JP5639860B2 - ウェーハの洗浄方法 - Google Patents

Description

本発明は、ウェーハの洗浄方法に関する。

従来、薬液洗浄やエッチング処理後のウェーハに残留する薬液を、純水でリンスして除去する方法が知られている（例えば、特許文献１〜３）。
特許文献１に記載の方法では、純水を満たした処理槽にエッチング処理後のウェーハをセットする。そして、ここに大量の純水を供給し、処理槽内のリンス廃液を溢れさせることでリンス廃液を純水に置換し、ウェーハをリンスしている。
特許文献２に記載の方法では、アルカリエッチング後のウェーハをクエン酸とクエン酸カリウムとの混合液に浸漬し、エッチング液を中和することにより洗浄している。
特許文献３に記載の方法では、搬送ローラにより搬送される基板の上面に、窒素ガスの気泡を含む洗浄液を吐出することにより基板の上面を洗浄している。

特開平７−２７３０７７号公報 特開２０００−２４３７３７号公報 特開２００８−０８０２３０号公報

しかしながら、高濃度アルカリエッチングが行われたウェーハからエッチング液を除去する場合、エッチング液が高濃度かつ高粘度であるため、特許文献１に記載の方法を用いて処理槽内のリンス廃液を純水に置換するだけでは、ウェーハからエッチング液を離脱させることができず、エッチング液が再反応を起こし、ウェーハにシミが発生してしまう。また、特許文献１に記載の純水の流速は０．０３ｍ／秒と遅いため、置換の際の純水の水流によりウェーハからエッチング液を十分に離脱させることができない。

特許文献２に記載の方法は、エッチング液を中和するために別の薬液を準備する必要があり、さらにその排水処理も必要となるため、コストが増大するという問題があった。
特許文献３に記載の方法は、大気中で搬送される基板の上面のみの洗浄を目的とするものであり、下面を洗浄できない。

本発明の目的は、エッチング後のウェーハにおいて、残留エッチング液による再反応を、コストを増大することなくかつ簡便に抑制できるウェーハの洗浄方法を提供することにある。

本発明のウェーハの洗浄方法は、エッチング後のウェーハからエッチング液を除去するウェーハの洗浄方法であって、前記ウェーハを立てた状態で浸漬可能な洗浄槽に満たされた洗浄液の液面より上方に、噴射軸方向が前記ウェーハの外周の接線方向と略一致するようにノズルを設け、前記ウェーハを立てた状態で前記洗浄液に浸漬し、前記ノズルから前記洗浄槽の底部に向かって噴射液を噴射して、気体を巻き込みながら前記噴射液を洗浄槽内に導入することでウェーハを洗浄することを特徴とする。

本発明によれば、気体を巻き込みながら噴射液を洗浄槽内に導入するので、洗浄槽内に気泡を発生させることができる。そして、この気泡がウェーハに衝突して弾けることにより、噴射液のみを導入する場合に比べて、ウェーハを高い洗浄力で洗浄できる。また、噴射液と気泡が洗浄槽の底部で跳ね返されると、上向きの水流により洗浄槽の底部から上部にわたり洗浄液の置換が生じるとともに、上昇する気泡がウェーハに衝突する。したがって、ウェーハに残留したエッチング液を速やかに離脱させることができ、ウェーハに残留したエッチング液、および、洗浄液に混ざり込んだエッチング液が、ウェーハで再反応し、ウェーハにシミが発生することを防止することができる。
さらに、噴射液を洗浄槽の底部に向かって噴射するため、ウェーハの洗浄がし難く、洗浄液の置換が生じ難い、洗浄槽の底部においても、効率よくウェーハを洗浄することができる。また、噴射液の噴射時に気体を巻き込むだけで高い洗浄力を得られるので、噴射液としては、洗浄液と同一かつ公知のものを用いればよく、洗浄後の廃液の処理も従来と同じ工程とすることができるため、コストが増大することがない。
また、ノズルを洗浄液の液面より上方に設けたので、噴射液は空気を自動的に巻き込んで洗浄槽内に気泡を発生させることができる。したがって、ノズルの位置を液面より上方になるよう調整するだけでよく、別途気泡を発生させるための装置を設けるなど、装置を大型化する必要がない。
また、噴射軸方向とウェーハの外周の接線方向とを略一致させるので、ウェーハを立てた際にエッチング液が溜まりやすい外周部分に強い水流の噴射液と気泡とを接触させることができ、ウェーハの外周部分も効果的に洗浄できる。
ここで、噴射軸上に位置するウェーハの外周部分は、浸漬用のカセットの支持部で支持される場合が多い。このような場合、ウェーハにおける支持部との接触部分にエッチング液が溜まりやすくなるが、上述のようにノズルを設けることで、当該接触部分に噴射液と気泡とを噴射することができ、エッチング液を適切に除去できる。

本発明のウェーハの洗浄方法では、前記ノズルを、ウェーハの中心を通って上下方向に延びる直線を含み、かつウェーハの一面と直交する面に対して対称に設けることが好ましい。
この発明によれば、ノズルを、ウェーハの中心を通って上下方向に延びる直線を含み、かつウェーハの一面と直交する面に対して対称に設けるので、噴射される噴射液をウェーハの広範囲に接触させることができ、ウェーハ全体を確実に洗浄できる。特に、それぞれのノズルから噴射される噴射液を、洗浄槽の底部に向かうにしたがって互いに近づくように噴射させれば、洗浄槽の底部で跳ね返された水流や気泡を合流させることができ、ウェーハの洗浄を万遍なく効率よく行うことができる。

本発明の一実施形態に係るウェーハの洗浄方法を実施するためのエッチング処理装置の断面図。 前記一実施形態における洗浄槽の正面からの断面図。 前記一実施形態における洗浄槽の側面からの断面図。

本発明のウェーハの洗浄方法の一実施形態を、図面を参照して説明する。
なお、本実施形態では、特に明示しない限り、「上」、「下」、「左」、「右」、「前」、「後」といった方位を示す用語は、図１を基準として用いる。なお、「前」とは、紙面直交方向の手前側を指し、「後」とは、紙面直交方向の奥側を指す。

［ウェーハのエッチング処理装置の構成］
まず、本発明の実施形態に用いるウェーハのエッチング処理装置について説明する。
図１に示すように、エッチング処理装置１は、カセット９に収納された複数のウェーハＷをエッチング処理し、洗浄する。このエッチング処理装置１は、ウェーハＷのエッチングが行われるエッチング槽２と、エッチング後のウェーハＷを洗浄する洗浄装置３と、カセット９をエッチング槽２と洗浄装置３との間で搬送する搬送手段４とを備える。

カセット９の側面部９１には、図２および図３に示すように、複数のスリット９２が形成されている。このスリット９２により、洗浄に用いられる噴射液Ｆがカセット９内部に流入可能となっている。
また、側面部９１の下端には、下方に向かって互いに近づく方向に傾斜する支持部９３が設けられ、互いに対向する支持部９３の下端間には、開口部９４が設けられている。
そして、カセット９はスリット９２を構成する側面部９１と支持部９３とにより、２５枚のウェーハＷを立てた状態で、かつ、ウェーハＷの下端が開口部９４から露出した状態で収納可能となっている。

エッチング槽２は、２つのカセット９を前後に並べて収納できる大きさを有している。このエッチング槽２には、エッチング液Ｅが満たされている。エッチング液Ｅとしては、アルカリエッチング液が挙げられ、アルカリエッチング液としては、高純度アルカリ液、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）等を用いることができる。高純度アルカリ液としては、ＫＯＨ系エッチャント、あるいはＮａＯＨ系エッチャントが挙げられる。

洗浄装置３は、エッチング槽２に隣接して設置されたリンス槽３１と、このリンス槽３１の底部中央に設けられたウェーハ回転ローラ３２と、このウェーハ回転ローラ３２の左右両側に設けられた槽内ノズル３３と、リンス槽３１に満たされた洗浄液Ｌの液面Ｌ１より上方に設けられた上方ノズル３４と、この上方ノズル３４から噴射液Ｆとして噴射される洗浄液Ｌを蓄える給水タンク３５と、この給水タンク３５の純水を上方ノズル３４に供給するポンプ３６とを備える。なお、給水タンク３５およびポンプ３６の設置は必須ではなく、供給する純水の供給圧力に応じて省略するようにしてもよい。

エッチング槽２と略等しい大きさのリンス槽３１には、洗浄液Ｌとして純水が満たされている。
ウェーハ回転ローラ３２は、図１の紙面直交方向（以下、前後方向と称す）に延びる棒状に形成され、カセット９の開口部９４から露出したウェーハＷを回転させる。
槽内ノズル３３は、上方ノズル３４の略真下に設けられ、リンス槽３１の底部に向かって洗浄液Ｌと同じ液体、すなわち純水を噴射し、水流Ｓ２を発生させる。この槽内ノズル３３により噴射された純水の水流Ｓ２は、リンス槽３１の底部に到達すると方向が上向きに変化する。これにより、リンス槽３１の上方から洗浄液Ｌが溢れ出し、リンス槽３１内で洗浄液Ｌの置換が行われるようになっている。

上方ノズル３４は、カセット９の前後方向中央、かつ、カセット９の左右両側に設けられている。すなわち、ウェーハＷの中心を通って上下に延びる直線を含み、かつウェーハの一面と直交する仮想面Ｃに対し、上方ノズル３４の一方から仮想面Ｃまでの水平方向の距離をＰ１、上方ノズル３４の他方から仮想面Ｃまでの水平方向の距離をＰ２とすると、Ｐ１とＰ２が等しくなるよう設けられている。この上方ノズル３４は、直径が３ｍｍ以上１０ｍｍ以下の噴射孔３４１を有し、この噴射孔３４１の下端からリンス槽３１に満たされた洗浄液Ｌの液面Ｌ１までの距離Ｈ１が７０ｍｍ以上１００ｍｍ以下、かつ液面Ｌ１からウェーハＷの下端（すなわち、ウェーハ回転ローラ３２とウェーハＷの外周Ｗ１の当接部分）までの距離Ｈ２が３５０ｍｍ以下となるように設けられている。噴射孔３４１の下端から液面Ｌ１までの距離が７０ｍｍ未満で、近すぎる場合には、リンス槽３１に満たされた洗浄液Ｌや噴射液Ｆが衝撃で飛び散るおそれがある。
また、上方ノズル３４は、噴射軸Ｊと液面Ｌ１とのなす角度である噴射角度αを、５０度以上８０度以下の範囲で設定可能に設けられている。この構成により、噴射軸Ｊ方向と、カセット９内のウェーハＷの外周Ｗ１の接線方向とを略一致させることができる。

なお、上方ノズル３４は、１つのカセット９につき２個設けられているが、１個であってもよいし、３個以上であってもよい。また、上方ノズル３４の形状としては、ストレート形状のものとスプレー形状のものがある。ストレート形状は、噴射孔３４１の直径が一定の筒状であり、スプレー形状は、直径が先端に近づくほど大きくなっている。上方ノズル３４としては、ストレート形状で噴射孔３４１が１つのものが好ましい。スプレー形状のノズルや複数の噴射孔を有するノズルを用いた場合、噴射液Ｆがミスト状になって拡散するため、必要な強さの水流が得られない可能性がある。

［ウェーハの洗浄方法の説明］
次に、上述したエッチング処理装置１を用いたエッチング処理後のウェーハＷの洗浄方法を説明する。
まず、洗浄前の準備として、カセット９がリンス槽３１に浸漬されたときに、ウェーハＷの外周Ｗ１の接線方向と、上方ノズル３４の噴射軸Ｊ方向とが略一致するように、噴射角度αを調整する。

そして、複数のウェーハＷを収納したカセット９をエッチング槽２に浸漬させて、所定のエッチング処理を行う。そして、エッチング処理終了後に、搬送手段４により、カセット９をエッチング槽２から引き上げて、リンス槽３１に浸漬させる。
このリンス槽３１への搬送速度は、一般的な設定速度よりも遅く、搬送中にエッチング液Ｅの液垂れが発生しない程度の速度であることが好ましい。すなわち、エッチング槽２から引き上げる途中でウェーハＷに付着したエッチング液Ｅを自重により落下させることにより、ウェーハＷに残留するエッチング液Ｅ（以下、残留エッチング液Ｅと称す）の量を液垂れが発生しない程度まで減少させる速度が好ましい。
このようにすれば、リンス槽３１に持ち込まれる残留エッチング液Ｅを少なくすることができ、リンス槽３１での洗浄効率を上げることができる。リンス槽３１に持ち込まれる残留エッチング液Ｅは、ウェーハＷの枚数に比例するため、特に、一度に洗浄するウェーハＷの枚数が多い場合には、枚数が少ない場合よりも搬送速度を低速にすることが有効である。
なお、具体的な搬送速度としては、エッチング槽２内のカセット９の引き上げ開始から、カセット９のリンス槽３１への浸漬完了までの時間が１０秒程度となる速度が例示できる。

次に、リンス槽３１にカセット９が浸漬されると、ウェーハＷの外周Ｗ１が、ウェーハ回転ローラ３２が当接し、支持部９３から離れた状態となる。そして、ウェーハ回転ローラ３２を回転させて、ウェーハＷを回転させる。また、このとき、上方ノズル３４から所定の水量および流速で一定時間、噴射液Ｆを噴射させる。
噴射液Ｆの水量および流速としては、リンス槽３１の底部に到達する設定であればよく、リンス槽３１の大きさや上方ノズル３４の噴射孔３４１の下端から液面Ｌ１までの距離Ｈ１、液面Ｌ１からウェーハＷの下端までの距離Ｈ２、および噴射角度αにより、適宜設定することができる。
例えば、噴射孔３４１の直径が１０ｍｍの場合、水量としては、５Ｌ／分以上２０Ｌ／分以下であることが好ましく、流速としては、０．８ｍ／秒以上３ｍ／秒以下であることが好ましく、１．０ｍ／秒以上２．５ｍ/秒以下であることが特に好ましい。流速が遅すぎる場合は、後述する気泡Ａによるエッチング液の離脱効果を得ることが困難となってしまう。また、流速が速すぎる場合は、リンス槽３１外への洗浄液Ｌや噴射液Ｆの飛散量が大きくなってしまう。また、エッチング液Ｅによる再反応時間が２０秒であるため、上方ノズル３４からの噴射液の噴射時間は、２０秒より長いことが好ましく、３０秒以上であることがより好ましい。

上方ノズル３４からの噴射液Ｆは、リンス槽３１の液面Ｌ１近傍で空気を巻き込むことで形成される気泡Ａを含みつつ、リンス槽３１に導入される。そして、この気泡Ａを含む噴射液Ｆにより、ウェーハＷの外周Ｗ１の接線をその流路に含み、下方に向かう水流Ｓ１が発生する。水流Ｓ１は、リンス槽３１の底部に到達すると、気泡Ａとともに上方に向かう。そして、下方および上方にそれぞれ向かう気泡Ａと水流Ｓ１がウェーハＷに接触することにより、ウェーハＷから残留エッチング液Ｅが離脱し、離脱して洗浄液Ｌに混ざり込んだエッチング液Ｅが、上方に向かう気泡Ａと水流Ｓ１と共に上方に送られて、洗浄液Ｌが置換される。このとき、ウェーハＷは回転しているため、気泡Ａと水流Ｓ１の接触は、ウェーハの全域にわたって生じる。
なお、上方ノズル３４から噴射される噴射液Ｆの水流Ｓ１と槽内ノズル３３から噴射される純水の水流Ｓ１は前後方向にも広がる。このため、１つのカセット９に収納された複数のウェーハＷに対しても、水流Ｓ１，Ｓ２および気泡Ａが到達し、ウェーハＷから残留エッチング液Ｅが離脱する。
なお、上方に向かう気泡Ａと水流Ｓ１がウェーハＷ近傍を通り、ウェーハＷ近傍で洗浄液Ｌが十分に置換される際には、必ずしも下方に向かう水流Ｓ１がウェーハＷの外周Ｗ１の接線をその流路に含まなくてもよい。

そして、上方ノズル３４からの噴射が終了すると、槽内ノズル３３からリンス槽３１の底部に向かって洗浄液Ｌを供給する。槽内ノズル３３から供給された洗浄液Ｌの水流Ｓ２は、リンス槽３１の底部に当たることにより、上向きに変化する。この水流Ｓ２によりウェーハＷ近傍で洗浄液Ｌに混ざり込んだエッチング液Ｅは上方に送られて、リンス槽３１の上部から溢れ出る。これにより、洗浄液Ｌがさらに置換され、ウェーハＷと洗浄液Ｌ中のエッチング液Ｅが再び接触して、再反応することが抑制される。
そして、カセット９がリンス槽３１に浸漬されてから５分程度経過したときに、搬送手段４によりカセット９をリンス槽３１から引き上げることで、ウェーハＷの洗浄が終了する。

［実施形態の作用効果］
上述したような本実施形態では、以下のような作用効果を奏することができる。
（１）空気を巻き込みながら噴射液Ｆをリンス槽３１内に導入するので、リンス槽３１内に気泡Ａを発生させることができる。そして、この気泡ＡがウェーハＷに衝突して弾けることにより、噴射液Ｆのみを導入する場合に比べて、ウェーハＷを高い洗浄力で洗浄できる。また、噴射液Ｆと気泡Ａが底部で跳ね返されると、上向きの水流Ｓ１によりリンス槽３１の底部から上部にわたり洗浄液Ｌの置換が生じるとともに、上昇する気泡ＡがウェーハＷに衝突する。したがって、ウェーハＷの残留エッチング液Ｅを速やかに離脱させることができ、ウェーハＷの残留エッチング液Ｅ、および、洗浄液Ｌに混ざり込んだエッチング液Ｅが、ウェーハＷで再反応し、ウェーハＷにシミが発生することを防止することができる。
さらに、噴射液Ｆをリンス槽３１の底部に向かって噴射するため、ウェーハＷの洗浄がし難く、洗浄液Ｌの置換が生じ難い、リンス槽３１の底部においても、効率よくウェーハＷを洗浄することができる。また、噴射液Ｆの噴射時に空気を巻き込むだけで高い洗浄力を得られるので、噴射液Ｆとしては、洗浄液Ｌと同一かつ公知のものを用いればよく、洗浄後の廃液の処理も従来と同じ工程とすることができるため、コストが増大することがない。
また、上方ノズル３４を洗浄液Ｌの液面Ｌ１より上方に設けるだけで、噴射液Ｆが空気を自動的に巻き込んでリンス槽３１内に気泡Ａを発生させることができるので、上方ノズル３４の位置を調整するだけでよく、別途気泡Ａを発生させるための装置を設けるなど、装置を大型化する必要がない。

（２）噴射軸Ｊ方向とウェーハＷの外周Ｗ１の接線方向とを略一致させるので、ウェーハＷを立てた際にエッチング液Ｅが溜まりやすい外周Ｗ１に気泡Ａと強い水流Ｓ１の噴射液Ｆとを接触させることができ、ウェーハＷの外周Ｗ１も効果的に洗浄できる。
すなわち、噴射軸Ｊ上に位置するウェーハＷの外周Ｗ１は、浸漬用のカセット９の支持部９３で支持され、ウェーハＷにおける支持部９３との接触部分にエッチング液Ｅが溜まりやすくなるが、上方ノズル３４を設けることで、当該接触部分に噴射液Ｆと気泡Ａとを噴射することができ、エッチング液Ｅを適切に除去できる。

（３）上方ノズル３４をウェーハＷの中心を通り、ウェーハＷの一面に直交する仮想面Ｃに対し対称に設け、それぞれの上方ノズル３４から噴射される噴射液Ｆを、リンス槽３１の底部に向かうにしたがって互いに近づくように噴射させるので、リンス槽３１の底部で跳ね返された水流Ｓ１や気泡Ａを合流させることができ、ウェーハＷの洗浄を万遍なく効率よく行うことができる。

（４）噴射孔３４１の直径が３ｍｍ以上１０ｍｍ以下の上方ノズル３４を、噴射孔３４１から洗浄液Ｌの液面Ｌ１までの上下方向の距離Ｈ１が７０ｍｍ以上１００ｍｍ以下、かつ噴射孔３４１からウェーハＷの下端までの上下方向の距離Ｈ２が３５０ｍｍ以下となるよう設け、０．８ｍ／秒以上の流速で噴射液Ｆを噴射するので、噴射液Ｆの水流Ｓ１がウェーハＷの下端まで十分な強さを有して到達する。したがって、ウェーハＷの洗浄を万遍なく行うことができる。

（５）搬送手段４により、カセット９をエッチング槽２から引き上げて、リンス槽３１に浸漬させる際、搬送速度を、エッチング槽２内のカセット９の引き上げ開始から、カセット９のリンス槽３１への浸漬完了までの時間が１０秒程度となるよう低速にし、エッチング槽２から引き上げる途中でウェーハＷに付着したエッチング液Ｅを自重により落下させるようにしている。このため、リンス槽３１に持ち込まれる残留エッチング液Ｅを少なくすることができ、リンス槽３１でのウェーハＷの洗浄効率を上げることができる。

［他の実施形態］
なお、本発明は上記実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々の改良および設計の変更などが可能である。
すなわち、上記実施形態においては、上方ノズル３４を、リンス槽３１に浸漬されたウェーハＷの外周Ｗ１の接線方向と噴射軸Ｊ方向とが略一致するように設けたが、これに限らない。すなわち、リンス槽３１の底部から上方に向かう気泡Ａと水流Ｓ１がウェーハＷ近傍を通り、ウェーハＷ近傍で洗浄液Ｌが十分に置換されれば、必ずしも接線方向と噴射軸Ｊ方向とが略一致する必要はない。
また、上方ノズル３４をウェーハＷの中心を通り上下方向に延びる仮想面Ｃに対し対称になるようカセット１つにつき２個設けたが、２個を対称に配置しなくてもよいし、数は１個であってもよいし、３個以上であってもよい。
また、噴射液Ｆおよび洗浄液Ｌとしてはいずれも純水を用いたが、これに限らず、被洗浄物に合わせて、様々な液体を選択できる。

次に、本発明を実施例および比較例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。

[実施例１〜実施例４]
１つのカセットに２００ｍｍのウェーハを２５枚収納し、所定のエッチング処理を行ったのち、カセットを引き上げ、表１に示す搬送時間（引き上げ開始からリンス槽に浸漬するまでの所要時間）で、内側寸法が長さ３４０ｍｍ、幅３００ｍｍ、深さ３４０ｍｍのリンス槽に浸漬した。浸漬と同時に、噴射孔の直径が１０ｍｍの上方ノズルを用い、表１に示す条件で純水を３０秒間噴射した。その後、槽内ノズルから流量１０Ｌ／分の純水を４分３０秒間供給し、ウェーハの洗浄を行った。なお、上方ノズルは、カセットに対し２個設け、これらを対称に配置した。さらに、上方ノズル先端から液面までの距離Hは７０ｍｍ、噴射軸方向とウェーハの外周の接線方向が一致するよう液面との角度を７０度とし、液面からウェーハ上端までの距離は２５ｍｍ（液面からウェーハ下端までの距離Ｈ２は２２５ｍｍ）とした。洗浄後のウェーハのシミ発生状況について評価した結果を表１に示す。評価基準は後述の通りである。
[比較例１]
比較例１として、実施例１において、上方ノズルからの噴射を行わず、槽内ノズルから純水を５分間供給し、ウェーハの洗浄を行い、評価した。結果を表１に示す。

[評価基準]
評価は目視により、以下の４段階で行った。
１ シミが確認できない
２ ほとんどシミが確認できない
３ 外周部分にシミが発生している
４ ウェーハの半分以上の領域にわたってシミが発生している

[実施例５]
２つのカセットに３００ｍｍのウェーハを２５枚ずつ収納し、所定のエッチング処理を行ったのち、カセットを引き上げ、引き上げ開始から１０秒でリンス槽に浸漬した。浸漬と同時に、噴射孔の直径が４ｍｍの上方ノズルを用い、表２に示す条件で純水を３０秒間噴射した。その後、槽内ノズルから流量
１５Ｌ／分の純水を４分３０秒間供給し、ウェーハの洗浄を行った。なお、上方ノズルは、カセット１つにつき６個設け、これらを対称に３個ずつ配置した。さらに、上方ノズル先端から液面までの距離Hは７０ｍｍ、噴射軸方向とウェーハの外周の接線方向が一致するよう液面との角度を７５度とし、液面からウェーハ上端までの距離は２５ｍｍ（液面からウェーハ下端までの距離Ｈ２は３２５ｍｍ）とした。洗浄後のウェーハのシミ発生状況について２００ｍｍウェーハの場合と同様に評価した。結果を表２に示す。
[比較例２]
比較例２として、実施例５において、上方ノズルからの噴射を行わず、槽内ノズルから純水を５分間供給し、ウェーハの洗浄を行い、評価した。結果を表２に示す。

表１および表２に示すように、上方ノズルから空気を巻き込んだ純水の噴射を行った実施例１から実施例５では、上方ノズルから純水の噴射を行わなかった比較例１および比較例２に比べて、シミの発生が少なく、エッチング液による再反応が抑えられていることが確認された。また、実施例３と実施例４の結果から、ウェーハの搬送速度を低速にした場合、リンス槽に持ち込まれる残留エッチング液が少なるので、シミがより発生し難いことが確認された。

３１…リンス槽（洗浄槽）
３４…上方ノズル（ノズル）
３４１…噴射孔
Ｃ…仮想面
Ｅ…エッチング液
Ｆ…噴射液
Ｊ…噴射軸
Ｌ…洗浄液
Ｌ１…液面（洗浄液の液面）
Ｗ…ウェーハ
Ｗ１…ウェーハの外周

Claims (2)

1. エッチング後のウェーハからエッチング液を除去するウェーハの洗浄方法であって、
   前記ウェーハを立てた状態で浸漬可能な洗浄槽に満たされた洗浄液の液面より上方に、噴射軸方向が前記ウェーハの外周の接線方向と略一致するようにノズルを設け、
   前記ウェーハを立てた状態で前記洗浄液に浸漬し、
   前記ノズルから前記洗浄槽の底部に向かって噴射液を噴射して、気体を巻き込みながら前記噴射液を洗浄槽内に導入することでウェーハを洗浄する
   ことを特徴とするウェーハの洗浄方法。
2. 請求項１に記載のウェーハの洗浄方法において、
   前記ノズルを、ウェーハの中心を通って上下方向に延びる直線を含み、かつウェーハの一面と直交する面に対して対称に設ける
   ことを特徴とするウェーハの洗浄方法。

Images