JPH081013Y2 - 基板洗浄装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本考案はLCDなどの薄膜基板製造工程において基板を
洗浄する基板洗浄装置の改良に関するものである。

［従来の技術］ 一般に、LCDなどの薄膜基板製造工程において基板を
洗浄する場合、搬送手段によって基板を洗浄液槽ユニッ
ト内に搬送させ、この基板に高圧水を噴射して洗浄する
基板洗浄装置が知られている。

このような基板洗浄装置の従来例を図面に従って具体
的に説明する。

即ち、第４図に示すように、液槽２内には洗浄液３が
満たされおり、この洗浄液３の液面下には基板搬送手段
として回動自在な搬送ローラ４が複数配設されている。
これらの搬送ローラ４は基板１を下方から支持し、所定
の方向に搬送するようになっている。

一方、洗浄液３の上方にはジェットノズルユニット５
が配設されている。このジェットノズルユニット５は基
板１の搬送方向に直交する方向に長く設定されており、
パイプ5aから高圧水６が送り込まれるようになってい
る。また、ジェットノズルユニット５の下面には長手方
向に沿って複数のジェットノズル７が形成されている。
このジェットノズル７は高圧水６を下方に噴射するよう
になっている。

以上のような構成を有する従来例によれば、高圧水６
の圧力が洗浄液３に強い水流を起こして、基板１に付着
した汚れを効果的に洗い流すことができる。しかも、高
圧水６は洗浄液３に侵入する際、液面付近の空気を巻込
み、非常に細かい気泡であるキャビテーション８を発生
させる。そして、このキャビテーション８が基板１に衝
突して弾けることにより、より微小な汚れまでも落とす
ことができる。

ところで、近年、製品の品質向上を目的として、極め
て洗浄能力の高い基板洗浄装置が要求されている。これ
を達成するためには、ジェットノズル７から噴射される
高圧水６に強い圧力を持たせることが必要となる。しか
し、この様な超高圧の高圧水は高い洗浄能力を発揮する
反面、指向性が強く、狭い範囲にしか噴射されない。そ
の結果、基板１において高圧水６が当たる部分と当たら
ない部分とが形成される。従って、基板洗浄度にムラが
発生し、製品の信頼性が低下した。

そこで、この様な課題を解消するために従来より次の
ような基板洗浄装置が提案されている。

即ち、第５図に示すようにジェットノズルユニット５
の両端は軸受け部９により摺動自在に保持されている。
また、ジェットノズルユニット５の端部には基板１の搬
送方向と直交する方向に延びるロッド10が連結されてい
る。さらに、このロッド10を往復動させる駆動装置11が
付設されている。

以上の様な従来技術によれば、ジェットノズル７が基
板１に対して高圧水６を噴射する際、駆動装置11により
ロッド10が動作して、ジェットノズルユニット５が基板
１の搬送方向と直交する方向に往復動する。従って、高
圧水６を基板１の全面にくまなく噴射でき、基板１を均
一に洗浄することができる。

［考案が解決しようとする課題］ ところが、このような従来例において、以下のような
課題が指摘されていた。

すなわち、ジェットノズルユニット５が往復動する
際、ジェットノズルユニット５の両端が軸受け部９に摺
動して塵芥が発生する。この塵芥は微量ではあるもの
の、極めて高い洗浄度で洗浄された基板にとっては重大
であり、製品の信頼性を損なう恐れがあった。

以上のように、従来技術においては、装置自体からの
発塵が大きく、基板洗浄度を低下させた。

本考案は上記のような従来技術の持つ課題を解決する
ために提案されたものであり、装置からの発塵をなく
し、基板を高い洗浄度で洗浄できる基板洗浄装置を提供
することを目的とする。

［課題を解決するための手段］ 以上のような課題を解決するために、本考案の基板洗
浄装置は、洗浄液槽ユニットの前後に配設される基板の
搬送手段と、洗浄液槽ユニット内部に洗浄液槽ユニット
と一体に設置される高圧水ノズルと、洗浄液槽ユニット
を搬送手段の搬送方向と直交する方向に往復動させるよ
うに洗浄液槽ユニットに取り付けられた駆動手段とを備
えたことを特徴とする。

［作用］ 以上のような構成を有する本考案の作用は次の通りで
ある。

即ち、基板が搬送手段によって洗浄液槽ユニット内を
搬送する際、高圧水ノズルが基板に高圧水を噴射して、
基板の洗浄を行う。と同時に、駆動手段が洗浄液槽ユニ
ットを搬送手段の搬送方向と直交する方向に往復動させ
る。そのため、高圧水ノズルは高圧水を基板全面にまん
べんなく噴射され、基板を均一に洗浄することができ
る。この際、高圧水ノズルは、洗浄液槽ユニット内部に
洗浄液槽ユニットと一体に設置されているため、高圧水
ノズルのみが単独で移動することはない。すなわち、基
板の洗浄は、洗浄液槽ユニットに取り付けられている駆
動手段によって洗浄液槽ユニット自体が洗浄液槽内を往
復動することによって行われる。このため、従来のよう
に、ジェットノズルユニットを摺動する際に塵芥を生じ
させ、洗浄液槽内に侵入させることがない。

従って、発塵による基板洗浄力の低下を防止すること
ができる。

［実施例］ 以上説明したような本考案の基板洗浄装置の一実施例
を図面に基づいて具体的に説明する。

なお、従来技術と同一部材に関しては同符号を付し、
説明は省略する。

即ち、第１図に示すように、洗浄液槽ユニット12は、
中央部に縦長な直方体状の洗浄部13を備え、この洗浄部
13の上下に中空の円筒形状であるノズルユニット支持部
14、15を一体的に設置したものである。この洗浄液槽ユ
ニット12は、洗浄部13の中程まで洗浄液３が注がれるよ
う液槽２に配設されている。また、洗浄液槽ユニット12
の前後には洗浄液３の液面3aを基板１が搬送するよう複
数の搬送ローラ４が配設されている。これらの搬送ロー
ラ４は上部ローラ4a及び下部ローラ4bから構成されてお
り、上部ローラ4a及び下部ローラ4bによって基板１を挟
持するようになっている。また、下部ローラ4bの端部に
はギヤ4cが形成され、このギヤ4cには駆動力を伝達する
駆動ギヤ4dが噛合っている。

また、上部のノズルユニット支持部14内には従来例と
同様にジェットノズル７を備えたジェットノズルユニッ
ト５が固定されている。

一方、下部のジェットノズル支持部15内には中空のエ
アノズルユニット16が固定されている。このエアノズル
ユニット16内にはジェットノズルユニット17が収納され
ている。このジェットノズルユニット17上面には、ジェ
ットノズルユニット５のジェットノズル７に対応して、
上方に高圧水６を噴射するジェットノズル18が設けられ
ている。

また、エアノズルユニット16の端部には供給口16aが
形成されており、この供給口16aから内部に空気19が供
給されるようになっている。さらに、エアノズルユニッ
ト16の上面にはジェットノズル18の位置に対応して複数
のエアノズル20が突設されている。これらのエアノズル
20は基板１の下面1bに対して空気19を噴射するようにな
っている。

ところで、第２図に示すように、洗浄液槽ユニット12
は正面から見ると平行に２つ設置されている。両者はノ
ズルユニット支持部14、15同士に係合する連結部21a、2
1bにより連結されており、支持台22に載置されている。
この時、洗浄液槽ユニット12の長手方向は搬送ローラ４
の搬送方向と直交するよう構成されている。また、支持
台22の両端には回動自在な樹脂ローラ23が配設されてい
る。そして、この樹脂ローラ23は液槽２内の下部に設置
されたレール台24を走るようになっている。

さらに、第３図に示すように、２つの洗浄液槽ユニッ
ト12を連結する上側の連結部21aには、洗浄液槽ユニッ
ト12の長手方向に延びるロッド25が設けられている。こ
のロッド25の先端には駆動装置26により回動するクラン
プ27が設置されている。そして、このクランプ27の回動
により、ロッド25を介して洗浄液槽ユニット12に駆動力
が伝達されるようになっている。この時、樹脂ローラ23
がレール台24を走り、連結された２つの洗浄液槽ユニッ
ト12が同時に往復動するようになっている。

以上のような構成を有する本実施例の作用は次の通り
である。

即ち、基板１が搬送ローラ４によって液槽２内を搬送
する際、上下に設置されたジェットノズル７、18が基板
１に高圧水６を噴射する。この時、エアノズル20から基
板１の下面1bに向けて空気19が噴射されるため、下面1b
付近でキャビテーション８を発生させることができる。
従って、高圧水６及びキャビテーション８が基板１の上
面1a及び下面1bに働き、極めて高い洗浄能力を発揮でき
る。

この様な洗浄動作と同時に、本実施例においては駆動
装置26によりクランプ27が動作する。従ってロッド25を
介して洗浄液槽ユニット12に駆動力が伝わる。その結
果、樹脂ローラ23がレール台24上を回動して、連結され
た２つの洗浄液槽ユニット12がスムーズに往復動する。
そのため、ジェットノズル７、18は高圧水６を基板１全
面にまんべんなく噴射し、基板１を均一な洗浄度で洗う
ことができる。

さらに、以上のような往復動は樹脂ローラ23がレール
台24上を回動するので、発塵率は極めて低く、しかも発
塵部分は洗浄液槽ユニット12の下部に位置している。そ
のため、塵芥が洗浄部13に侵入することがない。従っ
て、発塵による基板洗浄力の低下を防止することがで
き、優れた洗浄能力を確保できる。

しかも、本実施例は従来の液槽２内に洗浄液槽ユニッ
ト12を静めるだけで構成することが可能である。そのた
め、従来の液槽２内に各部材を組付けていく従来技術に
比べて組立作業が極めて容易であり、設置コストを削減
することができる。また、従来技術において、往復動を
繰返すジェットノズルユニット５が磨耗した場合、その
交換が面倒であったが、本実施例の場合、樹脂ローラ23
の交換だけで済むため、メンテナンスも簡単である。

なお、本考案の基板洗浄装置は、以上のような実施例
に限定されるものではなく、ジェットノズルを上方にの
み設置したものでも良く、さらに各部材の配設数、寸法
及び形状なども適宜変更可能である。

［考案の効果］ 以上述べたように、本考案は、高圧水ノズルが一体に
設けられた洗浄液槽ユニットの前後に基板搬送手段を配
設すると共に、洗浄液槽ユニットには、それ自身を搬送
手段の搬送方向と直交する方向に往復動させる駆動手段
を備えるという簡単な構成によって基板の洗浄を行うも
のである。従って、基板は高圧水ノズルによって均一に
洗浄され、且つ従来のような高圧水ノズルのみの移動で
はなくではなく、洗浄液槽ユニット自体が洗浄液槽内を
往復動するために発塵による基板洗浄力の低下を防止
し、優れた洗浄能力を確保することができる基板洗浄装
置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例の側面断面図、第２図および
第３図は本実施例の正面図および斜視図、第４図及び第
５図は従来例の側面断面図である。 １……基板、２……液槽、３……洗浄液、４……搬送ロ
ーラ、５……ジェットノズルユニット、６……高圧水、
７……ジェットノズル、８……キャビテーション、９…
…軸受け部、10……ロッド、11……駆動装置、12……洗
浄液槽ユニット、13……洗浄部、14、15……ノズルユニ
ット支持部、16……エアノズルユニット、17……ジェッ
トノズルユニット、18……ジェットノズル、19……空
気、20……エアノズル、21……連結部、22……支持台、
23……樹脂ローラ、24……レール台、25……ロッド、26
……駆動装置、27……クランプ。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】中空の洗浄液槽ユニット内を搬送する基板
   に高圧水を噴射して基板を洗浄する基板洗浄装置におい
   て、 前記洗浄液槽ユニットの前後に配設される基板の搬送手
   段と、 前記洗浄液槽ユニット内部に洗浄液槽ユニットと一体に
   設置される高圧水ノズルと、 前記洗浄液槽ユニットを搬送手段の搬送方向と直交する
   方向に往復動させるように前記洗浄液槽ユニットに取り
   付けられた駆動手段と、 を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。