JP2018006616A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】基板の裏面が薬液により処理されるのを抑制することが可能な基板処理装置を提供する。【解決手段】この基板処理装置１００は、基板２００を搬送する搬送部１０と、搬送部１０の上方に配置され、搬送部１０によって搬送される基板２００の表面２００ａに薬液を吐出するスリットノズル２０と、搬送部１０によって搬送される基板２００の裏面２００ｂよりも下方に配置され、薬液が吐出されている状態の基板２００の裏面２００ｂに基板２００の裏面２００ｂを洗浄するための洗浄液を吐出するフラットノズル３０とを備える。【選択図】図２

Description

この発明は、基板処理装置に関する。

従来、基板処理装置が知られている（たとえば、特許文献１参照）。上記特許文献１には、基板を移動する基板移動手段と、基板移動手段により移動される基板へ薬液を吐出する薬液ノズルとを備える基板処理装置が開示されている。この基板処理装置では、基板は、基板移動手段によって、水平方向に沿って移動される。また、薬液ノズルは、基板の上方に配置されている。そして、薬液が、薬液ノズルから下方の基板に向かって吐出される。

特開２０１２−２４５５０３号公報

ここで、上記特許文献１に記載のような従来の基板処理装置では、基板の表面上に薬液が吐出されるため、基板の表面上に吐出された薬液が、基板の裏面に回り込む場合があるという不都合がある。また、薬液ノズルから吐出された薬液や、基板の裏面に回り込んだ薬液が、基板移動手段に付着する場合がある。このため、裏面に回り込んだ薬液や基板移動手段に付着した薬液によって、基板の裏面が処理されてしまう場合があるという問題点がある。

この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の１つの目的は、基板の裏面が薬液により処理されるのを抑制することが可能な基板処理装置を提供することである。

上記目的を達成するために、この発明の一の局面による基板処理装置は、基板を搬送する搬送部と、搬送部の上方に配置され、搬送部によって搬送される基板の表面に薬液を吐出する第１吐出部と、搬送部によって搬送される基板の裏面よりも下方に配置され、薬液が吐出されている状態の基板の裏面に基板の裏面を洗浄するための洗浄液を吐出する第２吐出部とを備える。

この発明の一の局面による基板処理装置では、上記のように、搬送部によって搬送される基板の裏面よりも下方に配置され、薬液が吐出されている状態の基板の裏面に基板の裏面を洗浄するための洗浄液を吐出する第２吐出部を備える。これにより、基板の裏面に洗浄液が吐出されているので、基板の表面から裏面に薬液が回り込むのを、基板の裏面に吐出されている洗浄液により抑制することができる。また、基板を搬送する搬送部に薬液が付着している場合でも、第２吐出部から吐出される洗浄液により、搬送部に付着した薬液、および、搬送部から薬液が付着した基板の裏面を洗浄することができる。その結果、基板の裏面が薬液により処理されるのを抑制することができる。

たとえば、薬液による処理がエッチングであり、かつ、エッチングレートが比較的高い場合、薬液が吐出されている状態において、基板の裏面に回り込んだ薬液によって基板の裏面がエッチングされてしまう。そこで、上記一の局面のように、薬液が吐出されている状態の基板の裏面を洗浄するための洗浄液を吐出することは、基板に対する様々な処理のうちの比較的早い段階で基板の裏面を洗浄し、基板の裏面のエッチングを抑制することができる点において、特に有効である。

上記一の局面による基板処理装置において、好ましくは、搬送部は、複数のローラ部を含み、第２吐出部は、隣接するローラ部の間の隙間から、洗浄液を基板の裏面に吐出するように構成されている。このように構成すれば、洗浄液の吐出が、ローラ部に遮られるのを、容易に抑制することができる。

この場合、好ましくは、第２吐出部は、隣接するローラ部の間の隙間から、斜め上方でかつ基板の搬送方向の前方に向かって洗浄液を吐出するように構成されている。このように構成すれば、基板の裏面に対して垂直に洗浄液が吐出される場合と比べて、第２吐出部から基板の裏面の洗浄液が吐出される部分までの間の距離が長くなる。これにより、第２吐出部から基板の裏面に向かって広がるように洗浄液を吐出した場合には、洗浄液が吐出される基板の裏面の部分の領域が大きくなる。すなわち、洗浄液を広範囲に吐出することができる。

上記隣接するローラ部の間の隙間から洗浄液を吐出する基板処理装置において、好ましくは、第２吐出部は、隣接するローラ部の間の隙間から吐出される洗浄液の吐出方向の延長線上を基板の先端が通過後、洗浄液の吐出を開始するように構成されている。このように構成すれば、洗浄液が基板の裏面に確実に吐出されるので、洗浄液が搬送部よりも上方に吐出されるのを容易に抑制することができる。

上記一の局面による基板処理装置において、好ましくは、第２吐出部は、基板の表面への薬液の吐出が終了し、基板の搬送が停止された際、洗浄液の吐出を停止するように構成されている。このように構成すれば、第２吐出部からの洗浄液の吐出が継続される場合と異なり、洗浄液の使用量を低減することができる。

上記一の局面による基板処理装置において、好ましくは、第１吐出部は、鉛直下方に向かって薬液を吐出するように構成されており、第２吐出部は、基板の後端が、第１吐出部の直下を通過した後、洗浄液の吐出を停止するように構成されている。このように構成すれば、基板への薬液の吐出が終了した時点で、確実に、第２吐出部からの洗浄液の吐出を停止することができる。

上記一の局面による基板処理装置において、好ましくは、第１吐出部は、スリットノズルを含み、スリットノズルの基板が搬送される搬送方向に直交する方向の幅は、基板の搬送方向に直交する方向の幅以上である。このように構成すれば、基板の搬送方向に直交する方向の一方端から他方端に渡って、薬液を吐出することができる。これにより、基板の表面上に吐出される薬液の吐出量を略均一にすることができる。その結果、薬液による基板の処理を略均一にすることができる。また、スリットノズルは、シャワーノズルなどのように大量に薬液を吐出する他のノズルと比べて比較的吐出量の制御が行いやすい。これにより、基板の表面上に吐出される薬液の吐出量を略均一にすることができるので、薬液による基板の処理をより略均一にすることができる。

たとえば、薬液による処理がエッチングであり、かつ、エッチングレートが比較的高い場合、基板に対するエッチングの均一性が要求される。そこで、上記一の局面のように、第１吐出部がスリットノズルを含むことは、エッチングレートが比較的高い場合において、薬液の吐出量を略均一にし、基板の全体におけるエッチングの均一性を確保できる点において、特に有効である。

上記一の局面による基板処理装置において、好ましくは、第２吐出部は、洗浄液を扇状に吐出する複数のフラットノズルを含み、複数のフラットノズルの各々から吐出される扇状の洗浄液の基板が搬送される搬送方向に直交する方向の合計の幅は、基板の搬送方向に直交する方向の幅以上である。このように構成すれば、基板の搬送方向に直交する方向の一方端から他方端に渡って、容易に、洗浄液を吐出することができる。その結果、基板の表面からの薬液の回り込み、および、搬送部に付着した薬液が基板の裏面に付着することを効果的に抑制することができる。

上記一の局面による基板処理装置において、好ましくは、第２吐出部よりも基板の搬送方向の下流側でかつ、搬送部によって搬送される基板の裏面よりも下方に配置され、基板の表面への薬液の吐出が終了した後の基板の裏面に洗浄液を吐出する第３吐出部をさらに備える。このように構成すれば、基板の表面への薬液の吐出が終了した後の薬液による基板の表面の処理の間に、薬液が基板の表面から裏面に回り込むのを、第３吐出部から吐出される洗浄液により抑制することができる。

この場合、好ましくは、搬送部は、複数のローラ部を含み、第３吐出部は、基板の搬送方向に沿って、複数設けられ、複数の第３吐出部は、それぞれ、隣接するローラ部の間の隙間から、基板の裏面に洗浄液を吐出するように構成されている。このように構成すれば、洗浄液の吐出が、ローラ部に遮られるのを、容易に抑制することができる。また、第３吐出部が複数設けられていることにより、基板の搬送が停止された状態であっても、基板の裏面の比較的広範囲の洗浄を行うことができる。

上記第３吐出部を備える基板処理装置において、好ましくは、第３吐出部は、第３吐出部の上方に基板が搬送された後、洗浄液の吐出を開始するように構成されている。このように構成すれば、第３吐出部の上方に基板が搬送されているので、洗浄液が搬送部よりも上方に吐出されるのを容易に抑制することができる。

上記第３吐出部を備える基板処理装置において、好ましくは、第３吐出部は、基板の裏面の周縁部近傍に洗浄液を吐出する周縁部用シャワーノズルと、基板の裏面の中央部側に洗浄液を吐出する中央部用シャワーノズルとを含み、周縁部用シャワーノズルから吐出される洗浄液の吐出量は、中央部用シャワーノズルから吐出される洗浄液の吐出量よりも小さい。ここで、周縁部用シャワーノズルを配置せずに中央部用シャワーノズルのみを配置した場合、基板の裏面の周縁部に対する洗浄液の吐出量が不足する場合がある。そこで、周縁部用シャワーノズルを設けることにより、基板の裏面の周縁部に対する洗浄液の吐出量が不足するのを抑制することができる。また、基板の裏面の周縁部に吐出される洗浄液は、基板の表面に回り込みやすい。そこで、周縁部用シャワーノズルから吐出される洗浄液の吐出量を、中央部用シャワーノズルから吐出される洗浄液の吐出量よりも小さくすることによって、基板の表面に洗浄液が回り込むのを抑制することができる。

上記第３吐出部を備える基板処理装置において、好ましくは、第３吐出部の下方に設けられ、基板の裏面から滴下する洗浄液を回収する洗浄液回収部をさらに備える。このように構成すれば、基板の裏面から滴下した洗浄液を再利用することができるので、洗浄液の使用量を低減することができる。

上記一の局面による基板処理装置において、好ましくは、搬送部は、複数のローラ部を含み、第１吐出部は、隣接するローラ部の間において、鉛直下方に向かって薬液を吐出するように構成されており、鉛直下方に向かって薬液を吐出する第１吐出部に対向するように配置され、第１吐出部から吐出される薬液を回収する薬液回収部をさらに備え、第２吐出部は、薬液回収部よりも基板の搬送方向の下流側に配置されている。このように構成すれば、薬液回収部により回収された薬液を再利用することができるので、薬液の使用量を低減することができる。なお、第１吐出部と薬液回収部との間に基板が存在しない状態では、第１吐出部から吐出された薬液が基板に接触せず直接薬液回収部により回収されるので、この基板に接触していない未使用の薬液を再利用することができる。また、第１吐出部と薬液回収部との間に基板が侵入した直後において基板に接触した薬液や、薬液回収部の上方を通過する基板の表面から滴下する薬液などの処理廃液が薬液回収部により回収される場合がある。すなわち、未使用の薬液に処理廃液が混入する場合がある。一方、この混入する処理廃液は比較的少ないので、薬液の再利用に対する影響は小さい。

また、第２吐出部が、第１吐出部の鉛直下方に対向するように配置されている薬液回収部よりも基板の搬送方向の下流側に配置されているので、第２吐出部は、第１吐出部よりも下流側に配置されていることになる。これにより、薬液が吐出された基板の表面の部分に対応する裏面の部分に、確実に、洗浄液を吐出することができる。

上記一の局面による基板処理装置において、好ましくは、基板処理装置は、基板に薬液が吐出される薬液槽、基板の洗浄が行われる洗浄槽、および、基板の乾燥が行われる乾燥槽を含み、第１吐出部および第２吐出部は、薬液槽に配置されている。このように構成すれば、薬液槽において薬液による処理が行われている基板において、基板の裏面に薬液が回り込むのを抑制することができる。

本発明によれば、上記のように、基板の裏面が薬液により処理されるのを抑制することができる。

本発明の一実施形態による基板処理装置の側面図である。 本発明の一実施形態による基板処理装置の薬液槽の側面図である。 スリットノズルを上方から見た図である。 フラットノズルを上方から見た図である。 スリットノズルから基板に薬液を吐出している状態の薬液槽の側面図である。 シャワーノズルから基板に洗浄液を吐出している状態の薬液槽の側面図である。 シャワーノズルを上方から見た図である。 シャワーノズルから吐出される洗浄液を説明するための図である。 本発明の一実施形態の第１変形例による基板処理装置の側面図である。 本発明の一実施形態の第２変形例による基板処理装置の側面図である。

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。

［本実施形態］
（基板処理装置の構成）
図１〜図８を参照して、本実施形態による基板処理装置１００の構成について説明する。基板処理装置１００は、基板２００に薬液（エッチング液）を吐出して、基板２００の表面２００ａに形成された薄膜をエッチングするように構成されている。なお、基板処理装置１００によるエッチングは、基板２００の表面２００ａに形成された薄膜を平坦にするために行われる。また、薄膜は、たとえば、ＳｉＯ（一酸化ケイ素）などである。また、薬液は、たとえば、ＨＦ（フッ化水素）などである。

図１に示すように、基板処理装置１００は、基板２００に薬液が吐出される薬液槽１、基板２００の洗浄が行われる洗浄槽２、および、基板２００の乾燥が行われる乾燥槽３を備えている。なお、図１では、後述するスリットノズル２０等は省略されている。

また、基板処理装置１００は、基板２００を搬送する搬送部１０を備えている。搬送部１０は、薬液槽１、洗浄槽２、および、乾燥槽３に渡って設けられている。基板２００は、搬送部１０によって、薬液槽１、洗浄槽２、および、乾燥槽３の順に搬送される。また、基板２００は、水平方向（Ｘ方向）に沿って搬送される。

また、搬送部１０は、複数のローラ部１１によって構成されている。ローラ部１１は、基板２００の搬送方向（Ｘ方向）に直交するＹ方向に延びるように設けられている。また、ローラ部１１は、Ｙ方向に沿った回転軸を中心として回転するように構成されている。また、複数のローラ部１１は、それぞれ、図示しない駆動部により回転されるように構成されている。これにより、基板２００の裏面２００ｂとローラ部１１との摩擦が低減されるので、基板２００の裏面２００ｂに傷が生じるのを抑制することが可能になる。

また、図２に示すように、基板処理装置１００の薬液槽１には、搬送部１０の上方（Ｚ１方向）に配置され、搬送部１０によって搬送される基板２００の表面２００ａに薬液を吐出するスリットノズル２０が設けられている。スリットノズル２０は、基板２００の搬送方向（Ｘ方向）に直交するＹ方向に沿って延びるスリット状の吐出口を有する。これにより、スリットノズル２０から、カーテン状の薬液が基板２００に吐出される。なお、スリットノズル２０は、特許請求の範囲の「第１吐出部」の一例である。

また、本実施形態では、図３に示すように、スリットノズル２０の基板２００が搬送される搬送方向（Ｘ方向）に直交するＹ方向の幅Ｗ１は、基板２００の搬送方向に直交するＹ方向の幅Ｗ２以上である。具体的には、基板処理装置１００では、スリットノズル２０のＹ方向の幅Ｗ１は、基板２００の幅Ｗ２よりも大きい。

また、図２に示すように、スリットノズル２０は、隣接するローラ部１１の間において、鉛直下方（Ｚ２方向）に向かって薬液を吐出するように構成されている。そして、鉛直下方に向かって薬液を吐出するスリットノズル２０に対向するように、スリットノズル２０から吐出される薬液を回収する薬液回収部２１が配置されている。

図３に示すように、薬液回収部２１のＹ方向の幅Ｗ３は、基板２００の幅Ｗ２よりも大きく、かつ、スリットノズル２０の幅Ｗ１よりも大きい。

また、スリットノズル２０からの薬液の吐出は、常時行われている。すなわち、スリットノズル２０の下方を基板２００が通過している場合（図５参照）、基板２００から滴下する薬液、および、基板２００のＹ方向の両端部よりも外側に吐出されている薬液が、薬液回収部２１により回収される。また、スリットノズル２０の下方を基板２００が通過していない場合（図２、図６参照）、スリットノズル２０から吐出される薬液が、直接、薬液回収部２１により回収される。薬液回収部２１により回収された薬液は、再利用される。すなわち、薬液回収部２１により回収された薬液は、再び基板２００に吐出される。

ここで、本実施形態では、図２に示すように、基板処理装置１００の薬液槽１には、搬送部１０によって搬送される基板２００の裏面２００ｂよりも下方（Ｚ２方向側）に配置され、薬液が吐出されている状態の基板２００の裏面２００ｂに基板２００の裏面２００ｂを洗浄するための洗浄液を吐出するフラットノズル３０が設けられている。具体的には、フラットノズル３０は、Ｘ方向に隣接するローラ部１１の間に配置されている。また、図４に示すように、フラットノズル３０は、洗浄液を扇状に吐出するように構成されている。また、洗浄液は、たとえば、純水である。なお、フラットノズル３０は、特許請求の範囲の「第２吐出部」の一例である。

なお、図５に示すように、フラットノズル３０は、薬液が吐出されている最中の基板２００自身の裏面２００ｂに洗浄液を吐出するように構成されている。すなわち、薬液が吐出されている最中の基板２００と、裏面２００ｂに洗浄液が吐出されている基板２００とは、同じ基板２００である。

また、搬送方向（Ｘ方向）において、スリットノズル２０とフラットノズル３０との間に他のノズルは存在しない。たとえば、基板処理装置１００には、薬液槽１の出口近傍（Ｘ２方向側）に基板２００上に残存する薬液を除去するためのエアナイフを生成するノズルや、基板２００の表面２００ａに洗浄液を吐出するノズルが設けられる場合がある。基板処理装置１００では、スリットノズル２０とフラットノズル３０との間に、エアナイフを生成するノズルや基板２００の表面２００ａに洗浄液を吐出するノズルなどは設けられていない。

また、図５に示すように、フラットノズル３０は、隣接するローラ部１１の間の隙間１２から、洗浄液を基板２００の裏面２００ｂに吐出するように構成されている。具体的には、フラットノズル３０は、隣接するローラ部１１の間の隙間１２から、斜め上方（Ａ方向）でかつ基板２００の搬送方向の前方（Ｘ２方向）に向かって洗浄液を吐出するように構成されている。

また、スリットノズル２０は、薬液槽１に基板２００が搬入される側（Ｘ１方向側）に配置されている。そして、フラットノズル３０は、搬送方向（Ｘ方向）において、スリットノズル２０よりも下流側（Ｘ２方向側）でかつ、スリットノズル２０の近傍に配置されている。すなわち、スリットノズル２０およびフラットノズル３０は、薬液槽１のＸ方向の中央部よりも、Ｘ１方向側に配置されている。

また、図４に示すように、フラットノズル３０は、複数設けられている。そして、複数のフラットノズル３０の各々から吐出される扇状の洗浄液の基板２００が搬送される搬送方向（Ｘ方向）に直交するＹ方向の合計の幅Ｗ４は、基板２００の搬送方向に直交するＹ方向の幅Ｗ２以上である。具体的には、基板処理装置１００では、洗浄液の合計の幅Ｗ４は、基板２００の幅Ｗ２に略等しい。

また、図５に示すように、フラットノズル３０からの洗浄液の吐出は、フラットノズル３０から吐出された洗浄液が、基板２００の表面２００ａに回り込まないようなタイミングで開始される。具体的には、フラットノズル３０は、隣接するローラ部１１の間の隙間１２から吐出される洗浄液の吐出方向（Ａ方向）の延長線上を基板２００の先端２００ｃが通過後、洗浄液の吐出を開始するように構成されている。基板２００の先端２００ｃが洗浄液の吐出方向（Ａ方向）の延長線上を通過したか否かは、図示しないセンサなどによって検出される。また、フラットノズル３０からの洗浄液の吐出の開始の制御は、基板処理装置１００に設けられる制御部４０により行われる。

なお、基板２００の搬送速度、洗浄液の粘度、基板２００の表面２００ａに対する洗浄液の濡れ性などによっては、基板２００の表面２００ａに洗浄液が回り込む可能性があるため、洗浄液の吐出は、基板２００の先端２００ｃが吐出方向の延長線上を通過した後、開始するほうがよい。なお、洗浄液の吐出が遅すぎると、基板２００の表面２００ａから裏面２００ｂに薬液が回り込む場合があるので、基板２００の先端２００ｃが吐出方向の延長線上を通過したタイミングと略同時に、または通過した直後、洗浄液の吐出を開始するのがよい。

また、フラットノズル３０は、基板２００の表面２００ａへの薬液の吐出が終了し、基板２００の搬送が停止された際、洗浄液の吐出を停止するように構成されている。具体的には、基板２００の表面２００ａへの薬液の吐出が終了した後、基板２００は、後述するシャワーノズル５０の上方において停止される。また、フラットノズル３０からの洗浄液の吐出の停止の制御は、基板処理装置１００に設けられる制御部４０により行われる。

また、本実施形態では、フラットノズル３０よりも基板２００の搬送方向の下流側（Ｘ２方向側）でかつ、搬送部１０によって搬送される基板２００の裏面２００ｂよりも下方には、基板２００の表面２００ａへの薬液の吐出が終了した後の基板２００の裏面２００ｂに洗浄液を吐出するシャワーノズル５０が配置されている。具体的には、シャワーノズル５０は、Ｘ方向に隣接するローラ部１１の間に配置されている。また、シャワーノズル５０は、洗浄液を円錐状に吐出するように構成されている。また、シャワーノズル５０は、基板２００の搬送方向（Ｘ方向）に沿って、複数設けられている。そして、シャワーノズル５０は、それぞれ、隣接するローラ部１１の間の隙間１３から、基板２００の裏面２００ｂに洗浄液を吐出するように構成されている。また、シャワーノズル５０は、鉛直上方（Ｚ１方向）に向かって洗浄液を吐出するように構成されている。なお、図７に示すように、シャワーノズル５０は、基板２００の搬送方向（Ｘ方向）に直交するＹ方向に沿っても、複数設けられている。また、シャワーノズル５０は、特許請求の範囲の「第３吐出部」の一例である。

また、図６に示すように、シャワーノズル５０は、シャワーノズル５０の上方に基板２００が搬送された後、洗浄液の吐出を開始するように構成されている。具体的には、平面視において、全てのシャワーノズル５０が基板２００にオーバラップする位置において、基板２００の搬送が停止される。基板２００が全てのシャワーノズル５０にオーバラップする位置に停止したか否かの判断は、基板２００の下方に設けられるセンサ６０によって検出される。また、シャワーノズル５０からの洗浄液の吐出の開始の制御は、基板処理装置１００に設けられる制御部４０により行われる。

また、シャワーノズル５０からの洗浄液の吐出は、薬液による基板２００の表面２００ａのエッチングが終了後、停止される。具体的には、搬送部１０による基板２００の洗浄槽２への搬送開始前の所定の時間（たとえば、ｎ秒前）に、洗浄液の吐出が停止される。

また、図７に示すように、シャワーノズル５０は、基板２００の裏面２００ｂの周縁部近傍に洗浄液を吐出するシャワーノズル５１と、基板２００の裏面２００ｂの中央部側に洗浄液を吐出するシャワーノズル５２とを含む。具体的には、シャワーノズル５１は、略長方形形状の基板２００の４隅近傍に洗浄液を吐出するように構成されている。また、シャワーノズル５２は、基板２００の４隅よりも内側の領域に洗浄液を吐出するように構成されている。なお、シャワーノズル５１および５２は、それぞれ、特許請求の範囲の「周縁部用シャワーノズル」および「中央部用シャワーノズル」の一例である。

また、図８に示すように、シャワーノズル５２から吐出される洗浄液同士は、互いにオーバラップする。また、シャワーノズル５１から吐出される洗浄液は、シャワーノズル５２から吐出される洗浄液にオーバラップする。そして、シャワーノズル５１から吐出される洗浄液の吐出量は、シャワーノズル５２から吐出される洗浄液の吐出量よりも小さい。すなわち、シャワーノズル５１から基板２００の裏面２００ｂに吐出される洗浄液の領域は、シャワーノズル５２から基板２００の裏面２００ｂに吐出される洗浄液の領域よりも小さい。

また、複数のシャワーノズル５２から吐出される洗浄液の領域は、基板２００の裏面２００ｂよりも少し小さい。具体的には、複数のシャワーノズル５２のうち、外側に配置されるシャワーノズル５２（５２ａ）の吐出量は、洗浄液が基板２００の表面２００ａに回り込まないように、流量および圧力が調整されている。そして、シャワーノズル５２ａから吐出された洗浄液は、基板２００の端部まで広がった後、下方に滴下する。また、シャワーノズル５２ａよりも内側に配置されるシャワーノズル５２ｂの吐出量は、シャワーノズル５２ｂの各々から吐出された洗浄液が、外側に配置されるシャワーノズル５２ａから吐出される洗浄液によって囲まれた領域の略全域を覆うように、流量および圧力が調整されている。

次に、図２、図５および図６を参照して、基板処理装置１００の動作について説明する。なお、基板処理装置１００の動作の制御は、制御部４０により行われる。

まず、図２に示すように、スリットノズル２０から薬液回収部２１に向けて、薬液が吐出される。

次に、図５に示すように、薬液槽１に基板２００が搬送される。これにより、基板２００の表面２００ａに薬液が塗布される。なお、基板２００の搬送速度は略一定であるので、基板２００の表面２００ａには、略均一に薬液が塗布される。また、基板２００の外に吐出された薬液は、薬液回収部２１により回収される。

次に、洗浄液の吐出方向（Ａ方向）の延長線上を基板２００の先端２００ｃが通過後、フラットノズル３０からの基板２００の裏面２００ｂへの洗浄液の吐出が開始される。

次に、図６に示すように、シャワーノズル５０の上方において基板２００の搬送が停止された後、フラットノズル３０からの洗浄液の吐出が停止される。その後、シャワーノズル５０からの基板２００の裏面２００ｂへの洗浄液の吐出が開始される。

次に、基板２００の表面２００ａの薬液によるエッチング終了後、シャワーノズル５０からの基板２００の裏面２００ｂへの洗浄液の吐出が停止される。

そして、基板２００は、洗浄槽２に搬送されて洗浄された後、乾燥槽３に搬送されて乾燥される。

（本実施形態の効果）
本実施形態では、以下のような効果を得ることができる。

本実施形態では、上記のように、搬送部１０によって搬送される基板２００の裏面２００ｂよりも下方に配置され、薬液が吐出されている状態の基板２００の裏面２００ｂに基板２００の裏面２００ｂを洗浄するための洗浄液を吐出するフラットノズル３０を備える。これにより、基板２００の裏面２００ｂに洗浄液が吐出されているので、基板２００の表面２００ａから裏面２００ｂに薬液が回り込むのを、基板２００の裏面２００ｂに吐出されている洗浄液により抑制することができる。また、基板２００を搬送する搬送部１０に薬液が付着している場合でも、フラットノズル３０から吐出される洗浄液により、搬送部１０に付着した薬液、および、搬送部１０から薬液が付着した基板２００の裏面２００ｂを洗浄することができる。その結果、基板２００の裏面２００ｂが薬液により処理されるのを抑制することができる。

たとえば、薬液による処理がエッチングであり、かつ、エッチングレートが比較的高い場合、薬液が吐出されている状態において、基板２００の裏面２００ｂに回り込んだ薬液によって基板２００の裏面２００ｂがエッチングされてしまう。そこで、本実施形態のように、薬液が吐出されている状態の基板２００の裏面２００ｂを洗浄するための洗浄液を吐出することは、基板２００に対する様々な処理のうちの比較的早い段階で基板２００の裏面２００ｂを洗浄し、基板２００の裏面２００ｂのエッチングを抑制することができる点において、特に有効である。

また、本実施形態では、上記のように、フラットノズル３０は、隣接するローラ部１１の間の隙間１２から、洗浄液を基板２００の裏面２００ｂに吐出する。これにより、洗浄液の吐出が、ローラ部１１に遮られるのを、容易に抑制することができる。

また、本実施形態では、上記のように、フラットノズル３０は、隣接するローラ部１１の間の隙間１２から、斜め上方でかつ基板２００の搬送方向の前方に向かって洗浄液を吐出する。これにより、基板２００の裏面２００ｂに対して垂直に洗浄液が吐出される場合と比べて、フラットノズル３０から基板２００の裏面２００ｂの洗浄液が吐出される部分までの間の距離が長くなる。その結果、フラットノズル３０からの洗浄液が吐出される基板２００の裏面２００ｂの部分の領域が大きくなる。すなわち、洗浄液を広範囲に吐出することができる。

また、本実施形態では、上記のように、フラットノズル３０は、隣接するローラ部１１の間の隙間１２から吐出される洗浄液の吐出方向の延長線上を基板２００の先端２００ｃが通過後、洗浄液の吐出を開始する。これにより、洗浄液が基板２００の裏面２００ｂに確実に吐出されるので、洗浄液が搬送部１０よりも上方に吐出されるのを容易に抑制することができる。

また、本実施形態では、上記のように、フラットノズル３０は、基板２００の表面２００ａへの薬液の吐出が終了し、基板２００の搬送が停止された際、洗浄液の吐出を停止する。これにより、フラットノズル３０からの洗浄液の吐出が継続される場合と異なり、洗浄液の使用量を低減することができる。

また、本実施形態では、上記のように、スリットノズル２０の基板２００が搬送される搬送方向に直交するＹ方向の幅Ｗ１は、基板２００の搬送方向に直交するＹ方向の幅Ｗ２以上である。これにより、基板２００の搬送方向に直交するＹ方向の一方端から他方端に渡って、薬液を吐出することができる。これにより、基板２００の表面２００ａ上に吐出される薬液の吐出量を略均一にすることができる。その結果、薬液による基板２００の処理を略均一にすることができる。また、スリットノズル２０は、シャワーノズルなどのように大量に薬液を吐出する他のノズルと比べて比較的吐出量の制御が行いやすい。これにより、基板２００の表面２００ａ上に吐出される薬液の吐出量を略均一にすることができるので、薬液による基板２００の処理をより略均一にすることができる。

たとえば、薬液による処理がエッチングであり、かつ、エッチングレートが比較的高い場合、基板２００に対するエッチングの均一性が要求される。そこで、本実施形態のように、スリットノズル２０から薬液を吐出するように構成することは、エッチングレートが比較的高い場合において、薬液の吐出量を略均一にし、基板２００の全体におけるエッチングの均一性を確保できる点において、特に有効である。

また、本実施形態では、上記のように、複数のフラットノズル３０の各々から吐出される扇状の洗浄液の基板２００が搬送される搬送方向に直交するＹ方向の合計の幅Ｗ４は、基板２００の搬送方向に直交するＹ方向の幅Ｗ２以上である。これにより、基板２００の搬送方向に直交するＹ方向の一方端から他方端に渡って、容易に、洗浄液を吐出することができる。その結果、基板２００の表面２００ａからの薬液の回り込み、および、搬送部１０に付着した薬液が基板２００の裏面２００ｂに付着することを効果的に抑制することができる。

また、本実施形態では、上記のように、フラットノズル３０よりも基板２００の搬送方向の下流側でかつ、搬送部１０によって搬送される基板２００の裏面２００ｂよりも下方に配置され、基板２００の表面２００ａへの薬液の吐出が終了した後の基板２００の裏面２００ｂに洗浄液を吐出するシャワーノズル５０を設ける。これにより、基板２００の表面２００ａへの薬液の吐出が終了した後の薬液による基板２００の表面２００ａの処理の間に、薬液が基板２００の表面２００ａから裏面２００ｂに回り込むのを、シャワーノズル５０から吐出される洗浄液により抑制することができる。

また、本実施形態では、上記のように、シャワーノズル５０は、基板２００の搬送方向に沿って、複数設けられ、複数のシャワーノズル５０は、それぞれ、隣接するローラ部１１の間の隙間１３から、基板２００の裏面２００ｂに洗浄液を吐出する。これにより、洗浄液の吐出が、ローラ部１１に遮られるのを、容易に抑制することができる。また、シャワーノズル５０が複数設けられていることにより、基板２００の搬送が停止された状態であっても、基板２００の裏面２００ｂの比較的広範囲の洗浄を行うことができる。

また、本実施形態では、上記のように、シャワーノズル５０は、シャワーノズル５０の上方に基板２００が搬送された後、洗浄液の吐出を開始する。これにより、シャワーノズル５０の上方に基板２００が搬送されているので、洗浄液が搬送部１０よりも上方に吐出されるのを容易に抑制することができる。

また、本実施形態では、上記のように、基板２００の裏面２００ｂの周縁部近傍に洗浄液を吐出するシャワーノズル５１から吐出される洗浄液の吐出量は、基板２００の裏面２００ｂの中央部側に洗浄液を吐出するシャワーノズル５２から吐出される洗浄液の吐出量よりも小さい。ここで、シャワーノズル５１を配置せずにシャワーノズル５２のみを配置した場合、基板２００の裏面２００ｂの周縁部に対する洗浄液の吐出量が不足する場合がある。そこで、シャワーノズル５１を設けることにより、基板２００の裏面２００ｂの周縁部に対する洗浄液の吐出量が不足するのを抑制することができる。また、基板２００の裏面２００ｂの周縁部に吐出される洗浄液は、基板２００の表面２００ａに回り込みやすい。そこで、シャワーノズル５１から吐出される洗浄液の吐出量を、シャワーノズル５２から吐出される洗浄液の吐出量よりも小さくすることによって、基板２００の表面２００ａに洗浄液が回り込むのを抑制することができる。

また、本実施形態では、上記のように、鉛直下方に向かって薬液を吐出するスリットノズル２０に対向するように配置され、スリットノズル２０から吐出される薬液を回収する薬液回収部２１を設ける。そして、フラットノズル３０は、薬液回収部２１よりも基板２００の搬送方向の下流側に配置されている。これにより、薬液回収部２１により回収された薬液を再利用することができるので、薬液の使用量を低減することができる。なお、スリットノズル２０と薬液回収部２１との間に基板２００が存在しない状態では、スリットノズル２０から吐出された薬液が基板２００に接触せず直接薬液回収部２１により回収されるので、この基板２００に接触していない未使用の薬液を再利用することができる。また、スリットノズル２０と薬液回収部２１との間に基板２００が侵入した直後において基板２００に接触した薬液や、薬液回収部２１の上方を通過する基板２００の表面２００ａから滴下する薬液などの処理廃液が薬液回収部２１により回収される場合がある。すなわち、未使用の薬液に処理廃液が混入する場合がある。一方、この混入する処理廃液は比較的少ないので、薬液の再利用に対する影響は小さい。

また、フラットノズル３０が、スリットノズル２０の鉛直下方に対向するように配置されている薬液回収部２１よりも基板２００の搬送方向の下流側に配置されているので、フラットノズル３０は、スリットノズル２０よりも下流側に配置されていることになる。これにより、薬液が吐出された基板２００の表面２００ａの部分に対応する裏面２００ｂの部分に、確実に、洗浄液を吐出することができる。

また、本実施形態では、上記のように、スリットノズル２０およびフラットノズル３０は、薬液槽１に配置されている。これにより、薬液槽１において薬液による処理が行われている基板２００において、基板２００の裏面２００ｂに薬液が回り込むのを抑制することができる。

［変形例］
なお、今回開示された実施形態および実施例は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態および実施例の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更（変形例）が含まれる。

たとえば、上記実施形態では、スリットノズルからエッチング液を吐出する例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、スリットノズルからエッチング液以外の薬液を吐出してもよい。

また、上記実施形態では、基板の裏面に洗浄液である純水を吐出する例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、基板の裏面に純水以外の洗浄液を吐出してもよい。

また、上記実施形態では、フラットノズルから斜め上方でかつ基板の搬送方向の前方に向かって洗浄液を吐出する例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、フラットノズルから鉛直上方に洗浄液を吐出してもよい。

また、上記実施形態では、吐出される洗浄液の吐出方向の延長線上を基板の先端が通過後、フラットノズルからの洗浄液の吐出を開始するように構成されている例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、フラットノズルからの洗浄液の吐出を常時行っていてもよい。

また、上記実施形態では、スリットノズルから薬液が吐出される例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、スリットノズル以外のノズルから薬液が吐出されていてもよい。

また、上記実施形態では、フラットノズルおよびシャワーノズルから洗浄液が吐出される例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、フラットノズルおよびシャワーノズル以外のノズルから洗浄液が吐出されていてもよい。

また、上記実施形態では、基板の表面への薬液の吐出が終了し、基板の搬送が停止された際、洗浄液の吐出を停止するように構成されている例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、図９の第１変形例による基板処理装置１１０のように、基板２００の後端２００ｄが、鉛直下方に向かって薬液を吐出するスリットノズル２０の直下を通過した後、フラットノズル３０からの洗浄液の吐出を停止してもよい。これにより、基板２００への薬液の吐出が終了した時点で、確実に、フラットノズル３０からの洗浄液の吐出を停止することができる。

また、上記実施形態では、フラットノズルおよびシャワーノズルから吐出される洗浄液が回収されない例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、図１０の第２変形例による基板処理装置１２０のように、シャワーノズル５０の下方に、基板２００の裏面２００ｂから滴下する洗浄液を回収する洗浄液回収部１２１を設けて、洗浄液回収部１２１により回収された洗浄液をフラットノズル３０およびシャワーノズル５０から再び基板２００の裏面２００ｂに吐出してもよい。これにより、基板２００の裏面２００ｂから滴下した洗浄液を再利用することができるので、洗浄液の使用量を低減することができる。

また、上記実施形態では、スリットノズルの幅が、基板の幅よりも大きい例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、スリットノズルの幅が、基板の幅と略等しくてもよい。

また、上記実施形態では、複数のフラットノズルの各々から吐出される扇状の洗浄液のＹ方向の合計の幅が、基板の幅と略等しい例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、複数のフラットノズルの各々から吐出される扇状の洗浄液のＹ方向の合計の幅が、基板の幅よりも大きくてもよい。

また、上記実施形態では、互いに吐出量の異なるシャワーノズルが設けられている例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、基板の裏面の略全域に洗浄液を吐出するのが可能であれば、複数のシャワーノズルの吐出量を互いに略等しくしてもよい。

１ 薬液槽
２ 洗浄槽
３ 乾燥槽
１０ 搬送部
１１ ローラ部
１２ 隙間
１３ 隙間
２０ スリットノズル（第１吐出部）
２１ 薬液回収部
３０ フラットノズル（第２吐出部）
５０ シャワーノズル（第３吐出部）
５１ シャワーノズル（周縁部用シャワーノズル）
５２ シャワーノズル（中央部用シャワーノズル）
１００、１１０、１２０ 基板処理装置
１２１ 洗浄液回収部
２００ 基板
２００ａ 表面
２００ｂ 裏面
２００ｃ 先端
２００ｄ 後端
Ｗ１ （スリットノズルの）幅
Ｗ２ （基板の）幅
Ｗ４ （洗浄液の合計の）幅

Claims (15)

1. 基板を搬送する搬送部と、
   前記搬送部の上方に配置され、前記搬送部によって搬送される前記基板の表面に薬液を吐出する第１吐出部と、
   前記搬送部によって搬送される前記基板の裏面よりも下方に配置され、前記薬液が吐出されている状態の前記基板の裏面に前記基板の裏面を洗浄するための洗浄液を吐出する第２吐出部とを備える、基板処理装置。
2. 前記搬送部は、複数のローラ部を含み、
   前記第２吐出部は、隣接する前記ローラ部の間の隙間から、前記洗浄液を前記基板の裏面に吐出するように構成されている、請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記第２吐出部は、隣接する前記ローラ部の間の隙間から、斜め上方でかつ前記基板の搬送方向の前方に向かって前記洗浄液を吐出するように構成されている、請求項２に記載の基板処理装置。
4. 前記第２吐出部は、隣接する前記ローラ部の間の隙間から吐出される前記洗浄液の吐出方向の延長線上を前記基板の先端が通過後、前記洗浄液の吐出を開始するように構成されている、請求項２または３に記載の基板処理装置。
5. 前記第２吐出部は、前記基板の表面への前記薬液の吐出が終了し、前記基板の搬送が停止された際、前記洗浄液の吐出を停止するように構成されている、請求項１〜４のいずれか１項に記載の基板処理装置。
6. 前記第１吐出部は、鉛直下方に向かって前記薬液を吐出するように構成されており、
   前記第２吐出部は、前記基板の後端が、前記第１吐出部の直下を通過した後、前記洗浄液の吐出を停止するように構成されている、請求項１〜４のいずれか１項に記載の基板処理装置。
7. 前記第１吐出部は、スリットノズルを含み、
   前記スリットノズルの前記基板が搬送される搬送方向に直交する方向の幅は、前記基板の前記搬送方向に直交する方向の幅以上である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の基板処理装置。
8. 前記第２吐出部は、前記洗浄液を扇状に吐出する複数のフラットノズルを含み、
   前記複数のフラットノズルの各々から吐出される扇状の前記洗浄液の前記基板が搬送される搬送方向に直交する方向の合計の幅は、前記基板の前記搬送方向に直交する方向の幅以上である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の基板処理装置。
9. 前記第２吐出部よりも前記基板の搬送方向の下流側でかつ、前記搬送部によって搬送される前記基板の裏面よりも下方に配置され、前記基板の表面への前記薬液の吐出が終了した後の前記基板の裏面に前記洗浄液を吐出する第３吐出部をさらに備える、請求項１〜８のいずれか１項に記載の基板処理装置。
10. 前記搬送部は、複数のローラ部を含み、
    前記第３吐出部は、前記基板の搬送方向に沿って、複数設けられ、
    前記複数の第３吐出部は、それぞれ、隣接する前記ローラ部の間の隙間から、前記基板の裏面に前記洗浄液を吐出するように構成されている、請求項９に記載の基板処理装置。
11. 前記第３吐出部は、前記第３吐出部の上方に前記基板が搬送された後、前記洗浄液の吐出を開始するように構成されている、請求項９または１０に記載の基板処理装置。
12. 前記第３吐出部は、前記基板の裏面の周縁部近傍に前記洗浄液を吐出する周縁部用シャワーノズルと、前記基板の裏面の中央部側に前記洗浄液を吐出する中央部用シャワーノズルとを含み、
    前記周縁部用シャワーノズルから吐出される前記洗浄液の吐出量は、前記中央部用シャワーノズルから吐出される前記洗浄液の吐出量よりも小さい、請求項９〜１１のいずれか１項に記載の基板処理装置。
13. 前記第３吐出部の下方に設けられ、前記基板の裏面から滴下する前記洗浄液を回収する洗浄液回収部をさらに備える、請求項９〜１２のいずれか１項に記載の基板処理装置。
14. 前記搬送部は、複数のローラ部を含み、
    前記第１吐出部は、隣接する前記ローラ部の間において、鉛直下方に向かって前記薬液を吐出するように構成されており、
    鉛直下方に向かって前記薬液を吐出する前記第１吐出部に対向するように配置され、前記第１吐出部から吐出される前記薬液を回収する薬液回収部をさらに備え、
    前記第２吐出部は、前記薬液回収部よりも前記基板の搬送方向の下流側に配置されている、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の基板処理装置。
15. 前記基板処理装置は、前記基板に薬液が吐出される薬液槽、前記基板の洗浄が行われる洗浄槽、および、前記基板の乾燥が行われる乾燥槽を含み、
    前記第１吐出部および前記第２吐出部は、前記薬液槽に配置されている、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の基板処理装置。

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