JP4946837B2 - 基板洗浄装置及び洗浄方法 - Google Patents
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Description
まず、本発明の第1の実施形態に係る基板洗浄装置について、図1〜図8を参照して説明する。
次に、本発明の第2の実施形態に係る基板洗浄装置について、図9〜図12を参照して説明する。なお、以下の実施形態の説明においては、先行する実施形態で説明したものと実質的同一の構成要素については、同一の参照符号を付して説明を省略し、主として相違点についてのみ説明する。
次に、本発明の第3の実施形態に係る基板洗浄装置について、図13を参照して説明する。
次に、本発明の第4の実施形態に係る基板洗浄装置について、図14を参照して説明する。
次に、本発明の第5の実施形態に係る基板洗浄装置について、図15を参照して説明する。
次に、本発明の第6の実施形態に係る基板洗浄装置について、図16を参照して説明する。
3 移動手段
4 超音波洗浄手段
5 拭取洗浄手段
6 プラズマ洗浄手段
16 イオン化した超音波エア
20 拭取洗浄部
21a、21b 押圧子
22 洗浄クロス
23a、23b 供給リール(洗浄クロス送給手段)
28 吐出口(オゾン水供給手段)
32 反応容器(誘導結合型プラズマ発生部)
35 第1の不活性ガス
36 一次プラズマ
37 混合ガス容器(プラズマ展開部)
38 混合ガス
40 混合ガス領域
41 二次プラズマ
Claims (3)
- 基板の被洗浄表面を洗浄する複数の洗浄手段が並列して配設されるとともに基板の被洗浄表面を複数の洗浄手段に対して相対移動させる移動手段を備え、
複数の洗浄手段は、イオン化された超音波エアを吹き出す吹き出し部と、この吹き出し部の両側に備えられて前記超音波エアの吹き付けによって被洗浄面から剥離したパーティクルを吸引する吸引部とから成る超音波洗浄手段と、この超音波洗浄手段よりも下流に備えられて大気圧プラズマを吹き出すプラズマ洗浄手段とを具備し、プラズマ洗浄手段は、第1の不活性ガスの誘導結合型プラズマからなる一次プラズマを吹き出す誘導結合型プラズマ発生部と、第2の不活性ガスと反応性ガスの混合ガス領域に一次プラズマを衝突させてプラズマ化した混合ガスから成る二次プラズマを発生するプラズマ展開部とを有することを特徴とする基板洗浄装置。 - 基板の被洗浄表面にイオン化された超音波エアを吹き出し部から吹き付けるとともにその両側の吸引部で吸引することにより、被洗浄表面に付着するパーティクルを吹き飛ばし、吸引する超音波洗浄工程と、洗浄液を含浸させたテープ状の洗浄クロスにて基板の被洗浄表面を拭き取って洗浄する拭取洗浄工程と、大気圧プラズマを基板の被洗浄表面に向けて吹き付けてプラズマ洗浄するプラズマ洗浄工程とを、基板の被洗浄表面を相対的に移動させつつその移動方向に間隔あけた位置で並行して行い、かつプラズマ洗浄は、第1の不活性ガスの誘導結合型プラズマからなる一次プラズマを発生させ、発生した一次プラズマを第2の不活性ガスと反応性ガスの混合ガスに衝突させてプラズマ化した混合ガスから成る二次プラズマを発生させ、発生した二次プラズマを基板の被洗浄表面に吹き付けて行うことを特徴とする基板洗浄方法。
- 基板の被洗浄表面にイオン化された超音波エアを吹き出し部から吹き付けるとともにその両側の吸引部で吸引することにより、被洗浄表面に付着するパーティクルを吹き飛ばし、吸引する超音波洗浄工程と、大気圧プラズマを基板の被洗浄表面に向けて吹き付けてプラズマ洗浄するプラズマ洗浄工程とを、基板の被洗浄表面を相対的に移動させつつ並行して行い、かつプラズマ洗浄は、第1の不活性ガスの誘導結合型プラズマからなる一次プラズマを発生させ、発生した一次プラズマを第2の不活性ガスと反応性ガスの混合ガスに衝突させてプラズマ化した混合ガスから成る二次プラズマを発生させ、発生した二次プラズマを基板の被洗浄表面に吹き付けて行うことを特徴とする基板洗浄方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007313751A JP4946837B2 (ja) | 2007-12-04 | 2007-12-04 | 基板洗浄装置及び洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007313751A JP4946837B2 (ja) | 2007-12-04 | 2007-12-04 | 基板洗浄装置及び洗浄方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009136728A JP2009136728A (ja) | 2009-06-25 |
JP4946837B2 true JP4946837B2 (ja) | 2012-06-06 |
Family
ID=40867947
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007313751A Expired - Fee Related JP4946837B2 (ja) | 2007-12-04 | 2007-12-04 | 基板洗浄装置及び洗浄方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4946837B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6060140B2 (ja) * | 2014-11-11 | 2017-01-11 | エムエーケー カンパニー リミテッドMAK Co.,Ltd. | 乾式指紋洗浄装置 |
CN105665376B (zh) * | 2014-11-17 | 2019-07-12 | Mak股份有限公司 | 干式指纹清洗装置 |
CN111618044A (zh) * | 2019-02-28 | 2020-09-04 | 潍坊华光光电子有限公司 | 一种激光器石墨托盘的清洗方法及清洗装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11319741A (ja) * | 1998-05-12 | 1999-11-24 | Huegle Electronics Kk | 除塵方法及び除塵装置 |
JP3503512B2 (ja) * | 1999-02-17 | 2004-03-08 | 松下電器産業株式会社 | ガラス基板のクリーニング装置およびクリーニング方法 |
JP4363756B2 (ja) * | 2000-07-31 | 2009-11-11 | 東レエンジニアリング株式会社 | チップ実装方法及びこれに用いられる基板洗浄装置 |
US7591957B2 (en) * | 2001-01-30 | 2009-09-22 | Rapt Industries, Inc. | Method for atmospheric pressure reactive atom plasma processing for surface modification |
JP4289102B2 (ja) * | 2003-09-26 | 2009-07-01 | パナソニック株式会社 | 組立装置および組立方法ならびに端子洗浄装置 |
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2007
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009136728A (ja) | 2009-06-25 |
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Date | Code | Title | Description |
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RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20090403 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20090416 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100302 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110803 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111019 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120207 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120220 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |