 기판(20)으로 포토레지스트를 도포한다. 상기 슬릿 노즐(220)의 길이는 상기 기판(20)의 폭과 같거나 클 수 있다. 따라서, 상기 슬릿 노즐(220)은 상기 기판(20)의 폭만큼 포토레지스트를 도포할 수 있다.
상기 이송 유닛(230)은 상기 슬릿 노즐(220)과 연결되며, 상기 슬릿 노즐(220)을 상기 지지대(210) 상의 기판(20)의 상면과 평행하도록 이송한다. 예를 들면, 상기 이송 유닛(230)은 상기 지지대(210)의 폭 방향 양단에 배치된다. 이때, 상기 지지대(210)의 폭 방향은 상기 기판(20)의 폭 방향과 동일한 방향이다. 상기 이송 유닛(230)은 상기 슬릿 노즐(220)의 양단을 고정하여 상기 슬릿 노즐(220)을 이송한다. 이때, 상기 슬릿 노즐(220)의 이송 방향은 상기 기판(20)의 폭 방향과 수직하는 길이 방향일 수 있다. 상기 슬릿 노즐(220)이 상기 기판(20)의 폭과 같거나 큰 폭을 가지며 상기 기판(20)의 길이 방향으로 가능하므로, 상기 슬릿 노즐(220)은 상기 기판(20)의 상면 전체에 포토레지스트를 균일하게 도포할 수 있다.
상기 슬릿 노즐 세정 유닛(240)은 상기 지지대(210)의 길이 방향 일단에 배치되며, 상기 폭 방향을 따라 연장한다. 상기 슬릿 노즐 세정 유닛(240)은 상기 슬릿 노즐(220)이 상기 포토레지스트 도포 공정을 수행하지 않고 대기하는 동안 상기 슬릿 노즐(220)을 수용하며, 상기 토출구에 잔류하는 포토레지스트를 세정한다.
상기 슬릿 노즐 세정 유닛(240)은 상기 슬릿 노즐(220)을 수용하는 몸체, 상기 슬릿 노즐(220)의 토출구와 접촉하여 상기 포토레지스트를 세정하는 롤러, 상기 토출구를 향해 세정액을 분사하여 상기 포토레지스트를 세정하는 세정액 분사 노 즐, 상기 토출구를 향해 가스를 분사하여 상기 토출구를 건조시키는 가스 분사 노즐, 상기 몸체를 상기 슬릿 노즐(220)의 길이 방향을 따라 이동시키는 이송부 및 상기 세정액과 상기 세정액에 의해 제거된 포토레지스트를 회수하는 회수부를 포함한다.
상기 슬릿 노즐 세정 유닛(240)에 대한 구체적인 설명은 도 1 및 도2를 참조한 슬릿 노즐 세정 유닛(100)과 실질적으로 동일하므로 구체적인 설명은 생략한다.
상기 슬릿 노즐 세정 유닛(240)은 상기 토출구의 포토레지스트를 상기 롤러와 세정액으로 세정한다. 공기와의 접촉에 의해 고농도화된 포토레지스트에 의해 상기 기판(20)에 세로줄 형태의 도포 얼룩이 발생하거나, 상기 포토레지스트가 불연속적으로 도포하는 현상을 방지할 수 있으므로, 상기 포토레지스트 도포 장치(200)의 도포 불량을 방지하고 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 슬릿 노즐 세정 유닛(240)이 상기 슬릿 노즐(220)의 토출구의 포토레지스트에 대한 습식 세정과 건조를 반복적으로 수행하므로, 상기 포토레지스트 도포 장치(200)는 상기 포토레지스트에 대한 습식 세정이 과도하게 수행되는 것을 방지할 수 있다.
이하에서는 상기 포토레지스트 도포 장치(200)의 동작에 대해 간단히 설명한다.
우선 지지대(210) 상에 기판(20)이 로딩된다. 이때, 슬릿 노즐(220)은 대기 위치인 상기 슬릿 노즐 세정 유닛(240)에 수용된다. 상기 슬릿 노즐 세정 유닛(240)은 상기 슬릿 노즐(220)의 토출구에 잔류하는 포토레지스트를 세정하고 상 기 슬릿 노즐(220)을 건조한다.
상기 기판(20)의 로딩이 완료되면, 상기 이송 유닛(230)은 상기 슬릿 노즐(220)을 상기 기판(20)의 길이 방향을 따라 일정한 속도로 이송한다. 상기 슬릿 노즐(220)은 일정한 속도로 이동하면서 상기 기판(20)으로 포토레지스트를 도포한다. 상기 슬릿 노즐(220)의 포토레지스트를 세정하므로, 공기와의 접촉에 의해 고농도화된 포토레지스트의 발생을 방지한다. 즉, 상기 고농도화된 포토레지스트로 인해 상기 기판(20)에 세로줄 형태의 도포 얼룩이 발생하거나, 상기 포토레지스트가 불연속적으로 도포하는 현상을 방지할 수 있다. 따라서, 상기 기판(20) 상에 일정한 두께의 포토레지스트 막을 형성한다.
상기 포토레지스트 도포가 완료되면, 상기 슬릿 노즐(220)은 상기 포토레지스트의 도포를 중단하고, 상기 이송 유닛(230)은 상기 슬릿 노즐(220)은 반송하여 상기 대기 위치인 슬릿 노즐 세정 유닛(240)에 수용시킨다.
이후, 상기 포토레지스트 막이 형성된 기판(20)을 상기 지지대(210)로부터 언로딩하고, 새로운 기판(20)을 로딩한다.
상기 기판(20)이 교체되는 동안 상기 슬릿 노즐 세정 유닛(240)은 상기 슬릿 노즐(220)의 토출구에 잔류하는 포토레지스트를 세정하여 상기 포토레지스트가 공기와의 접촉에 의해 고농도화되는 것을 방지한다.
이후 상기 과정을 반복하여 상기 기판(20)에 대한 포토레지스트 도포 공정을 수행한다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 슬릿 노즐 세정 유닛은 세정액을 분사하면서 롤러를 슬릿 노즐의 토출구와 접촉하여 회전시키므로, 상기 토출구의 포토레지스트를 효과적으로 세정할 수 있다. 따라서, 고농도화된 포토레지스트로 인한 포토레지스트 도포 불량을 방지할 수 있고, 상기 세정 유닛을 포함하는 포토레지스트 도포 장치의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 노즐 세정 유닛을 설명하기 위한 단면도이다.
도 2는 도 1의 A-A' 선을 기준으로 절단한 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 포토레지스트 도포 장치를 설명하기 위한 사시도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
100 : 슬릿 노즐 세정 유닛 110 : 몸체
112 : 수용홈 120 : 롤러
122 : 회전축 130 : 세정액 분사 노즐
140 : 가스 분사 노즐 150 : 이송부
160 : 회수부 10 : 슬릿 노즐

Claims (7)

  1. 포토레지스트를 도포하기 위한 슬릿 노즐을 수용하는 수용홈을 갖는 몸체;
    상기 수용홈에 회전가능하도록 구비되며, 상기 슬릿 노즐의 토출구와 접촉하여 상기 슬릿 노즐의 토출구를 세정하는 롤러;
    상기 몸체의 내측벽에 배치되며, 상기 슬릿 노즐의 토출구를 향해 세정액을 분사하는 세정액 분사 노즐; 및
    상기 몸체의 내측벽에 배치되며, 상기 슬릿 노즐의 토출구를 향해 건조 가스를 분사하는 가스 분사 노즐을 포함하고,
    상기 세정액 분사 노즐과 상기 가스 분사 노즐은 상기 토출구와 상기 롤러의 접촉면과 대응하는 높이에 배치되는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐 세정 유닛.
  2. 제1항에 있어서, 상기 롤러의 회전축은 상기 슬릿 노즐의 길이 방향과 수직한 방향으로 배치되는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐 세정 유닛.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서, 상기 세정액 분사 노즐과 상기 가스 분사 노즐은 교대로 배치되는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐 세정 유닛.
  6. 제1항에 있어서, 상기 몸체를 상기 슬릿 노즐의 길이 방향을 따라 수평 이동시키는 이송부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐 세정 유닛.
  7. 기판을 지지하는 지지대;
    상기 지지대 상에 배치되며, 상기 기판으로 포토레지스트를 도포하기 위한 슬릿 노즐;
    상기 슬릿 노즐을 상기 지지대 상에 놓여진 기판의 상면과 평행하게 이송하기 위한 이송 유닛; 및
    상기 지지대의 일측에 배치되며, 상기 슬릿 노즐이 상기 기판으로 포토레지스트를 도포하기 전에 상기 슬릿 노즐의 토출구를 세정하는 슬릿 노즐 세정 유닛을 포함하고,
    상기 슬릿 노즐 세정 유닛은
    상기 슬릿 노즐을 수용하는 수용홈을 갖는 몸체;
    상기 수용홈에 회전가능하도록 구비되며, 상기 슬릿 노즐의 토출구와 접촉하여 상기 슬릿 노즐의 토출구를 세정하는 롤러;
    상기 몸체의 내측벽에 배치되며, 상기 슬릿 노즐의 토출구를 향해 세정액을 분사하는 세정액 분사 노즐; 및
    상기 몸체의 내측벽에 배치되며, 상기 슬릿 노즐의 토출구를 향해 건조 가스를 분사하는 가스 분사 노즐을 포함하고,
    상기 세정액 분사 노즐과 상기 가스 분사 노즐은 상기 토출구와 상기 롤러의 접촉면과 대응하는 높이에 배치되는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포 장치.
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