KR102232663B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 실시예는 기판 상에 처리액을 공급하는 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는 기판을 지지하는 기판 지지 유닛, 상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 상에 처리액을 토출하는 헤드, 상기 헤드를 공정 위치 및 대기 위치로 이동시키는 이동 유닛, 그리고 상기 대기 위치에 위치된 상기 처리액 노즐과 대향되게 위치되는 세정 포트를 포함하되, 상기 세정 포트는 상부 영역이 개방되며, 내부에 토출 공간이 형성되는 하우징 및 상기 상부 영역의 일부를 차단하는 차단 부재를 포함한다. 하우징 내에 유입된 처리액이 비산될지라도, 처리액이 하우징의 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있다.

Description

기판 처리 장치{Apparatus for treating substrate}
본 발명은 기판 상에 처리액을 공급하는 장치에 관한 것이다.
최근에는 휴대 전화기, 휴대형 컴퓨터 등의 전자 기기의 표시부에 액정 표시 장치가 널리 이용되고 있다. 이러한 액정 표시 장치는 블랙 매트릭스, 컬러 필터, 공통 전극, 그리고 배향막이 형성된 컬러 필터 기판 및 박막트랜지스터(TFT), 화소 전극, 그리고 배향막이 형성된 어레이 기판 사이의 공간에 액정을 주입하여, 액정의 이방성에 따른 빛의 굴절률의 차이를 이용해 영상 효과를 얻는다.
이 같이 컬러 필터 기판과 어레이 기판 상에 배향액이나 액정과 같은 처리액을 도포하는 장치로는 잉크젯 방식의 도포 장치가 사용되고 있다. 이 같은 도포 장치는 기판 상에 처리액을 도포하는 헤드를 포함한다. 헤드는 기판 상에 처리액을 공급하기 전에 예비 토출 공정을 수행한다. 예비 토출 공정은 일정량의 처리액을 세정 포트에 공급하여 헤드 내에 처리액을 채우기 위한 공정이다.
도 1은 일반적인 세정 포트 및 헤드를 보여주는 단면도이다. 도 1을 참조하면, 헤드(4)는 세정 포트(2)에 대향된 위치에서 처리액을 토출한다. 그러나 처리액이 토출되는 과정에서 처리액의 일부는 세정 포트(2)로부터 비산되거나 주변 기류의 간섭으로 인해 원치 않는 방향으로 토출된다. 특히 액정과 같이 작은 크기의 입자를 가지는 처리액은 토출되는 과정에서 일부가 흩날린다. 이로 인해 처리액은 세정 포트 및 이의 주변 장치를 오염시킬 수 있다.
또한 세정 포트(2)로부터 비산되거나, 흩날리는 일부 처리액은 헤드(4)에 재부착된다. 처리액이 재부착된 헤드(2)를 통해 기판의 처리 공정이 진행되는 경우에는, 그 재부착된 처리액이 낙하되어 기판을 역오염시킬 수 있다.
한국 특허 공개 번호: 2009-0062266
본 발명은 세정 포트에 토출된 처리액이 비산됨에 따라 주변 장비가 오염되는 것을 방지할 수 있는 장치를 제공하고자 한다.
또한 본 발명은 세정 포트에 처리액을 토출하는 과정에서 처리액의 일부가 헤드의 재부착되는 것을 방지할 수 있는 장치를 제공하고자 한다.
본 발명의 실시예는 기판 상에 처리액을 공급하는 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는 기판을 지지하는 기판 지지 유닛, 상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 상에 처리액을 토출하는 헤드, 상기 헤드를 공정 위치 및 대기 위치로 이동시키는 이동 유닛, 그리고 상기 대기 위치에 위치된 상기 처리액 노즐과 대향되게 위치되는 세정 포트를 포함하되, 상기 세정 포트는 상부 영역이 개방되며, 내부에 토출 공간이 형성되는 하우징 및 상기 상부 영역의 일부를 차단하는 차단 부재를 포함한다.
상기 차단 부재는 상기 하우징의 제1내측면에 제공되는 제1커버 플레이트 및 상기 제1내측면에 대향되는 제2내측면에 제공되는 제2커버 플레이트를 포함할 수 있다. 상부에서 바라볼 때 상기 제1커버 플레이트 및 상기 제2커버 플레이트는 서로 이격되게 위치될 수 있다. 상기 제1커버 플레이트는 상기 제1내측면으로부터 연장되는 제1가림부 및 상기 제1가림부로부터 아래로 연장되는 제1하강부를 가지고, 상기 제2커버 플레이트는 상기 제2내측면으로부터 연장되는 제2가림부 및 상기 제2가림부로부터 아래로 연장되는 제2하강부를 가질 수 있다. 상기 제1가림부 및 제2가림부는 상기 하우징의 상단보다 낮은 높이에 위치될 수 있다. 상기 하우징은 상기 제1내측면과 상기 제2내측면을 서로 연결하는 바닥면을 포함하되, 상기 바닥면은 상기 제1내측면의 하단으로부터 하향 경사지게 연장되는 제1바닥부 및 상기 제2내측면의 하단으로부터 하향 경사지게 연장되어 상기 제1바닥부에 연결되는 제2바닥부를 포함하되, 상부에서 바라볼 때 상기 제1바닥부와 상기 제2바닥부가 서로 만나는 지점은 상기 상부 영역의 개방된 일부와 중첩될 수 있다. 상기 헤드는 복수 개의 처리액 노즐들을 포함하되, 상기 노즐들은 일 방향을 따라 배열되고, 상기 하우징의 길이 방향은 상기 일 방향과 평행할 수 있다. 상기 차단 부재는 상기 하우징의 제1내측면에 제공되는 커버 플레이트를 포함하고, 상기 하우징은 상기 제1내측면으로부터 연장되는 바닥면, 상기 제1내측면에 대향되는 제2내측면, 그리고 상기 바닥면과 상기 제2내측면을 서로 연결하며, 상기 제2내측면에서 상기 바닥면에 가까워질수록 하향 경사지게 연장되는 경사면을 포함할 수 있다.
상기 커버 플레이트는 상기 제1내측면으로부터 연장되는 가림부 및 상기 가림부의 끝단으로부터 아래로 연장되는 하강부를 포함하되, 상부에서 바라볼 때 상기 가림부는 끝단이 상기 경사면에 중첩되도록 상기 제1내측면으로부터 연장될 수 있다. 상기 하강부는 하단이 경사면보다 높게 위치될 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 하우징의 개방된 상부 영역은 차단 부재에 의해 일부가 차단된다. 이에 따라 하우징 내에 유입된 처리액이 비산될지라도, 처리액이 하우징의 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있다.
또한 본 발명의 실시예에 의하면, 차단 부재는 하우징의 상단보다 낮게 위치된다. 이에 따라 헤드와 차단 부재 간에 마찰을 방지할 수 있다.
도 1은 일반적인 세정 포트 및 헤드를 보여주는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 잉크젯 방식의 기판처리장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 3은 도 2의 액정 토출부를 보여주는 사시도이다.
도 4는 도 3의 갠트리 이동 유닛을 보여주는 단면도이다.
도 5는 도 3의 헤드 이동 유닛의 측면을 보여주는 도면이다.
도 6은 도 3의 세정 포트를 보여주는 사시도이다.
도 7은 도 6의 세정 포트를 A 방향으로 절단한 단면도이다.
도 8은 도 6의 세정 포트를 B 방향으로 절단한 단면도이다.
도 9는 도 7의 차단 부재의 다른 실시예를 보여주는 단면도이다.
도 10은 도 7의 차단 부재의 또 다른 실시예를 보여주는 단면도이다.
도 11은 도 7의 하우징의 다른 실시예를 보여주는 단면도이다.
이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다. 상술한 본 발명이 해결하고자 하는 과제, 과제 해결 수단, 및 효과는 첨부된 도면과 관련된 실시 예들을 통해서 용이하게 이해될 것이다. 각 도면은 명확한 설명을 위해 일부가 간략하거나 과장되게 표현되었다. 각 도면의 구성 요소들에 참조 번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 동일한 부호를 가지도록 도시되었음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
본 실시예에는 액적을 토출하는 잉크젯 방식으로 대상물에 처리액을 도포하는 기판처리장치를 설명한다. 예컨태, 대상물은 액정 표시 패널의 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판일 수 있으며, 처리액은 액정(Liquid Crystal), 배향액, 용매에 안료 입자가 혼합된 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 잉크일 수 있다. 배향액으로는 폴리이미드(polyimide)가 사용될 수 있다.
배향액은 컬러 필터(CF) 기판과 박막트랜지스터(TFT) 기판의 전면에 도포될 수 있고, 액정은 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판의 전면에 도포될 수 있다. 잉크는 컬러 필터(CF) 기판상에 격자 모양의 패턴으로 배열된 블랙 매트릭스의 내부 영역에 도포될 수 있다.
본 실시예의 기판처리장치(1)는 액적을 토출하는 잉크젯 방식으로 기판에 액정(Liquid Crystal)을 도포하는 설비이다.
기판은 액정 표시 패널의 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판일 수 있으며, 액정은 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판의 전면에 도포될 수 있다.
도 2는 잉크젯 방식의 기판처리장치을 나타내는 도면이다. 도 2를 참조하면, 기판처리장치(1)는 액정 토출부(10), 기판 이송부(20), 로딩부(30), 언로딩부(40), 액정 공급부(50), 그리고 메인 제어부(90)를 포함한다. 액정 토출부(10)와 기판 이송부(20)는 제 1 방향(Ⅰ)으로 일렬로 배치되고, 서로 간에 인접하게 위치할 수 있다. 액정 토출부(10)를 중심으로 기판 이송부(20)와 마주하는 위치에는 액정 공급부(50)와 메인 제어부(90)가 배치된다. 액정 공급부(50)와 메인 제어부(90)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다. 기판 이송부(20)를 중심으로 액정 토출부(10)와 마주하는 위치에 로딩부(30)와 언로딩부(40)가 배치된다. 로딩부(30)와 언로딩부(40)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다.
여기서, 제 1 방향(Ⅰ)은 액정 토출부(10)와 기판 이송부(20)의 배열 방향이고, 제 2 방향(Ⅱ)은 수평면 상에서 제 1 방향(Ⅰ)에 수직한 방향이고, 제 3 방향(Ⅲ)은 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)에 수직한 방향이다.
액정이 도포될 기판은 로딩부(30)로 반입된다. 기판 이송부(20)는 로딩부(30)에 반입된 기판을 액정 토출부(10)로 이송한다. 액정 토출부(10)는 액정 공급부(50)로부터 액정을 공급받고, 잉크젯 방식으로 기판상에 액정을 토출한다. 액정 토출이 완료되면, 기판 이송부(20)는 액정 토출부(10)로부터 언로딩부(40)로 기판을 이송한다. 액정이 도포된 기판은 언로딩부(40)로부터 반출된다. 메인 제어부(90)는 액정 토출부(10), 기판 이송부(20), 로딩부(30), 언로딩부(40), 그리고 액정 공급부(50)의 전반적인 동작을 제어한다.
도 3은 도 2의 액정 토출부를 보여주는 사시도이다. 도 3을 참조하면, 액정토출부(10)는 베이스(B), 기판 지지 유닛(100), 갠트리(200), 갠트리 이동 유닛(300), 헤드 이동 유닛(500), 헤드 제어 유닛(700), 검사 유닛(900), 세정 포트(800), 그리고 제어기(850)를 포함한다.
베이스(B)는 일정한 두께를 가지는 직육면체 형상으로 제공될 수 있다. 베이스(B)의 상면에는 기판 지지 유닛(100)이 배치된다. 기판 지지 유닛(100)은 기판(S)이 놓이는 지지판(110)을 가진다. 지지판(110)은 사각형 형상의 판일 수 있다. 지지판(110)의 하면에는 회전 구동 부재(120)가 연결된다. 회전 구동 부재(120)는 회전 모터일 수 있다. 회전 구동 부재(120)는 지지판(100)에 수직한 회전 중심 축을 중심으로 지지판(110)을 회전시킨다.
지지판(110)이 회전 구동 부재(120)에 의해 회전되면, 기판(S)은 지지판(110)의 회전에 의해 회전될 수 있다. 액정이 도포될 기판에 형성된 셀의 장변 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하는 경우, 회전 구동 부재(120)는 셀의 장변 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하도록 기판을 회전시킬 수 있다.
지지판(110)과 회전 구동 부재(120)는 직선 구동 부재(130)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동될 수 있다. 직선 구동 부재(130)는 슬라이더(132)와 가이드 부재(134)를 포함한다. 회전 구동 부재(120)는 슬라이더(132)의 상면에 설치된다. 가이드 부재(134)는 베이스(B)의 상면 중심부에 제 1 방향(Ⅰ)으로 길게 연장된다. 슬라이더(132)에는 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있으며, 슬라이더(132)는 리니어 모터(미도시)에 의해 가이드 부재(134)를 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동된다.
갠트리(200)는 지지판(110)이 이동되는 경로의 상부에 제공된다. 갠트리(200)는 베이스(B)의 상면으로부터 위방향으로 이격 배치되며, 갠트리(200)는 길이 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하도록 배치된다.
갠트리 이동 유닛(300)은 갠트리(200)를 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동시키거나, 갠트리(200)의 길이 방향이 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향을 향하도록 갠트리(200)를 회전시킬 수 있다. 갠트리 구동 유닛(300) 제 1 구동 유닛(310)과 제 2 구동 유닛(320)을 포함한다. 제 2 구동 유닛(320)은 회전 중심이 되는 갠트리(200)의 일단에 제공되고, 제 1 구동 유닛(310)은 갠트리(200)의 타단에 제공된다.
도 4는 도 3의 갠트리 이동 유닛을 보여주는 단면도이다. 도 4를 참조하면, 제 1 구동 유닛(310)은 가이드 레일(315) 및 슬라이더(317)를 포함한다. 가이드 레일(315)은 길이 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하고, 기판 지지 유닛(100)의 가이드 부재(134)를 중심으로 베이스(B) 상면의 타측 가장자리부에 배치된다. 가이드 레일(315)에는 슬라이더(317)가 이동 가능하게 결합된다. 슬라이더(317)는 갠트리의 저면에 결합된다. 슬라이더(317)에는 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있다. 슬라이더(317)는 리니어 모터(미도시)의 구동력에 의해 가이드 레일(315)을 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동한다.
제 2 구동 유닛(320)은 갠트리의 중심축을 중심으로 제 1 구동 유닛(310)과 대칭되게 위치된다. 제 2 구동 유닛(320)은 제 1 구동 유닛(310)과 동일한 구성을 가지므로, 이에 대한 설명은 생략한다.
헤드(400)는 기판(S)에 처리액을 토출한다. 헤드(400)는 복수 개 제공될 수 있다. 본 실시 예에서는 3 개의 헤드(410,420,430)가 제공된 예를 들어 설명하지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 헤드(400)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬로 나란하게 배열될 수 있으며, 갠트리(200)에 결합된다. 헤드(400)는 헤드 이동 유닛(500)에 의해 갠트리(200)의 길이 방향, 즉 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동하고, 또한 갠트리 이동 유닛(300)에 의해 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동될 수 있다. 헤드(400)는 헤드 이동 유닛(500) 및 갠트리 이동 유닛(300)에 의해 공정 위치 및 대기 위치로 이동 가능하다. 여기서 공정 위치는 헤드가 기판과 대향되는 위치이고, 대기위치는 헤드가 공정 위치를 벗어난 위치이다. 일 예에 의하면, 대기 위치는 헤드가 세정 포트 및 검사 유닛에 대향된 위치일 수 있다.
헤드(400)의 저면에는 처리액을 토출하는 복수 개의 처리액 노즐들(미도시)이 제공된다. 예를 들어, 헤드들(400) 각각에는 128 개 또는 256 개의 처리액 노즐들(미도시)이 제공될 수 있다. 처리액 노즐들(미도시)은 제 2 방향을 따라 일렬 또는 복수 열로 배열될 수 있다. 처리액 노즐들(미도시)은 일정 피치의 간격으로 배열될 수 있다. 처리액 노즐들(미도시)은 μg 단위의 양으로 액정을 토출할 수 있다.
각각의 헤드(400)에는 처리액 노즐들(미도시)에 대응하는 수만큼의 압전 소자가 제공될 수 있으며, 처리액 노즐들(미도시)의 액적 토출 량은 압전 소자들에 인가되는 전압의 제어에 의해 각기 독립적으로 조절될 수 있다.
헤드 이동 유닛(500)은 제 1 이동 유닛(520) 및 제 2 이동 유닛(540)를 포함한다. 도 5는 도 3의 헤드 이동 유닛의 측면을 보여주는 도면이다. 도 5를 참조하면, 제 1 이동 유닛(520)은 개별 헤드(400)를 갠트리의 길이 방향, 즉 제 1 방향(I)으로 직선 이동시키고, 제 2 이동 유닛(540)은 개별 헤드(400)를 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동시킨다.
제 1 이동 유닛(520)은 가이드 레일들(522a,522b), 슬라이더들(524a, 524b), 그리고 이동 플레이트(526)를 포함한다. 가이드 레일들(522a,522b)은 제 1 방향(I)으로 길게 연장되며, 갠트리(200)의 전면에 제 3 방향(Ⅲ)으로 이격 설치될 수 있다. 가이드 레일들(522a,522b)에는 슬라이더들(524a, 524b)이 이동 가능하게 결합되며, 슬라이더들(524a, 524b)에는 직선 구동기가 내장될 수 있다. 예컨대, 직선 구동기는 리니어 모터(미도시)일 수 있다. 이동 플레이트(526)는 슬라이더들(524a, 524b)에 결합된다. 이동 플레이트(526)의 상부 영역은 상부에 위치한 슬라이더(524a)에 결합되고, 이동 플레이트(526)의 하부 영역은 하부에 위치한 슬라이더(524b)에 결합된다. 이동 플레이트(526)는 리니어 모터(미도시)의 구동력에 의해 가이드 레일들(522a,522b)을 따라 제 1 방향(I)으로 직선 이동한다. 헤드들(400)은 제 1 방향(I)을 따라 개별 이동됨에 따라 서로 간의 간격이 조절될 수 있다.
제 2 이동 유닛(540)은 가이드 부재(542) 및 슬라이더(544)를 포함한다. 가이드 부재(542)는 제 1 이동 유닛(520)의 이동 플레이트(526)에 결합되며, 슬라이더(544)의 제 3 방향(Ⅲ) 직선 이동을 안내한다. 슬라이더(544)는 가이드 부재(542)에 직선 이동 가능하게 결합되며, 슬라이더(544)에는 직선 구동기가 내장된다. 예컨대, 직성 구동기는 리니어 모터(미도시)일 수 있다. 헤드(400)는 슬라이더(544)에 결합되며, 슬라이더(544)의 제 3 방향(Ⅲ) 직선 이동에 의해 제 3 방향(Ⅲ)으로 이동된다.
헤드 제어 유닛(700)은 각각의 헤드들(410,420,430)의 액정 토출을 제어한다. 헤드 제어 유닛(700)은 헤드들(410,420,430)에 인접하게 액정 토출부(10) 내에 배치될 수 있다. 예를 들어, 헤드 제어 유닛(700)은 갠트리(200)의 상단에 배치될 수 있다. 본 실시예에서는 헤드 제어 유닛(700)이 갠트리(200)의 상단에 배치된 경우를 예로 들어 설명하지만, 헤드 제어 유닛(700)의 위치는 이에 한정되는 것은 아니다.
비록 도시되지는 않았지만, 헤드 제어 유닛(700)은 각각의 헤드들(410,420,430)에 전기적으로 연결되고, 각각의 헤드들(410,420,430)로 제어 신호를 인가한다. 각각의 헤드들(410,420,430)에는 처리액 노즐들(미도시)에 대응하는 수의 압전 소자(미도시)가 제공될 수 있으며, 헤드 제어 유닛은 압전 소자들에 인가되는 전압을 제어하여 처리액 노즐들(미도시)의 액적 토출 량을 조절할 수 있다.
다시 도 3을 참조하면, 검사 유닛(900)은 광학 검사를 통해 헤드들(410,420,430)에 제공된 개별 처리액 노즐의 이상 유무를 확인한다. 검사 유닛(900)은 거시적인 처리액 노즐의 이상 유무를 확인한 결과, 불특정의 처리액 노즐에 이상이 있는 것으로 판단된 경우, 검사유닛(900)은 개별 처리액 노즐의 이상 유무를 확인하면서 처리액 노즐에 대한 전수 검사를 진행할 수 있다.
세정 포트(800)는 헤드를 세정한다. 세정 포트(800)는 헤드(400)가 기판(S)에 처리액을 공급하기 전에 처리액을 예비 토출하는 예비 토출 유닛(800)으로 제공될 수 있다. 세정 포트(800)는 헤드(400)로부터 토출되는 처리액을 배출하고, 헤드(400)의 토출단에 잔류된 처리액을 세정 처리한다. 세정 포트(800)는 복수 개로 제공된다. 일 예에 의하면, 세정 포트(800)는 헤드(400)와 일대일 대응되는 개수로 제공될 수 있다. 선택적으로 세정 포트는 1 개로 제공될 수 있다. 헤드들(400)은 각각에 대응하는 세정 포트(800)에 처리액을 예비 토출한다. 도 6은 도 3의 세정 포트를 보여주는 사시도이고, 도 7은 도 6의 세정 포트를 A 방향으로 절단한 단면도이며, 도 8은 도 6의 세정 포트를 B 방향으로 절단한 단면도이다. 도 6 내지 도 8을 참조하면, 세정 포트(800)는 하우징(810), 차단 부재(820), 그리고 석션 부재(830)를 포함한다.
하우징(810)은 상부 영역이 개방된 직사각의 통 형상을 가지도록 제공된다. 하우징(810)은 높이에 비해 길이가 길게 제공된다. 여기서 길이는 제2방향을 향하는 방향이고, 높이는 제3방향을 향하는 방향으로 정의한다. 하우징(810)의 폭은 길이에 비해 짧게 제공된다. 하우징(810)의 내부에는 헤드가 수용 가능한 토출 공간(818)이 제공된다. 하우징(810)의 개방 영역은 토출 공간(818)과 연장된다. 토출 공간(818)을 형성하는 하우징(810)의 내면은 장측면(812), 단측면(814), 그리고 바닥면(816)을 가진다. 장측면(812)은 제2방향을 향하는 길이 방향을 가진다. 장측면(812)은 제1내측면(812a) 및 제2내측면(812b)을 가진다. 제1내측면(812a) 및 제2내측면(812b)은 제2방향으로 서로 마주보도록 제공된다. 제1내측면(812a) 및 제2내측면(812b)은 동일 형상으로 제공된다. 단측면(814)은 제1내측면(812a) 및 제2내측면(812b) 각각의 양측단으로부터 연장된다. 단측면(814)은 제1내측면(812a) 및 제2내측면(812b)을 서로 연결한다.
바닥면(816)은 장측면(812) 및 단측면(814) 각각의 하단으로부터 연장된다. 바닥면(816)은 장측면(812) 및 단측면(814)을 서로 연결한다. 바닥면(816)은 제1바닥부(816a) 및 제2바닥부(816b)를 가진다. 제1바닥부(816a)는 제1내측면(812a)의 하단으로부터 연장된다. 제1바닥부(816a)는 하우징(810)의 중심축에 가까워질수록 하향 경사진 방향으로 연장된다. 제2바닥부(816b)는 제2내측면(812b)의 하단으로부터 연장된다. 제2바닥부(816b)는 하우징(810)의 중심축에 가까워질수록 하향 경사진 방향으로 연장된다. 일 예에 의하면, 제1바닥부(816a)와 제2바닥부(816b)가 서로 만나는 지점은 하우징(810)의 중심축과 일치할 수 있다.
차단 부재(820)는 하우징(810)의 개방된 상부 영역 중 일부를 차단한다. 차단 부재(820)는 제1커버 플레이트(822) 및 제2커버 플레이트(824)는 포함한다. 제1커버 플레이트(822)는 제1내측면(812a)에 인접하게 위치되고, 제2커버 플레이트(824)는 제2내측면(812b)에 인접하게 위치된다. 제1커버 플레이트(822) 및 제2커버 플레이트(824)는 서로 이격되게 위치된다. 제1커버 플레이트(822)는 제1가림부(822a) 및 제1하강부(822b)를 가진다. 제1가림부(822a)는 제1내측면(812a)과 평행한 길이 방향을 가지는 판 형상으로 제공된다. 제1가림부(822a)는 제1내측면(812a)으로부터 하우징(810)의 중심축에 가까워지는 방향으로 연장된다. 제1가림부(822a)는 제1내측면(812a)의 상단보다 낮게 위치된다. 제1하강부(822b)는 제1가림부(822a)에 대응되는 길이를 가지는 판 형상으로 제공된다. 제1하강부(822b)는 제1가림부(822a)의 끝단으로부터 아래로 연장된다. 일 예에 의하면, 제1가림부(822a)는 제1내측면(812a)으로부터 수평 방향으로 연장되고, 제1하강부(822b)는 제1가림부(822a)으로부터 수직하게 연장될 수 있다.
제2커버 플레이트(824)는 제2가림부(824a) 및 제2하강부(824b)를 가진다. 제2가림부(824a)는 제2내측면(812b)과 평행한 길이 방향을 가지는 판 형상으로 제공된다. 제2가림부(824a)는 제2내측면(812b)으로부터 하우징(810)의 중심축에 가까워지는 방향으로 연장된다. 제2가림부(824a)는 제2내측면(812b)의 상단보다 낮게 위치된다. 제2하강부(824b)는 제2가림부(824a)에 대응되는 길이를 가지는 판 형상으로 제공된다. 제2하강부(824b)는 제2가림부(824a)의 끝단으로부터 아래로 연장된다. 일 예에 의하면, 제2가림부(824a)는 제2내측면(812b)으로부터 수평 방향으로 연장되고, 제2하강부(824b)는 제2가림부(824a)으로부터 수직하게 연장될 수 있다.
따라서 상부에서 바라볼 때 하우징(810)의 상부 영역은 제1가림부(822a) 및 제2가림부(824a)에 중첩되는 영역이 차단 영역으로 제공된다. 또한 하우징(810)의 상부 영역은 제1가림부(822a)와 제2가림부(824a)의 사이 공간이 개방 영역으로 제공된다.
석션 부재(830)는 헤드의 토출단에 잔류된 처리액을 제거한다. 석션 부재(830)는 헤드의 토출단에 잔류된 처리액을 석션한다. 석션 부재(830)는 하우징(810)의 상부면에 위치된다. 석션 부재(830)는 석션홀을 가지며, 석션홀은 위를 향하도록 제공된다. 석션 부재(830)는 토출 공간(818)에 처리액 토출이 완료된 헤드를 석션한다.
본 실시예에는 차단 부재(820)의 가림부가 내측면으로부터 수평 방향으로 연장되고, 하강부가 가림부로부터 수직하게 연장되는 것으로 설명하였다. 그러나 차단 부재(820)는 이에 한정되지 않고 다양하게 변형 가능하다.
도 9와 같이 차단 부재(820)의 제1가림부(822a)는 제1내측면(812a)으로부터 하향 경사진 방향으로 연장되고, 제2가림부(824a)는 제2내측면(812b)으로부터 하향 경사진 방향으로 연장될 수 있다.
또한 도 10과 같이, 제1하강부(822b)는 제1가림부(822a)의 끝단에서 하우징(810)의 중심축에 가까워질수록 하향 경사진 방향으로 연장될 수 있다. 제2하강부(824b)는 제2가림부(824a)의 끝단에서 하우징(810)의 중심축에 가까워질수록 하향 경사진 방향으로 연장될 수 있다. 이 경우에는 제1하강부(822b)와 제2하강부(824b)의 사이 공간이 하우징(810)의 개방 영역으로 제공될 수 있다.
또한 도 11과 같이, 하우징(810)의 토출 공간(818)은 장측면(812), 단측면(814), 바닥면(817b), 그리고 경사면(817a)에 의해 형성될 수 있다. 바닥면(817b)은 제2내측면(812b)으로부터 수평 방향으로 연장되고, 경사면(817a)은 바닥면(817b)과 제1내측면(812a)을 서로 연결한다. 경사면(817a)은 제1내측면(812a)에서 바닥면(817b)에 가까워질수록 하향 경사지게 연장된다. 상부에서 바라볼 때 경사면(817a)과 개방 영역(818)이 서로 중첩되도록 차단 부재(820)는 제2커버 플레이트(824)만을 포함할 수 있다. 상부에서 바라볼 때 제1가림부(822a)는 끝단이 경사면(817a)에 중첩되도록 제1내측면(812a)으로부터 연장될 수 있다. 제1하강부(822b)의 하단은 경사면(817a)보다 높게 위치될 수 있다.
800: 세정 포트 810: 하우징
812a: 제1내측면 812b: 제2내측면
820: 차단 부재 822: 제1커버 플레이트
824: 제2커버 플레이트

Claims (10)

  1. 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과;
    상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 상에 처리액을 토출하는 헤드와;
    상기 헤드를 공정 위치 및 대기 위치로 이동시키는 이동 유닛과;
    상기 대기 위치에 위치된 처리액 노즐과 대향되게 위치되는 세정 포트를 포함하되,
    상기 세정 포트는,
    상부 영역이 개방되며, 내부에 토출 공간이 형성되는 하우징과;
    상기 상부 영역의 일부를 차단하는 차단 부재를 포함하고,
    상기 차단 부재는 상기 하우징의 상단보다 낮게 위치하는 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 차단 부재는,
    상기 하우징의 제1내측면에 제공되는 제1커버 플레이트와;
    상기 제1내측면에 대향되는 제2내측면에 제공되는 제2커버 플레이트를 포함하는 기판 처리 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상부에서 바라볼 때 상기 제1커버 플레이트 및 상기 제2커버 플레이트는 서로 이격되게 위치되는 기판 처리 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1커버 플레이트는 상기 제1내측면으로부터 연장되는 제1가림부 및 상기 제1가림부로부터 아래로 연장되는 제1하강부를 가지고,
    상기 제2커버 플레이트는 상기 제2내측면으로부터 연장되는 제2가림부 및 상기 제2가림부로부터 아래로 연장되는 제2하강부를 가지는 기판 처리 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제1가림부 및 제2가림부는 상기 하우징의 상단보다 낮은 높이에 위치되는 기판 처리 장치.
  6. 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 하우징은,
    상기 제1내측면과 상기 제2내측면을 서로 연결하는 바닥면을 포함하되,
    상기 바닥면은,
    상기 제1내측면의 하단으로부터 하향 경사지게 연장되는 제1바닥부와;
    상기 제2내측면의 하단으로부터 하향 경사지게 연장되어 상기 제1바닥부에 연결되는 제2바닥부를 포함하되,
    상부에서 바라볼 때 상기 제1바닥부와 상기 제2바닥부가 서로 만나는 지점은 상기 상부 영역의 개방된 일부와 중첩되는 기판 처리 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 헤드는 복수 개의 처리액 노즐들을 포함하되,
    상기 노즐들은 일 방향을 따라 배열되고,
    상기 하우징의 길이 방향은 상기 일 방향과 평행한 기판 처리 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 차단 부재는,
    상기 하우징의 제1내측면에 제공되는 커버 플레이트를 포함하고,
    상기 하우징은,
    상기 제1내측면으로부터 연장되는 바닥면과;
    상기 제1내측면에 대향되는 제2내측면과;
    상기 바닥면과 상기 제2내측면을 서로 연결하며, 상기 제2내측면에서 상기 바닥면에 가까워질수록 하향 경사지게 연장되는 경사면을 포함하는 기판 처리 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 커버 플레이트는,
    상기 제1내측면으로부터 연장되는 가림부와;
    상기 가림부의 끝단으로부터 아래로 연장되는 하강부를 포함하되,
    상부에서 바라볼 때 상기 가림부는 끝단이 상기 경사면에 중첩되도록 상기 제1내측면으로부터 연장되는 기판 처리 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 하강부는 하단이 경사면보다 높게 위치되는 기판 처리 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101205834B1 (ko) * 2010-08-24 2012-11-29 세메스 주식회사 세정 유닛 및 이를 가지는 처리액 토출 장치, 헤드 세정 방법
KR101276091B1 (ko) * 2011-09-20 2013-06-18 주식회사 제우스 기판 세정장치

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100795548B1 (ko) * 2006-07-20 2008-01-21 주식회사 케이씨텍 노즐 세정 장치 및 이를 포함하는 슬릿 코터

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