JP6274944B2 - 基板搬送装置 - Google Patents

Description

本発明は、基板搬送装置に関する。

半導体基板の一連の処理工程には、成膜工程等で付着した異物等の除去を行う洗浄工程が設けられており、例えば、ワイピング処理を行う洗浄装置では、洗浄液を含浸させたワイピングクロスをクリーニングヘッドにより基板に押圧してワイピング処理による基板の洗浄を行っている（例えば、特許文献１参照）。上記洗浄装置によるワイピング処理は、搬送された基板の上方に位置するクリーニングヘッドが降下し、ワイピングクロスを基板に押圧させて、基板の表面（上面）の清掃を行うものである。

ところで、半導体基板の成膜処理では、基板の一面を下方に向けた状態で成膜する場合があり、成膜後に上記洗浄装置により当該一面（下面）の洗浄を行うためには、下面を反転させて上面にする必要がある。

特開平９−２０５０７４号公報

しかしながら、基板を反転させるには、新たに基板を反転させる機構を設けることになり、半導体処理装置の構成が複雑になるばかりでなく、コストの増大にもつながるという問題が発生する。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、基板を反転させることなく、下方に向けた基板の下面をそのまま洗浄できる基板洗浄装置及び基板洗浄方法の提供を目的とする。

本発明に係る基板搬送装置は、
その上流側の搬送機構において搬送される矩形基板を受け取って搬送する搬送装置であって、
前記基板を間にして対向配置され、かつ、前記基板の搬送方向に沿って複数対設けられ、前記基板の搬送方向に略垂直な方向に伸長する一対の第１のシャフトと、
前記第１のシャフトの一端側にそれぞれ挿着され、前記基板の両端を挟持して搬送する一対のローラ部と、
前記第１のシャフトの他端側にそれぞれ挿着される第１の従動ギアと、
駆動源に接続され、駆動ギアを挿着した第２のシャフトと、を有し、
前記駆動ギアは、第２の従動ギアを挿着した共通シャフトの前記第２の従動ギアと噛合可能に設けられ、
前記第１の従動ギアは、前記第２の従動ギアにそれぞれ噛合可能に設けられ、
前記ローラ部は、円柱部と鍔状部とを有し、
前記一対のローラ部の前記円柱部は、その対向面間隔が前記基板における前記搬送方向に直交する幅寸法よりも小さくなるように設定され、前記上流側の搬送機構から受け取った前記基板によって前記一対のローラ部の間隔が広がることを特徴とする。

本発明によれば、下に向けた基板の一方の面である下面を、反転させることなくそのままの姿勢で洗浄することができ、基板の反転装置を設ける必要がない。

本発明の第１の実施形態に係る基板洗浄装置の概略図である。 本発明の第１の実施形態に係る基板洗浄装置に設けた洗浄後の基板を搬出する基板搬出装置である。 図２のＡ‐Ａ線断面図である。 図２のＢ−Ｂ線断面図である。 本発明の第１の実施形態に係る基板洗浄装置のブロック構成図である。 本発明の第１の実施形態に係る基板洗浄装置の動作を示すフローチャートである。 本発明の第１の実施形態に係る基板洗浄装置の第１の変形例の概略図である。 本発明の第１の実施形態に係る基板洗浄装置の第２の変形例の概略図である。 本発明の第１の実施形態に係る基板洗浄装置の第３の変形例の概略図である。

以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。

本発明の実施の形態に係る基板洗浄装置が、図１に示すように構成される。

図１において、基板洗浄装置１１は、基板搬送機構１２と、洗浄機構１３を有する。基板洗浄装置１１の前後には、基板洗浄装置１１に基板１５を搬入する基板搬入装置１６と、基板洗浄装置１１により洗浄された基板１５を搬出する基板搬出装置１７が設けられている。

基板搬入装置１６は、基板１５を搬入方向（矢印１４）に沿って基板洗浄装置１１に搬入する装置であり、基板１５の一方の面である下面の搬入方向に沿った両端をそれぞれ載置して基板１５を搬送する、一対の無端ベルトである搬送ベルト１８ａ（１８ｂ）と、搬送ベルト１８ａ（１８ｂ）を駆動する一対の駆動軸１９ａ、１９ｂを有する。一対の駆動軸１９ａ、１９ｂは、軸体の両端を円盤状部とする回転軸体であり、回転軸を基板１５の搬入方向（矢印１４）と直交する方向にして、搬入方向の前後に水平に配置されている。この一対の駆動軸１９ａ、１９ｂの両端の円盤状部に搬送ベルト１８ａ（１８ｂ）が装着されており、駆動軸１９ａ、１９ｂの回転により搬送ベルト１８ａ（１８ｂ）が駆動し、搬送方向の両端部をそれぞれ搬送ベルト１８ａ（１８ｂ）に載置された基板１５が基板洗浄装置１１に搬入される。

基板洗浄装置１１の基板搬送機構１２は、基板１５を吸着させて搬送する無端ベルトの搬送ベルト２１と、搬送ベルト２１を駆動させる駆動軸２３ａ、２３ｂ、それにテンション軸２３ｃを有する。

無端ベルトである搬送ベルト２１は、幅の長さが基板１５の幅（搬送方向と直交する方向の長さ）よりも大きく、しかも、搬送ベルトにおける駆動軸２３ａと２３ｂの間に位置する部分、つまり図１の水平部分（以下「搬送ベルトの水平部分」と称することもある。）には、基板１５の他方の面である上面を吸着させて搬送することができるように内部に公知の吸着機構（不図示）が備えられ、これによって吸着領域が設定されている。搬送ベルト２１は、上述の水平部分に発生する吸着力を基板１５の上面に作用させて吸着させ、基板１５を基板搬入装置１６から引き寄せる機構となっている。

駆動軸２３ａ、２３ｂは、軸体の両端を円盤状部とする回転軸体であり、回転軸を基板１５の搬入方向（矢印１４）と直交する方向にして配置されており、駆動軸２３ａは基板搬送方向の前部に、駆動軸２３ｂは同後部にそれぞれ水平に配置される。一方、テンション軸２３ｃは、駆動軸２３ａ及び駆動軸２３ｂの上方に配置されており、搬送ベルト２１に張力を付与する。なお、先に述べた搬送ベルトの水平部分において、基板搬入装置１６の後述の押し当てヘッド２８側の端部側から、基板搬出装置１７の押し当てヘッド２８側の端部側までの範囲（前述した吸着領域に相当する）に、吸着力が発生されるようになっていて、基板搬送機構１２は、基板１５の上面（他方の面）に吸着力を作用させて付着させることで、基板１５を引き寄せ搬送する。

基板１５が基板搬送装置１６の搬送ベルト１８ａ（１８ｂ）に下面（一方の面）の両端部が載置されて、搬送ベルト２１の基板搬入装置１６の押し当てヘッド２８側の端部側に搬送されてきたときに、搬送ベルト２１は、基板１５の姿勢を維持したまま上面（他方の面）を吸着させ、基板１５を引き寄せて搬送できる。また、基板１５の上面（他方の面）を吸着させて基板１５を基板搬出装置１７の押し当てヘッド２８側の端部側に対向する位置の上方まで搬送すると、搬送ベルトの水平部分から受ける吸着作用が低下し、基板１５の上面の吸着は解除され、基板１５はその姿勢（一方の面を下に向け、他方の面を上に向けた状態）を維持したまま基板搬出装置１７に降下して載置されるように、基板洗浄装置１１と基板搬出装置１７とが配置されている。

洗浄機構１３は、基板１５の洗浄に使用する洗浄クロスであるワイピングクロス２５、ワイピングクロス２５を送り出す送り出しローラ２６ａ、洗浄に使用したワイピングクロス２５を巻き取る巻き取りローラ（クロス巻取り手段）２６ｂ、補助ローラ２７（２７ａ〜２７ｆ）、基板搬送機構１２により上面である他方の面が吸着されて搬送される基板１５の下面である一方の面にワイピングクロス２５を押し当てる押し当てヘッド２８、吸着、搬送される基板１５が所定位置に達したときに基板１５を検出する基板検出センサ３０、ワイピングクロス２５に洗浄液を噴射等により供給する洗浄液供給部３１を有する。

ワイピングクロス２５は、例えば、合成繊維又はセルロース繊維等からなる不織布等から成り、送り出しローラ２６ａから未使用のワイピングクロス２５が基板１５の洗浄用に送り出される。送り出しローラ２６ａと押し当てヘッド２８との間には、ワイピングクロス２５が円滑に送り出されるように補助ローラ２７ａ、２７ｂ、２７ｃが設けられており、押し当てヘッド２８と巻き取りローラ２６ｂとの間には補助ローラ２７ｄ、２７ｅ、２７ｆが設けられている。

押し当てヘッド２８は、上部面が扁平な形状を有し、不図示の昇降装置によって上昇と下降の上下移動を行い、上昇によりワイピングクロス２５を基板１５の下面である一方の面に押し当てて、洗浄を行うものである。洗浄後に押し当てヘッド２８が下降すると、巻き取りローラ２６ｂが洗浄に使用したワイピングクロス２５を巻き取り、押し当てヘッド２８には未使用のワイピングクロス２５が送り出されてくる。図５に示すように、押し当てヘッド２８の上昇下降の上下移動、ワイピングクロス２５の巻き取り等は、図示しないコンピュータユニット（例えばＣＰＵ等）の制御装置３２により、制御される。制御装置３２は、押し当てヘッド駆動回路２８ａを介して押し当てヘッド２８の上昇と下降の上下移動を制御する。また、制御装置３２は、巻き取りローラ駆動回路２６ｃを介して巻き取りローラ２６ｂによるワイピングクロス２５の巻き取りを制御する。また、制御装置３２は、上述した基板搬送機構１２の搬送ベルト２１を駆動する駆動軸２３ａ、２３ｂの駆動について駆動軸駆動回路２３ｄを介して制御する。

図１に示すように、基板搬送機構１２の下で、基板搬入装置１６と押し当てヘッド２８との間には、基板搬送機構１２により上面（他方の面）が吸着されて搬送される基板１５を検出する基板検出センサ３０と、送り出しローラ２６ａから押し当てヘッド２８に送り出されるワイピングクロス２５に洗浄液を噴射等により供給する洗浄液供給部３１が設けられている。洗浄液としては、例えば純水、薬液等のワイピングによる洗浄に適した液体が使用される。

基板検出センサ３０は、例えば光ファイバセンサ等が使用され、基板搬送機構１２に上面（他方の面）が吸着されて搬送される基板１５が予め定めた所定位置に達したときに、検出できるように設定されている。基板検出センサ３０は、制御装置３２（図５）に接続されており、搬送されてきた基板１５が所定位置に達したときに検出信号を制御装置３２に送信する。なお、本実施形態における所定位置とは、基板１５の先頭（矢印１４方向の端部）が、押し当てヘッド２８と対向することとなる位置の手前位置に設定される。また、制御装置３２は、基板検出センサ３０による基板１５の検出信号に基づき、所定のタイミングで洗浄液供給部駆動回路３１ａを介して洗浄液供給部３１からワイピングクロス２５に洗浄液を噴射させ、巻き取りローラ駆動回路２６ｃを介してワイピングクロス２５における洗浄液が噴射された部分が押し当てヘッド２８の上面に位置するまでワイピングクロスを巻き取る。そして、ワイピングクロス２５における洗浄液が噴射された部分が押し当てヘッド２８の上面に位置すると、巻き取りローラ２６ｂの回転は停止し、次に押し当てヘッド駆動回路２８ａを介して押し当てヘッド２８を上昇させてワイピングクロス２５を基板１５の下面に押し当てる。なお、ワイピングクロス２５における洗浄液が噴射された部分を押し当てヘッド２８の上面に位置させるにあたっては、押し当てヘッド２８を上昇させながら、ワイピングクロス２５を巻き取るようにしても良い。押し当てヘッド２８を上昇させてワイピングクロス２５を基板１５の下面に押し当てている間も基板１５は搬送ベルト２１によって水平状態を保ちつつ連続搬送される。これにより、基板１５の下面は、ワイピングクロス２５によって洗浄させる。なお、基板洗浄時、基板１５の移動とともにワイピングクロス２５が送り出しローラ２６ａより繰り出されるのを防止するため、押し当てヘッド２８の上昇時は、送り出しローラ２６ａの回転が、不図示のロック装置で阻止されるようになっている。所定時間の洗浄を行った後に、制御装置３２は、押し当てヘッド駆動回路２８ａを介して押し当てヘッド２８を下降させ、さらに巻き取りローラ駆動回路２６ｃを介して巻き取りローラ２６ｂを駆動させてワイピングクロス２５を巻き取るように制御する。上記の手順は、プログラムとして記憶部３３に記憶されており、制御装置３２は上記プログラムに基づいて制御を行う。

次に、図１乃至図４を参照して、基板洗浄装置１１で洗浄された基板１５を搬出する基板搬出装置１７について説明する。基板搬出装置１７は、基板洗浄装置１１の基板搬送機構１２に含まれる搬送ベルト２１から吸着を解除されて降下する基板１５を受け取り、基板１５におけるその搬送方向（矢印１４）と直交する方向における両端部を挟持して搬送する第１の基板搬出装置１７ａと、第１の基板搬出装置１７ａから搬送される基板１５におけるその搬送方向（矢印１４）と直交する方向における両端部を挟持して搬送する第２の基板搬出装置１７ｂとを有する。なお、第１の基板搬出装置１７ａは、搬送する基板１５を間にして対向して配置される一対のローラ部４１ａ、４１ｂが、基板の搬送方向に沿って複数対（実施形態では４対）設けられ、各ローラ部４１ａ、４１ｂで基板１５におけるその搬送方向（矢印１４）と直交する方向における両端部を挟持しつつ搬送するもので、上記したように搬送ベルト２１から吸着を解除されて降下する基板を受け取る。これに対して、第２の基板搬出装置１７ｂは、第１の基板搬出装置１７ａに対して矢印１４方向の下流側に配置され、搬送する基板１５を間にして対向して配置される一対のローラ部５１ａ、５１ｂが、基板の搬送方向に沿って複数対（実施形態では５対）設けられ、各ローラ部５１ａ、５１ｂで基板１５におけるその搬送方向（矢印１４）と直交する方向における両端部を挟持して搬送する。なお、本実施形態では、図２に示すように、第１の基板搬出装置１７ａにおける隣接するローラ部４１ａの間隔ａ、第２の基板搬出装置１７ｂにおける隣接するローラ部５１ａの間隔ｂ、第１の基板搬出装置１７ａと第２の基板搬出装置１７ｂのそれぞれ対向端に位置するローラ部同士の間隔ｃは、何れも同じ寸法（同じピッチａ＝ｂ＝ｃ）に設定されている。

第１の基板搬出装置１７ａの概要を、図３に示す。第１の基板搬出装置１７ａは、基板１５の搬送方向（矢印１４）と直交する方向で、水平方向に伸長するシャフト４３と、シャフト４３の一端に接続され、シャフト４３を回転させる駆動モータ４５と、シャフト４３に挿着された一対の駆動ギア４６ａ、４６ｂとを有する。そして、ローラ部４１ａ、４１ｂごとに、ローラ部４１ａ、４１ｂに上部の一端が接続され、ローラ部４１ａ、４１ｂを回転させる、基板搬送方向に略垂直な方向に伸長するシャフト４２ａ、４２ｂと、シャフト４２ａ、４２ｂの下部の他端に挿着された従動ギア４７ａ、４７ｂと、共通シャフト５２ａ、５２ｂに挿着された従動ギア４８ａ、４８ｂを有する。従動ギア４８ａ、４８ｂは、各従動ギア４７ａ、４７ｂに対応するように、共通シャフト５２ａ、５２ｂの外周に先に述べたピッチａで複数個、それぞれ固定支持され、そのうちの１つの従動ギア４８ａ、４８ｂは、駆動ギア４６ａ、４６ｂと従動ギア４７ａ、４７ｂとの両方に噛合し得るように配置されている。これにより、シャフト４３の回転が、駆動ギア４６ａ、４６ｂから従動ギア４８ａ、４８ｂを介して共通シャフト５２ａ、５２ｂの回転として伝わり、共通シャフト５２ａ、５２ｂが回転すると、従動ギア４８ａ、４８ｂから従動ギア４７ａ、４７ｂを介してシャフト４２ａ、４２ｂが回転し、ローラ部４１ａ、４１ｂが回転する。なお、このローラ部４１ａ、シャフト４２ａ、軸受部４９ａ、軸体５０ａ、従動ギア４７ａで保持部材Ｌを構成し、ローラ部４１ｂ、シャフト４２ｂ、軸受部４９ｂ、軸体５０ｂ、従動ギア４７ｂによって保持部材Ｒを構成している。シャフト４３は、軸受部４４ａ、４４ｂにより、基板搬送ラインの下方にて回転自在に支持される。
また、各シャフト４２ａ、４２ｂは、それぞれ軸受部４９ａ、４９ｂに回転自在に保持され、各軸受部４９ａ、４９ｂは、基板搬送方向（矢印１４）に沿って延びる共通軸体５０ａ、５０ｂに回動自在に支持される。共通軸体５０ａ、５０ｂに対する各軸受部４９ａ、４９ｂの揺動方向を含む面は、基板搬送方向（矢印１４）とは直交し、各軸受部４９ａ、４９ｂの揺動により、対向するローラ部４１ａとローラ部４１ｂとは互いに接離動可能である。そして、自然状態において、シャフト４２ａ及びそれと一体のローラ部４１ａ、従動ギア４７ａなどの自重、あるいはシャフト４２ｂ及びそれと一体のローラ部４１ｂ、従動ギア４７ｂなどの自重により、ローラ部４１ａとローラ部４１ｂには、互いの接近方向に回転モーメントが生じるが、従動ギア４７ａと従動ギア４８ａ、従動ギア４７ｂと従動ギア４８ｂとのかみ合いにより、回転は制限される。

ローラ部４１ａ、４１ｂは、円形の上部面から径の大きい円形の下部面に向けて拡径する（テーパ形状）鍔状部４１ａ１、４１ｂ１と、鍔状部４１ａ１、４１ｂ１の円形の上部面の上に結合される上部面と同径の円柱部４１ａ２、４１ｂ２とで構成されている。第１の基板搬出装置１７ａは、洗浄後の基板１５が所定位置で吸着を解除されて搬送ベルト２１より降下したときに、対向するローラ部４１ａとローラ部４１ｂとによって保持することができるように、基板搬出装置１７ａが所定位置に設置される。なお、本実施の形態においては、自然状態のとき、円柱部４１ａ１と円柱部４１ｂ２との対向面間隔が、基板の幅寸法Ｗ（搬送方向（矢印１４）に直交する方向の寸法）よりもわずかに小さく（狭く）なるように設定される。従って、搬送ベルト２１より降下した基板１５は、その自重によってローラ部４１ａ、４１ｂ間の間隔を広げ、このとき、シャフト４２ａ、４２ｂ等の傾きによる力が円柱部４１ａ２と円柱部４１ｂ２から基板１５の左右の端部に作用するので、基板１５は左右の両端が挟持された状態で、回転するローラ部材４１ａ、４１ｂにより搬送されることになるが、そうなるためには、基板の自重を考慮して、自然状態のときの、円柱部４１ａ１と円柱部４１ｂ２との対向面間隔を決定しておく必要がある。また、円柱部４１ａ１と円柱部４１ｂ２の上面を切り欠いたり、円柱状ではなく、軸方向に沿った曲面状（例えば繭形）としておくことも有効である。なお、基板１５がローラ部４１ａ、４１ｂ間の間隔を押し広げたとしても、従動ギア４７ａ、４７ｂと従動ギア４８ａ、４８ｂとの噛合（ガタ）の範囲内とされ、従動ギア４７ａ、４７ｂと従動ギア４８ａ、４８ｂと噛合い状態は維持される。

次に、第２の基板搬出装置１７ｂについて説明する。第１の基板搬出装置１７ａと相違する点を中心に説明する。なお、第１の基板搬出装置１７ａと共通する構成部分については、同一名称、同一符号を付して説明する。

第２の基板搬出装置１７ｂの概要を、図４に示す。

第２の基板搬出装置１７ｂのローラ部５１ａ、５１ｂは、第１の基板搬出装置１７ａのローラ部４１ａ、４１ｂと形状が相違する。第１の基板搬出装置１７ａのローラ部４１ａ、４１ｂでは、搬送ベルト２１の吸着領域から外れることによって吸着が解除されて降下する基板１５を挟持して搬送するのに対し、第２の基板搬出装置１７ｂでは、第１の基板搬出装置１７ａから搬送されてきた基板１５をローラ部５１ａ、５１ｂで挟持してさらに下流方向に搬送するものである。具体的には、ローラ部５１ａ、５１ｂは、円形の上部面から径の大きい円形の下部面に向けて拡径する（テーパ形状）第１の鍔状部５１ａ１と、５１ｂ１と、第１の鍔状部５１ａ１、５１ｂ１と同形状で、径の大きい方の円形を上部面として下部面から上部面に向けて拡径する第２の鍔状部５１ａ２、５１ｂ２と、第１の鍔状部５１ａ１、５１ｂ１の上部面と第２の鍔状部５１ａ２、５１ｂ２の下部面との間に結合される円柱部５１ａ３、５１ｂ３とで構成される。この円柱部５１ａ３、５１ｂ３は、第１の基板搬出装置１７ａにおける円柱部４１ａ２、４１ｂ２に相当する。また円柱部５１ａ３、５１ｂ３は、第１の鍔状部５１ａ１、５１ｂ１の上部面及び第２の鍔状部５１ａ２、５２ｂ２の下部面と同径である。

なお、第２の基板搬出装置１７ｂ専用のシャフト４３やモータ４５を設ける代わりに、第１の基板搬出装置１７ａで説明した共通シャフト５２ａ、５２ｂを第２の基板搬出装置１７ｂまで延ばし、その延長部に、第２の基板搬出装置１７ｂが有するローラ部５１ａ、５１ｂにそれぞれ対応する従動ギア４８ａ、４８ｂを挿着し、それに対応する従動ギア４７ａ、４７ｂを噛合させるようにしても良い。

第２の基板搬出装置１７ｂが基板１５を搬送するときは、搬送される基板１５の基板搬送方向に直交する方向における両端部が円柱部５１ａ３と円柱部５１ｂ３との間を押し開くように進入するようになる。そのため、シャフト４２ａ、４２ｂ等の傾きによる力が円柱部５１ａ３と円柱部５１ｂ３から基板１５の左右の端部に作用するので、基板１５は左右の両端が挟持された状態で、回転するローラ部材５１ａ、５１ｂにより搬送されることになる。

次に、本実施形態に係る基板洗浄装置による基板の洗浄動作について、図６のフローチャートを参照して説明する。

図１に示すように、一方の面である下面に成膜等の基板処理がされた基板１５が、基板搬入装置１６の一対の搬送ベルト１８ａ（１８ｂ）に下面の左右両端を載置され、基板洗浄装置１１に搬送される（矢印１４参照）。一対の搬送ベルト１８ａ（１８ｂ）に搬送される基板１５は、基板洗浄装置１１の所定位置に至ると、搬送ベルト２１による吸着力の作用を受ける。基板１５はその姿勢を保持した状態で、他方の面である上面が搬送ベルト２１に吸着されて引き寄せられる。これにより、基板１５は上面を搬送ベルト２１に吸着された状態で、基板洗浄装置１１内を搬送する。なお、制御装置３２は、駆動軸駆動回路２３ｄを介して駆動軸２３（２３ａ〜２３ｂ）を駆動させ、搬送ベルト２１を作動させるが、搬送ベルト２１は、複数個の基板１５の洗浄処理を行っている間は、常時稼働される。

上面が搬送ベルト２１に吸着されて搬送される基板１５が予め設定した所定位置に達すると、基板検出センサ３０が基板１５を検出し、制御装置３２に送信する（Ｓ１１）。制御装置３２は、基板検出センサ３０により基板１５が検出されると、洗浄液供給部駆動回路３１ａを介して洗浄液供給部３１より洗浄液をワイピングクロス２５に噴射等により塗布する（Ｓ１２）。

制御装置３２は、基板１５の検出位置、搬送速度等から予め定めた所定時間の経過後（基板１５が押し当てヘッド２８の上に来るタイミング）、押し当てヘッド駆動回路２８ａを介して押し当てヘッド２８を上昇させ、洗浄液が塗布されたワイピングクロス２５を基板１５の下面に押し当ててワイピングによる洗浄を行う（Ｓ１３）。搬送される基板１５の下面のワイピングによる洗浄が終了すると（基板１５が押し当てヘッド２８による押し当て範囲を外れるタイミング）、制御装置３２は、押し当てヘッド駆動回路２８ａを介して押し当てヘッド２８を下降させる（Ｓ１４）。

下面の洗浄が終了した基板１５が、搬送ベルト２１にて上面を吸着力により吸着されて所定位置に搬送されると、それ以降は、搬送ベルト２１による吸着力の作用が及ぶ範囲から外れ、基板１５は上面の吸着が解除されて、第１の基板搬出装置１７ａに降下する（Ｓ１５）。第１、第２の基板搬出装置１７ａ、１７ｂによる搬送については後述する。

制御装置３２は、基板１５の洗浄が終了すると、次の洗浄対象となる基板１５に使用する新規のワイピングクロス２５に取り換えるべく、基板１５の洗浄に使用した部分のワイピングクロス２５を、巻き取りローラ駆動回路２６ｃを介して巻き取りローラ２６ｂにより巻き取らせる（Ｓ１６）。

基板１５のワイピングによる洗浄処理が完了すると、次に基板搬入装置１６により搬入される基板１５について上記の手順で洗浄が繰り返し行われ（Ｓ１７のＹＥＳ）、洗浄対象となるすべての基板１５の洗浄が完了するとワイピングによる洗浄処理は終了する（Ｓ１７のＮＯ）。

このように、上記の基板洗浄装置１１によれば、成膜等の基板処理が施された基板の下面について洗浄を行う際に、上面を吸着させて引き寄せるので、成膜処理された基板１５の下面を上に向ける等の反転を行うことなく、洗浄対象である下面をそのままの姿勢を維持させて洗浄することができる。これにより、基板反転機構等の設置することなく基板１５の下面をそのまま洗浄することができる。

次に、図１乃至図４を参照して、基板洗浄装置１１により下面が洗浄された基板１５を搬出する基板搬出装置１７について説明する。

下面が洗浄処理された基板１５が基板搬送機構１２の搬送ベルト２１により上面を吸着、搬送されて所定位置に至ると、それ以降は、搬送ベルト２１による吸着力の作用が及ぶ範囲を外れ、基板１５は搬送ベルト２１による吸着が解除されて降下する。基板１５は洗浄された下面をそのまま下に向けた姿勢を保持した状態で、第１の基板搬出装置１７ａに載置される。第１の基板搬出装置１７ａは、基板１５をローラ部４１ａ、４１ｂに載置できるように適切な位置に配置されている。

図１、図２に示すように、基板洗浄装置１１に対して所定の位置に置かれた第１の基板搬出装置１７ａは、基板１５におけるその搬送方向（矢印１４）と直交する方向における両端部を、対向するローラ部４１ａ、４１ｂを構成する、円柱部４１ａ２と円柱部４１ｂ２との間で挟持して搬送する。

上述したように、円柱部４１ａ２と円柱部４１ｂ２との間の距離は、自然状態のとき、基板１５の幅寸法Ｗよりもわずかに小さい状態となっている。そのため、搬送ベルト２１より降下した基板１５は、その自重により、基板１５の左右の端部がローラ部４１ａ、４１ｂ間の間隔を広げるようした状態で受け止められる。このとき、ローラ部４１ａ、４１ｂの円柱部４１ａ２、４１ｂ２が基板１５の左右の端部をそれぞれ押圧した状態で回転するので、基板１５は左右の端部を挟持されて搬送されることになる。

また、第１の基板搬出装置１７ａのローラ部４１ａ、４１ｂは、第２の基板搬出装置１７ｂと異なり、円柱部４１ａ２、４１ｂ２の上に鍔状部を設けていないので、搬送ベルト２１から降下する基板は、ローラ部４１ａ、４１ｂによって確実に受けとられ、そして円柱部４１ａ２、４１ｂ２によって挟持された状態で下流側へ搬送される。

第１の基板搬出装置１７ａによって搬送される基板１５は、第２の基板搬出装置１７ｂに送られる。第２の基板搬出装置１７ｂは、対向するローラ部５１ａ、５１ｂを構成する、円柱部５１ａ３と円柱部５１ｂ３との間で基板を挟持して搬送するものであるが、上述したように、円柱部５１ａ３と円柱部５１ｂ３との間の距離は、基板１５を搬出しないときは、基板１５の幅寸法Ｗよりもわずかに小さい状態となっている。そのため、基板１５が第２の基板搬出装置１７ｂに送られてくると、第１の基板搬出装置１７ａによって搬送力が与えられている基板１５は、その左右の端部により、ローラ部５１ａとローラ部５１ｂとの間を押し広げるように進行する。このとき、ローラ部５１ａ、５１ｂの円柱部５１ａ３、５１ｂ３が基板１５の左右の端部をそれぞれ押圧した状態で回転するので、基板１５は左右の端部を挟持されて搬送されることになる。

このように、第１、２の基板搬出装置１７ａ、１７ｂでは、基板１５の左右の端部をローラ部５１ａ、５１ｂにより挟持した状態で、搬出するので、基板洗浄装置１１で洗浄された下面に触れることなく、かつ位置決めを確保した搬送が可能となる。

以上述べた実施態様によれば、基板１５における上に向いた他方の面を搬送ベルト２１による吸着により引き寄せ、搬送される基板１５の一方の面である下面を、基板１５の反転を行うことなく、そのまま洗浄することができるので、新たに基板の反転機構を設ける必要がない。

また、上昇と下降の上下移動が可能な押し当てヘッド２８を有し、基板搬送機構１２により搬送される基板１５の一方の面に、押し当てヘッド２８の上昇によりワイピングクロス２５を押し当てて洗浄する構成とした。このため、基板１５の下面である一方の面に、押し当てヘッド２８の上昇によりワイピングクロス２５を押し当てて洗浄することができる。

また、ワイピングクロス２５に洗浄液を供給する洗浄液供給部３１を設けた。このため、ワイピングクロス２５に洗浄液が供給されるので、基板１５の下面である一方の面の洗浄をより効果的に行うことができる。

また、搬送される基板１５が所定位置に達したことを検出する基板検出センサ３０を有し、基板検出センサ３０による基板１５の検出により、洗浄液供給部３１によるワイピングクロス２５への洗浄液の供給と、押し当てヘッド２８の上昇と、を行う構成とした。このため、搬送により所定位置に達した基板１５の検出により、ワイピングクロス２５への洗浄液の供給と、押し当てヘッド２８の上昇により、洗浄液が供給されたワイピングクロス２５を基板１５の下面である一方の面に押し当てて洗浄することができる。

また、ワイピングクロス２５を巻き取る巻き取りローラ２６ｂを有し、基板１５の洗浄後に押し当てヘッド２８を下降させて、巻き取りローラ２６ｂによりワイピングクロス２５を巻き取る構成とした。これにより、基板１５の洗浄後にワイピングクロスを巻き取るので、新たなワイピングクロスで基板１５を洗浄することができる。

次に、上述した本実施形態の第１の変形例について、図７を参照して説明する。なお、本実施形態との相違点を中心に説明し、本実施形態と同一の構成要素については同一名称、同一符号を使用する。

第１の変形例は、基板洗浄装置１１により洗浄された基板１５を搬出する装置について、第１の基板搬出装置１７ａ及び第２の基板搬出装置１７ｂに代えて、基板搬入装置１６と同様の構造の基板搬出装置６０を設けたもので、基板搬出装置６０の搬送ベルト６１（６１ａ、６１ｂ）をエアブロー装置６２による清掃を行う点と、さらにワイピングクロス２５によるワイピング処理を行う点を特徴とする。

基板搬出装置６０は、基板洗浄装置１１で洗浄された基板１５の一方の面である下面の搬入方向に沿った両端をそれぞれ載置して、搬送する一対の無端ベルトである搬送ベルト６１ａ（６１ｂ）と、搬送ベルト６１ａ（６１ｂ）を駆動する一対の駆動軸６３ａ、６３ｂを有する。一対の駆動軸６３ａ、６３ｂは、軸体の両端を円盤状部とする回転軸体であり、回転軸を基板１５の搬入方向（矢印１４）と直交する方向にして、搬入方向の前後に水平に配置されている。この一対の駆動軸６３ａ、６３ｂの両端の円盤状部に搬送ベルト６１ａ（６１ｂ）が装着されており、駆動軸６３ａ、６３ｂの回転により搬送ベルト６１ａ（６１ｂ）が駆動し、それぞれ搬送ベルト６１ａ（６１ｂ）に搬送方向の両端部を載置された基板１５が搬送される。

エアブロー装置６２は、洗浄された基板１５を搬送する搬送ベルト６１ａ（６１ｂ）を空気流により清掃する装置で、空気イオンを利用して静電気を中和する除電機能をも有しており、搬送ベルト６１ａ（６１ｂ）の清掃の程度に応じて複数台設置されることが好ましい。

さらに、第１の変形例では、基板洗浄装置１１の洗浄機構１３で使用したワイピングクロス２５を基板搬出装置６０の搬送ベルト６１ａ（６２ｂ）のワイピングに利用すべく、ワイピングクロス２５の巻き取りルートを基板搬出装置６０側に向けて延長させる構成となる。具体的には、補助ローラ２７ｇ、２７ｈ、２７ｉを基板搬出装置６０側に追加設置して、ワイピングクロス２５を洗浄機構の補助ローラ２７ｆから、追加した補助ローラ２７ｇ、２７ｈ、２７ｉを介して巻き取りローラ２６ｂで巻き取るようにしたもので、補助ローラ２７ｇと補助ローラ２７ｈとの間にワイピングクロス２５を搬送ベルト６１ａ（６２ｂ）に押し当てる押し当てヘッド６５を設けた構成である。押し当てヘッド６５は、基板洗浄装置１１の洗浄機構１３で使用する押し当てヘッド２８と同様、上部面が扁平な形状を有し、上昇と下降の上下移動を行い、上昇によりワイピングクロス２５を搬送ベルト６１ａ（６１ｂ）に押し当てて、洗浄を行うものである。また、洗浄機構１３と同様に、ワイピングクロス２５に洗浄液を噴射等により供給する洗浄液供給部６７が設けられている。

搬送ベルト６１ａ（６１ｂ）の洗浄は、上述した洗浄機構１３と同様、制御装置３２により制御される。制御装置３２は、エアブロー装置６２の作動の制御、洗浄液供給部６７による洗浄液の噴射タイミング、押し当てヘッド６５の上昇と下降との上下移動のタイミング等を制御して、搬送ベルト６１ａ（６１ｂ）の清掃、洗浄を行う。

上記したように、本変形例では、基板洗浄装置１１で洗浄された基板１５を搬出する基板搬出装置６０について、洗浄前の基板搬入装置１６と同様の装置構成のものを使用しているが、基板搬出装置６０の搬送ベルト６１ａ（６１ｂ）を、上記したようにエアブロー装置６２により清掃、除電を行い、さらに基板洗浄装置１１の洗浄機構１３で使用したワイピングクロス２５を延長させて洗浄に使用するので、洗浄後の基板１５の下面の汚染等を抑えることができる。また、基板搬出装置６０は、複雑な機構の基板搬出装置とせずに、基板搬入装置１６と同様の機構に、清掃、洗浄機能を付加した構成であることから、コストの抑制につながるものである。

次に、上述した本実施形態の第２の変形例について、図８を参照して説明する。なお、本実施形態との相違点を中心に説明し、本実施形態と同一の構成要素については同一名称、同一符号を使用する。

第２の変形例は、上述した第１の変形例と同様の基板搬出装置６０を適用するものであるが、第１の変形例と異なるのは、押し当てヘッド６５によるワイピング処理を行わず、エアブロー装置６８ａによる搬送ベルト６１ａ（６１ｂ）の清掃、除電を行う点である。さらに、基板搬出装置６０の他に、基板洗浄装置１１の基板搬送機構１２、基板搬入装置１６にもエアブロー装置６８ｂ、６８ｃがそれぞれ設けられており、搬送ベルト２１、搬送ベルト１８ａ（１８ｂ）の清掃、除電が行われる。エアブロー装置６８ａ、６８ｂ、６８ｃは、清掃、除電の効果を高めるために、吹き出し口が搬送ベルトの搬送方向と対向する向きに配置される。

このように、第２の変形例では、エアブロー装置６８を基板搬出装置６０、基板搬送機構１２及び基板搬入装置１６にそれぞれ設けるという簡便な装置構成により、基板１５の下面の洗浄の前中後の各段階における搬送ベルトによる基板の汚染等をさらに抑制することができる。

次に、本実施形態の第３の変形例について、図９を参照して説明する。なお、本実施形態との相違点を中心に説明し、本実施形態と同一の構成要素については同一名称、同一符号を使用する。

第３の変形例は、上述した第２の変形例と同様の基板搬出装置６０を適用するものであるが、第２の変形例と異なるのは、清掃用ブラシを備えた清掃部６９ａ、６９ｂ、６９ｃを基板搬出装置６０、基板搬送機構１２及び基板搬入装置１６にそれぞれ追加して設けた点である。清掃用ブラシを用いることで、搬送ベルト６１、２１、１８に付着したパーティクルを取り除くことができ、さらにエアブロー装置６８ａ、６８ｂ、６８ｃによる除去と、除電によりパーティクルの再付着を防止することができるので、エアブロー装置を単独で設けるよりも、清掃用ブラシを備えた清掃部６９ａ、６９ｂ、６９ｃを併せて設置することで、搬送ベルト６１、２１、１８のより効果的な清掃、洗浄等を行うことができる。

なお、上記実施の形態においては、エアブロー装置やワイピングクロス、清掃部をそれぞれ有する第１から第３の変形例を説明したが、これに限らず、これらの構成をすべて備えていても良い。

なお、上記実施の形態においては、ローラ部は、テーパ形状を有する鍔状部を例に挙げて説明したが、これに限らず、鍔状部が平坦な面を有する「コの字」型のローラ部であっても良い。さらには、円柱部を有さない「くの字」型のローラ部であっても良い。

また、上記実施の形態においては、基板を間にして対向する一対のローラ部の間隔は、基板の自重によって、あるいは基板の搬送力によって押し開かれる例を挙げて説明したが、これに限らず、固定であっても良く、この場合、自然状態における対向するローラ部の基板支持部分（たとえば対向する円柱部）の間隔を、予め基板の幅寸法と同等もしくは、大きく設定しておくと良い。

１１ 基板洗浄装置
１２ 基板搬送機構
１３ 洗浄機構
１５ 基板
１６ 基板搬入装置
１７ 基板搬出装置
１７ａ 第１の基板搬出装置
１７ｂ 第２の基板搬出装置
１８ 搬送ベルト
２１ 搬送ベルト
２５ ワイピングクロス
２６ａ 送り出しローラ
２６ｂ 巻き取りローラ
２８ 押し当てヘッド
３０ 基板検出センサ
３１ 洗浄液供給部
４１ａ ローラ部
４１ａ１ 鍔状部
４１ａ２ 円柱部
４１ｂ ローラ部
４１ｂ１ 鍔状部
４１ｂ２ 円柱部
４２ａ シャフト
４２ｂ シャフト
４３ シャフト
４５ 駆動モータ
４６ａ 駆動ギア
４６ｂ 駆動ギア
４７ａ 従動ギア
４７ｂ 従動ギア
４８ａ 従動ギア
４８ｂ 従動ギア
４９ａ 軸受部
４９ｂ 軸受部
５０ａ 共通軸体
５０ｂ 共通軸体
５１ａ ローラ部
５１ａ１ 鍔状部
５１ａ２ 鍔状部
５１ａ３ 円柱部
５１ｂ ローラ部
５１ｂ１ 鍔状部
５１ｂ２ 鍔状部
５１ｂ３ 円柱部
５２ａ 共通シャフト
５２ｂ 共通シャフト

Claims (5)

1. その上流側の搬送機構において搬送される矩形基板を受け取って搬送する搬送装置であって、
   前記基板を間にして対向配置され、かつ、前記基板の搬送方向に沿って複数対設けられ、前記基板の搬送方向に略垂直な方向に伸長する一対の第１のシャフトと、
   前記第１のシャフトの一端側にそれぞれ挿着され、前記基板の両端を挟持して搬送する一対のローラ部と、
   前記第１のシャフトの他端側にそれぞれ挿着される第１の従動ギアと、
   駆動源に接続され、駆動ギアを挿着した第２のシャフトと、を有し、
   前記駆動ギアは、第２の従動ギアを挿着した共通シャフトの前記第２の従動ギアと噛合可能に設けられ、
   前記第１の従動ギアは、前記第２の従動ギアにそれぞれ噛合可能に設けられ、
   前記ローラ部は、円柱部と鍔状部とを有し、
   前記一対のローラ部の前記円柱部は、その対向面間隔が前記基板における前記搬送方向と直交する方向の長さである幅寸法よりも小さくなるように設定され、前記上流側の搬送機構から受け取った前記基板によって前記一対のローラ部の間隔が広がることを特徴とする基板搬送装置。
2. 前記基板の搬送方向に沿って複数対設けられる前記第１のシャフトは、それぞれ軸受部によって保持され、
   前記軸受部は、前記基板の搬送方向と平行方向に設けられる共通軸体によって一体保持されることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
3. 前記軸受部は、前記共通軸体に回動自在に支持されることを特徴とする請求項２に記載の基板搬送装置。
4. 前記一対のローラ部には、自然状態において、前記第１のシャフトと前記ローラ部と前記第１の従動ギアの自重により、互いに接近方向に回転モーメントが付与されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の基板搬送装置。
5. 前記鍔状部が傾斜面を有していることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の基板搬送装置。

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