JP2001252627A

JP2001252627A - 基板処理装置

Info

Publication number: JP2001252627A
Application number: JP2000067923A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Kitazawa; 裕之北澤
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 2000-03-13
Filing date: 2000-03-13
Publication date: 2001-09-18

Abstract

(57)【要約】【課題】洗浄作業時の作業効率を向上させることが可
能な基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】基板処理装置における配管部１３の開口
部は、透光性の側板３１により閉止されている。また、
配管部１３の前方には、配管部１３の内部を洗浄するた
めに使用される洗浄液噴出機構が配設されている。この
洗浄液噴出機構は、洗浄液を霧状に噴出可能なスプレー
ガン等よりなる洗浄液噴出部２３と、この洗浄液噴出部
２３に対し洗浄液を供給するための可撓性の洗浄液供給
管２４とを備える。さらに、側板３１における外気導入
部３２と近接する位置には、洗浄液噴出部２３から噴出
する洗浄液を配管部１３の内部に導くための洗浄液案内
孔３３が形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハや
液晶表示パネル用ガラス基板あるいは半導体製造装置用
マスク基板等の基板に処理液を供給して処理する基板処
理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】このような基板処理装置としては、処理
槽中に貯留された処理液中に基板を浸漬して処理する浸
漬型の基板処理装置や、スピンチャックに保持されて回
転する基板の表面に処理液を供給して処理する回転式の
基板処理装置等が使用されている。

【０００３】このような基板処理装置においては、処理
液の配管部等に漏液が生じた場合や、配管部の定期的な
メンテナンスを行う場合には、作業者の処理液への接触
を防止するため、予め配管部を洗浄液により洗浄した
後、装置の修理やメンテナンスを行っている。これらの
洗浄作業時には、従来、基板処理装置における配管部の
側板を取り外している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】このように、基板処理
装置における配管部の側板を取り外して洗浄作業を行う
場合においては、処理液の作業者への跳ね返りがないよ
うに、十分注意して作業を行う必要がある。また、この
場合においては、処理液の周囲への飛散を防止するた
め、養生シート等を敷設して作業を行う必要がある。こ
のため、作業効率が悪く、作業に長い時間を要するとい
う問題を生ずる。

【０００５】また、この種の基板処理装置においては、
処理液雰囲気の外部への拡散を防止するため、通常、基
板処理装置の内部雰囲気を排気しているが、洗浄作業の
ために基板処理装置における配管部の側板を取り外した
場合には、排気時に十分な流速を確保することが困難と
なる。このため、局部排気装置等を仮設して作業を行う
ことが必要となり、作業効率が低下する。

【０００６】この発明は上記課題を解決するためになさ
れたものであり、洗浄作業時の作業効率を向上させるこ
とが可能な基板処理装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、基板に対して処理液を供給することにより基板を処
理する基板処理装置において、洗浄液噴出部と、当該洗
浄液噴出部に対し基板処理装置の内部を洗浄するための
洗浄液を供給するための洗浄液供給管とを備える洗浄液
噴出機構と、前記洗浄液噴出部から噴出する洗浄液を基
板処理装置の内部に導くための、基板処理装置の側板に
形成された洗浄液案内孔と、基板処理装置の内部雰囲気
を排気する排気機構と、を備えたことを特徴とする。

【０００８】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の発明において、前記側板には、基板処理装置の内部に
外気を導入するための外気導入部が形成されており、前
記洗浄液案内孔は、前記外気導入部の近傍に形成されて
いる。

【０００９】請求項３に記載の発明は、請求項１または
請求項２いずれかに記載の発明において、前記側板は、
透光性の部材から構成される。

【００１０】請求項４に記載の発明は、基板を処理する
ための処理液を貯留する処理槽を有する処理槽部と、前
記処理槽部に基板を搬送するための基板搬送機構を有す
る搬送部と、前記処理槽に供給すべき処理液の配管を有
する配管部とを備えた基板処理装置において、洗浄液噴
出部と、当該洗浄液噴出部に対し前記配管部の内部を洗
浄するための洗浄液を供給するための洗浄液供給管とを
備える洗浄液噴出機構と、前記洗浄液噴出部から噴出す
る洗浄液を配管部の内部に導くための、前記配管部の側
板に形成された洗浄液案内孔と、前記配管部の内部雰囲
気を排気する排気機構と、を備えたことを特徴とする。

【００１１】請求項５に記載の発明は、請求項４に記載
の発明において、前記側板には、前記配管部の内部に外
気を導入するための外気導入部が形成されており、前記
洗浄液案内孔は、前記外気導入部の近傍に形成されてい
る。

【００１２】請求項６に記載の発明は、請求項４または
請求項５いずれかに記載の発明において、前記側板は、
透光性の部材から構成される。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。図１はこの発明に係る基板処理
装置の正面概要図であり、図２はこの発明に係る基板処
理装置の側面概要図である。

【００１４】図２に示すように、この基板処理装置は、
処理部１１と、搬送部１２と、配管部１３とから構成さ
れる。

【００１５】前記処理部１１には、基板１０を処理する
ための処理液を貯留する処理槽１４が配設されている。
この処理槽１４中には、複数枚の基板１０を起立状態で
支持するための図示しない基板支持部が配設されてお
り、複数枚の基板１０は、この処理槽１４中で一括して
処理される。なお、この処理部１１は、同一の構成を有
するものが図１に示す左右方向に複数個列設されてい
る。

【００１６】前記搬送部１２は、複数枚の基板１０を一
括して保持可能なチャック１５を備えた搬送アーム１６
と、この搬送アーム１６を、ガイドレール１７に沿って
図２における紙面に垂直な方向（図１における左右方
向）に往復移動させるための移動機構１８とを有する。

【００１７】前記配管部１３の内部には、処理槽１４に
供給すべき処理液の配管と、処理液を送液するためのポ
ンプと、配管中を通過する処理液を濾過するためのフィ
ルターと、処理液を加熱するためのヒータとが配設され
ている。また、この配管部１３の底部側方には、配管部
１３の内部雰囲気を排気するための排気部２１が配設さ
れている。なお、この配管部１３は、処理部１１に対応
して、同一の構成を有するものが図１に示す左右方向に
複数個列設されている。

【００１８】この配管部１３の前方には、配管部１３の
内部を洗浄するために使用される洗浄液噴出機構２２が
配設されている。この洗浄液噴出機構２２は、洗浄液を
霧状に噴出可能なスプレーガン等よりなる洗浄液噴出部
２３と、この洗浄液噴出部２３に対し洗浄液を供給する
ための可撓性の洗浄液供給管２４とを備えている。

【００１９】洗浄液供給管２４は、洗浄液の供給源と連
通する管路２５と接続されている。ここで、配管部１３
の内部を洗浄するための洗浄液としては、例えば、基板
を洗浄するのと同じ純水または水道水が使用される。

【００２０】なお、図１および図２においては、洗浄液
噴出部２３と洗浄液供給管２４とを、各々、２個図示し
ているが、これらの洗浄液噴出部２３と洗浄液供給管２
４とは、少なくとも１個あればよい。また、これらの洗
浄液噴出部２３および洗浄液供給管２４は、図１に示す
左右方向に列設された各配管部１３の各々に配設しても
よく、また、これらを複数個の配管部１３で共用するよ
うにしてもよい。

【００２１】前記配管部１３の側方には開口部が形成さ
れており、この開口部は側板３１により閉止されてい
る。この側板３１は、透光性の部材より構成されてい
る。そして、この側板３１には、各々、洗浄液噴出機構
２２における洗浄液噴出部２３から噴出する洗浄液を配
管部１３の内部に導くための洗浄液案内孔３３が形成さ
れている。これらの洗浄液案内孔３３は、洗浄液噴出部
２３から噴出する洗浄液を配管部１３の内部に導入する
に必要な最低の大きさを有する。また、これらの洗浄液
案内孔３３はいずれも、後述する外気導入部３２と近接
する位置に形成されている。

【００２２】このように、これらの洗浄液案内孔３３を
外気導入部３２と近接する位置に形成することにより、
基板処理装置内の気流の流れの最上流部付近に洗浄液案
内孔３３を形成することとなり、処理液雰囲気の外部へ
の拡散を、最も有効に防止できる。

【００２３】図３は、側板３１に形成された洗浄液案内
孔３３を示す側断面図である。

【００２４】この洗浄液案内孔３３は、洗浄液噴出部２
３から霧状に噴出される洗浄液を配管部１３内に案内可
能な大きさを有する。この洗浄液案内孔３３は、後述す
る配管部１３の洗浄時以外は、蓋体３４により閉止され
ている。

【００２５】再度、図１および図２を参照して、複数の
側板３１のうちの上方に位置する側板３１における各洗
浄液案内孔３３と近接する位置には、配管部１３の内部
に外気を導入するための外気導入部３２が形成されてい
る。配管部１３の底部側方に配設された排気部２１によ
り配管部１３の内部雰囲気を排気した場合においては、
図２において矢印で示すように、この外気導入部３２か
ら配管部１３内に外気が導入される。

【００２６】図４は、この外気導入部３２を示す平面図
である。

【００２７】この外気導入部３２は、４個の連通孔３８
が形成された第１の円盤状部材３５と、４個の連通孔３
９が形成された第２の円盤状部材３６とを備える。これ
らの第１の円盤状部材３５と第２の円盤状部材３６と
は、同一の形状を有する。また、第１の円盤状部材３５
と第２の円盤状部材３６とは、軸３７を中心として同軸
状に配設されている。そして、第１の円盤状部材３５
は、軸３７を中心に回転可能となっている。

【００２８】このような構成を有する外気導入部３２に
おいては、第１の円盤状部材３５の回転角度位置を調整
することにより、外気導入部３２から配管部１３内に導
入される外気の流量を調整することが可能となる。即
ち、第１の円盤状部材３５の回転角度位置を調整するこ
とにより、第１の円盤状部材３５における連通孔３８と
第２の円盤状部材３６における連通孔３９とが重なる領
域を大きくした場合には、外気導入部３２から配管部１
３内に導入される外気の流量を大きくすることができ
る。一方、第１の円盤状部材３５の回転角度位置を調整
することにより、第１の円盤状部材３５における連通孔
３８と第２の円盤状部材３６における連通孔３９とが重
なる領域を小さくした場合には、外気導入部３２から配
管部１３内に導入される外気の流量を小さくすることが
できる。

【００２９】次に、以上のように構成された基板処理装
置において、配管部１３における処理液の配管等に漏液
が生じた場合や配管部１３の定期的なメンテナンスを行
う場合等に、予め配管部１３を洗浄する洗浄動作につい
て説明する。

【００３０】このような洗浄動作を実行する際には、側
板３１より図３に示す蓋体３４を取り外し、洗浄液案内
孔３３を開放する。そして、この状態において、作業者
が洗浄液噴出機構２２における洗浄液噴出部２３を操作
し、洗浄液案内孔３３を介して配管部１３の内部を洗浄
する。

【００３１】このとき、側板３１は透光性の部材により
構成されていることから、配管部１３の内部を、配管部
１３の外部から確認しながら確実に洗浄することが可能
となる。

【００３２】また、このように比較的小型の洗浄液案内
孔３３を介して配管部１３の内部を洗浄する場合におい
ては、処理液の跳ね返りや飛散を考慮する必要はなくな
る。このため、作業を効率よく実行することができ、養
生シートの敷設等の作業も不要となる。

【００３３】また、このように比較的小型の洗浄液案内
孔３３を介して配管部１３の内部を洗浄する場合におい
ては、排気時に十分な流速を確保することが可能とな
る。さらに、各洗浄液案内部３３は外気導入部３２と近
接する位置に形成されているため、各洗浄液案内部３３
付近に滞留する処理液雰囲気は、図２において矢印で示
す外気導入部３２から排気部２１に至る気体の流れに沿
って排気される。このため、洗浄液案内孔３３を介して
処理液雰囲気が外部へ拡散することを有効に防止するこ
とが可能となる。

【００３４】さらに、従来の基板処理装置のように、側
板全体を取り外す必要がないことから、処理液が側板の
裏面に付着して外部に漏出するということをも防止する
ことが可能となる。

【００３５】なお、上述した実施形態においては、処理
槽１４中に貯留された処理液中に基板１０を浸漬して処
理する浸漬型の基板処理装置にこの発明を適用した場合
について説明したが、この発明は、スピンチャックに保
持されて回転する基板の表面に処理液を供給して処理す
る回転式の基板処理装置等の、基板に対して処理液を供
給することにより基板を処理する各種の基板処理装置に
適用することが可能である。

【００３６】

【発明の効果】請求項１に記載の発明によれば、洗浄液
噴出部から噴出する洗浄液を基板処理装置の内部に導く
ための基板処理装置の側板に形成された洗浄液案内孔を
介して基板処理装置内部を洗浄することから、処理液の
跳ね返りや飛散、あるいは、処理液雰囲気の外部への拡
散を考慮する必要がなくなり、洗浄作業時の作業効率を
向上させることが可能となる。

【００３７】請求項２に記載の発明によれば、洗浄液案
内孔が基板処理装置の内部に外気を導入するための外気
導入部の近傍に形成されていることから、処理液雰囲気
の外部への拡散をより有効に防止することが可能とな
る。

【００３８】請求項３に記載の発明によれば、側板が透
光性の部材から構成されることから、基板処理装置の内
部をその外部から観察してより確実に洗浄することが可
能となる。

【００３９】請求項４に記載の発明によれば、洗浄液噴
出部から噴出する洗浄液を配管部の内部に導くための配
管部の側板に形成された洗浄液案内孔を介して配管部内
部を洗浄することから、処理液の跳ね返りや飛散、ある
いは、処理液雰囲気の外部への拡散を考慮する必要がな
くなり、洗浄作業時の作業効率を向上させることが可能
となる。

【００４０】請求項５に記載の発明によれば、洗浄液案
内孔が基板処理装置の内部に外気を導入するための外気
導入部の近傍に形成されていることから、処理液雰囲気
の外部への拡散をより有効に防止することが可能とな
る。

【００４１】請求項６に記載の発明によれば、側板が透
光性の部材から構成されることから、基板処理装置の内
部をその外部から観察してより確実に洗浄することが可
能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係る基板処理装置の正面概要図であ
る。

【図２】この発明に係る基板処理装置の側面概要図であ
る。

【図３】側板３１に形成された洗浄液案内孔３３を示す
側断面図である。

【図４】外気導入部３２を示す平面図である。

【符号の説明】

１０基板１１処理部１２搬送部１３配管部１４処理槽２１排気部２２洗浄液噴出亀甲機構２３洗浄液噴出部２４洗浄液供給管３１側板３２外気導入部３３洗浄液案内孔３４蓋体３５第１の円盤状部材３６第２の円盤状部材３７軸３８連通孔３９連通孔

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板に対して処理液を供給することによ
り基板を処理する基板処理装置において、洗浄液噴出部と、当該洗浄液噴出部に対し基板処理装置
の内部を洗浄するための洗浄液を供給するための洗浄液
供給管とを備える洗浄液噴出機構と、前記洗浄液噴出部から噴出する洗浄液を基板処理装置の
内部に導くための、基板処理装置の側板に形成された洗
浄液案内孔と、基板処理装置の内部雰囲気を排気する排気機構と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】請求項１に記載の基板処理装置におい
て、前記側板には、基板処理装置の内部に外気を導入するた
めの外気導入部が形成されており、前記洗浄液案内孔は、前記外気導入部の近傍に形成され
ている基板処理装置。
【請求項３】請求項１または請求項２いずれかに記載
の基板処理装置において、前記側板は、透光性の部材から構成される基板処理装
置。
【請求項４】基板を処理するための処理液を貯留する
処理槽を有する処理槽部と、前記処理槽部に基板を搬送
するための基板搬送機構を有する搬送部と、前記処理槽
に供給すべき処理液の配管を有する配管部とを備えた基
板処理装置において、洗浄液噴出部と、当該洗浄液噴出部に対し前記配管部の
内部を洗浄するための洗浄液を供給するための洗浄液供
給管とを備える洗浄液噴出機構と、前記洗浄液噴出部から噴出する洗浄液を配管部の内部に
導くための、前記配管部の側板に形成された洗浄液案内
孔と、前記配管部の内部雰囲気を排気する排気機構と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】請求項４に記載の基板処理装置におい
て、前記側板には、前記配管部の内部に外気を導入するため
の外気導入部が形成されており、前記洗浄液案内孔は、前記外気導入部の近傍に形成され
ている基板処理装置。
【請求項６】請求項４または請求項５いずれかに記載
の基板処理装置において、前記側板は、透光性の部材から構成される基板処理装
置。