KR102068977B1 - 처리액공급유닛, 이를 가지는 기판처리장치 및 방법 - Google Patents

처리액공급유닛, 이를 가지는 기판처리장치 및 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR102068977B1
KR102068977B1 KR1020130117462A KR20130117462A KR102068977B1 KR 102068977 B1 KR102068977 B1 KR 102068977B1 KR 1020130117462 A KR1020130117462 A KR 1020130117462A KR 20130117462 A KR20130117462 A KR 20130117462A KR 102068977 B1 KR102068977 B1 KR 102068977B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
unit
pressure
space
supply
head
Prior art date
Application number
KR1020130117462A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20150038997A (ko
Inventor
윤국진
김선홍
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020130117462A priority Critical patent/KR102068977B1/ko
Publication of KR20150038997A publication Critical patent/KR20150038997A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102068977B1 publication Critical patent/KR102068977B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1341Filling or closing of cells
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like

Abstract

본 발명은 처리액을 공급하는 장치 및 방법을 제공한다. 처리액공급장치는 내부에 처리액이 채워지는 제1공간을 가지는 공급탱크, 상기 공급탱크 및 헤드에 각각 연결되며, 내부에 제2공간을 가지는 버퍼탱크, 그리고 상기 제1공간을 제1압력으로 가압하고, 상기 제2공간을 제2압력으로 가압하는 가압부재를 포함하되, 상기 제1압력 및 상기 제2압력은 서로 상이하게 제공된다. 헤드는 1 개의 버퍼탱크로부터 처리액을 계속적으로 공급받는다. 이로 인해 2 개의 탱크로부터 교대로 처리액을 공급 시 발생되는 기포를 최소화할 수 있다.

Description

처리액공급유닛, 이를 가지는 기판처리장치 및 방법{Unit for supplying chemical, Apparatus and Method for treating substrate}
본 발명은 잉크젯 방식에 의해 기판으로 처리하는 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 처리액을 공급하는 장치 및 방법에 관한 것이다.
최근에, 휴대 전화기, 휴대형 컴퓨터 등의 전자 기기의 표시부에 액정 표시 장치가 널리 이용되고 있다. 액정 표시 장치는 블랙 매트릭스, 컬러 필터, 공통 전극 및 배향막이 형성된 컬러 필터 기판과; 박막트랜지스터(TFT), 화소 전극 및 배향막이 형성된 어레이 기판 사이의 공간에 액정을 주입하여, 액정의 이방성에 따른 빛의 굴절률의 차이를 이용해 영상 효과를 얻는다.
컬러 필터 기판과 어레이 기판 상에 배향액이나 액정과 같은 처리액을 도포하는 장치로 잉크젯 방식의 도포 장치가 사용되고 있다. 그러나 처리액을 공급하는 중에 기포가 발생되는 문제점으로 인해 공정 상의 불량이 발생된다. 도1은 일반적인 처리액 공급 장치를 보여주는 도면이다. 도1을 참조하면, 처리액공급장치(2)는 헤드(4)에 각각 연결되는 제1공급탱크(6) 및 제2공급탱크(8)를 포함한다. 각각의 공급탱크(6,8)는 헤드(4)에 처리액을 교대로 공급한다. 예컨대, 제1공급탱크(6)는 처리액을 헤드에 공급하고, 제2공급탱크(8)는 처리액의 공급을 대기하거나 처리액 소진 시 교체된다.
그러나 공급탱크(6,8)를 교대하여 처리액을 공급 시 밸브 전환으로 인해 기포가 발생된다. 또한 처리액이 모두 소진된 공급탱크를 새 공급탱크로 교체 및 장착 시 기포가 발생된다.
본 발명은 처리액을 공급하는 중 처리액 내에 기포가 유입되는 것을 방지할 수 있는 장치를 제공하고자 한다.
본 발명의 실시예는 처리액을 공급하는 장치 및 방법을 제공한다. 처리액공급유닛은 내부에 처리액이 채워지는 제1공간을 가지는 공급탱크, 상기 공급탱크 및 헤드에 각각 연결되며, 내부에 제2공간을 가지는 버퍼탱크, 그리고 상기 제1공간을 제1압력으로 가압하고, 상기 제2공간을 제2압력으로 가압하는 가압부재를 포함하되, 상기 제1압력 및 상기 제2압력은 서로 상이하게 제공된다.
상기 제1압력은 상기 제2압력에 비해 더 강하게 제공될 수 있다. 상기 가압부재는 상기 공급탱크 및 상기 버퍼탱크 각각을 가압하는 메인가압부 및 상기 공급탱크를 가압하는 보조가압부를 포함할 수 있다. 상기 메인가압부는 내부에 비활성가스가 저장되는 메인가스저장부 및 상기 메인가스저장부에 저장된 비활성가스를 상기 제1공간 및 상기 제2공간 각각으로 공급하는 메인가압라인을 포함하고, 상기 보조가압부는 내부에 비활성가스가 저장되는 보조가스저장부 및 상기 보조가스저장부에 저장된 비활성가스를 상기 제1공간으로 공급하는 보조가압라인을 포함할 수 있다.
기판처리장치는 기판을 지지하는 지지플레이트, 상기 지지플레이트에 놓여진 기판 상에 처리액을 공급하는 헤드를 지지하는 갠트리, 상기 갠트리를 상기 지지플레이트와 상대 이동시키는 갠트리 이동유닛, 그리고 상기 헤드에 처리액을 공급하는 처리액공급유닛을 포함하되, 상기 처리액공급유닛은 내부에 처리액이 채워지는 제1공간을 가지는 공급탱크, 상기 공급탱크 및 상기 헤드에 각각 연결되며, 내부에 제2공간을 가지는 버퍼탱크, 그리고 상기 제1공간을 제1압력으로 가압하고, 상기 제2공간을 제2압력으로 가압하는 가압부재를 포함하되, 상기 제1압력 및 상기 제2압력은 서로 상이하게 제공될 수 있다.
상기 제1압력은 상기 제2압력에 비해 더 강하게 제공될 수 있다.
기판 상에 처리액을 공급하는 방법은 처리액이 채워진 제1공급탱크를 제1압력으로 가압하여 상기 처리액을 버퍼탱크로 공급하고, 상기 처리액이 채워진 상기 버퍼탱크를 제2압력으로 가압하여 상기 처리액을 헤드로 공급하되, 상기 제1압력은 상기 제2압력보다 세게 제공된다.
상기 제1공급탱크 내에 처리액이 모두 소진되면, 상기 제1공급탱크를 처리액이 채워진 제2공급탱크로 교체하되, 상기 제1공급탱크를 상기 제2공급탱크로 교체하는 동안 상기 버퍼탱크 내에 제공된 처리액은 상기 헤드에 공급될 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 헤드는 1 개의 버퍼탱크로부터 처리액을 계속적으로 공급받는다. 이로 인해 2 개의 탱크로부터 교대로 처리액을 공급 시 발생되는 기포를 최소화할 수 있다.
또한 본 발명의 실시예에 의하면, 버퍼탱크는 공급탱크로부터 계속적으로 처리액을 공급받으며, 버퍼탱크에는 처리액이 적정수준으로 유지된다. 이로 인해 처리액이 소진된 탱크를 새 탱크로 교체 시 발생되는 기포를 방지할 수 있다.
도1은 일반적인 처리액 공급 장치를 보여주는 도면이다.
도2는 본 발명의 실시예에 따른 잉크젯 방식의 기판처리장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도3은 도2의 액정 토출부를 보여주는 사시도이다.
도4는 도2의 액정 토출부의 평면도이다.
도5는 도3의 갠트리 이동 유닛을 보여주는 단면도이다.
도6은 도2의 액정 공급부를 보여주는 도면이다.
이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다. 상술한 본 발명이 해결하고자 하는 과제, 과제 해결 수단, 및 효과는 첨부된 도면과 관련된 실시 예들을 통해서 용이하게 이해될 것이다. 각 도면은 명확한 설명을 위해 일부가 간략하거나 과장되게 표현되었다. 각 도면의 구성 요소들에 참조 번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 동일한 부호를 가지도록 도시되었음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
본 실시예에는 액적을 토출하는 잉크젯 방식으로 대상물에 처리액을 도포하는 기판처리장치를 설명한다. 예컨태, 대상물은 액정 표시 패널의 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판일 수 있으며, 처리액은 액정(Liquid Crystal), 배향액, 용매에 안료 입자가 혼합된 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 잉크일 수 있다. 배향액으로는 폴리이미드(polyimide)가 사용될 수 있다.
배향액은 컬러 필터(CF) 기판과 박막트랜지스터(TFT) 기판의 전면에 도포될 수 있고, 액정은 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판의 전면에 도포될 수 있다. 잉크는 컬러 필터(CF) 기판상에 격자 모양의 패턴으로 배열된 블랙 매트릭스의 내부 영역에 도포될 수 있다.
도2는 잉크젯 방식의 기판처리장치을 나타내는 도면이다. 도2의 기판처리장치(1)는 액적을 토출하는 잉크젯 방식으로 기판에 액정(Liquid Crystal)을 도포하는 설비이다.
기판은 액정 표시 패널의 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판일 수 있으며, 액정은 컬러 필터(CF) 기판 또는 박막트랜지스터(TFT) 기판의 전면에 도포될 수 있다.
도 2를 참조하면, 기판처리장치(1)는 액정 토출부(10), 기판 이송부(20), 로딩부(30), 언로딩부(40), 액정 공급부(50), 그리고 메인 제어부(90)를 포함한다. 액정 토출부(10)와 기판 이송부(20)는 제 1 방향(Ⅰ)으로 일렬로 배치되고, 서로 간에 인접하게 위치할 수 있다. 액정 토출부(10)를 중심으로 기판 이송부(20)와 마주하는 위치에는 액정 공급부(50)와 메인 제어부(90)가 배치된다. 액정 공급부(50)와 메인 제어부(90)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다. 기판 이송부(20)를 중심으로 액정 토출부(10)와 마주하는 위치에 로딩부(30)와 언로딩부(40)가 배치된다. 로딩부(30)와 언로딩부(40)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬 배치될 수 있다.
여기서, 제 1 방향(Ⅰ)은 액정 토출부(10)와 기판 이송부(20)의 배열 방향이고, 제 2 방향(Ⅱ)은 수평면 상에서 제 1 방향(Ⅰ)에 수직한 방향이고, 제 3 방향(Ⅲ)은 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)에 수직한 방향이다.
액정이 도포될 기판은 로딩부(30)로 반입된다. 기판 이송부(20)는 로딩부(30)에 반입된 기판을 액정 토출부(10)로 이송한다. 액정 토출부(10)는 액정 공급부(50)로부터 액정을 공급받고, 액적을 토출하는 잉크젯 방식으로 기판상에 액정을 토출한다. 액정 토출이 완료되면, 기판 이송부(20)는 액정 토출부(10)로부터 언로딩부(40)로 기판을 이송한다. 액정이 도포된 기판은 언로딩부(40)로부터 반출된다. 메인 제어부(90)는 액정 토출부(10), 기판 이송부(20), 로딩부(30), 언로딩부(40), 그리고 액정 공급부(50)의 전반적인 동작을 제어한다.
도 3은 도 2의 액정 토출부를 보여주는 사시도이고, 도 4는 도 2의 액정 토출부를 보여주는 평면도이다. 도 3 및 도 4를 참조하면, 액정토출부(10)는 베이스(B), 기판 지지 유닛(100), 갠트리(200), 갠트리 이동 유닛(300), 잉크젯 헤드유닛들(400), 헤드 이동 유닛(500) 개별 헤드 제어 유닛(700), 액정 토출량 측정 유닛(800), 그리고 노즐 검사 유닛(900)을 포함한다.
베이스(B)는 일정한 두께를 가지는 직육면체 형상으로 제공될 수 있다. 베이스(B)의 상면에는 기판 지지 유닛(100)이 배치된다. 기판 지지 유닛(100)은 기판(S)이 놓이는 지지판(110)을 가진다. 지지판(110)은 사각형 형상의 판일 수 있다. 지지판(110)의 하면에는 회전 구동 부재(120)가 연결된다. 회전 구동 부재(120)는 회전 모터일 수 있다. 회전 구동 부재(120)는 지지판(100)에 수직한 회전 중심 축을 중심으로 지지판(110)을 회전시킨다.
지지판(110)이 회전 구동 부재(120)에 의해 회전되면, 기판(S)은 지지판(110)의 회전에 의해 회전될 수 있다. 액정이 도포될 기판에 형성된 셀의 장변 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하는 경우, 회전 구동 부재(120)는 셀의 장변 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하도록 기판을 회전시킬 수 있다.
지지판(110)과 회전 구동 부재(120)는 직선 구동 부재(130)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동될 수 있다. 직선 구동 부재(130)는 슬라이더(132)와 가이드 부재(134)를 포함한다. 회전 구동 부재(120)는 슬라이더(132)의 상면에 설치된다. 가이드 부재(134)는 베이스(B)의 상면 중심부에 제 1 방향(Ⅰ)으로 길게 연장된다. 슬라이더(132)에는 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있으며, 슬라이더(132)는 리니어 모터(미도시)에 의해 가이드 부재(134)를 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동된다.
갠트리(200)는 지지판(110)이 이동되는 경로의 상부에 제공된다. 갠트리(200)는 베이스(B)의 상면으로부터 위방향으로 이격 배치되며, 갠트리(200)는 길이 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하도록 배치된다.
갠트리 이동 유닛(300)은 갠트리(200)를 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동시키거나, 갠트리(200)의 길이 방향이 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향을 향하도록 갠트리(200)를 회전시킬 수 있다. 갠트리 구동 유닛(300) 제 1 구동 유닛(310)과 제 2 구동 유닛(320)을 포함한다. 제 2 구동 유닛(320)은 회전 중심이 되는 갠트리(200)의 일단에 제공되고, 제 1 구동 유닛(310)은 갠트리(200)의 타단에 제공된다.
도 4는 도 3의 갠트리 구동 유닛을 나타내는 도면이다. 도 4를 참조하면, 제 1 구동 유닛(310)은 가이드 레일(315) 및 슬라이더(317)를 포함한다. 가이드 레일(315)은 길이 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하고, 기판 지지 유닛(100)의 가이드 부재(134)를 중심으로 베이스(B) 상면의 타측 가장자리부에 배치된다. 가이드 레일(315)에는 슬라이더(317)가 이동 가능하게 결합된다. 슬라이더(317)는 갠트리의 저면에 결합된다. 슬라이더(317)에는 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있다. 슬라이더(317)는 리니어 모터(미도시)의 구동력에 의해 가이드 레일(315)을 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동한다.
제 2 구동 유닛(320)은 갠트리의 중심축을 중심으로 제 1 구동 유닛(310)과 대칭되게 위치된다. 제 2 구동 유닛(320)은 제 1 구동 유닛(310)과 동일한 구성을 가지므로, 이에 대한 설명은 생략한다.
잉크젯 헤드유닛(400)은 기판에 액정의 액적을 토출한다. 잉크젯 헤드유닛(400)은 복수 개 제공될 수 있다. 본 실시 예에서는 3 개의 잉크젯 헤드유닛(400a,400b,400c)이 제공된 예를 들어 설명하지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 잉크젯 헤드유닛(400)은 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬로 나란하게 배열될 수 있으며, 갠트리(200)에 결합된다. 잉크젯 헤드유닛(400)은 헤드 이동 유닛(500)에 의해 갠트리의 길이 방향, 즉 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동하고, 또한 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동될 수 있다.
잉크젯 헤드유닛(400)의 저면에는 액정의 액적을 토출하는 복수 개의 노즐들(미도시)이 제공된다. 예를 들어, 각각의 헤드들에는 128 개 또는 256 개의 노즐들(미도시)이 제공될 수 있다. 노즐들(미도시)은 일정 피치의 간격으로 일렬로 배치될 수 있다. 노즐들(미도시)은 μg 단위의 양으로 액정을 토출할 수 있다.
각각의 잉크젯 헤드유닛(400)에는 노즐들(미도시)에 대응하는 수만큼의 압전 소자가 제공될 수 있으며, 노즐들(미도시)의 액적 토출 량은 압전 소자들에 인가되는 전압의 제어에 의해 각기 독립적으로 조절될 수 있다.
헤드 제어 유닛(700)은 각각의 헤드들(410,420,430)의 액정 토출을 제어한다. 헤드 제어 유닛(700)은 헤드들(410,420,430)에 인접하게 액정 토출부(10) 내에 배치될 수 있다. 예를 들어, 헤드 제어 유닛(700)은 갠트리(200)의 일단에 배치될 수 있다. 본 실시 예에서는 헤드 제어 유닛(700)이 갠트리(200)의 일단에 배치된 경우를 예로 들어 설명하지만, 헤드 제어 유닛(700)의 위치는 이에 한정되는 것은 아니다.
헤드 제어 유닛(700)은, 비록 도시되지는 않았지만, 각각의 헤드들(410,420,430)에 전기적으로 연결되고, 각각의 헤드들(410,420,430)로 제어 신호를 인가한다. 각각의 헤드들(410,420,430)에는 노즐들(미도시)에 대응하는 수의 압전 소자(미도시)가 제공될 수 있으며, 헤드 제어 유닛(700)은 압전 소자들에 인가되는 전압을 제어하여 노즐들(미도시)의 액적 토출 량을 조절할 수 있다.
액정 토출량 측정 유닛(800)은 개별 헤드(410,420,430)의 액정 토출량을 측정한다. 구체적으로, 액정 토출량 측정 유닛(800)은 개별 헤드(410,420,430) 마다 전부의 노즐들(미도시)로부터 토출되는 액정량을 측정한다. 개별 헤드 (410,420,430)의 액정 토출량 측정을 통해, 개별 헤드(410,420,430)의 노즐들(미도시)의 이상 유무를 거시적으로 확인할 수 있다. 즉, 개별 헤드(410,420,430)의 액정 토출량이 기준치를 벗어나면, 노즐들(미도시) 중 적어도 하나에 이상이 있음을 알 수 있다.액정 토출량 측정 유닛(800)은 베이스(B) 상의 기판 지지 유닛(100)의 일측에 배치될 수 있다. 액정 토출량 측정 유닛(800)은 제 1 내지 제 3 액정 토출량 측정 유닛(800a,800,800c)을 가질 수 있다.
노즐 검사 유닛(900)은 광학 검사를 통해 헤드들(410,420,430)에 제공된 개별 노즐의 이상 유무를 확인한다. 액정 토출량 측정 유닛(800)에서 거시적인 노즐의 이상 유무를 확인한 결과, 불특정의 노즐에 이상이 있는 것으로 판단된 경우, 노즐 검사 유닛(900)은 개별 노즐의 이상 유무를 확인하면서 노즐에 대한 전수 검사를 진행할 수 있다.
액정 공급부(50)는 액정토출부(10)의 헤드(410,420,430)에 액정을 공급한다. 도6은 도2의 액정공급부를 보여주는 도면이다. 도6을 참조하면, 액정공급부(50)는 액정을 공급하는 유닛(1000)으로 제공된다. 액정공급유닛(1000)은 버퍼탱크(1020), 액정공급라인(1040), 공급탱크(1010), 가압부재, 감압부재(1200), 그리고 제어기(1300)를 포함한다.
공급탱크(1010)는 버퍼탱크(1020)에 액정을 공급한다. 공급탱크(1010)는 내부에 제1공간(1012)을 가지고, 제1공간(1012)에는 액정이 채워진다. 공급탱크(1010)와 버퍼탱크(1020)는 연결라인(1030)에 의해 서로 연결된다. 제1공간(1012)에 제공된 액정은 연결라인(1030)을 통해 버퍼탱크(1020)로 공급된다. 제1공간(1012)에 액정이 모두 소진되면, 액정이 소진된 공급탱크(1010)(이하, 헌 탱크)는 액정이 채워진 공급탱크(1010)(이하, 새 탱크)로 교체된다. 연결라인(1030)에는 제1공급밸브(1032)가 설치된다. 제1공급밸브(1032)는 연결라인(1030)을 개폐한다.
버퍼탱크(1020)는 헤드(410,420,430)에 액정을 공급한다. 버퍼탱크(1020)는 내부에 제2공간(1022)을 가진다. 제2공간(1022)에는 연결라인(1030)을 통해 제1공간(1012)에 제공된 액정이 공급된다. 버퍼탱크(1020)와 헤드는 액정공급라인(1040)에 의해 서로 연결된다. 제2공간(1022)에 제공된 액정은 액정공급라인(1040)을 통해 헤드로 공급된다. 액정공급라인(1040)에는 제2공급밸브(1042)가 설치된다. 제2공급밸브(1042)는 액정공급라인(1040)을 개폐한다.
가압부재(1100)는 제1공간(1012) 및 제2공간(1022) 각각을 가압한다. 가압부재(1100)는 제1공간(1012)과 제2공간(1022)을 서로 상이한 압력으로 가압한다. 일 예에 의하면, 제1공간(1012)은 제1압력으로 가압하고, 제2공간(1022)은 제2압력으로 가압할 수 있다. 제1압력은 제2압력에 비해 강한 압력일 수 있다. 가압부재(1100)는 메인가압부(120) 및 보조가압부(1140)를 포함한다. 메인가압부(120)는 제1공간(1012) 및 제2공간(1022)을 가압하고, 보조가압부(1140)는 제1공간(1012)만을 가압한다.
메인가압부(120)는 제1공간(1012) 및 제2공간(1022) 각각을 동일한 압력으로 가압한다. 메인가압부(120)는 메인가압라인(1124) 및 메인가스저장부(1122) 포함한다. 메인가압라인(1124)은 메인가스저장부(1122)에 제공된 가스를 제1공간(1012) 및 제2공간(1022) 각각에 제공한다. 메인가압라인(1124)은 그 일단이 메인가스저장부(1122)에 연결되고, 타단이 공급탱크(1010) 및 버퍼탱크(1020) 각각에 연결된다. 메인가압라인(1124)은 메인가스저장부(1122)로부터 공급탱크(1010) 및 버퍼탱크(1020)에 각각 연결되도록 분기되는 제1분기라인(1126) 및 제2분기라인(1128)을 가진다. 제1분기라인(1126)에는 제1분기밸브(1127)가 설치되고, 제2분기라인(1128)에는 제2분기밸브(1129)가 설치된다. 제1분기밸브(1127)는 제1분기라인(1126)을 개폐하고, 제2분기밸브(1129)는 제2분기라인(1128)을 개폐한다. 메인가스저장부(1122)에는 비활성 가스가 제공된다. 예컨대, 비활성가스는 질소가스(N2)일 수 있다.
보조가압부(1140)는 보조가압라인(1144) 및 보조가스저장부(1142)를 포함한다. 보조가압라인(1144)은 보조가스저장부(1142)에 제공된 가스를 제1공간(1012)에 제공한다. 보조가압라인(1144)은 보조가스저장부(1142) 및 공급탱크(1010)를 연결한다. 보조가압라인(1144)에는 보조밸브(1146)가 설치된다. 보조밸브(1146)는 보조가압라인(1144)을 개폐한다. 보조가스저장부(1142)에는 비활성 가스가 제공된다. 예컨대, 비활성가스는 질소가스(N2)일 수 있다.
감압부재(1200)는 제1공간(1012) 및 제2공간(1022)에 제공된 기포를 제거한다. 감압부재(1200)는 제1공간(1012) 및 제2공간(1022)을 감압한다. 감압부재(1200)는 감압라인(1220) 및 펌프(1210)를 포함한다. 감압라인(1220)은 펌프(1210)로부터 제공된 음압을 제1공간(1012) 및 제2공간(1022) 각각에 제공한다. 감압부재(1200)는 그 일단이 펌프(1210)에 연결되고, 타단이 공급탱크(1010) 및 버퍼탱크(1020) 각각에 연결된다. 감압라인(1220)은 펌프(1210)로부터 공급탱크(1010) 및 버퍼탱크(1020)에 각각 연결되도록 분기되는 제3분기라인 및 제4분기라인을 가진다. 선택적으로, 감압부재(1200)는 제1공간(1012) 및 제2공간(1022)의 압력을 제어하기 위해 음압을 제공할 수 있다.
제어기(1300)는 제1공급밸브(1032), 제2공급밸브(1042), 제1분기밸브(1127), 제2분기밸브(1129), 그리고 보조밸브(1146)를 각각 제어한다. 제어기(1300)는 헌 탱크를 새 탱크로 교체 시, 그리고 공급탱크(1010)에 제공된 액정을 버퍼탱크(1020)로 공급 시 각각의 밸브를 상이하게 제어한다. 일 예에 의하면, 제어기(1300)는 헌 탱크를 새 탱크로 교체하는 동안 제1공급라인, 제1분기라인(1126), 그리고 보조가압라인(1144)이 차단되도록 제1공급밸브(1032), 제1분기밸브(1127), 그리고 보조밸브(1146)를 제어하고, 제2분기라인(1128)이 개방되도록 제2분기밸브(1129)를 제어할 수 있다. 공급탱크(1010)가 새 탱크로 제공되면, 제어기(1300)는 제1공급라인, 제1분기라인(1126), 제2분기라인(1128), 그리고 보조가압라인(1144)이 개방되도록 제1공급밸브(1032), 제2공급밸브(1042), 제1분기밸브(1127), 보조밸브(1146) 그리고 제2분기밸브(1129)를 모두 개방할 수 있다. 각각의 밸브가 모두 개방되면, 제1공간(1012)은 제2공간(1022)보다 강하게 가압되고, 제1공간(1012)에 채워진 액정은 제2공간(1022)으로 제공될 수 있다.
상술한 실시예에 의하면, 제1공간(1012)에는 제1분기라인(1126) 및 보조가압라인(1144) 각각을 통해 가스가 제공되어 가압되고, 제2공간(1022)에는 제2분기라인(1128)을 통해 가스가 제공되어 가압된다. 제1공간(1012)은 제2공간(1022)에 비해 강한 압력으로 가압되고, 서로 간에 압력 차가 발생된다. 이로 인해 제1공간(1012)에 제공된 압력은 제2공간(1022)으로 제공될 수 있다.
상술한 실시예에는 가압부재(1100)가 메인가압부(120) 및 보조가압부(1140)를 포함하는 것으로 설명하였다. 그러나 이와 달리 가압부재에는 보조가압부(1140)가 제공되지 않을 수 있다. 제어기(1300)는 제1분기라인(1126)의 개방률 및 제2분기라인(1128)의 개방률을 서로 상이하도록 메인가압부(120)의 제1분기밸브(1127) 및 제2분기밸브(1129)를 각각 제어할 수 있다. 예컨대, 제어기(1300)는 제1분기라인(1126)의 개방률이 제2분기라인(1128)의 개방률보다 크도록 제1분기밸브(1127) 및 제2분기밸브(1129)를 제어할 수 있다.
1010: 공급탱크 1012: 제1공간
1020: 버퍼탱크 1022: 제2공간
1100: 가압부재 1120: 메인가압부
1122: 메인가스저장부 1124: 메인가압라인
1140: 보조가압부 1142: 보조가스저장부
1144: 보조가압라인

Claims (8)

  1. 내부에 처리액이 채워지는 제1공간을 가지는 공급탱크와;
    상기 공급탱크 및 헤드에 각각 연결되며, 내부에 제2공간을 가지는 버퍼탱크와;
    상기 제1공간을 제1압력으로 가압하고, 상기 제2공간을 제2압력으로 가압하는 가압부재를 포함하되,
    상기 제1압력은 상기 제2압력에 비해 더 크게 제공되고,
    상기 헤드에 직접 연결되는 상기 버퍼 탱크는 단일 개로 제공되는 처리액공급유닛.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 가압부재는,
    상기 공급탱크 및 상기 버퍼탱크 각각을 가압하는 메인가압부와;
    상기 공급탱크를 가압하는 보조가압부를 포함하는 처리액공급유닛.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 메인가압부는,
    내부에 비활성가스가 저장되는 메인가스저장부와;
    상기 메인가스저장부에 저장된 비활성가스를 상기 제1공간 및 상기 제2공간 각각으로 공급하는 메인가압라인을 포함하고,
    상기 보조가압부는,
    내부에 비활성가스가 저장되는 보조가스저장부와;
    상기 보조가스저장부에 저장된 비활성가스를 상기 제1공간으로 공급하는 보조가압라인을 포함하는 처리액공급유닛.
  5. 기판을 지지하는 지지플레이트와;
    상기 지지플레이트에 놓여진 기판 상에 처리액을 공급하는 헤드를 지지하는 갠트리와;
    상기 갠트리를 상기 지지플레이트와 상대 이동시키는 갠트리 이동유닛과;
    상기 헤드에 처리액을 공급하는 처리액공급유닛을 포함하되,
    상기 처리액공급유닛은,
    내부에 처리액이 채워지는 제1공간을 가지는 공급탱크와;
    상기 공급탱크 및 상기 헤드에 각각 연결되며, 내부에 제2공간을 가지는 버퍼탱크와;
    상기 제1공간을 제1압력으로 가압하고, 상기 제2공간을 제2압력으로 가압하는 가압부재를 포함하되,
    상기 제1압력은 상기 제2압력에 비해 더 크게 제공되고,
    상기 헤드에 직접 연결되는 상기 버퍼 탱크는 단일 개로 제공되는 기판처리장치.
  6. 삭제
  7. 처리액을 공급하여 기판을 처리하는 방법에 있어서,
    처리액이 채워진 제1공급탱크를 제1압력으로 가압하여 상기 처리액을 버퍼탱크로 공급하고, 상기 처리액이 채워진 상기 버퍼탱크를 제2압력으로 가압하여 상기 처리액을 헤드로 공급하되,
    상기 제1압력은 상기 제2압력보다 큰 압력으로 제공되고,
    상기 헤드에 직접 연결되는 상기 버퍼 탱크는 단일 개로 제공되는 기판처리방법.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제1공급탱크 내에 처리액이 모두 소진되면, 상기 제1공급탱크를 처리액이 채워진 제2공급탱크로 교체하되, 상기 제1공급탱크를 상기 제2공급탱크로 교체하는 동안 상기 버퍼탱크 내에 제공된 처리액은 상기 헤드에 공급되는 기판처리방법.

KR1020130117462A 2013-10-01 2013-10-01 처리액공급유닛, 이를 가지는 기판처리장치 및 방법 KR102068977B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130117462A KR102068977B1 (ko) 2013-10-01 2013-10-01 처리액공급유닛, 이를 가지는 기판처리장치 및 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130117462A KR102068977B1 (ko) 2013-10-01 2013-10-01 처리액공급유닛, 이를 가지는 기판처리장치 및 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150038997A KR20150038997A (ko) 2015-04-09
KR102068977B1 true KR102068977B1 (ko) 2020-01-22

Family

ID=53029443

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130117462A KR102068977B1 (ko) 2013-10-01 2013-10-01 처리액공급유닛, 이를 가지는 기판처리장치 및 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102068977B1 (ko)

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4828287B2 (ja) * 2006-04-10 2011-11-30 リコープリンティングシステムズ株式会社 液滴吐出装置ならびにそれの運転方法
KR20110058566A (ko) * 2009-11-26 2011-06-01 세메스 주식회사 액정 토출 장치 및 방법
KR101166115B1 (ko) * 2009-11-27 2012-07-23 세메스 주식회사 액정 토출 장치
KR101436459B1 (ko) * 2010-07-08 2014-09-03 세메스 주식회사 처리액 토출 장치
KR101436458B1 (ko) * 2010-07-08 2014-09-03 세메스 주식회사 처리액 토출 장치
KR101430742B1 (ko) * 2010-07-29 2014-09-23 세메스 주식회사 처리액 토출 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR20150038997A (ko) 2015-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101713688B1 (ko) 기판 처리 장치
KR20120011643A (ko) 처리액 토출 장치
KR20130015612A (ko) 잉크젯 헤드의 정렬 방법
CN105575854B (zh) 基板处理装置
KR102068977B1 (ko) 처리액공급유닛, 이를 가지는 기판처리장치 및 방법
KR102232668B1 (ko) 액 공급 유닛, 이를 가지는 기판처리장치 및 방법
KR20140036782A (ko) 기판 처리 장치
KR102250363B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
KR102388619B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
KR101768462B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
KR102216332B1 (ko) 약액토출 상태 검사 유닛
KR102063112B1 (ko) 액 공급 유닛 및 이를 가지는 기판처리장치
KR101688958B1 (ko) 헤드 어셈블리 및 이를 가지는 기판처리장치
KR101955604B1 (ko) 처리액 공급 유닛 및 기판 처리 장치
KR102454446B1 (ko) 기판 처리 장치
KR102297379B1 (ko) 헤드 어셈블리 및 이를 가지는 기판 처리 장치
KR102323321B1 (ko) 헤드 어셈블리 및 이를 가지는 기판 처리 장치
KR102250365B1 (ko) 기판 처리 장치
KR101755212B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
KR20150050976A (ko) 처리액 토출 장치 및 방법, 그리고 처리액 도포 설비
KR101668370B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
KR20240009020A (ko) 액적 토출 제어 장치 및 잉크젯 프린팅 방법
KR102290907B1 (ko) 액 공급 유닛 및 이를 가지는 기판 처리 장치
KR102297380B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
KR20230049802A (ko) 액정 토출량 측정 장치 및 액정 토출량 측정값 보정 방법

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant