JP4756076B2 - 基板処理システム - Google Patents
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Description
41 アドヒージョン装置
42、45、62、65 冷却処理装置
43 レジスト塗布装置
44、61、64 加熱処理装置
50、70、71 ウェハ搬送装置
63 現像処理装置
100 搬送ロール
101 シート
110、140、170、171 熱板
120、150、180、181 冷却板
130 塗布ローラ
160 洗浄装置
161 洗浄液ノズル
190 載置台
191 支持ロール
192 ベルト
193 連結部材
194 シャフト
195 駆動機構
196 カップ
198 現像液ノズル
200 回転伝達ロール
211 コイラー
220 支持ピン
230 洗浄液槽
A、B 搬送ライン
W ウェハ
Claims (20)
- 基板の処理システムであって、
基板を載置した状態で一方向に搬送する搬送装置と、
前記搬送装置に載置された基板に所定の処理を行う複数の処理装置と、を備え、
前記搬送装置は、
耐熱性と熱伝導性を有し、基板を載置するシートと、
前記シートを支持し、当該シートを前記一方向に移動させるために回転自在に構成された複数の搬送ロールと、を有し、
前記シートは、前記一方向と直角方向に複数の基板を載置可能であることを特徴とする、基板処理システム。 - 前記シートは、前記複数の搬送ロールに巻回されていることを特徴とする、請求項1に記載の基板処理システム。
- 前記シートの基板載置面を洗浄する洗浄装置をさらに有することを特徴とする、請求項2に記載の基板処理システム。
- 前記洗浄装置は、前記シートの基板載置面に洗浄液を噴き付ける洗浄液ノズルを有することを特徴とする、請求項3に記載の基板処理システム。
- 前記洗浄装置は、前記シートの洗浄液を貯留する洗浄液槽を有することを特徴とする、請求項3に記載の基板処理システム。
- 前記搬送装置は、前記シートを巻き取って回収するコイラーを有することを特徴とする、請求項1に記載の基板処理システム。
- 前記シートは、金属板であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれかに記載の基板処理システム。
- 前記シートの基板載置面には、基板を支持する支持ピンが設けられていることを特徴とする、請求項1〜7のいずれかに記載の基板処理システム。
- 前記複数の処理装置は、基板を所定の温度に熱処理する熱処理装置を有し、
前記熱処理装置は、少なくとも基板を加熱する熱板又は基板を冷却する冷却板と有することを特徴とする、請求項1〜8のいずれかに記載の基板処理システム。 - 前記熱板又は前記冷却板は、前記シートの下方に設けられていることを特徴とする、請求項9に記載の基板処理システム。
- 前記熱板又は前記冷却板は、前記シートの上方に設けられていることを特徴とする、請求項9に記載の基板処理システム。
- 前記複数の処理装置は、基板に所定の処理液を供給して処理を行う液処理装置を有することを特徴とする、請求項1〜11のいずれかに記載の基板処理システム。
- 前記液処理装置は、前記シートの上方に設けられ、当該シート上に載置された基板に所定の処理液を供給する処理液供給部を有することを特徴とする、請求項12に記載の基板処理システム。
- 前記搬送装置は、少なくとも2つに分割され、
前記分割された搬送装置間には、前記液処理装置が配置され、
前記液処理装置は、
基板を載置する載置台と、
前記載置台を昇降させ、かつ回転させる移動機構と、
前記載置台の上方に設けられ、当該載置台上に載置された基板に所定の処理液を吐出する処理液ノズルと、を備え、
前記載置台は、
基板を載置するベルトと、
前記ベルトが巻回され、当該ベルトを前記一方向に移動させるために回転自在に構成された複数の支持ロールと、を有することを特徴とする、請求項12に記載の基板処理システム。 - 前記載置台と前記搬送装置との間には、前記搬送装置の前記搬送ロールの回転を前記載置台の前記支持ロールに伝達する回転伝達ロールが設けられ、
前記回転伝達ロールは、前記載置台の昇降時には前記載置台と前記搬送装置との間から退避可能であることを特徴とする、請求項14に記載の基板処理システム。 - 前記載置台の下方には、当該載置台を収容し、基板に処理を行う際に基板から飛散する処理液を回収するカップが設けられていることを特徴とする、請求項14又は15に記載の基板処理システム。
- 前記ベルトは、前記シートであることを特徴とする、請求項14〜16のいずれかに記載の基板処理システム。
- 前記搬送装置は、鉛直方向に多段に複数配置されていることを特徴とする、請求項1〜17のいずれかに記載の基板処理システム。
- 前記搬送装置は、水平方向に複数配置されていることを特徴とする、請求項1〜18のいずれかに記載の基板処理システム。
- 基板の処理システムであって、
基板を載置した状態で一方向に搬送する搬送装置と、
前記搬送装置に載置された基板に所定の処理を行う複数の処理装置と、を備え、
前記搬送装置は、
耐熱性と熱伝導性を有し、基板を載置するシートと、
前記シートを支持し、当該シートを前記一方向に移動させるために回転自在に構成された複数の搬送ロールと、
前記シートを巻き取って回収するコイラーと、を有することを特徴とする、基板処理システム。
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