CN104668217B - 基板处理装置 - Google Patents

Abstract

提供一种能够实现生产速度的提高以及成本的削减、并且可靠地除去微粒的基板处理装置。实施方式的基板处理装置，具备：与基板(W)上的防静电膜(Wa)的表面接触而相对移动、对该防静电膜(Wa)的表面进行擦拭的擦拭部件(11)。该擦拭部件(11)具备：作为基体的弹性体(11a)；和在该弹性体(11a)的表面上设置、与相对移动的防静电膜(Wa)的表面接触的布(11b)。

Description

基板处理装置

技术领域

本发明的实施方式涉及基板处理装置。

背景技术

作为基板处理装置，开发了在触摸面板等的制造工序中，利用处理液(例如药液或功能水等)对玻璃等的基板表面进行处理，其后对基板表面进行干燥的基板处理装置。有的方案在用于触摸面板等的玻璃等的基板表面上，为了防止指纹和其它污渍的附着，形成有防止静电的防静电膜(AS涂层)。其膜厚例如为数nm～数百nm。

在上述的基板处理前，为了从基板上的防静电膜除去微粒(异物)、例如带有氟离子的微粒除去，采用人工手洗(作为一例，如用包含液体的布擦拭基板上的防静电膜的表面的作业等)。并且，带有氟离子的微粒，是在上述的基板处理之前的工序(例如成膜工序)中，在基板表面上形成防静电膜时附着到防静电膜上的。

但是，在如上所述从基板上的防静电膜除去微粒时，需要进行人工手洗，因此生产速度降低，并且成本也会上升。另外，即使通过人工手洗，也难以将带有氟离子的微粒的完全除去，微粒可能会形成雾状的膜而残留。因此，希望实现生成速度的提高以及成本的削减、并且可靠地除去微粒。

发明内容

本发明要解决的课题是，提供一种能够实现生产速度的提高以及成本的削减、并且可靠地除去微粒的基板处理装置。

实施方式的基板处理装置，具备：与基板上的防静电膜的表面接触而相对移动、对该防静电膜的表面进行擦拭的擦拭部件，擦拭部件具备：作为基体的弹性体；和在弹性体的表面上设置、与相对移动的防静电膜的表面接触的布。

根据上述实施方式的基板处理装置，能够实现生产速度的提高以及成本的削减、并且可靠地除去微粒。

附图说明

图1为表示第一实施方式的基板处理装置的概略构成的图。

图2为表示第一实施方式的擦拭部的概略构成的图。

图3为表示第二实施方式的擦拭部的概略构成的图。

图4为表示第三实施方式的擦拭部的概略构成的图。

图5为表示第一以及第二实施方式的擦拭部的处理条件和结果的图表。

具体实施方式

参照图1以及图2对第一实施方式进行说明。

如图1所示，第一实施方式的基板处理装置1，具备：搬送基板W的搬送部2、对搬送部2搬送的基板W进行处理的处理部3、对搬送部2搬送的基板W进行清洗的清洗部4、对搬送部2搬送的基板W进行干燥的干燥部5。

搬送部2，由支撑基板W的载台2a、将该载台2a向规定的搬送方向A1(图1中的右方向)搬送的搬送机构2b构成。基板W在载台2a的载置面上安置，通过搬送机构2b与载台2a一起向水平面内的规定方向搬送。并且，作为搬送机构2b，例如可以使用以伺服电机为驱动源的输送螺杆式的移动机构、以直线电机为驱动源的直线电机式的移动机构等。

这里，基板W例如是玻璃等的矩形状的基板，在该基板W的表面上形成有防止静电的防静电膜(AS涂层)Wa。在该防静电膜Wa上可能附着了带有氟离子的微粒(异物)。该微粒，例如是在基板W的表面上形成防静电膜Wa的工序(例如成膜工序)中附带氟离子的。

处理部3，具备：对搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面进行擦拭(wipe)的擦拭部3a、向搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面供给冲洗液的冲洗部3b、对搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面进行刷洗(brushing)的刷部3c、向搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面供给冲洗液的冲洗部3d。

如图2所示，擦拭部3a，具有：对搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面进行擦拭的擦拭部件11、保持该擦拭部件11的保持部件12、和支撑该保持部件12的支撑臂13。

擦拭部件11，由作为基体的弹性体11a、和在该弹性体11的表面即基板W的搬送方向A1(图2中的右方向)的上游侧(以下简称为基板W的搬送方向上游侧)的表面上设置的布11b构成。

弹性体11a，例如形成为长方形的板形状，其长边为基板W的宽度(与搬送方向A1正交的宽度)以上。该弹性体11a设定为：其长边与基板W的搬送方向A1正交，并且倒向基板W的搬送方向上游侧而相对于载台2a上的基板W的表面以规定的角度倾斜。作为弹性体11a，例如可以使用橡胶等各种弹性体。

布11b，以覆盖弹性体11a的位于基板W的搬送方向上游侧的整个表面的方式设置。作为该布11b，例如可以使用棉布等能够吸入液体的各种布。

保持部件12，形成为与弹性体11a相同的板形状，在该保持部件12的表面、即基板W的搬送方向上游侧的表面上安装有弹性体11a。该保持部件12，以与弹性体11a同样地倾斜的状态通过支撑臂13进行支撑。作为保持部件12的材料，例如可以采用不锈钢等金属材料。

支撑臂13，例如形成为长方形的板形状，在该支撑臂13的端部上安装有保持部件12。该支撑臂13，在不妨碍载台2a移动的位置上设置的立柱(column)等支柱上固定。作为支撑臂13的材料，例如可以使用不锈钢等金属材料。

另外，在擦拭部3a上，设有向上述擦拭部件11的布11b的一部分供给处理液的供液部14。作为成为其供液对象的布11b的一部分，例如可以举出上端部，但是不限于此。利用供液部14向布11b供给处理液，布11b维持在被处理液浸润的状态(包含处理液的状态)。

作为供液部14的处理液，例如使用能够除去带有氟离子的微粒的药液或功能水(作为一例是包含酒精的液体)等。该处理液的温度，优选为维持在例如40～80℃的范围内(范围以内)。

在这种擦拭部3a中，擦拭部件11随着载台2a的移动，以规定的压力与该载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面接触并相对地移动(相对移动)，利用包含处理液的布11b来擦拭载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面。此时，擦拭部件11，在布11b与载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面接触的状态下，使弹性体11a随着载台2a的移动(载台2a上的基板W的防静电膜Wa的相对移动)发生变形。

这里，擦拭部件11对载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面的载荷，是擦拭部件11不使防静电膜Wa从基板W剥离而能够除去防静电膜Wa的表面上的微粒的载荷，作为一例是在5～30kg的范围内。并且，例如弹性体11a的硬度是在10～50°(使用JIS标准K6253型A硬度计(durometer)进行测定)的范围内，保持部件12的下端与防静电膜Wa的表面的垂直间隔距离a为3mm，保持部件12的下端与擦拭部件11的下端的垂直间隔距离b为10mm，保持部件12相对于防静电膜Wa的表面所成的角度c在10～80°的范围内。

返回图1，冲洗部3b，具有：朝向下方放出冲洗液(例如超纯水等)的喷淋嘴21，从该喷淋嘴21向利用搬送机构2b搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面供给冲洗液。

刷部3c，具有：对搬送的载台2a上的基板W进行刷洗的旋转刷31、向该旋转刷31供给处理液的喷淋嘴32。该刷部3c，一边从喷淋嘴32向旋转刷31供给处理液，一边利用旋转刷31对通过搬送机构2b进行搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面进行刷洗。

作为喷淋嘴32的处理液，例如使用能够除去带有氟离子的微粒的药液、功能水(作为一例是包含酒精的液体)等。该处理液的温度，优选为维持在例如40～80℃的范围内。

冲洗部3d，是与上述的冲洗部3b相同的构造，具有朝向下方放出冲洗液(例如超纯水等)的喷淋嘴41，从该喷淋嘴41向通过搬送机构2b进行搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面供给冲洗液。

清洗部4，由向搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面以高压供给清洗液的高压部4a、向搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面供给清洗液的喷淋部4b构成。

高压部4a，具有：朝向下方以高压喷射清洗液(例如超纯水等)的高压喷淋嘴51、将气体与液体混合后向下方喷射的二元流体缝隙喷嘴52。该高压部4a，朝向通过搬送机构2b进行搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面，从高压喷淋嘴51喷射清洗液(一元流体)，并且从二元流体缝隙喷嘴52喷射气液混合体(二元流体)。

高压喷淋嘴51以及二元流体缝隙喷嘴52，是用于在处理部3的处理后、将在基板W的防静电膜Wa的表面上浮出(析出)的微粒除去的部件。该高压喷淋嘴51以及二元流体缝隙喷嘴52设置为，它们顶端的喷射口朝向下方、与搬送的载台2a上的基板W的表面垂直。用于从高压喷淋嘴51喷射清洗液的泵压力为10Mpa以上。

作为二元流体缝隙喷嘴52的气体，例如可以使用空气、氧气或氮气、氦气、氢气等，作为二元流体缝隙喷嘴52的液体，例如可以使用碳酸水、氨水溶液或纯水等，可以自由地组合气体和液体。

喷淋部4b，具有：朝向下方放出清洗液(例如超纯水等)的喷淋嘴61，从该喷淋嘴61向通过搬送机构2b进行搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面供给清洗液。

干燥部5，具有：朝向下方喷射干燥用的气体(例如空气或氮气等)的吹拂器(airknife)5a，从该吹拂器5a向通过搬送机构2b进行搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面放出干燥用的气体。并且，吹拂器5a设置为：其顶端的喷射口朝向下方而倒向基板W的搬送方向下游侧，相对于载台2a上的基板W的表面以规定的角度倾斜。

接着，对上述基板处理装置1执行的基板处理进行说明。

载置有基板W的载台2a通过搬送机构2b沿着规定的搬送方向A1进行搬送。当载台2a上的基板W到达擦拭部3a时，载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面与擦拭部件11的布11b接触。其后，随着载台2a的移动，擦拭部件11的弹性体11a的顶端部缓慢地弯曲而沿着基板W的搬送方向逐渐变形。利用该弹性体11a，布11b以规定的载荷被按压在载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面上，随着载台2a的移动，对防静电膜Wa的表面进行擦拭。此时，布11b处于通过供液部14供给处理液而被浸润的状态。利用该包含处理液的布11b来擦拭载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面，从该防静电膜Wa除去带有氟离子的微粒。当载台2a上的基板W通过擦拭部件11后，擦拭部件11恢复原来的形状。

当载台2a上的基板W到达冲洗部3b时，从喷淋嘴21向载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面放出冲洗液，随着载台2a的移动逐渐对防静电膜Wa的表面进行清洗。接着，当载台2a上的基板W到达刷部3c时，从喷淋嘴32向旋转的旋转刷31供给处理液，利用被处理液浸润的状态下的旋转刷31逐渐对载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面进行刷洗。由此，从载台2a上的基板W的防静电膜Wa除去带有氟离子的微粒。并且，当载台2a上的基板W到达冲洗部3d时，从喷淋嘴41向载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面放出冲洗液，随着载台2a的移动，逐渐对防静电膜Wa的表面进行清洗。

这样，通过在擦拭部3a的下游侧设置冲洗部3b和刷部3c，能够将在刷部3a产生的防静电膜Wa的表面的微粒除去。

当载台2a上的基板W到达高压部4a时，从高压喷淋嘴51向载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面以规定的压力(例如10Mpa以上的高压)放出清洗液，接着，从二元流体缝隙喷嘴52向载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面以规定的压力喷射气液混合体(二元流体)，随着载台2a的移动逐渐对防静电膜Wa的表面进行清洗。由此，从载台2a上的基板W的防静电膜Wa，将在该防静电膜Wa的表面上浮出(析出)的微粒除去。

当载台2a上的基板W到达喷淋部4b时，从喷淋嘴61向载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面放出清洗液，随着载台2a的移动逐渐对防静电膜Wa的表面进行清洗。并且，当载台2a上的基板W到达干燥部5时，从吹拂器5a向载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面放出干燥用的气体，随着载台2a的移动，逐渐对防静电膜Wa的表面进行干燥。

按照这样的基板处理工序，随着载台2a的移动，一边利用弹性体11a将包含处理液的布11b按压到载台2a上的防静电膜Wa的表面上，一边对基板W上的防静电膜Wa的表面进行擦拭。由此，能够从载台2a上的基板W的防静电膜Wa除去带有氟离子的微粒。并且，被处理液浸润的状态下的旋转刷一边旋转一边对基板W上的防静电膜Wa的表面进行刷洗，因此能够从载台2a上的基板W的防静电膜Wa可靠地除去带有氟离子的微粒。并且，随着载台2a的移动，高压喷淋嘴51向载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面放出清洗液，接着，二元流体缝隙喷嘴52向载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面喷射气液混合体。由此，能够从载台2a上的基板W的防静电膜Wa，除去在该防静电膜Wa的表面上浮出(析出)的微粒。

如上所述，按照第一实施方式，通过设置与基板W上的防静电膜Wa的表面接触并相对移动、对该防静电膜Wa的表面进行擦拭的擦拭部件11，能够从基板W上的防静电膜Wa除去微粒。由此，不需要进行人工手洗，因而能够提高生产速度，并且还能够抑制成本。另外，能够抑制带有氟离子的微粒形成雾状的膜而残留的情况，因此能够可靠地除去微粒。

(第二实施方式)

参照图3对第二实施方式进行说明。

第二实施方式基本上与第一实施方式是同样的。因此，在第二实施方式中，对与第一实施方式的区别点(擦拭部3a1)进行说明，与在第一实施方式中说明的部分相同的部分以同一符号表示，并省略其说明。

如图3所示，在第二实施方式的擦拭部3a1中，擦拭部件11的弹性体11a，具有：倒向基板W的搬送方向A1(图3中的右方向)的上游侧而相对于载台2a上的基板W的表面以规定的角度倾斜的倾斜部B1、和与该倾斜部B1相连而沿着基板W的搬送方向A1以规定的距离(例如基板W的搬送方向A1的长度以上的距离)延伸的延伸部B2。并且，布11b在倾斜部B1以及延伸部B2的搬送机构2b侧的表面(图3中的下侧的表面)上设置。

为了保持该擦拭部件11，设有辅助保持部件12来保持擦拭部件11的保持框架15。该保持框架15与保持部件12一起通过支撑臂13进行支撑。

如图3所示，延伸部B2在基板W的搬送方向A1上的长度，即使小于基板W在搬送方向A1的长度(基板W的长边方向的长度)也可以，但是优选为基板W的长边方向的长度以上。在这种情况下，当基板通过延伸部B2的下方时，基板W的长边方向整体被延伸部B2覆盖。由此，会在延伸部B2上均匀地施力，因此基板W的表面整体被擦拭部件11以均匀的力按压，进行均匀的擦拭。

在该擦拭部件11的布11b上，通过供液部14供给处理液，但是在第二实施方式中，布11b仅有一部分被维持在包含处理液而浸润的状态。具体而言，布11b为如下状态：包括与防静电膜Wa的表面接触的部分、基板W的搬送方向上游侧的区域(上游区域)被处理液浸润，而该基板W的搬送方向下游侧的区域(下游区域)则为干燥。为了获得该状态，从供液部14向布11b供给的处理液，例如是酒精的话则需要考虑其挥发性，对其量进行调整以使覆盖弹性体11a的延伸部B2的布11b的、例如基板W的搬送方向下游侧一半的区域保持为干燥的状态。

在这样的擦拭部3a1中，当载台2a上的基板W到达擦拭部3a1时，载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面与擦拭部件11的布11b接触。其后，随着载台2a的移动，擦拭部件11的弹性体11a从基板W的搬送方向上游侧起厚度逐渐减薄地变形。利用该弹性体11a以规定的载荷将布11b向载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面按压，随着载台2a的移动对防静电膜Wa的表面进行擦拭。此时，布11b的上游区域通过供液部14供给处理液而成为包含处理液的状态，其下游区域为干燥的状态。

利用该包含处理液的上游区域的布11b对载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面进行擦拭，并且在其后，利用干燥的下游区域的布11b对载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面进行擦拭。由此，执行由被处理液浸润状态的布进行的第一级的擦拭、和由干燥状态的布进行的第二级的擦拭。在第二级的擦拭中，能够擦除载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面上存在的处理液。通过这种连续的擦拭，能够从载台2a上的基板W的防静电膜Wa可靠地除去带有氟离子的微粒。并且，当载台2a上的基板W通过擦拭部件11后，擦拭部件11恢复原来的形状。

如上所述，根据第二实施方式，能够获得与第一实施方式同样的效果。并且，通过利用包含处理液的上游区域的布11b对载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面进行擦拭，其后，利用干燥的下游侧的布11b对载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面进行擦拭，能够更加可靠地除去带有氟离子的微粒，因此能够实现更加可靠的微粒去除。

(第三实施方式)

参照图4对第三实施方式进行说明。

第三实施方式基本上与第二实施方式是同样的。因此，在第三实施方式中，对与第二实施方式的区别点(擦拭部3a2)进行说明，与在第二实施方式中说明的部分相同的部分以同一符号表示，并省略其说明。

如图4所示，第三实施方式的擦拭部3a2，与第二实施方式同样，擦拭部件11的弹性体11a1，具有倾斜部B1和延伸部B2，布11b在倾斜部B1以及延伸部B2的搬送机构2b侧的表面上设置。并且，以与上述的下游区域对应的延伸部B2的上表面相接的方式，设置第一供气机构20。并且在弹性体11a1的延伸部B2上，设有在其厚度方向上延伸、并且在厚度方向两端部开口的未图示的多个微细孔，来自第一供气机构20的空气能够通过微细孔向布11b供给。另外，在擦拭部3a2的下游侧，设置第二供气机构30，该第二供气机构30设置为：能够对擦拭部3a2的延伸部B2的布11b的表面供给空气。与第二实施方式同样，布11b的上游区域通过供液部14供给处理液而成为包含处理液的状态，其下游区域成为干燥的状态。在布11b上会附着由于对防静电膜Wa的表面进行擦拭而附着到防静电膜Wa的表面上的微粒。特别是，下游侧会集聚因在上游侧擦拭而来的微粒，容易附着大量微粒。第一供气机构20以及第二供气机构30，是用于吹除该微粒的机构，在基板W不被搬送时，向布11b吹送空气将布11b表面附着的微粒除去。并且，能够使布11b的下游侧始终保持干燥，因此能够连续地执行由被处理液浸润的状态的布11b进行的第一级擦拭、和由干燥状态的布11b进行的第二级的擦拭。并且，这样使用浸润状态的布11b的擦拭和使用干燥状态的布11b的擦拭之间的时间较少，能够有效地除去微粒。这是因为：使用浸润状态的布11b进行擦拭而使向布11b供给的处理液在基板W的表面附着而使基板W的表面成为浸润状态，进而在该处理液中附着于基板W表面的微粒成为浮出的状态，在基板W的表面干燥之前，连续地使用干燥状态的布11b进行第二级的擦拭，从而能够将浮出的微粒除去。

(其它实施方式)

在上述的第一至第三实施方式中，作为搬送部2，使用了载台2a以及搬送机构2b，但是不限于此，例如，也可以将多个搬送辊以规定的间隔平行地排列使用。

并且，在上述的第一至第三实施方式中，对基板W的上表面(图1中)进行了处理、清洗以及干燥(单面处理)，但是不限于此，例如可以对基板W的上下表面(图1中)的两面进行处理、清洗以及干燥(两面处理)，除了基板W的上面侧，也可以在基板W的下面侧设置喷淋嘴21、旋转刷31、各喷淋嘴32、41以及61、吹拂器5a等。此时，作为搬送部2，例如使用上述的多个搬送辊，从而能够对基板W的下表面进行处理。

并且，在上述的第一或第二实施方式中，为了将在基板W的防静电膜Wa的表面上浮出(析出)的微粒除去，设有高压喷淋嘴51以及二元流体缝隙喷嘴52的两方，但是不限于此，也可以仅设置任何一方。并且，冲洗部3b、刷部3c、冲洗部3d、清洗部4，可以采用使基板W浸渍于液体而施加超声波的超声波清洗等、及其它公知的清洗方法，或者对这些方法进行组合使用。

并且，在上述实施方式中，擦拭部3a(3a1、3a2)的供液部14，优选采用如图3所示的二股分叉的喷嘴N，并优选为，使多个该二股分叉的喷嘴N联结的形状。该联结的喷嘴N，沿着擦拭部件11(在第二实施方式、第三实施方式中为倾斜部B1)的与基板W的搬送方向A1正交的方向设有多个。多个喷嘴N各自的配置位置，在布11b的与搬送方向A1正交的方向上，配置为能够无间隙地供给处理液，并从各喷嘴N同时喷出。来自喷嘴N的供给压力、喷嘴内径，如图5所示有最佳的条件，通过对供给压力和喷嘴内径进行调整，来对向布11b供给的处理液的量进行控制。并且，如上所述，从供液部14供给的处理液优选为包含酒精的液体。包含酒精的处理液具有挥发性，因此在向布11b供给之后即开始蒸发。从与其蒸发速度的兼顾出发，决定来自喷嘴N的处理液喷出量，以及来自喷嘴N的供给压力、喷嘴内径。另外，在第二实施方式以及第三实施方式中，优选的是，供给处理液以使布11b包含处理液直到框架15的基板W搬送方向A1上的上游侧一端的正下方为止。

图5示出了擦拭部3a(3a1、3a2)中的来自供液部14的供给压力、供液部14的喷液口的内径、和其处理结果。○表示处理良好(获得洁净的基板)，△表示一定程度的处理良好，×表示处理不良(目视确认)。并且，该测定的条件为：从供液部14供给的液体是包含酒精的液体，从供液部14的喷液口到布11b的距离为0.3～3.0mm，布11b的涂覆区域的宽度(与基板W的搬送方向A1正交的方向的长度)为15～40mm、高度(与宽度方向正交的方向的长度)为15～70mm，供液部14的喷液定时为在基板W的表面与擦拭部件11接触的0.3～5秒前进行。

来自擦拭部3a(3a1、3a2)中的供液部14的供液压力优选为0.05～0.8Mpa，最优选为0.5MPa。供液部14的喷液口的内径优选为0.5～1.0mm，进而最优选为0.8mm。

另外，虽然在上述实施方式中，在载台2a上支撑基板W，通过搬送进行处理，但是不限于此，也可以是擦拭部3a(3a1、3a2)侧相对于固定设置的基板W移动，只要基板W与擦拭部3a(3a1、3a2)能够相对地移动即可。

以上，对本发明的几个实施方式进行了说明，但是这些实施方式是作为例子起提示作用，而非对发明范围进行限定。这些新的实施方式，可以通过其它各种方式实施，在不脱离发明的主旨的范围内，可以进行各种省略、置换、变更。这些实施方式及其变形都包含于发明的范围或其主旨，并且包含在权利要求书记载的发明及其等价范围内。

Claims (8)

1.一种基板处理装置，具备：与基板上的防静电膜的表面接触而相对移动、对该防静电膜的表面进行擦拭的擦拭部件，

上述擦拭部件，具备：

作为基体的弹性体；以及

布，在上述弹性体的表面设置，与上述相对移动的上述防静电膜的表面接触，

上述弹性体在上述布不接触于上述基板上的上述防静电膜的表面的状态下，具有：

倒向上述防静电膜的上述相对移动的方向的上游侧而相对于上述防静电膜的表面倾斜的倾斜部；以及

与上述倾斜部相连地沿着上述防静电膜的上述相对移动的方向延伸的延伸部，

上述基板上的上述防静电膜和具有上述倾斜部和上述延伸部的上述弹性体存在如下位置关系：随着上述基板相对于上述弹性体向一方向相对移动，上述防静电膜首先与设置于上述倾斜部的上述布接触，进而上述弹性体随着上述基板向上述一方向相对移动而发生变形，从而设置于上述倾斜部的上述布被按压于上述防静电膜，在该状态下上述基板进一步向上述一方向相对移动，从而上述防静电膜与设置于上述延伸部的上述布接触，上述防静电膜得到擦拭。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

上述擦拭部件对上述防静电膜的表面的载荷，是上述擦拭部件不会将上述防静电膜从上述基板剥离而能够除去上述防静电膜的表面上的微粒的载荷。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

上述布为如下状态：包括与上述防静电膜的表面接触的部分，上述防静电膜的相对移动方向的上游侧的区域被处理液浸润，上述防静电膜的相对移动方向的下游侧的区域干燥。

4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

还具备向上述布供给处理液的供液部。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

上述处理液为酒精。

6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

在上述弹性体的至少上述延伸部上，设有在其厚度方向上延伸并且在厚度方向两端部开口的多个微细孔，

上述基板处理装置还具备供气机构，上述供气机构在上述延伸部的与设有上述布的表面相反的表面上设置，通过上述多个微细孔向上述布供给空气。

7.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

还具备供气机构，上述供气机构在上述基板的搬送方向上设置在上述防静电膜的相对移动方向的下游侧，通过对上述布的与上述防静电膜的表面接触的部分供给空气而除去上述布的表面上附着的微粒。

8.根据权利要求1至7中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，还具备：

清洗部，利用液体的一元流体或液体与气体的二元流体对上述防静电膜的表面进行清洗；以及

干燥部，朝向上述防静电膜的表面放出气体。