KR100795548B1 - 노즐 세정 장치 및 이를 포함하는 슬릿 코터 - Google Patents

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    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs

Abstract

본 발명은 슬릿 코터로 기판 상에 포토레지스트와 같은 코팅제를 토출하는 슬릿 노즐의 토출구를 세정하는 노즐 세정 장치 및 이를 포함하는 슬릿 코터에 관한 것이다. 본 발명에 따른 노즐 세정 장치는 기판 상에 코팅제를 토출하는 슬릿 노즐의 토출구를 세정하기 위한 노즐 세정 장치로서, 본체와, 상기 본체의 일 측에 형성되어 상기 슬릿 노즐의 토출구를 향하여 세정제를 분사하는 분사구를 포함하고, 상기 세정제는 승화성 고체 입자를 포함한다.
슬릿 코터, 포토레지스트, 토출구, 세정, 노즐, 승화성 고체, 드라이 아이스

Description

노즐 세정 장치 및 이를 포함하는 슬릿 코터 {NOZZLE CLEANING APPARATUS AND SLIT COATER INCLUDING THE SAME}
도 1은 일반적인 슬릿 코터의 구조를 나타내는 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 슬릿 코터의 슬릿 노즐이 포토레지스트를 토출한 후의 상태를 도시하는 슬릿 노즐의 확대 측단면도이다.
도 3은 종래 기술에 따른 슬릿 코터용 노즐 세정 장치를 도시한 개략 사시도이다.
도 4는 본 발명에 따른 노즐 세정 장치가 적용된 슬릿 코터의 전체적인 구성을 나타내는 측면도이다.
도 5는 본 발명에 따른 노즐 세정 장치가 적용된 슬릿 코터의 구조를 나타내는 사시도이다.
도 6 및 도 7은 본 발명에 따른 슬릿 코터용 노즐 세정 장치에 의해 슬릿 노즐의 토출구가 세정되는 상태를 도시하는 사시도 및 측단면도이다.
도 8 내지 도 11은 본 발명에 따른 슬릿 코터용 노즐 세정 장치의 분사구의 다양한 변형예를 도시하는 도면이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
300: 슬릿 코터 310: 슬릿 노즐
312: 토출구 320: 이송 유닛
350: 본체 352: 홈
358: 분사구 359: 세정제 공급관
360: 안내 가이드 GS: 기판
PR: 포토레지스트
본 발명은 노즐 세정 장치 및 이를 포함하는 슬릿 코터에 관한 것으로서, 특히 슬릿 코터로 기판 상에 포토레지스트(PR: photoresist)를 도포할 때 포토레지스트를 토출하는 슬릿 노즐의 토출구를 세정하는 노즐 세정 장치 및 이를 포함하는 슬릿 코터에 관한 것이다.
일반적으로 액정표시소자를 제조할 때, 공정 오차는 주로 포토레지스트를 사용하는 포토 공정에서 발생한다. 상기 포토레지스트가 균일하게 도포되지 않으면 후공정에서 해상도, 회로선폭의 차이가 발생하고, 또한 반사율의 차이가 발생하여 화면에 그대로 나타나는 불량을 유발한다.
포토레지스트를 균일하게 도포하는 방법으로 포토레지스트를 둥근 롤의 외부에 적재한 후 상기 롤을 기판 상에서 일정 방향으로 구름 이동시켜 포토레지스트를 도포하는 롤 코팅 방법과, 원판의 지지체 위에 기판을 올려놓고 상기 기판의 중앙에 포토레지스트를 떨어뜨린 후 회전시켜 원심력에 의해 포토레지스트를 기판에 도 포하는 스핀 코팅 방법과, 슬릿 형태의 노즐을 통해 포토레지스트를 기판에 토출하면서 일정 방향으로 스캔하여 도포해가는 슬릿 코팅 방법이 있다.
상기 코팅 방법들 중에서, 롤 코팅 방법은 포토레지스트 막의 균일성 및 막 두께 조정을 정밀하게 수행하기 어려워, 고정밀 패턴 형성용으로는 스핀 코팅 방법이 사용된다. 그러나, 스핀 코팅 방법은 웨이퍼와 같이 크기가 작은 기판에 감광물질을 코팅하는 데 적합하며, 액정 표시 패널용 유리 기판과 같이 크기가 크고 중량이 무거운 평판 표시 장치용 기판에는 적합하지 않다. 이는 기판이 크고 무거울수록 기판을 고속으로 회전시키기 어려우며, 고속 회전 시 기판의 파손이나 에너지 소모가 큰 문제점이 있다. 이러한 이유로, 대형 유리 기판 상에 포토레지스트를 코팅하는 방법으로 슬릿 코팅 방법이 주로 사용되고 있다.
도 1은 일반적인 슬릿 코터의 구조를 나타내는 사시도이다.
도 1을 참조하면, 일반적인 슬릿 코터(100)는 포토레지스트(PR)를 기판(GS) 상에 도포하는 슬릿 노즐(110)과, 상기 슬릿 노즐을 일정한 방향으로 이동시키는 한 쌍의 노즐 이송 유닛(120)과, 상기 노즐 이송 유닛의 일 측에 부착되는 포토레지스트 공급부(115)와, 상기 포토레지스트 공급부(115)로부터 슬릿 노즐(110)로 포토레지스트(PR)를 이송하는 제1 포토레지스트 공급 라인(116)과, 포토레지스트 공급부(115)에 포토레지스트(PR)를 공급하는 제2 포토레지스트 공급 라인(117)과, 상기 기판(GS)의 후방에 횡방향으로 이동 가능하게 설치된 세정 부재(140)를 포함한다.
상기 슬릿 노즐(110)은 긴 바(bar) 형상의 노즐로, 기판(GS)과 대면하는 슬 릿 노즐의 하단 중앙에는 미세한 슬릿형상의 토출구(112)가 형성되며 상기 토출구(112)를 통해 일정 양의 포토레지스트(PR)가 기판에 토출된다.
상기 슬릿 노즐(110)은 기판의 일 측에서 다른 일 측으로 일정한 속도로 이동하면서 포토레지스트(PR)를 기판(GS)에 토출시킨다. 상기 포토레지스트 공급부(115)는 슬릿 노즐(110)에 포토레지스트(PR)를 공급하며, 공급되는 포토레지스트(PR)에 소정의 압력을 가하여 포토레지스트를 토출시키는 수단이다. 통상, 상기 포토레지스트 공급부(115)는 펌프가 포함되어 일정한 압력을 슬릿 노즐(110)에 가하고 그 압력에 의해 슬릿 노즐에 저장된 포토레지스트(PR)가 기판 상에 토출되어 도포된다.
이와 같이, 슬릿 코터(100)를 이용하여 기판(GS) 상에 포토레지스트(PR)를 도포한 다음, 포토레지스트(PR)에 포함된 솔벤트와 같은 용제를 휘발시키기 위해 상기 기판(GS)은 (도시되지 않은) 건조 장치로 이송되고, 슬릿 코터(100)에는 다른 새로운 기판이 로딩된다. 코팅된 기판이 건조 장치로 이송되고 코팅될 새로운 기판이 슬릿 코터(100)에 로딩되는 동안, 슬릿 노즐(110)은 세정 부재(140)의 상부로 이동하여 포토레지스트를 토출하지 않고 대기하게 된다.
슬릿 노즐(110)이 포토레지스트(PR)의 토출을 완료하고 나면, 도 2에 도시된 바와 같이, 슬릿 노즐(110)의 토출구(112)의 주변에 포토레지스트(PR)가 잔류하게 된다. 이와 같이 토출구(112)의 주변에 잔류된 포토레지스트(PR)는 슬릿 노즐(110)이 포토레지스트를 토출하지 않고 대기하는 동안 대기 중에 노출되어, 각종 이물질이 부착된다. 또한, 이와 같이 잔류된 포토레지스트(PR)는 대기 중에 노출 되어 포토레지스트 내에 포함된 솔벤트와 같은 휘발성이 용제가 증발되어 슬릿 노즐(110)의 대기 시간이 길어지면 포토레지스트(PR)의 일부가 경화된다. 이에 따라서, 새로운 기판이 로딩된 후 포토레지스트의 도포 작업이 다시 진행되면, 슬릿 노즐(110)의 토출구(112) 주변에 잔류된 포토레지스트(PR)에 부착된 이물질과 경화된 포토레지스트에 의해 도포막의 균일성을 저해하게 된다.
종래에는 이러한 문제를 해결하기 위하여, 세정 부재(140)를 이용하여, 슬릿 노즐(110)의 대기 시간 중에 토출구(112) 주변에 잔류하는 포토레지스트(PR)를 제거하였다. 즉, 세정 부재(140)는, 도 3에 도시된 바와 같이, 상부면에 슬릿 노즐(110)의 하단부, 즉 토출구(112) 부근의 형상에 대응하는 홈이 형성된 고무와 같은 재질로 구성된다. 이러한 세정 부재(140)는 슬릿 노즐(110)의 대기 시간 중에 슬릿 노즐(110)의 토출구(112)에 접촉한 후, 접촉을 유지하면서 슬릿 노즐(110)을 따라 이동하여 토출구(112) 주변에 잔류하는 포토레지스트(PR) 및 이물질을 제거한다.
그러나, 이러한 종래의 세정 부재(140)는 슬릿 노즐(110)과 접촉하는 면에 마모가 발생하여 주기적으로 교체하여야 함으로써, 유지보수에 많은 비용이 소모된다. 또한, 이러한 교체 작업 중에는 슬릿 코터의 작동이 중단되어야 함으로 공정의 연속성을 저해한다.
더욱이, 세정 부재(140)에 의한 세정 과정에서 슬릿 노즐(110)과의 마찰로 인해 세정 부재가 마모되면서 파티클이 떨어져 나오게 된다. 이러한 파티클은 세정 후에 슬릿 노즐(110)의 토출구(112)에 새로운 이물질로 부착되어, 포토레지스트 도포막의 균일성을 저해하고 제품 불량을 일으킬 수 있다.
본 발명은 전술된 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 기판을 코팅하기 위해 코팅제를 토출하는 슬릿 코터의 슬릿 노즐에서 비접촉식으로 이물질을 제거할 수 있는 노즐 세정 장치 및 이를 포함하는 슬릿 코터를 제공하는 데 그 목적이 있다.
전술된 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 태양에 따른 노즐 세정 장치는 기판 상에 코팅제를 토출하는 슬릿 노즐의 토출구를 세정하기 위한 노즐 세정 장치로서, 본체와, 상기 본체의 일 측에 형성되어 상기 슬릿 노즐의 토출구를 향하여 세정제를 분사하는 분사구를 포함하고, 상기 세정제는 승화성 고체 입자를 포함한다.
상기 본체의 상부면에는 슬릿 노즐의 길이 방향으로 홈이 형성되고, 상기 분사구는 상기 홈의 적어도 일면에 형성될 수 있다.
상기 홈은 양 측면과 바닥면으로 구성되고, 상기 양 측면은 상기 슬릿 노즐을 향하도록 소정 각도로 경사지게 형성되고, 적어도 상기 일 측면에는 분사구가 형성된 것이 바람직하다.
상기 본체의 상부면에 가요성 튜브가 구비되고, 상기 분사구는 상기 가요성 튜브의 선단에 형성된 것이 바람직하다.
상기 분사구는 상기 슬릿 노즐의 적어도 전후의 어느 일 측에 배치되어 슬릿 노즐을 향하여 세정제를 상향 경사지게 분사하는 것이 바람직하다.
상기 홈의 바닥면에는 본체의 외부와 연통하는 배출관이 구비되고, 상기 배출관은 외부에서 진공 펌프에 연결된 것이 바람직하다.
상기 승화성 고체 입자는 드라이아이스를 포함하는 것이 바람직하다.
상기 승화성 고체 입자는 비반응 가스와 함께 분사되는 것이 바람직하다.
상기 본체의 둘레에는 상기 본체를 덮고, 상부면에 슬릿 노즐의 토출구가 출입할 수 있는 개구가 형성된 커버를 더 포함할 수 있다. 이때, 상기 커버에는 외부의 진공펌프와 연결된 배출관을 더 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 개구와 그에 인입되는 슬릿 노즐 사이를 밀봉하는 실링을 더 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명의 다른 태양에 따른 슬릿 코터는 기판 상에 코팅제를 토출하는 토출구를 갖는 슬릿 노즐과, 상기 슬릿 노즐의 대기 위치에 구비되어 상기 슬릿 노즐의 토출구를 세정하는 전술된 노즐 세정 장치를 포함한다.
상기 본체가 이동 가능하게 안착 및 지지되어 상기 슬릿 노즐의 길이 방향 이동을 안내하는 안내 가이드와, 상기 안내 가이드를 따라 상기 본체를 이동시키는 구동부를 더 포함할 수 있다. 이때, 상기 분사구는 상기 본체의 이동 방향을 향하여 경사지게 상기 세정제를 분사하는 것이 바람직하다. 또는, 상기 본체와 안내 가이드의 둘레에는 상기 본체와 안내 가이드를 덮고, 상부면에 슬릿 노즐의 적어도 토출구가 출입할 수 있는 개구가 형성된 커버를 더 포함하는 것이 바람직하다. 이때, 상기 커버에는 외부의 진공펌프에 연결된 배출관을 더 포함할 수 있다. 더욱 이, 상기 개구와 그에 인입되는 슬릿 노즐 사이를 밀봉하는 실링을 더 포함하는 것이 바람직하다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하고자 한다.
도 4는 본 발명에 따른 노즐 세정 장치가 적용된 슬릿 코터의 전체적인 구성을 나타내는 측면도이고, 도 5는 본 발명에 따른 슬릿 코터용 노즐 세정 장치가 적용된 슬릿 코터의 구조를 나타내는 사시도이다.
도면을 참조하면, 본 발명의 슬릿 코터(300)는 크게 도포부(A)와, 예비 토출부(P)와, 노즐 세정부(C)의 영역으로 구분된다.
도포부(A)는 베이스(301)의 상부면에 높이 조정기구를 구비한 다리(302)를 매개로 하여 전방측(즉, 도 4의 우측)에 설치되고 다수개의 관통 구멍(306)이 상하로 관통 형성된 테이블(303)과, 상기 베이스(301)와 테이블(303) 사이에서 승강 가능하게 설치되고 상부면에 다수개의 리프트핀(305)이 설치된 수평 플레이트(304)를 포함한다. 상기 다수개의 리프트핀(305)은 테이블(303)의 관통구멍(306) 내에 삽입되어, 수평 플레이트(304)의 승강에 따라 테이블(303)의 상부로 돌출되거나 테이블(303)의 내부로 후퇴된다. 이러한 상기 다수개의 리프트핀(305)은 기판(GS)을 테이블(303)로부터 들어 올리는 역할은 한다.
상기 도포부(A)의 후방(즉, 도 4에서 도포부(A)의 좌측)에는 예비 토출부(P)가 위치되어 있다. 예비 토출부(P)에는 세척액을 저류하는 세척조(362) 내에 원통형상의 프라이밍 롤러(364)가 회전되도록 배치되어 있다.
또한, 상기 예비 토출부(P)의 후방(즉, 도 4의 최좌측)에는 노즐 세정부(C)가 구비되어 있다. 노즐 세정부(C)에는 노즐 세정 장치가 구비되어 있으며, 이에 대한 상세한 설명은 후술하고자 한다.
한편, 베이스(301)의 상부면에는 좌우 양측에는, 즉 상기 테이블의 좌우 외측에는 한 쌍의 가이드 레일 및 리니어 모터(307)가 종방향으로 길게 연장하여 구비된다. 상기 한 쌍의 가이드 레일 및 리니어 모터(307)에는 이송 유닛(320)이 각각 장착되어 종방향으로 이동하게 된다. 상기 한 쌍의 이송 유닛(320) 사이에는 포토레지스트(PR)와 같은 코팅제를 유리 등의 기판(GS)에 토출하여 도포하는 슬릿 노즐(310)이 상기 기판(GS)을 가로질러 위치하도록 지지한다.
상기 슬릿 노즐(310)은 좌우 횡방향으로 길게 연장 형성된 바(bar) 형상이며, 통상 기판(GS)의 좌우 폭보다 크게 구성된다. 기판(GS)과 대면하는 면인 슬릿 노즐(310)의 하부면에는 포토레지스트(PR)가 토출되는 미세한 토출구(312)가 상기 횡방향으로 연장 형성되어 있다. 상기 선형의 토출구(312)를 통하여 포토레지스트(PR)는 기판(GS)에 일정한 양을 토출한다.
또한, 상기 이송 유닛(320)은 슬릿 노즐(310)의 양측을 지지한 상태에서 일정 속도를 갖고 종방향으로 이동함으로써, 슬릿 노즐(310)을 기판(GS) 상에서 이동시킨다. 이때, 상기 이송 유닛(320)은 슬릿 노즐(310)을 수직방향으로 승강시킬 수도 있도록 구성되어, 도포되는 포토레지스트(PR)의 양과 점도를 고려하여 상기 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)와 기판(GS) 사이의 간격을 미세하게 제어할 수 있다.
한편, 상기 슬릿 노즐(310)에 포토레지스트(GS)를 공급하는 수단으로서, 이송 유닛(320)의 일 측에 구비된 포토레지스트 공급부(315)와, 포토레지스트 공급부(315)와 슬릿 노즐(310) 사이를 연통시키는 제1 포토레지스트 공급 라인(316)과, (도시되지 않은) 외부 공급원으로부터 포토레지스트 공급부(315)에 포토레지스트를 공급하는 제2 포토레지스트 공급 라인(317)을 포함한다.
외부 공급원으로부터 제2 포토레지스트 공급 라인(317)을 통하여 포토레지스트 공급부(315)에 포토레지스트(PR)가 공급된다. 포토레지스트 공급부(315)는 내부에 구비된 펌프로 포토레지스트(PR)에 소정의 압력을 가함으로써, 포토레지스트(PR)가 제1 포토레지스트 공급 라인(316)을 거쳐 슬릿 노즐(310)에 공급된 후 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)를 통하여 소정 압력으로 토출되도록 한다.
상기와 같이 구성된 슬릿 코터에서, 기판(GS)이 테이블(303) 상에 안착되면, 이송 유닛(320)에 의해 슬릿 노즐(310)은 예비 토출부(P)로 이동하여, 프라이밍 롤러(364) 상에 위치하게 된다. 그 다음, 슬릿 노즐(310)은 기판(GS) 상에 포토레지스트(PR)를 토출하기 전에, 회전하는 프라이밍 롤러(364) 상에 포토레지스트(PR)를 예비 토출하게 된다. 이때, 프라이밍 롤러(364) 상에 토출된 포토레지스트(PR)는 프라이밍 롤러(364)가 회전하면서 세척액이 담겨진 세척조(362) 내에서 (도시되지 않은) 세정 유닛에 의해 제거된다. 예비 토출 후, 이송 유닛(320)에 의해 슬릿 노즐(310)은 도포부(A)로 이동하여 기판(GS)을 도포하게 된다. 즉, 슬릿 노즐(310)은 이송 유닛(320)에 의해 기판(GS) 위를 이동하면서 포토레지스트(PR)를 기판 상에 도포한 후, 노즐 세정부(C)로 복귀한다. 포토레지스트(PR)의 도포가 완료된 기 판(GS)이 언로딩되고, 새로운 기판이 테이블(303) 상에 로딩될 때까지 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)는 노즐 세정부(C)에서 세정된다.
다음은, 본 발명에 따른 슬릿 코터용 노즐 세정 장치에 의해 슬릿 노즐의 토출구가 세정되는 상태를 사시도 및 측단면도로 도시하는 도 6 및 도 7을 참조하여, 본 발명의 노즐 세정 장치에 대해 설명하고자 한다. 이때, 도 6에서는 후술하는 커버(370)를 제거한 상태를 도시하였다.
본 발명의 노즐 세정 장치는, 상부면에 슬릿 노즐(310)의 연장 방향인 횡방향으로 홈(352)이 형성된 본체(350)와, 본체(350)가 이동 가능하게 안착 및 지지되어 그의 횡방향 이동을 안내하는 안내 가이드(360)와, 상기 본체(350)와 안내 가이드(360)를 덮고 상부면에 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)가 출입할 수 있는 개구가 형성된 커버(370)와, 상기 안내 가이드(360)를 따라 본체(350)를 횡방향으로 이동시키는 (도시되지 않은) 구동부를 포함한다. 상기 본체(350)는 하부면에 가이드 홈(354)이 형성되어 안내 가이드(360) 상에 안착됨으로써 횡방향으로 이동이 안내된다. 상기 구동부는 리니어 모터, 랙-피니언 등과 같이, 안내 가이드(360) 상에서 본체(350)를 이동시킬 수 있는 공지된 어떠한 장치도 가능하며, 그에 대한 상세한 설명 및 그와 상기 본체(350)와 안내 가이드(360) 사이의 결합 관계에 대한 설명은 생략하고자 한다.
상기 본체(350)의 상부면에 형성된 홈(352)은 전후 측면(356)(도 7을 기준으로 한다면 도면 상의 좌우 측면임)과 바닥면(357)에 의해 형성된다. 상기 홈(352)은 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)의 선단이 홈(352)에 인접하게 위치하도록 형성된 다. 상기 홈(352)의 전후 측면(356)은 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)를 향하도록 소정 각도로 경사지게 형성될 수 있다.
상기 홈(352)의 전후 양 측면(356)에는 복수개의 분사구(358)가 형성되어 이를 통하여 세정제를 분사한다. 상기 본체(350)의 후면에는 분사구(358)와 연통하는 세정제 공급관(359)이 구비되어, 상기 분사구(358)는 이를 통하여 세정제를 공급받는다. 이와 같이, 세정제 공급관(359)을 통하여 공급받은 세정제는 분사구(358)를 통하여 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)를 향하여 분사됨으로써, 토출구(312)를 비접촉식으로 세정하게 된다. 이때, 상기 홈(352)의 전후 양 측면(356)에 형성된 분사구(358)는 세정제가 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)의 선단부에 소정 각도를 갖고 분사되도록 형성된다. 한편, 상기 분사구(358)는 도면에 도시된 것과 달리 홈(352)의 일 측면에만 형성될 수도 있다.
상기 커버(370)는 본체(350)의 분사구(358)에서 분사되는 세정액과 그에 의해 제거되는 상기 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)에 부착된 이물질이 외부로 나가지 못하도록 하는 기능을 한다. 상기 커버(370)의 상부면에는 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)가 출입할 수 있는 개구가 중심부에 형성되어 이를 통하여 토출구(312)가 본체(350)의 분사구(358)에 인접하게 된다. 상기 커버(370)의 전후 측면에는 외부의 진공펌프에 연결된 배출관(372)이 구비된다. 상기 배출관(372)은 세정액과 이물질을 외부로 배출하기 위한 것이다. 이때, 상기 커버(370)의 상기 개구 주변의 상부면 또는 개구 둘레에는 실링(374)이 구비되어 세정액과 이물질이 커버의 개구와 슬릿 노즐(310)의 토출구(312) 사이로 배출되지 못하게 할 수 있다. 이와 같이 구성된 상기 커버(370)는 도 7에 도시된 바와 같이 본체(350)의 분사구(358)가 세정액을 상기 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)를 향하여 상향 경사지게 분사하는 경우에 바람직하게 적용된다.
이때, 상기 세정제로는 솔벤트와 같은 포토레지스트의 용제가 사용될 수도 있으나, 드라이 아이스와 같은 승화성 고체 입자가 사용되는 것이 바람직하다. 즉, 드라이 아이스와 같은 승화성 고체 입자를 고압의 질소, 아르곤, 공기와 같은 비반응 가스와 함께 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)를 향하여 분사함으로써 이물질을 제거할 수 있다. 이와 같은 드라이 아이스는 반도체 기판의 표면 세정에 적용되고 있는 대표적인 승화성 고체로서, 이물질의 제거와 동시에 바로 승화됨으로써 잔존물의 발생과 제품 손상 등의 리스크를 방지할 수 있는 장점이 있다.
한편, 이와 같이 형성된 노즐 세정 장치의 본체(350)는 전술된 안내 가이드(360)를 따라 구동부에 의해 이동하면서 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)를 세정하게 된다. 이 경우, 도 8에 도시된 바와 같이, 분사구(358a)의 방향이 본체(350)의 이동 방향을 향하도록 다소 경사지게 형성하여 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)에서 제거된 이물질이 아직 세정되지 않은 토출구(312) 측으로 보내지도록 하는 것이 바람직하다.
이와 같은 이동식 노즐 세정 장치와 달리, 본 발명의 노즐 세정 장치는 고정식으로 형성할 수도 있다. 즉, 안내 가이드(360) 및 구동부 없이, 노즐 세정 장치의 본체(350)의 횡방향 길이를 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)의 횡방향 길이보다 다소 길게 형성하여 슬릿 코터에 고정 장착될 수 있다. 이 경우, 상기 슬릿 노 즐(310)의 토출구(312) 전체에 세정제를 고압으로 동시에 분사하여야 하지만, 안내 가이드(360) 및 구동부에 대한 구성이 불필요하기 때문에 장치가 단순하고, 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)를 한 번에 세정할 수 있어서 노즐 세정 시간이 단축될 수 있다. 따라서, 이동식과 고정식은 각기 서로 다른 장점이 있으므로, 슬릿 코터의 전체적인 설계 사양을 고려하여 선택할 필요가 있다.
한편, 본 발명에 따른 노즐 세정 장치의 분사구는 전술된 실시예에 한정되지 않고 다양하게 변경될 수 있다. 이하에서는 도 9 내지 도 11을 참조하여, 본 발명에 따른 슬릿 코터용 노즐 세정 장치의 분사구의 다양한 실시예를 설명하고자 한다.
우선, 상기 본체(350)의 측면(356) 상에 형성된 분사구는 그 형상에 있어서, 도 9 및 도 10에 도시된 바와 같이 횡방향으로 길게 형성될 수 있다.
더욱이, 도 9 및 도 10에 도시된 바와 같이, 상기 본체(350)의 양 측면(356)에 형성된 분사구(358b)는 세정제를 하향 경사지게 분사하도록 형성될 수 있다. 이 경우, 상기 양 분사구(358b)에서 하향 경사지게 분사되는 세정제는 토출구(312)에 부착된 이물질을 제거하여 세정제와 함께 제거된 이물질은 홈(352)의 바닥면(357)으로 보내진다. 이때, 상기 홈(352)의 바닥면(357)에는 개구가 형성되어 배출관(359d)을 통하여 본체(350)의 외부에 설치된 진공 펌프가 연결된다. 따라서, 상기 홈(352)의 바닥면(357)으로 보내진 세정제와 이물질은 배출관(359d)을 통하여 외부로 배출된다. 이 경우, 도 7에 도시된 실시예와 달리, 커버(370)가 불필요하게 된다.
또 다른 실시예로서, 상기 본체(350)의 홈(352)의 바닥면(357)에 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)를 향하도록 분사구를 형성할 수도 있다. 특히, 본체(350)의 상부면에 홈이 없이 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)를 향하도록 분사구를 형성할 수도 있다. 다만 이러한 경우, 슬릿 노즐(310)의 아래에서 토출구(312)를 향하여 세정제를 분사하면, 세정제에 의해 포토레지스트(PR)가 상기 토출구(312)를 통하여 슬릿 노즐(310)의 내부로 역류할 수 있으므로, 분사구에서 분사되는 세정제의 분사 방향을 경사지도록 분사구를 구성하는 것이 바람직하다.
이에 더하여, 도 11에 도시된 바와 같이, 본체(350)의 상부면에 홈을 형성하지 않고 세정제 공급관(359)과 연통하는 가요성 튜브(351)를 더 설치하고 가요성 튜브(351)의 선단에 노즐 형상의 분사구(358d)를 형성할 수도 있다. 이 경우, 분사구(358d) 선단의 경사를 조절할 수 있으므로, 원하는 각도로 세정제의 분사 방향을 조절할 수 있다. 도 11에 도시된 실시예의 경우에, 상기 분사구(358d)의 각도에 따라 세정액 및 이물질의 배출을 원활하게 하기 위한 커버(370)가 더 구비될 수 있다.
이상에서는 도면 및 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
전술된 바와 같은 구성을 갖는 본 발명에 따른 슬릿 코터용 노즐 세정 장치 에 의해, 슬릿 노즐의 토출구에 부착된 이물질을 비접촉식으로 제거할 수 있다. 이에 따라서, 종래의 세정 부재와 같은 소모성 부품을 본 발명의 노즐 세정 장치에서는 사용하지 않기 때문에, 부품 교체를 위하여 코팅 작업 공정을 중단시킬 필요가 없어 유지 보수가 용이하다. 또한, 종래의 접촉식 세정 부재가 마모되면서 파티클이 떨어져 나와 이물질을 발생시키게 되는 문제도 해결할 수 있다.
또한, 드라이 아이스와 같은 승화성 고체 입자를 세정제로 사용하기 때문에, 슬릿 노즐의 토출구에 잔존물이 남게 되는 문제와 슬릿 노즐의 토출구에 손상이 발생하는 문제를 방지할 수 있다.

Claims (17)

  1. 기판 상에 코팅제를 토출하는 슬릿 노즐의 토출구를 세정하기 위한 노즐 세정 장치로서,
    상부면에 소정 깊이로 함몰되어 내측벽 및 바닥면으로 이루어진 홈이 형성된 본체와, 상기 홈의 내측벽에 형성되어 노즐의 토출구를 향하여 승화성 고체 입자를 분사하는 분사구와, 상기 홈의 바닥면에 형성되어 세정을 마친 승화성 고체 입자를 배출하기 위해 본체의 외부와 연결되는 배출관과, 상기 배출관에 연결되는 진공 펌프를 포함하고,
    상기 분사구는 승화성 고체 입자를 분사하여 노즐의 토출구를 비접촉식으로 세정하는 것을 특징으로 하는 노즐 세정 장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 승화성 고체 입자는 슬릿 노즐을 향하여 상향 경사지게 분사하는 것을 특징으로 하는 노즐 세정 장치.
  6. 삭제
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 승화성 고체 입자는 드라이아이스를 포함하는 것을 특징으로 하는 노즐 세정 장치.
  8. 청구항 1에 있어서, 상기 승화성 고체 입자는 비반응 가스와 함께 분사되는 것을 특징으로 하는 노즐 세정 장치.
  9. 청구항 1에 있어서, 상기 본체의 둘레에는 상기 본체를 덮고, 상부면에 슬릿 노즐의 토출구가 출입할 수 있는 개구가 형성된 커버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 노즐 세정 장치.
  10. 삭제
  11. 청구항 9에 있어서, 상기 개구와 그에 인입되는 슬릿 노즐 사이를 밀봉하는 실링을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 노즐 세정 장치.
  12. 기판 상에 코팅제를 토출하는 토출구를 갖는 슬릿 노즐과,
    상기 슬릿 노즐의 대기 위치에 구비되어 상기 슬릿 노즐의 토출구를 세정하는 청구항 1에 따른 노즐 세정 장치
    를 포함하는 슬릿 코터.
  13. 청구항 12에 있어서, 상기 본체가 이동 가능하게 안착 및 지지되어 상기 슬릿 노즐의 길이 방향 이동을 안내하는 안내 가이드와, 상기 안내 가이드를 따라 상기 본체를 이동시키는 구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 코터.
  14. 청구항 13에 있어서, 상기 분사구는 상기 본체의 이동 방향을 향하여 경사지게 상기 승화성 고체 입자를 분사하는 것을 특징으로 하는 슬릿 코터.
  15. 청구항 13에 있어서, 상기 본체와 안내 가이드의 둘레에는 상기 본체와 안내 가이드를 덮고, 상부면에 슬릿 노즐의 적어도 토출구가 출입할 수 있는 개구가 형성된 커버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 코터.
  16. 삭제
  17. 청구항 15에 있어서, 상기 개구와 그에 인입되는 슬릿 노즐 사이를 밀봉하는 실링을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 코터.
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