KR20160107034A - 검출 방법 및 기판 처리 장치 - Google Patents

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KR20160107034A
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세메스 주식회사
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Abstract

본 발명의 실시예는 액을 검출하는 방법 및 장치를 제공한다. 노즐로부터 액의 토출량을 검출하는 검출 방법으로는, 하부 플레이트 상에 상기 노즐로부터 액을 토출하고, 상기 하부 플레이트 상에 토출된 액을 상부 플레이트로 누르며, 이후 촬상부재로 상기 하부 플레이트 상에 토출된 액을 촬상하여 이미지를 획득하고, 상기 이미지로부터 상기 액의 토출량을 검출하는 것을 포함한다. 이로 인해 그 토출량의 검출 공정을 신속하게 수행할 수 있다.

Description

검출 방법 및 기판 처리 장치{Detecting mehtod and Apparatus for treating substrate}
본 발명은 액의 토출량을 검출하는 방법 및 장치에 관한 것이다.
최근에는 휴대 전화기, 휴대형 컴퓨터 등의 전자 기기의 표시부에 액정 표시 장치가 널리 이용되고 있다. 이러한 액정 표시 장치는 블랙 매트릭스, 컬러 필터, 공통 전극 및 배향막이 형성된 컬러 필터 기판, 박막트랜지스터(TFT), 화소 전극 및 배향막이 형성된 어레이 기판 사이의 공간에 액정을 주입하여, 액정의 이방성에 따른 빛의 굴절률의 차이를 이용해 영상 효과를 얻는다.
이 같이 컬러 필터 기판과 어레이 기판 상에 배향액이나 액정과 같은 처리액을 도포하는 장치로는 잉크젯 방식의 도포 장치가 사용되고 있다. 이러한 도포 장치는 기판 상에 처리액을 공급하는 액 공급 유닛을 포함한다. 액 공급 유닛은 복수 개의 토출 헤드들을 가지며, 토출 헤드들 각각에는 128개 또는 256 개의 노즐들이 설치된다. 각 노즐들에는 수 마이크로미터(μm)의 직경을 가지는 토출구가 형성된다. 이로 인해 토출구의 주변에 처리액의 굳거나 이물이 유입되는 경우에는 그 토출구가 막힌다.
따라서 도포 장치에는 노즐의 처리액 토출에 대한 이상 유무를 검출할 수 있는 검출 유닛이 제공된다. 도 1은 일반적인 검출 유닛을 보여주는 단면도이다. 도 1을 참조하면, 검출 유닛은 측정 플레이트(2) 및 무게 측정 부재(4)를 포함한다. 무게 측정 부재(4)는 측정 플레이트(2)에 토출된 처리액의 무게를 측정한다. 처리액의 무게 측정이 진행되면, 토출 헤드(6)는 측정 플레이트(2)에 수십 회를 반복하여 처리액을 토출한다. 측정 플레이트(2)에 처리액이 토출된 후, 처리액의 흩날림 및 무게 측정 부재(4)의 떨림이 안정화될 때까지 일정 시간을 대기한다. 이후 처리액의 무게를 측정하고, 그 무게가 설정치보다 낮을 경우에 노즐의 이상을 검출한다.
그러나 처리액의 무게를 측정하여 노즐의 이상 유무를 검출하는 방법은 다량의 처리액을 필요로 한다. 소량의 처리액으로는 그 무게를 측정하는 편차가 다양하게 나타날 수 있다. 또한 처리액의 흩날림 및 무게 측정 부재의 떨림이 안정화될 때까지 일정 시간을 대기해야 하므로, 그 검출 과정에서 상당한 시간이 소요된다.
한국 특허 공개 번호 제10-2007-0043642호
본 발명은 노즐의 처리액 토출량에 대한 이상 유무를 신속하게 검출할 수 있는 방법 및 장치를 제공하고자 한다.
또한 본 발명은 노즐의 처리액 토출량에 대한 이상 유무를 검출하는 과정에서 다량의 처리액이 소모되는 것을 최소화할 수 있는 방법 및 장치를 제공하고자 한다.
본 발명의 실시예는 액의 토출량을 검출하는 방법 및 장치를 제공한다. 노즐로부터 액의 토출량을 검출하는 검출 방법으로는, 하부 플레이트 상에 상기 노즐로부터 액을 토출하고, 상기 하부 플레이트 상에 토출된 액을 상부 플레이트로 누르며, 이후 촬상부재로 상기 하부 플레이트 상에 토출된 액을 촬상하여 이미지를 획득하고, 상기 이미지로부터 상기 액의 토출량을 검출하는 것을 포함한다.
상기 노즐은 복수의 토출 헤드들에 각각 복수 개가 제공되며, 상기 토출 헤드들 각각의 상기 노즐들에서 토출된 액의 이미지들에서 액이 토출된 픽셀 수를 산출하고, 상기 픽셀 수를 비교하여 상기 토출 헤드들 간의 토출량 편차를 검출할 수 있다. 상기 하부 플레이트는 상기 토출 헤드들과 일대일 대응되는 개수로 제공되며, 복수의 상기 토출 헤드들은 서로 상이한 상기 하부 플레이트에 액을 토출할 수 있다. 상기 상부 플레이트는 각각의 상기 하부 플레이트에 대해 동일 간격을 가지도록 토출된 액을 누를 수 있다. 상기 상부 플레이트는 투명 재질로 제공될 수 있다.
또한 기판 처리 장치는 기판을 지지하는 기판 지지 유닛, 상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 상에 처리액을 공급하는 토출 헤드를 가지는 액 공급 유닛, 그리고 상기 액 공급 유닛의 처리액 토출량의 이상 유무를 검출하는 검출 유닛을 포함하되, 상기 검출 유닛은 상면에 상기 토출 헤드로부터 처리액이 토출되는 영역을 가지는 하부 플레이트, 상기 하부 플레이트의 위에서 상기 하부 플레이트에 대향되게 위치되는 상부 플레이트, 상기 상부 플레이트를 상하 방향으로 이동시키는 승강 부재, 상기 하부 플레이트에 토출된 처리액의 이미지를 촬상하여 이미지를 획득하는 촬상 부재, 그리고 상기 승강 부재 및 상기 촬상 부재를 제어하는 제어기를 포함하되, 상기 제어기는 상기 상부 플레이트가 상기 하부 플레이트에 토출된 처리액을 누르도록 상기 승강 부재를 제어하고, 상기 촬상 부재로부터 이미지를 제공받아 처리액의 토출량을 검출하는 제어기를 포함한다.
상기 토출 헤드 및 상기 하부 플레이트는 서로 일대일 대응되는 개수를 가지도록 각각 복수 개로 제공되며, 상기 제어기는 상기 이미지들에서 토출된 처리액의 픽셀 수를 산출하고, 상기 픽셀 수를 비교하여 상기 토출 헤드들 간의 토출량 편차를 검출할 수 있다. 상기 상부 플레이트는 상기 하부 플레이트보다 적은 개수로 제공되고, 상기 하부 플레이트에 대향되는 상기 상부 플레이트의 대향면은 복수 개의 상기 하부 플레이트들의 상면들의 합보다 큰 면적을 가질 수 있다. 상기 상부 플레이트는 상기 하부 플레이트와 일대일 대응되는 개수를 가지도록 복수 개로 제공될 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 토출된 처리액을 촬상하고, 이에 대한 이미지로부터 처리액의 토출량을 검출하므로, 그 토출량의 검출 공정을 신속하게 수행할 수 있다.
또한 본 발명의 실시예에 의하면, 토출된 처리액의 픽셀 수를 산출하고 이를 통해 그 토출량을 검출하므로, 소량의 처리액을 통해서 그 토출량의 검출 공정을 수행할 수 있다.
도 1은 일반적인 검출 유닛을 보여주는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 잉크젯 방식의 기판처리장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 3은 도 2의 액정 토출부를 보여주는 사시도이다.
도 4는 도 3의 액정 토출부를 보여주는 평면도이다.
도 5는 도 3의 토출 헤드를 보여주는 단면도이다.
도 6은 도 3의 검출 유닛을 보여주는 단면도이다.
도 7 및 도 8은 토출 헤드의 처리액 토출량을 검출하는 과정을 보여주는 단면도들이다.
도 9는 도 7의 검출 유닛의 다른 실시예를 보여주는 단면도이다.
이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다. 상술한 본 발명이 해결하고자 하는 과제, 과제 해결 수단, 및 효과는 첨부된 도면과 관련된 실시 예들을 통해서 용이하게 이해될 것이다. 각 도면은 명확한 설명을 위해 일부가 간략하거나 과장되게 표현되었다. 각 도면의 구성 요소들에 참조 번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 동일한 부호를 가지도록 도시되었음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
본 실시예에는 액적을 토출하는 잉크젯 방식으로 대상물에 처리액을 도포하는 기판처리장치를 설명한다. 예컨태, 대상물은 액정 표시 패널의 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판일 수 있으며, 처리액은 액정(Liquid Crystal), 배향액, 용매에 안료 입자가 혼합된 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 잉크일 수 있다. 배향액으로는 폴리이미드(polyimide)가 사용될 수 있다.
배향액은 컬러 필터(CF) 기판과 박막트랜지스터(TFT) 기판의 전면에 도포될 수 있고, 액정은 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판의 전면에 도포될 수 있다. 잉크는 컬러 필터(CF) 기판상에 격자 모양의 패턴으로 배열된 블랙 매트릭스의 내부 영역에 도포될 수 있다.
본 실시예의 기판 처리 장치(1)는 액적을 토출하는 잉크젯 방식으로 기판에 액정(Liquid Crystal)을 도포하는 설비이다.
기판은 액정 표시 패널의 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판일 수 있으며, 액정은 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판의 전면에 도포될 수 있다.
도 2는 잉크젯 방식의 기판 처리 장치을 나타내는 도면이다. 도 2를 참조하면, 기판처리장치(1)는 액정 토출부(10), 기판 이송부(20), 로딩부(30), 언로딩부(40), 액정 공급부(50), 그리고 메인 제어부(90)를 포함한다. 액정 토출부(10)와 기판 이송부(20)는 제 1 방향(Ⅰ)으로 일렬로 배치되고, 서로 간에 인접하게 위치할 수 있다. 액정 토출부(10)를 중심으로 기판 이송부(20)와 마주하는 위치에는 액정 공급부(50)와 메인 제어부(90)가 배치된다. 액정 공급부(50)와 메인 제어부(90)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다. 기판 이송부(20)를 중심으로 액정 토출부(10)와 마주하는 위치에 로딩부(30)와 언로딩부(40)가 배치된다. 로딩부(30)와 언로딩부(40)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다.
여기서, 제 1 방향(Ⅰ)은 액정 토출부(10)와 기판 이송부(20)의 배열 방향이고, 제 2 방향(Ⅱ)은 수평면 상에서 제 1 방향(Ⅰ)에 수직한 방향이고, 제 3 방향(Ⅲ)은 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)에 수직한 방향이다.
액정이 도포될 기판은 로딩부(30)로 반입된다. 기판 이송부(20)는 로딩부(30)에 반입된 기판을 액정 토출부(10)로 이송한다. 액정 토출부(10)는 액정 공급부(50)로부터 액정을 공급받고, 잉크젯 방식으로 기판상에 액정을 토출한다. 액정 토출이 완료되면, 기판 이송부(20)는 액정 토출부(10)로부터 언로딩부(40)로 기판을 이송한다. 액정이 도포된 기판은 언로딩부(40)로부터 반출된다. 메인 제어부(90)는 액정 토출부(10), 기판 이송부(20), 로딩부(30), 언로딩부(40), 그리고 액정 공급부(50)의 전반적인 동작을 제어한다.
도 3은 도 2의 액정 토출부를 보여주는 사시도이고, 도 4는 도 3의 액정 토출부를 보여주는 평면도이다. 도 3 및 도 4를 참조하면, 액정 토출부(10)는 베이스(B), 기판 지지 유닛(100), 갠트리(200), 액 공급 유닛(500), 헤드 제어 유닛(400), 그리고 검사 유닛(800)을 포함한다.
베이스(B)는 일정한 높이를 가지는 직육면체 형상으로 제공될 수 있다. 베이스(B)는 제 1 방향(Ⅰ)을 향하는 길이 방향을 가지며, 제 2 방향(Ⅱ)을 향하는 폭을 가진다. 베이스(B)의 상면은 기판을 처리하기 위한 장치들이 배치되는 공간으로 제공된다.
기판 지지 유닛(100)은 베이스(B)의 상면에서 기판(S)을 제 1 방향(Ⅰ)으로 반송시킨다. 기판 지지 유닛(100)은 베이스(B)의 상면에 배치된다. 기판 지지 유닛(100)은 지지판(110), 회전 구동 부재(120), 그리고 직선 구동 부재(130)을 포함한다. 지지판(110)은 기판(S)을 지지한다. 지지판(110)은 사각형 형상의 판일 수 있다. 지지판(110)의 하면에는 회전 구동 부재(120)가 연결된다. 회전 구동 부재(120)는 회전 모터일 수 있다. 회전 구동 부재(120)는 지지판(100)에 수직한 회전 중심 축을 중심으로 지지판(110)을 회전시킨다. 지지판(110)이 회전 구동 부재(120)에 의해 회전되면, 기판(S)은 지지판(110)과 함께 회전될 수 있다. 액정이 도포될 기판(S)에 형성된 셀의 장변 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하는 경우, 회전 구동 부재(120)는 셀의 장변 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하도록 기판을 회전시킬 수 있다.
직선 구동 부재(130)는 지지판(110)과 회전 구동 부재(120)를 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동시킨다. 직선 구동 부재(130)는 슬라이더(132)와 가이드 부재(134)를 포함한다. 슬라이더(132)는 회전 구동 부재(120)의 아래에 설치된다. 가이드 부재(134)는 베이스(B)의 상면 중심부에 제 1 방향(Ⅰ)으로 길게 연장된다. 슬라이더(132)에는 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있으며, 가이드 부재(134)를 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동된다.
갠트리(200)는 지지판(110)이 이동되는 경로의 상부에 제공된다. 갠트리(200)는 베이스(B)의 상면으로부터 위 방향으로 이격 배치되며, 갠트리(200)는 길이 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하도록 배치된다. 갠트리(200)는 지지축(220)에 의해 지지된다. 지지축(220)은 복수 개로 제공되며, 갠트리(200)의 양측 가장자리 영역을 지지한다. 각각의 지지축(220)은 제 2 방향(Ⅱ)을 따라 서로 이격되게 위치된다. 예컨대, 지지축(220)은 2 개일 수 있다. 지지축들(220)은 베이스(B)의 상면에 고정 결합된다. 지지축들(220)의 상단에는 갠트리(200)의 양측 가장자리 영역이 결합된다. 선택적으로 지지축(220)은 가이드 레일에 의해 제 1 방향으로 직선 이동되며, 갠트리(200)는 기판 지지 유닛(100)과 상대 위치가 변경될 수 있다.
액 공급 유닛(500)은 기판에 처리액을 공급한다. 예컨대, 처리액은 액정을 포함하는 잉크로 제공될 수 있다. 잉크는 점성을 가지는 액일 수 있다. 액 공급 유닛(500)은 토출 헤드(500)를 포함한다. 토출 헤드(500)는 기판 지지 유닛(100)에 지지된 기판(S) 상에 처리액을 직접 공급한다. 토출 헤드(500)는 복수 개로 제공된다. 복수 개의 토출 헤드들(500a,500b,500c)은 갠트리(200)에 결합된다. 토출 헤드들(500a,500b,500c)은 복수 열이 제 2 방향(Ⅱ)을 따라 나란하게 배열되도록 위치된다. 일 예에 의하면, 토출 헤드들(500a,500b,500c)은 A X B 열로 위치될 수 있다. 여기서 A 는 제 1 방향(Ⅰ)을 따라 배열되는 토출 헤드(500)의 개수이고, B 는 제 2 방향(Ⅱ)을 따라 배열되는 토출 헤드(500)의 개수일 수 있다. 본 실시예에는 토출 헤드(500)가 2 X 3 열로 위치되는 것을 예로 설명한다. 서로 인접한 토출 헤드들(500a,500b,500c)은 제 1 방향(Ⅰ) 및 제 2 방향(Ⅱ)에 대해 각각 이격되게 위치된다.
도 5는 도 3의 토출 헤드를 보여주는 단면도이다. 도 5를 참조하면, 토출 헤드들(500a,500b,500c) 각각은 하우징(610), 액 공급 라인(652), 액 배출 라인(654), 진동자(630), 그리고 노즐 플레이트를 포함한다. 하우징(610)은 내부에 처리액이 흐르는 유로(612)가 형성된다. 하우징(610)의 상단에는 유입구 및 배출구가 형성되며, 그 저면에는 복수의 토출구(614)들이 형성된다. 예컨대, 토출구(614)는 128 또는 256 개일 수 있다. 토출구(614)들 각각에는 노즐(미도시)이 삽입된다. 유로(612)는 유입구, 토출구(614), 그리고 배출구가 서로 통하도록 형성된다. 여기서 유입구는 처리액이 하우징(610)의 내부에 유입되는 통로이고, 배출구는 처리액이 하우징(610)의 내부에서 배출되는 통로이다. 토출구(614)는 하우징(610)의 내부에 제공된 처리액이 기판(S) 상으로 토출되는 통로이다. 액 공급 라인(652)은 하우징(610)의 유입구 및 액 공급원을 서로 연결한다. 처리액은 액 공급 라인(652)을 통해 액 공급원에서 하우징(610)의 유로(612)로 공급된다. 액 배출 라인(654)은 하우징(610)의 배출구에 연결된다. 토출 헤드(500)가 대기 시에는 유로(612)에 흐르는 처리액이 액 배출 라인(654)을 통해 배출될 수 있다. 액 배출 라인(654)을 통해 배출된 처리액은 순환되어 액 공급 라인(652)을 제공될 수 있다.
진동자(630)는 유로(612)에 흐르는 처리액이 토출구(614)를 향해 흐르도록 처리액을 가압한다. 진동자(630)는 토출구(614)를 개방 또는 차단한다. 진동자(630)는 복수 개로 제공된다. 일 예에 의하면, 진동자(630)는 토출구(614)와 일대일 대응되는 개수로 제공될 수 있다. 진동자(630)는 전기적으로 연결되며, 전기 신호에 의해 각 토출구(614)를 개방 또는 차단할 수 있다. 각각의 진동자(630)는 독립적으로 제어될 수 있다. 예컨대, 진동자(630)는 압전 소자(630)일 수 있다.
노즐 플레이트(700)는 토출 헤드(500)의 노즐들을 정렬시킨다. 노즐 플레이트(700)는 복수 개로 제공되며, 토출 헤드(500)와 일대일 대응되는 개수로 제공된다. 노즐 플레이트(700)는 토출홀들(710)이 형성된 판 형상으로 제공된다. 토출홀들(710)은 하우징(610)의 토출구(614)와 일대일 대응되는 개수로 제공된다. 노즐 플레이트(700)는 토출홀들(710)과 토출구(614)과 일대일 대향되도록 하우징(610)의 저면에 결합된다.
다시 도 3을 참조하면, 헤드 제어 유닛(400)은 토출 헤드들(500a,500b,500c)의 액정 토출을 제어한다. 헤드 제어 유닛(400)은 토출 헤드들(500a,500b,500c)에 인접하게 액정 토출부(10) 내에 배치될 수 있다. 예를 들어, 헤드 제어 유닛(400)은 갠트리(200)의 상단에 배치될 수 있다. 본 실시 예에서는 헤드 제어 유닛(400)이 갠트리(200)의 상단에 배치된 경우를 예로 들어 설명하지만, 헤드 제어 유닛(400)의 위치는 이에 한정되는 것은 아니다. 헤드 제어 유닛(400)은 각각의 토출 헤드들(500a,500b,500c)에 전기적으로 연결되고, 각각의 토출 헤드들(500a,500b,500c)로 제어 신호를 인가한다. 헤드 제어 유닛(400)은 각각의 진동자(630)에 연결될 수 있다.
검출 유닛(800)은 토출 헤드들(500a,500b,500c)의 처리액 토출량의 이상 유무를 확인한다. 검출 유닛(800)은 각 토출 헤드(500a,500b,500c)로부터 토출된 처리액의 이미지를 픽셀 수로 산출하고, 각 픽셀 수를 비교하여 토출 헤드들(500a,500b,500c) 간의 토출량 편차를 검출한다. 도 6은 도 3의 검출 유닛을 보여주는 단면도이다. 도 6을 참조하면, 검출 유닛(800)은 지지 바디(810), 하부 플레이트(820), 상부 플레이트(830), 승강 부재(840), 촬상 부재(850), 그리고 제어기(860)를 포함한다. 지지 바디(810)는 하부 플레이트(820)를 지지한다. 지지 바디(810)의 상면에는 하부 플레이트(820)가 안착된다. 지지 바디(810)는 가이드 부재에 설치되며, 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있다. 지지 바디(810)는 가이드 부재의 길이 방향인 제 1 방향(Ⅰ)을 따라 직선 이동이 가능하다. 지지 바디(810)는 그 상단이 토출 헤드(500)의 토출단보다 낮게 제공되며, 제 1 방향(Ⅰ)을 따라 토출 위치, 촬상 위치, 그리고 대기 위치로 이동 가능하다. 여기서 토출 위치는 하부 플레이트(820)와 토출 헤드(500)가 서로 대향되는 위치이고, 촬상 위치는 하부 플레이트(820)에 토출된 처리액을 촬상하는 위치로 정의한다. 또한 대기 위치는 토출 위치 및 촬상 위치를 벗어난 위치로 정의한다.
하부 플레이트(820)는 복수 개로 제공된다. 하부 플레이트(820)는 토출 헤드(500)와 동일한 개수로 제공된다. 하부 플레이트(820)는 지지 바디(810)에 놓여지며, 토출 헤드들(500a,500b,500c)과 동일한 배열로 위치된다. 일 예에 의하면, 하부 플레이트(820)들이 2 X 3 열로 배치될 수 있다. 하부 플레이트(820)들 각각은 토출 위치에서 토출 헤드들(500a,500b,500c)과 일대일 대향되게 위치된다. 하부 플레이트(820)에서 토출 헤드(500)에 대향되는 대향면은 토출 헤드의 토출단을 가지는 저면과 동일하거나 이보다 크게 제공될 수 있다.
상부 플레이트(830)는 승강 부재(840)에 의해 상하 방향으로 이동 가능하다. 상부 플레이트(830)는 하부 플레이트(820)에 토출된 처리액을 눌러 처리액의 두께를 일정하게 유지시킨다. 상부 플레이트(830)는 저면이 하부 플레이트(820)들의 대향면들의 합보다 크게 제공된다. 상부 플레이트(830)는 승강 위치 및 하강 위치로 이동 가능하다. 여기서 승강 위치는 상부 플레이트(830)가 하부 플레이트(820)에 토출된 처리액과 비접촉되는 위치이고, 하강 위치는 상부 플레이트(830)가 하부 플레이트(820)에 토출된 처리액과 접촉되는 위치이다. 하강 위치에서 상부 플레이트(830)와 각각의 하부 플레이트(820) 간에 간격은 모두 동일하게 제공된다. 일 예에 의하면, 상부 플레이트(830)는 투명 재질로 제공될 수 있다.
승강 부재(840)는 상부 플레이트(830)를 승강 위치 및 하강 위치로 이동시킨다. 승강 부재(840)는 복수 개의 아암들(840)을 포함한다. 아암들(840)은 상부 플레이트(830)의 양측단을 각각 지지한다. 예컨대, 아암(840)은 상부 플레이트(830)를 파지하는 클램프 부재를 포함할 수 있다. 아암(840)은 제 1 방향(Ⅰ)을 향하는 갠트리(200)의 일측면에 설치되어 제 3 방향(Ⅲ)으로 승강 이동된다. 이에 따라 아암(840)에 지지된 상부 플레이트(830)는 상하 방향으로 이동되어 승강 위치 및 하강 위치로 이동 가능하다.
촬상 부재(850)는 토출 헤드들(500a,500b,500c)로부터 토출된 처리액을 촬상한다. 촬상 부재(850)는 하부 플레이트(820) 및 상부 플레이트(830) 사이에 토출된 처리액을 촬상한다. 촬상 부재(850)는 제 1 방향(Ⅰ)을 향하는 갠트리(200)의 일측면에 위치된다. 촬상 부재(850)는 승강 위치에 위치된 상부 플레이보다 높게 위치된다. 촬상 부재(850)는 촬상 위치에 위치된 하부 플레이트(820) 및 상부 플레이트(830)를 촬상한다. 예컨대 촬상 부재는 카메라일 수 있다.
제어기(860)는 토출 헤드들(500a,500b,500c)의 처리액 토출량에 대한 이상 유무를 검출한다. 제어기(860)는 지지 바디(810), 승강 부재(840), 그리고 촬상 부재(850)를 제어하여 처리액의 토출량을 검출한다. 다음은 도 7 및 도 8을 참조하여 토출 헤드들(500a,500b,500c)의 처리액 토출량을 검출하는 과정을 설명한다. 지지 바디(810)는 토출 위치로 이동되어 하부 플레이트(820)와 토출 헤드(500)가 일대일 대향되도록 정렬시킨다. 토출 헤드들(500a,500b,500c)은 이에 대향되는 각 하부 플레이트(820)에 처리액을 토출한다. 일 예에 의하면, 토출 헤드(500)는 처리액을 1회 내지 수 회 토출할 수 있다. 하부 플레이트(820)에 처리액 토출이 완료되면, 지지 바디(810)는 촬상 위치로 이동된다. 상부 플레이트(830)는 승강 위치에서 하강 위치로 이동된다. 상부 플레이트(830)는 하부 플레이트(820)와 이격되며, 처리액과 접촉되게 위치된다. 이에 따라 각 하부 플레이트(820)에 토출된 처리액의 두께는 모두 동일하게 제공된다. 이후 촬상 부재(850)는 상부 플레이트(830)의 상부에서 처리액을 촬상하고 이미지를 획득한다. 획득된 이미지는 제어기(860)로 전달되며, 제어기(860)는 그 이미지에서 처리액이 토출된 픽셀 수를 산출한다. 제어기(860)는 각 픽셀 수를 서로 비교하여 토출 편차를 검출한다. 제어기(860)는 각 픽셀 수 중 설정치를 벗어난 픽셀 수를 검출하고 이에 대응되는 토출 헤드를 검출한다. 불량으로 검출된 토출 헤드는 일부 토출구(614)가 막히거나 진동자(630)에 이상이 있는 것으로 판단하고, 그 토출 헤드(500)에 대한 전수 검사를 진행할 수 있다
상술한 실시예에는 처리액의 토출 이미지를 이용하여 처리액의 토출량을 검출한다. 이로 인해 처리액을 수십 회 이상 토출하여 그 무게를 측정하는 방식에 비해 사용되는 처리액의 토출량을 줄일 수 있다. 또한 처리액의 토출 직후, 처리액의 흩날림 및 장치 떨림이 안정화될 때까지 대기하는 과정이 생략되므로, 처리액의 토출량 검출을 보다 신속하게 수행할 수 있다.
상술한 실시예에는 상부 플레이트(830)의 저면이 복수 개의 하부 플레이트(820)들의 대향면들의 합보다 큰 크기로 제공되는 것으로 설명하였다. 그러나 도 9와 같이, 상부 플레이트(830a)는 각 하부 플레이트(820)와 동일한 크기로 제공될 수 있다. 상부 플레이트들(830a)은 각각의 하부 플레이트(820)에 일대일 대향되는 위치에서 승강 위치 및 하강 위치로 이동될 수 있다.
800: 검출 유닛 820: 하부 플레이트
830: 상부 플레이트 840: 승강 부재
850: 촬상 부재 860: 제어기

Claims (9)

  1. 노즐로부터 액의 토출량을 검출하는 검출 방법에 있어서,
    하부 플레이트 상에 상기 노즐로부터 액을 토출하고, 상기 하부 플레이트 상에 토출된 액을 상부 플레이트로 누르며, 이후 촬상부재로 상기 하부 플레이트 상에 토출된 액을 촬상하여 이미지를 획득하고, 상기 이미지로부터 상기 액의 토출량을 검출하는 검출 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 노즐은 복수의 토출 헤드들에 각각 복수 개가 제공되며,
    상기 토출 헤드들 각각의 상기 노즐들에서 토출된 액의 이미지들에서 액이 토출된 픽셀 수를 산출하고, 상기 픽셀 수를 비교하여 상기 토출 헤드들 간의 토출량 편차를 검출하는 검출 방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 하부 플레이트는 상기 토출 헤드들과 일대일 대응되는 개수로 제공되며,
    복수의 상기 토출 헤드들은 서로 상이한 상기 하부 플레이트에 액을 토출하는 검출 방법.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 상부 플레이트는 각각의 상기 하부 플레이트에 대해 동일 간격을 가지도록 토출된 액을 누르는 검출 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 상부 플레이트는 투명 재질로 제공되는 검출 방법.
  6. 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과;
    상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 상에 처리액을 공급하는 토출 헤드를 가지는 액 공급 유닛과;
    상기 액 공급 유닛의 처리액 토출량의 이상 유무를 검출하는 검출 유닛을 포함하되,
    상기 검출 유닛은,
    상면에 상기 토출 헤드로부터 처리액이 토출되는 영역을 가지는 하부 플레이트와;
    상기 하부 플레이트의 위에서 상기 하부 플레이트에 대향되게 위치되는 상부 플레이트와;
    상기 상부 플레이트를 상하 방향으로 이동시키는 승강 부재와;
    상기 하부 플레이트에 토출된 처리액의 이미지를 촬상하여 이미지를 획득하는 촬상 부재와;
    상기 승강 부재 및 상기 촬상 부재를 제어하는 제어기를 포함하되,
    상기 제어기는 상기 상부 플레이트가 상기 하부 플레이트에 토출된 처리액을 누르도록 상기 승강 부재를 제어하고, 상기 촬상 부재로부터 이미지를 제공받아 처리액의 토출량을 검출하는 제어기를 포함하는 기판 처리 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 토출 헤드 및 상기 하부 플레이트는 서로 일대일 대응되는 개수를 가지도록 각각 복수 개로 제공되며,
    상기 제어기는 상기 이미지들에서 토출된 처리액의 픽셀 수를 산출하고, 상기 픽셀 수를 비교하여 상기 토출 헤드들 간의 토출량 편차를 검출하는 기판 처리 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 상부 플레이트는 상기 하부 플레이트보다 적은 개수로 제공되고,
    상기 하부 플레이트에 대향되는 상기 상부 플레이트의 대향면은 복수 개의 상기 하부 플레이트들의 상면들의 합보다 큰 면적을 가지는 기판 처리 장치.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 상부 플레이트는 상기 하부 플레이트와 일대일 대응되는 개수를 가지도록 복수 개로 제공되는 기판 처리 장치.
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