JP4762872B2

JP4762872B2 - 回転ロールの汚れ除去機構

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Publication number: JP4762872B2
Application number: JP2006333125A
Authority: JP
Inventors: 義広川口; 昌孝境
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2005-12-26
Filing date: 2006-12-11
Publication date: 2011-08-31
Anticipated expiration: 2026-12-11
Also published as: JP2007201427A

Description

本発明は，ノズルから基板に塗布液が吐出される前に，ノズルから塗布液が供給される回転ロールの汚れ除去機構に関する。

例えば，液晶ディスプレイの製造プロセスのフォトリソグラフィ工程では，ガラス基板上にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布処理が行われている。

このレジスト塗布処理は，通常レジスト塗布処理ユニットにおいて行われ，例えばステージ上にガラス基板が載置され，そのガラス基板の上面をノズルが移動しながらレジスト液を吐出することにより行われている。

ところで，上述したようなレジスト塗布処理ユニットでは，塗布時のノズルの吐出状態を安定させるため，塗布前にノズルの先端部を回転ロールの上部表面に近づけ，回転ロールを回転させながら，ノズルから回転ロールにレジスト液を試し出しする処理が行われる。

また，レジスト液で汚れた回転ロールをそのままにしておくと，次の試し出しの際にノズルが汚れるので，試し出しの終了後に，回転ロールを洗浄する処理が行われている。従来より，この回転ロールの洗浄処理は，タンクに貯留された洗浄液内に回転ロールの下部を浸漬し，回転ロールを回転させることによって行われていた（特許文献１参照）。

特開平１０−７６２０５号公報

しかしながら，上述したようにタンクに洗浄液を貯留して回転ロールを洗浄する場合，回転ロールが入るような容積の大きいタンクに洗浄の度に毎回洗浄液を入れ替える必要があるので，洗浄液の使用量が著しく多くなっていた。このため，レジスト塗布処理ユニットのランニングコストが高くなっていた。

本発明は，かかる点に鑑みてなされたものであり，回転ロールを洗浄する洗浄液の使用量を低減し，レジスト塗布処理ユニットなどの塗布処理ユニットのランニングコストを低減することをその目的とする。

上記目的を達成するための本発明は，ノズルから基板に塗布液が吐出される前に，ノズルから塗布液が供給される回転ロールの汚れ除去機構であって，回転ロールの外周面の円周に環状に接触する接触部材と，前記接触部材を前記回転ロールの軸方向に沿って移動させる移動機構と，を有することを特徴とする。

本発明によれば，接触部材を回転ロールの軸方向に沿って移動させて，回転ロールの表面の汚れを掻き取ることができる。したがって，従来のようにタンクに洗浄液を溜めて回転ロールを洗浄する必要がないので，洗浄液の使用量を低減し，コストを低減できる。

前記回転ロールの汚れ除去機構は，前記接触部材の進行方向前方側の前記回転ロールの表面に洗浄液を吐出する洗浄ノズルを有するようにしてもよい。

前記洗浄ノズルは，前記回転ロールの上面に洗浄液を吐出できるようにしてもよい。

前記洗浄ノズルは，回転ロールの外周面を囲むように複数箇所に設けられていてもよい。

前記洗浄ノズルは，前記接触部材の移動方向の両側に設けられていてもよい。

前記接触部材は，前記移動機構により回転ロールの軸方向に移動する保持部材によって保持されており，前記洗浄ノズルは，前記保持部材に取り付けられていてもよい。

前記接触部材は，前記回転ロールの軸方向に沿って複数設けられていてもよい。

前記回転ロールには，２つの接触部材が近接して設けられ，前記２つの接触部材は，その間に隙間が形成されるように配置され，前記２つの接触部材の隙間には，回転ロールの表面に洗浄液を供給する洗浄液供給部が形成されていてもよい。

前記洗浄液供給部は，前記回転ロールの外周面の円周に沿って環状に形成されていてもよい。

前記洗浄液供給部には，洗浄液供給配管と洗浄液排出配管が接続されていてもよい。

前記２つの接触部材は，前記回転ロールの外周面の円周を囲むブロック内に設けられ，前記洗浄液供給部は，前記回転ロールの外周面に対向する前記ブロックの内周面に溝状に形成されていてもよい。

前記回転ロールの汚れ除去機構は，前記洗浄液供給部に洗浄液を供給するための負荷を検出し，その検出結果に基づいて，前記接触部材の交換の要否を判断する制御部を有していてもよい。

前記ブロックの移動方向の両側面には，前記回転ロールの表面をプリウェットするための洗浄液を当該回転ロールの表面に供給するプリウェット用洗浄液供給部が形成されていてもよい。

別の観点による本発明は，ノズルから基板に塗布液が吐出される前に，ノズルから塗布液が供給される回転ロールの汚れ除去機構であって，回転ロールの外周面の円周に沿って当該円周の半周に接触する半円状の接触部材と，前記接触部材を前記回転ロールの軸方向に沿って移動させる移動機構と，を有し，前記接触部材は，前記回転ロールの軸方向に沿って複数設けられ，前記回転ロールには，２つの接触部材が近接して設けられ，前記２つの接触部材は，その間に隙間が形成されるように配置され，前記２つの接触部材の隙間には，回転ロールの表面に洗浄液を供給する洗浄液供給部が形成され，前記洗浄液供給部に洗浄液を供給するための負荷を検出し，その検出結果に基づいて，前記接触部材の交換の要否を判断する制御部を有することを特徴とする。

発明者らの知見によると，本発明の汚れ除去機構によれば，接触部材が回転ロールの外周面の円周の半周に接触する場合でも，回転ロールを回転させて，接触部材を回転ロールの軸方向に沿って往復移動をさせることにより，回転ロールの表面の汚れを掻き取ることができる。また，接触部材が回転ロールの外周面の円周の半周のみに接触しているので，接触部材を回転ロールから取り外しやすくなり，接触部材のメンテナンスを容易に行うことができる。

前記汚れ除去機構は前記回転ロールの軸方向に沿って複数設けられ，前記回転ロールの軸方向から見たときに，前記複数の汚れ除去機構の接触部材と，前記回転ロールの外周面との接触部分は，前記回転ロールの外周面の全周に及んでいてもよい。

前記接触部材用洗浄液供給部は，前記回転ロールの端部の外周面に形成された環状の溝と，前記溝内に形成された洗浄液吐出口によって構成されていてもよい。

本発明によれば，回転ロールの洗浄液の使用量を低減できるので，例えば塗布処理ユニットのランニングコストを低減できる。

以下，本発明の好ましい実施の形態について説明する。図１は，本実施の形態にかかる回転ロールの汚れ除去機構が搭載された塗布現像処理装置１の構成の概略を示す平面図である。

塗布現像処理装置１は，図１に示すように例えば複数のガラス基板Ｇをカセット単位で外部に対して搬入出するためのカセットステーション２と，フォトリソグラフィ工程の中で枚葉式に所定の処理を施す各種処理ユニットが配置された処理ステーション３と，処理ステーションに３に隣接して設けられ，処理ステーション３と露光装置４との間でガラス基板Ｇの受け渡しを行うインターフェイスステーション５とを一体に接続した構成を有している。

カセットステーション２には，カセット載置台１０が設けられ，当該カセット載置台１０は，複数のカセットＣをＸ方向（図１中の上下方向）に一列に載置自在になっている。カセットステーション２には，搬送路１１上をＸ方向に向かって移動可能な基板搬送体１２が設けられている。基板搬送体１２は，カセットＣに収容されたガラス基板Ｇの配列方向（Ｚ方向；鉛直方向）にも移動自在であり，Ｘ方向に配列された各カセットＣ内のガラス基板Ｇに対して選択的にアクセスできる。

基板搬送体１２は，Ｚ軸周りのθ方向に回転可能であり，後述する処理ステーション３側のエキシマＵＶ照射ユニット２０や第６の熱処理ユニット群３４の各ユニットに対してもアクセスできる。

処理ステーション３は，例えばＹ方向（図１の左右方向）に延びる２列の搬送ラインＡ，Ｂを備えている。この搬送ラインＡ，Ｂにおいては，コロ搬送やアームによる搬送などにより，ガラス基板Ｇを搬送できる。処理ステーション３の正面側であるＸ方向負方向側（図１の下側）の搬送ラインＡには，カセットステーション２側からインターフェイスステーション５側に向けて順に，例えばガラス基板Ｇ上の有機物を除去するエキシマＵＶ照射ユニット２０，ガラス基板Ｇを洗浄するスクラバ洗浄ユニット２１，第１の熱処理ユニット群２２，第２の熱処理ユニット群２３，ガラス基板Ｇにレジスト液を塗布するレジスト塗布処理ユニット２４，ガラス基板Ｇを減圧乾燥する減圧乾燥ユニット２５及び第３の熱処理ユニット群２６が直線的に一列に配置されている。

第１及び第２の熱処理ユニット群２２，２３には，ガラス基板Ｇを加熱する複数の加熱処理ユニットとガラス基板Ｇを冷却する冷却処理ユニットが多段に積層されている。第１の熱処理ユニット群２２と第２の熱処理ユニット群２３との間には，このユニット群２２，２３間のガラス基板Ｇの搬送を行う搬送体２７が設けられている。第３の熱処理ユニット群２６にも同様に，加熱処理ユニットと冷却処理ユニットが多段に積層されている。

処理ステーション３の背面側であるＸ方向正方向側（図１の上方側）の搬送ラインＢには，インターフェイスステーション５側からカセットステーション２側に向けて順に，例えば第４の熱処理ユニット群３０，ガラス基板Ｇを現像処理する現像処理ユニット３１，ガラス基板Ｇの脱色処理を行うｉ線ＵＶ照射ユニット３２，第５の熱処理ユニット群３３及び第６の熱処理ユニット群３４が直線状に一列に配置されている。

第４〜第６の熱処理ユニット群３０，３３，３４には，それぞれ加熱処理ユニットと冷却処理ユニットが多段に積層されている。また，第５の熱処理ユニット群３３と第６の熱処理ユニット群３４との間には，このユニット群３３，３４間のガラス基板Ｇの搬送を行う搬送体４０が設けられている。

搬送ラインＡの第３の熱処理ユニット群２６と搬送ラインＢの第４の熱処理ユニット群３０との間には，このユニット群２６，３０間のガラス基板Ｇの搬送を行う搬送体４１が設けられている。この搬送体４１は，後述するインターフェイスステーション５のエクステンション・クーリングユニット６０に対してもガラス基板Ｇを搬送できる。

搬送ラインＡと搬送ラインＢとの間には，Ｙ方向に沿った直線的な空間５０が形成されている。空間５０には，ガラス基板Ｇを載置して搬送可能なシャトル５１が設けられている。シャトル５１は，処理ステーション３のカセットステーション２側の端部からインターフェイスステーション５側の端部まで移動自在であり，処理ステーション３内の各搬送体２７，４０，４１に対してガラス基板Ｇを受け渡すことができる。

インターフェイスステーション５には，例えば冷却機能を有しガラス基板Ｇの受け渡しを行うエクステンション・クーリングユニット６０と，ガラス基板Ｇを一時的に収容するバッファカセット６１と，外部装置ブロック６２が設けられている。外部装置ブロック６２には，基板Ｇに生産管理用のコードを露光するタイトラーと，ガラス基板Ｇの周辺部を露光する周辺露光装置が設けられている。インターフェイスステーション５には，上記エクステンション・クーリングユニット６０，バッファカセット６１，外部装置ブロック６２及び露光装置４に対して，ガラス基板Ｇを搬送可能な基板搬送体６３が設けられている。

この塗布現像処理装置１においては，カセットステーション２から搬入されたガラス基板Ｇが，洗浄処理，熱処理，レジスト塗布処理，乾燥処理などを順に行いながら，搬送ラインＡを通ってインターフェイスステーション５に搬送される。そして，ガラス基板Ｇがインターフェイスステーション５から露光装置４に搬送され，露光装置４で露光処理が終了したガラス基板Ｇが，熱処理，現像処理，熱処理などを行いながら，搬送ラインＢを通ってカセットステーション２に戻される。

次に，回転ロールの汚れ除去機構を有するレジスト塗布処理ユニット２４の構成について説明する。

レジスト塗布処理ユニット２４には，例えば図２及び図３に示すように搬送ラインＡに沿ったＹ方向に長いステージ７０が設けられている。ステージ７０の上面には，図３に示すように多数のガス噴出口７１が形成されている。ステージ７０の幅方向（Ｘ方向）の両側には，Ｙ方向に延びる一対の第１のガイドレール７２が形成されている。第１のガイドレール７２には，ガラス基板Ｇの幅方向の端部を保持して第１のガイドレール７２上を移動する一対の保持アーム７３がそれぞれ設けられている。ガス噴出口７１からガスを噴出することにより，ガラス基板Ｇを浮上させ，その浮上したガラス基板Ｇの両端部を保持アーム７３により保持して，ガラス基板Ｇを搬送ラインＡに沿って移動させることができる。

レジスト塗布処理ユニット２４のステージ７０上には，ガラス基板Ｇにレジスト液を吐出するノズル８０が設けられている。ノズル８０は，例えば図３及び図４に示すようにＸ方向に向けて長い略直方体形状に形成されている。ノズル８０は，例えばガラス基板ＧのＸ方向の幅よりも長く形成されている。ノズル８０の下端部には，図４に示すようにスリット状の吐出口８０ａが形成されている。ノズル８０の上部には，レジスト液供給源８１に通じるレジスト液供給管８２が接続されている。

図３に示すようにノズル８０の両側には，Ｙ方向に延びる第２のガイドレール８３が形成されている。ノズル８０は，第２のガイドレール８３上を移動するノズルアーム８４によって保持されている。ノズル８０は，ノズルアーム８４の駆動機構により，第２のガイドレール８３に沿ってＹ方向に移動できる。また，例えばノズルアーム８４には，昇降機構が設けられており，ノズル８０は，所定の高さに昇降できる。かかる構成により，ノズル８０は，ガラス基板Ｇにレジスト液を吐出する吐出位置Ｅと，それよりＹ方向負方向側にある後述する回転ロール９０及び待機部９１との間を移動できる。

図２及び図３に示すようにノズル８０の吐出位置Ｅよりも上流側，つまりノズル８０の吐出位置ＥのＹ方向負方向側には，ノズル８０の試し出しが行われる回転ロール９０が設けられている。回転ロール９０は，回転軸をＸ方向に向けて，例えばノズル８０よりも長く形成されている。この回転ロール９０の最上部にノズル８０の吐出口８０ａを近接させ，回転ロール９０を回転させながら，吐出口８０ａから回転ロール９０にレジスト液を吐出することにより，ノズル８０の吐出口８０ａにおけるレジスト液の付着状態を整えて，レジスト液の吐出状態を安定させることができる。

回転ロール９０のさらに上流側には，ノズル８０の待機部９１が設けられている。この待機部９１には，例えばノズル８０を洗浄する機能やノズル８０の乾燥を防止する機能が設けられている。

回転ロール９０には，回転ロール９０の汚れ除去機構１００が設けられている。以下，この回転ロール９０の汚れ除去機構１００について説明する。

回転ロール９０には，例えば図５に示すように厚みのある方盤形状の保持部材及びブロックとしての保持ブロック１１０が設けられている。保持ブロック１１０は，中央部に貫通孔１１０ａが形成されており，その貫通孔１１０ａに回転ロール９０が挿通されている。図６に示すように保持ブロック１１０の貫通孔１１０ａは，回転ロール９０とほぼ同じ径で形成され，保持ブロック１１０が回転ロール９０に対して軸方向（Ｘ方向）に移動できるように，貫通孔１１０ａは，回転ロール９０の径よりも僅かに大きく形成されている。

保持ブロック１１０の内部には，接触部材としてのシールリング１１１が設けられている。シールリング１１１は，図７に示すように薄い板状であって，回転ロール９０の周りを囲む環状に形成されている。シールリング１１１の内周面は，図６に示すようにＸ方向正方向側の一側面が傾斜した先細形状に形成され，最内周部となる先端部１１１ａは，回転ロール９０の外周面の円周に環状に接触している。シールリング１１１には，例えば耐薬性，耐摩耗性に優れたフッ素系樹脂，ゴム製などのシール材が用いられる。

保持ブロック１１０には，例えば図８に示すように移動機構１２０が設けられている。例えば回転ロール９０の下方のケースＪ内には，回転ロール９０の軸方向に沿って駆動プーリ１２１と従動プーリ１２２が設けられている。駆動プーリ１２１と従動プーリ１２２は，例えば回転ロール９０の軸方向の端部よりも外側に設けられている。駆動プーリ１２１には，例えば電源１２３により駆動するサーボモータ１２４が接続されている。駆動プーリ１２１と従動プーリ１２２との間には，ベルト１２５が掛けられ，そのベルト１２５には，スライダ１２６が固定されている。保持ブロック１１０は，支持体１２７を介してスライダ１２６に固定されている。サーボモータ１２４により，駆動プーリ１２１を回転させ，スライダ１２６をＸ方向に移動させることにより，保持ブロック１１０を回転ロール９０の軸方向に沿って回転ロール９０の両端部間に亘って移動させることができる。

例えば保持ブロック１１０の移動速度や移動タイミングなどの動作は，例えば制御部１２８により制御されている。なお，本実施の形態において，移動機構１２０は，駆動プーリ１２１，従動プーリ１２２，電源１２３，サーボモータ１２４，ベルト１２５，スライダ１２６，支持体１２７及び制御部１２８により構成されている。

回転ロール９０のＸ方向正方向側の端部には，例えば接触部材用洗浄液供給部としてのノズル１３０が設けられている。ノズル１３０は，例えば洗浄液供給管１３１を通じて洗浄液供給装置１３２に接続されている。ノズル１３０は，例えば保持ブロック１１０の内周面と回転ロール９０の外周面の隙間に向けられている。Ｘ方向正方向側に移動した保持ブロック１１０と回転ロール９０の隙間にノズル１３０から洗浄液を供給し，保持ブロック１１０内のシールリング１１１を洗浄できる。

例えば回転ロール９０の下方には，回転ロール９０から落下した汚れや洗浄液等を回収する受け皿１４０が設けられている。この受け皿１４０には，図示しない排出口が形成されており，回収した液体をその排出口を通じて排出できる。

次に，以上のように構成された回転ロール９０の汚れ除去機構１００の動作を，ガラス基板Ｇのレジスト塗布処理のプロセスと共に説明する。

例えばガラス基板Ｇがレジスト塗布処理ユニット２４のステージ７０上に搬送される前に，図２に示すようにノズル８０が待機部９１から回転ロール９０上に移動し，ノズル８０の吐出口８０ａが回転ロール９０の最上部に近接される。このとき保持ブロック１１０は，図８に示すように回転ロール９０のＸ方向負方向側の端部に待機している。

次に，回転ロール９０が回転され，ノズル８０の吐出口８０ａから回転ロール９０の表面にレジスト液が吐出されて，レジスト液の試し出しが行われる。こうして，吐出口８０ａにおけるレジスト液の付着状態が整えられ，ノズル８０の吐出状態が安定する。

吐出口８０ａのレジスト液の付着状態が整えられると，ノズル８０の吐出が停止され，ノズル８０は，図２に示すように所定の吐出位置Ｅに移動する。ノズル８０が吐出位置Ｅに移動した後，ガラス基板Ｇがレジスト塗布処理ユニット２４のステージ７０上を搬送ラインＡに沿って搬送される。ガラス基板Ｇがノズル８０の下方を通過する際に，ノズル８０からレジスト液が吐出され，ガラス基板Ｇの表面の全面にレジスト液が塗布される。

一方，ノズル８０が回転ロール９０の最上部から吐出位置Ｅに移動した後，回転ロール９０の汚れの除去処理が開始される。先ず，回転ロール９０のＸ方向負方向側に待機していた保持ブロック１１０が，図８に示すように移動機構１２０により，回転ロール９０の軸に沿って回転ロール９０のＸ方向正方向側に移動する。この際，図９に示すように回転ロール９０の表面に付着しているレジスト液Ｒが，保持ブロック１１０のシールリング１１１により掻き取られる。そして，保持ブロック１１０が回転ロール９０のＸ方向正方向側の端部付近まで移動すると，回転ロール９０の表面の全面のレジスト液Ｒが除去される。

保持ブロック１１０が回転ロール９０のＸ方向正方向側の端部まで移動し停止した後（図８に点線で示す），ノズル１３０から洗浄液，例えばレジスト液の溶剤が吐出され，保持ブロック１１０及びシールリング１１１が洗浄される。

その後，ノズル１３０からの洗浄液の吐出が停止され，保持ブロック１１０は，回転ロール９０のＸ方向負方向側の端部付近に戻される。

以上の実施の形態によれば，回転ロール９０に，回転ロール９０の外周面の円周に環状に接触するシールリング１１１を設け，移動機構１２０によって，シールリング１１１を回転ロール９０の軸方向に沿って移動できるようにしたので，回転ロール９０の表面の汚れをシールリング１１１によって掻き取ることができる。この場合，従来のようにタンクに洗浄液を貯留する必要がないので，洗浄液にかかるコストを低減できる。

また，回転ロール９０のＸ方向正方向側の端部には，洗浄液を吐出するノズル１３０が設けられたので，回転ロール９０のレジスト液を除去して汚れたシールリング１１１を洗浄することができる。

シールリング１１１にシール材が用いられたので，シールリング１１１と回転ロール９０との気密性が高く，回転ロール９０の表面の汚れを適正に除去することができる。

以上の実施の形態では，回転ロール９０の汚れを除去する際に保持ブロック１１０をＸ方向正方向側にのみ移動させていたが，保持ブロック１１０をＸ方向負方向側にも移動させ，保持ブロック１１０を往復移動させてもよい。

以上の実施の形態では，ノズル１３０によりシールリング１１１を洗浄していたが，例えば図１０に示すように回転ロール９０のＸ方向正方向側の端部の外周面に環状の溝１５０を形成し，その溝１５０内に，洗浄液吐出口１５１を形成してもよい。例えば洗浄液吐出口１５１は，溝１５０内の複数個所に形成される。洗浄液吐出口１５１は，回転ロール９０の内部を通過する配管１５２によって洗浄液供給装置１５３に接続されている。

そして，シールリング１１１がＸ方向正方向側の端部に移動したときに，シールリング１１１が回転ロール９０の溝１５０上に位置される。次に洗浄液吐出口１５１から洗浄液Ｈが吐出され，例えば溝１５０内に洗浄液Ｈが満たされて，シールリング１１１の先端部１１１ａがその洗浄液Ｈにより洗浄される。この場合，シールリング１１１の先端部１１１ａに集中的に直接洗浄液Ｈを供給できるので，シールリング１１１の洗浄を効率的に行うことができる。

以上の実施の形態では，シールリング１１１のみで回転ロール９０の汚れを除去していたが，回転ロール９０に洗浄液を供給してもよい。例えば図１１に示すように保持ブロック１１０のＸ方向正方向側に，洗浄液を吐出する洗浄ノズル１６０が設けられる。例えば保持ブロック１１０のＸ方向正方向側の側面１１０ｂの上部に，支持部材１６１が取り付けられ，その支持部材１６１によって洗浄ノズル１６０は支持されている。洗浄ノズル１６０は，例えば保持ブロック１１０よりも僅かにＸ方向正方向側の回転ロール９０の上面に向けられている。洗浄ノズル１６０は，例えば供給管１６２を通じて洗浄液供給装置１６３に接続されている。

そして，回転ロール９０の汚れを除去する際には，保持ブロック１１０がＸ方向正方向側に移動しながら，洗浄ノズル１６０からシールリング１１１の進行方向前方側の回転ロール９０の上面に洗浄液，例えばレジスト液の溶剤が吐出される。これにより，回転ロール９０の表面に洗浄液が供給され，例えば回転ロール９０の表面が洗浄される。

この実施の形態によれば，シールリング１１１による汚れの除去に加えて，洗浄液によって回転ロール９０が洗浄されるので，シールリング１１１では除去しきれない例えば回転ロール９０の表面の微小な凹凸に入り込んだ汚れも落とすことができる。また，洗浄液がシールリング１１１の進行方向前方側に供給されるので，シールリング１１１によってその洗浄液を除去することができる。さらに，洗浄ノズル１６０が保持ブロック１１０に固定されているので，洗浄ノズル１６０を移動させるための機構を別途設ける必要がない。

上記実施の形態において，洗浄ノズル１６０が回転ロール９０の上方側にのみ設けられていたが，図１２に示すように洗浄ノズル１６０が回転ロール９０の外周面の円周に沿った複数個所，例えば４箇所に配置され，各洗浄ノズル１６０から回転ロール９０に洗浄液を供給するようにしてもよい。また，これらの洗浄ノズル１６０は，回転ロール９０の軸周りの同一円周上に等間隔で配置されてもよい。この場合，回転ロール９０の表面の全面に洗浄液を確実に供給することができ，回転ロール９０の表面の微小な汚れを確実に除去できる。

上述の洗浄ノズル１６０は，保持ブロック１１０のＸ方向正方向側にのみ設けられていたが，図１３に示すようにＸ方向負方向側にも設けてもよい。この場合，Ｘ方向負方向側の洗浄ノズル１６５は，例えば保持ブロック１１０よりも僅かにＸ方向負方向側の回転ロール９０の上面に向けられる。洗浄ノズル１６５は，支持部材１６６によって保持ブロック１１０に支持されている。そして，回転ロール９０の汚れを除去する際には，先ず，Ｘ方向正方向側の洗浄ノズル１６０から洗浄液を吐出しながら，保持ブロック１１０がＸ方向正方向側に移動する。保持ブロック１１０がＸ方向正方向側の端部に移動した後，今度は，Ｘ方向負方向側の洗浄ノズル１６５から洗浄液を吐出しながら，保持ブロック１１０がＸ方向負方向側に移動する。こうすることによって，保持ブロック１１０を往復移動させる場合であっても，保持ブロック１１０の進行方向前方側に洗浄液を供給できる。

また，この実施の形態において，保持ブロック１１０の両側の洗浄ノズル１６０，１６５から同時に回転ロール９０の表面に洗浄液を供給しつつ，保持ブロック１１０を移動させてもよい。この場合，保持ブロック１１０の両側から洗浄液が供給されるので，回転ロール９０の表面の汚れをより確実に除去することができる。

前記実施の形態で記載したように保持ブロック１１０に洗浄ノズル１６０や洗浄ノズル１６５を設けた場合には，当該洗浄ノズルからの洗浄液の供給により，シールリング１１１を洗浄することもできるので，この場合，回転ロール９０のＸ方向正方向側に上述のノズル１３０や，溝１５０及び洗浄液吐出口１５１を設けなくてもよい。

前記実施の形態で記載したシールリング１１１は，回転ロール９０との接触により磨耗するので，適切な時期に取替える必要がある。このシールリング１１１の取替えの要否については，シールリング１１１を軸方向に駆動するための負荷を検出し，その負荷に基づいて判定してもよい。例えば，シールリング１１１の駆動するための負荷を検出し，その負荷が所定の設定値より小さくなった場合に，シールリング１１１が磨耗しており取り替えの必要があると判断してもよい。例えばシールリング１１１の駆動の負荷は，シールリング１１１を一定の速度で移動させる図８に示すサーボモータ１２４の電流値を計測することによって検出してもよい。このサーボモータ１２４の電流値の計測は，例えば制御部１２８により行う。この制御部１２８により，例えば電流値が予め設定された閾値を超えた場合に，シールリング１１１が取替えが必要であると判定され，閾値以下の場合に，シールリング１１１の取替えが必要でないと判定される。こうすることによって，シールリング１１１の取替え時期を適正に判断できる。なお，シールリング１１１の駆動源としてはサーボモータ１２４に限られず，エアアクチュエーターやその他の駆動源が用いられていてもよい。

以上の実施の形態では，回転ロール９０に，一つのシールリング１１１が設けられていたが，複数設けられていてもよい。例えば図１４に示すように保持ブロック１１０の内部に，上記シールリング１１１と同じ構成の２つのシールリング１７０，１７１が設けられる。シールリング１７０，１７１は，保持ブロック１１０の２枚の板１１０ａ，１１０ｂで挟み込まれることで，保持ブロック１１０の内部に固定されている。Ｘ方向正方向側の第１のシールリング１７０は，先端部１７０ａの傾斜面がＸ方向正方向側に向けられ，Ｘ方向負方向側の第２のシールリング１７１は，先端部１７１ａの傾斜面がＸ方向負方向側に向けられている。第１のシールリング１７０と第２のシールリング１７１は，５〜１０ｍｍ程度の隙間を設けて配置されている。第１のシールリング１７０と第２のシールリング１７１の隙間の保持ブロック１１０の内周面には，回転ロール９０の外周面を囲む環状の洗浄液供給部としての溝１７２が形成されている。この溝１７２と回転ロール９０の表面により，洗浄液が流れる環状の流路が形成されている。

溝１７２の最上部には，例えば洗浄液供給配管１７３が接続されている。洗浄液供給配管１７３は，例えば保持ブロック１１０内のシールリング１７０，１７１の間を通過し保持ブロック１１０の外部の洗浄液供給装置１７４に接続されている。溝１７２の最下部には，例えば洗浄液排出管１７５が接続され，その洗浄液排出管１７５は，保持ブロック１１０のシールリング１７０，１７１の間を通過し保持ブロック１１０の下部に開口している。なお，洗浄液供給装置１７４における洗浄液の供給圧の制御は，制御部１２８により行われている。

そして，回転ロール９０の汚れを除去する際には，洗浄液供給配管１７３から溝１７２に洗浄液Ｈが供給され，洗浄液排出管１７５から溝１７２内の洗浄液Ｈが排出されて，溝１７２内に洗浄液Ｈの流れが形成される。その状態で，保持ブロック１１０が回転ロール９０のＸ方向負方向側からＸ方向正方向側に移動する。このとき，進行方向側にある第１のシールリング１７０によって，回転ロール９０の表面の汚れが掻き取られる。また溝１７２内を通過する洗浄液Ｈによって，回転ロール９０の表面に残った微細な汚れが洗浄される。第２のシールリング１７１によって，回転ロール９０の表面に残る洗浄液Ｈが取り除かれる。

この実施の形態によれば，第１のシールリング１７０と第２のシールリング１７１の間の狭小な溝１７２に洗浄液Ｈが供給されるので，少ない洗浄液Ｈで効率的に回転ロール９０を洗浄できる。溝１７２に，洗浄液供給配管１７３と洗浄液排出配管１７５が接続されているので，溝１７２に洗浄液Ｈの流れを形成し，その洗浄液Ｈの流れによって回転ロール９０の汚れを効果的に落とすことができる。

なお，上記実施の形態のシールリングの数は，２つに限られず，３つ以上であってもよい。

前記実施の形態のシールリング１７０，１７１の取替え時期については，シールリング１７０，１７１が磨耗すればするほど，溝１７２の気密性が低下して，溝１７２に洗浄液を供給するための負荷が下がるので，その洗浄液の供給の負荷を検出し，その負荷に基づいてシールリング１７０，１７１の取替えの要否を判定してもよい。例えば洗浄液の供給のための負荷は，溝１７２に一定流量の洗浄液を供給する洗浄液供給装置１７４の供給圧を計測することによって検出してもよい。この洗浄液供給装置１７４の供給圧の計測は，例えば制御部１２８により行う。制御部１２８は，例えば供給圧が予め設定された閾値を超えた場合に，シールリング１７０，１７１の取替えが必要であると判定し，閾値以下の場合に，シールリング１７０，１７１の取替えが必要でないと判定する。こうすることによって，シールリング１７０，１７１の取替え時期を適正に判断できる。

前記実施の形態における保持ブロック１１０の進行方向（図１５のＸ方向）の両側面には，図１５に示すように，シールリング１７０，１７１が回転ロール９０の表面の汚れを掻き取る前に，回転ロール９０の表面に洗浄液Ｈを供給するプリウェット用の洗浄液供給口１８０，１８１がそれぞれ形成されていてもよい。洗浄液供給口１８０，１８１は，図１６に示すように回転ロール９０の径と同一幅の長方形の形状を有し，回転ロール９０の上方に形成されている。

洗浄液供給口１８０，１８１には，図１５に示すように洗浄液供給配管１８２，１８３がそれぞれ接続されている。洗浄液供給配管１８２，１８３は，保持ブロック１１０内を通過し保持ブロック１１０の外部の洗浄液供給装置１７４に接続されている。洗浄液供給配管１８２，１８３には，制御弁１８４，１８５がそれぞれ介設されおり，洗浄液供給部としての溝１７２に接続されている洗浄液供給配管１７３には，制御弁１７６が介設されている。なお，洗浄液供給装置１７４における洗浄液Ｈの供給圧の制御，及び制御弁１８４，１８５，１７６の制御は，制御部１２８により行われている。

そして，回転ロール９０の汚れを除去する際に，例えば保持ブロック１１０がＸ方向正方向に移動する場合には，先ず制御弁１８４が開けられ，洗浄液Ｈが洗浄液供給口１８０から吐出される。洗浄液Ｈは，保持ブロック１１０の側面を伝って回転ロール９０の表面に供給される。続いて，シールリング１７０が洗浄液Ｈで濡れた回転ロール９０の表面を移動し，回転ロール９０の表面の汚れが掻き取られる。この際，制御弁１７６が開けられて溝１７２に洗浄液Ｈが供給され，回転ロール９０の表面に残った微細な汚れが洗浄される。また，保持ブロック１１０がＸ方向負方向に移動する場合には，制御弁１８５が開けられて洗浄液Ｈが洗浄液供給口１８１から吐出され，続いてシールリング１７１により回転ロール９０の表面の汚れが掻き取られる。

この実施の形態によれば，シールリング１７０，１７１が回転ロール９０の表面の汚れが掻き取る前に，洗浄液供給口１８０，１８１から回転ロール９０の表面に洗浄液Ｈが供給されて，回転ロール９０の表面が洗浄液Ｈで濡れた状態になるので，シールリング１７０，１７１が回転ロール９０の表面を円滑に移動でき，回転ロール９０の表面の汚れを容易に掻き取ることができる。

以上の実施の形態では，ノズル１３０によりシールリング１１１を洗浄していたが，例えば図１７に示すように回転ロール９０の端部の外周面に，シールリング１１の先端を洗浄するためのブラシ１９０を設けてもよい。ブラシ１９０は，保持ブロック１１０がＸ方向正方向側の端部に移動したときに，シールリング１１１の先端とブラシ１９０が接触する位置に設けられる。

そして，保持ブロック１１０がＸ方向正方向側の端部に移動して，シールリング１１１の先端とブラシ１９０が接触すると，回転ロール９０が回転して，ブラシ１９０でシールリング１１１を洗浄することができる。

以上の実施の形態では，シールリング１１１，１７０，１７１は回転ロール９０の外周面の全周に接触して設けられていたが，図１８及び図１９に示すように，シールリング２００は例えば回転ロール９０の外周面の下半周に接触して設けられていてもよい。またかかる場合，前記実施の形態では，保持ブロック１１０は回転ロール９０の外周面の全周を囲むように設けられていたが，保持ブロック２１０は回転ロール９０の外周面の下半周に沿って設けられてもよい。

保持ブロック２１０は直方体であって，その上部には下に凹の円弧状の溝２１０ａが形成されている。溝２１０ａは回転ロール９０の外周面の下半周に沿って形成され，保持ブロック２１０が回転ロール９０に対して軸方向に移動できるように，溝２１０ａは回転ロール９０の径よりも僅かに大きく形成されている。

保持ブロック２１０の内部には，シールリング２００が設けられている。シールリング２００は，薄い板状であって，回転ロール９０の外周面の下半周に沿って半円状に形成されている。シールリング２００の内周面は，図２０に示すようにＸ方向の両側面が傾斜した先細形状に形成され，最内周部となる先端部２００ａは，回転ロール９０の外周面の下半周に接触している。

そして，回転ロール９０の汚れを除去する際には，先ず，保持ブロック２１０が例えば２００ｍｍ／ｓの速度でＸ方向正方向に移動する。この際，シールリング２００が回転ロール９０の表面を移動することで，回転ロール９０の表面の汚れが掻き取られる。次に，保持ブロック２１０が回転ロール９０の端部に達すると，回転ロール９０を例えば３回転半回転させる。その後，保持ブロック２１０がＸ方向負方向に移動し，シールリング２００により回転ロール９０の表面の汚れが掻き取られる。このような保持ブロック２１０の一連の往復運動が例えば３往復行われ，回転ロール９０の表面の汚れが除去される。

発明者らの知見によると，この実施の形態によれば，シールリング２００が半円形状であっても，回転ロール９０を回転させて，シールリング２００を往復移動させることで，回転ロール９０の表面の汚れを十分に除去することができる。また，シールリング２００を有する支持ブロック２１０が回転ロール９０の外周面の下半周に設けられたので，支持ブロック２１０を回転ロール９０から取り外しやすく，シールリング２００のメンテナンスを容易に行うことができる。

前記実施の形態における保持ブロック２１０の内部には，さらにガイド部材２０１，２０２が設けられていてもよい。ガイド部材２０１，２０２は，図２１に示すようにシールリング２００のＸ方向正方向側とＸ方向負方向側にそれぞれ設けられている。ガイド部材２０１，２０２は，薄い板状であって，回転ロール９０の外周面の下半周に沿って半円状に形成されている。Ｘ方向正方向側のガイド部材２０１は，先端部２０１ａの傾斜面がＸ方向正方向側に向けられ，Ｘ方向負方向側のガイド部材２０２は，先端部２０２ａの傾斜面がＸ方向負方向側に向けられている。

シールリング２００とガイド部材２０１の隙間の保持ブロック２１０の内周面には，回転ロール９０の外周面の下半周に沿って溝２２１が形成されている。シールリング２００とガイド部材２０２の隙間の保持ブロック２１０にも，溝２２１と同一形状の溝２２２が形成されている。この溝２２１，２２２と回転ロール９０の表面により，洗浄液Ｈが流れる流路がそれぞれ形成されている。

溝２２１，２２２の最下部には，例えば洗浄液供給配管２２３，２２４がそれぞれ接続されている。洗浄液供給配管２２３，２２４は，例えば保持ブロック２１０内のシールリング２００とガイド部材２０１，２０２の間を通過し保持ブロック２１０の外部の洗浄液供給装置２３０に接続されている。洗浄液供給配管２２３，２２４には，例えば制御弁２２５，２２６がそれぞれ介設されており，制御弁２２５，２２６の開閉によって，溝２２１あるいは溝２２２に供給される洗浄液Ｈが選択的に供給される。

以上の構成の汚れ除去機構１００を用いて回転ロール９０の汚れを除去する際には，先ず，保持ブロック２１０がＸ方向正方向に移動する。このとき，制御弁２２５が開けられ，溝２２１から回転ロール９０の表面に洗浄液Ｈが吐出される。続いて，シールリング２００が洗浄液Ｈで濡れた回転ロール９０の表面を移動することで，回転ロール９０の表面の汚れが掻き取られる。次に，保持ブロック２１０が回転ロール９０の端部に達すると，制御弁２２５が閉じられ，回転ロール９０を例えば３回転半回転させる。その後，保持ブロック２１０がＸ方向負方向に移動する。このとき，制御弁２２６が開けられ，溝２２２から回転ロール９０の表面に洗浄液Ｈが吐出される。そして，シールリング２００が洗浄液Ｈで濡れた回転ロール９０の表面を移動することで，回転ロール９０の表面の汚れを掻き取られる。このような保持ブロック２１０の一連の往復運動が例えば３往復行われ，回転ロール９０の表面の汚れが除去される。

以上の実施の形態では，シールリング２００が回転ロール９０の表面の汚れを掻き取る前に，溝２２１，２２２から回転ロール９０の表面に洗浄液Ｈが供給されて，回転ロール９０の表面が洗浄液Ｈで濡れた状態になるので，シールリング２００が回転ロール９０の表面を円滑に移動でき，回転ロール９０の表面の汚れを容易に掻き取ることができる。

以上の実施の形態では，回転ロール９０に，１組の保持ブロック２１０とシールリング２００が設けられていたが，複数組の保持ブロック２１０とシールリング２００が設けられていてもよい。例えば図２２に示すように，保持ブロック２１０と同じ構成の２個の保持ブロック２１０が，回転ロール９０の外周面の下半周と上半周にそれぞれ設けられていてもよい。したがって，回転ロール９０の軸方向から見たときに，２個のシールリング２００と回転ロール９０の外周面との接触部分は，回転ロール９０の外周面の全周に及んでいてもよい。

そして，シールリング２００，２００がそれぞれ回転ロール９０を軸方向に移動することで，回転ロール９０の表面の汚れを除去することができる。この実施の形態では，回転ロール９０を回転させずに，回転ロール９０の表面の汚れを除去することができるので，短時間で汚れを除去することができる。

なお，シールリング２００の形状は，半円形状より少し大きい，例えば２００度の角度を有する略半円形状であってもよい。かかる場合，２個のシールリング２００，２００が回転ロール９０の外周面の全周と確実に接触するので，回転ロール９０の汚れをより確実に除去することができる。また，シールリング２００の形状は半円形状に限らず，例えば１／３円形状でもよい。かかる場合，シールリング２００を回転ロール９０に対して３個設けると，回転ロール９０を回転させずに，回転ロール９０の表面の汚れを除去することができる。

以上の実施の形態では，保持ブロック２１０の内部に，ガイド部材２０１，２０２が設けられ，溝２２１，２２２が形成されることで，プリウェット用の洗浄液Ｈが回転ロール９０の表面に供給されていたが，溝２２１，２２２を形成する代わりに図１１に示した前記の洗浄ノズル１６０を設けて，回転ロール９０の表面に洗浄液Ｈを供給してもよい。また，この洗浄ノズル１６０は回転ロール９０の外周面に向けて複数設けられていてもよく，図１３に示した前記の洗浄ノズル１６５をさらに追加してもよい。

以上の実施の形態では，保持ブロック２１０の内部に，１個のシールリング２００が設けられていたが，複数，例えば２個設けられていてもよい。この２個のシールリング２００によって，図１４に示した前記の溝１７２が形成され，さらに前記の洗浄液供給配管１７３と制御部１２８が設けられることで，回転ロール９０の表面に洗浄液Ｈが供給される。

以上の実施の形態では，移動機構１２０の内部にベルト１２５を設けていたが，ベルト１２５に代えてボールネジを用いてもよい。ボールネジを例えばサーボモータで回転させることにより，保持ブロック１１０，２１０を回転ロール９０の軸方向に沿って回転ロール９０の両端部間に亘って移動させることができる。

以上，添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが，本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において，各種の変更例または修正例に相到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。

例えば以上の実施の形態では，本発明を，レジスト液の試し出しが行われる回転ロールの洗浄に対して適用していたが，現像液などの他の塗布液の試し出しが行われる回転ロールの洗浄に適用してもよい。また，洗浄液も溶剤に限られず，純水など他の液体であってもよい。本発明は，ガラス基板Ｇ以外の他のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）やフォトマスク用のマスクレチクル，半導体ウェハなどの他の基板に塗布液を塗布する場合にも適用できる。

本発明は，回転ロールを洗浄する洗浄液の使用量を低減する際に有用である。

本実施の形態における塗布現像処理装置の構成の概略を示す平面図である。レジスト塗布処理ユニットの構成の概略を示す縦断面の説明図である。レジスト塗布処理ユニットの構成の概略を示す平面図である。ノズルの説明図である。回転ロールに取り付けられた保持ブロックの斜視図である。保持ブロックと回転ロールの縦断面図である。シールリングの斜視図である。保持ブロックの移動機構の構成の概略を示す縦断面の説明図である。回転ロールの汚れを除去する際の保持ブロックと回転ロールの縦断面図である。回転ロールの端部に溝を形成した場合の保持ブロックと回転ロールの縦断面図である。洗浄ノズルを取り付けた保持ブロックの縦断面図である。洗浄ノズルを複数設けた場合の保持ブロックの正面図である。洗浄ノズルを前後に取り付けた保持ブロックの縦断面図である。２つのシールリングを備えた場合の保持ブロックと回転ロールの縦断面図である。プリウェット用洗浄液供給口が形成された保持ブロックの縦断面図である。プリウェット用洗浄液供給口が形成された保持ブロックの側面図である。回転ロールの端部にブラシを取り付けた場合の保持部ブロックと回転ロールの縦断面図である。保持ブロックが半円形状である場合の回転ロールに取り付けられた保持ブロックの斜視図である。保持ブロックと回転ロールの側面図である。保持ブロックと回転ロールの縦断面図である。プリウェット用洗浄液供給口が形成された保持ブロックと回転ロールの縦断面図である。保持ブロックを複数設けた場合の保持ブロックと回転ロールの縦断面図である。

符号の説明

１塗布現像処理装置
２４レジスト塗布処理ユニット
９０回転ロール
１１０保持ブロック
１１１シールリング
１２０移動機構
Ｈ洗浄液
Ｇガラス基板

Claims

ノズルから基板に塗布液が吐出される前に，ノズルから塗布液が供給される回転ロールの汚れ除去機構であって，
回転ロールの外周面の円周に環状に接触する接触部材と，
前記接触部材を前記回転ロールの軸方向に沿って移動させる移動機構と，を有することを特徴とする，回転ロールの汚れ除去機構。
前記接触部材の進行方向前方側の前記回転ロールの表面に洗浄液を吐出する洗浄ノズルを有することを特徴とする，請求項１に記載の回転ロールの汚れ除去機構。
前記洗浄ノズルは，前記回転ロールの上面に洗浄液を吐出できることを特徴とする，請求項２に記載の回転ロールの汚れ除去機構。
前記洗浄ノズルは，回転ロールの外周面を囲むように複数箇所に設けられていることを特徴とする，請求項２又は３のいずれかに記載の回転ロールの汚れ除去機構。
前記洗浄ノズルは，前記接触部材の移動方向の両側に設けられていることを特徴とする，請求項２〜４のいずれかに記載の回転ロールの汚れ除去機構。
前記接触部材は，前記移動機構により回転ロールの軸方向に移動する保持部材によって保持されており，
前記洗浄ノズルは，前記保持部材に取り付けられていることを特徴とする，請求項２〜５のいずれかに記載の回転ロールの汚れ除去機構。
前記接触部材は，前記回転ロールの軸方向に沿って複数設けられていることを特徴とする，請求項１〜６のいずれかに記載の回転ロールの汚れ除去機構。
前記回転ロールには，２つの接触部材が近接して設けられ，
前記２つの接触部材は，その間に隙間が形成されるように配置され，
前記２つの接触部材の隙間には，回転ロールの表面に洗浄液を供給する洗浄液供給部が形成されていることを特徴とする，請求項７に記載の回転ロールの汚れ除去機構。
前記洗浄液供給部は，前記回転ロールの外周面の円周に沿って環状に形成されていることを特徴とする，請求項８に記載の回転ロールの汚れ除去機構。
前記洗浄液供給部には，洗浄液供給配管と洗浄液排出配管が接続されていることを特徴とする，請求項８又は９のいずれかに記載の回転ロールの汚れ除去機構。
前記２つの接触部材は，前記回転ロールの外周面の円周を囲むブロック内に設けられ，
前記洗浄液供給部は，前記回転ロールの外周面に対向する前記ブロックの内周面に溝状に形成されていることを特徴とする，請求項８〜１０のいずれかに記載の回転ロールの汚れ除去機構。
前記洗浄液供給部に洗浄液を供給するための負荷を検出し，その検出結果に基づいて，前記接触部材の交換の要否を判断する制御部を有することを特徴とする，請求項８〜１１のいずれかに記載の回転ロールの汚れ除去機構。
前記ブロックの移動方向の両側面には，前記回転ロールの表面をプリウェットするための洗浄液を当該回転ロールの表面に供給するプリウェット用洗浄液供給部が形成されていることを特徴とする，請求項１１又は１２に記載の回転ロールの汚れ除去機構。
ノズルから基板に塗布液が吐出される前に，ノズルから塗布液が供給される回転ロールの汚れ除去機構であって，
回転ロールの外周面の円周に沿って当該円周の半周に接触する半円状の接触部材と，
前記接触部材を前記回転ロールの軸方向に沿って移動させる移動機構と，を有し，
前記接触部材は，前記回転ロールの軸方向に沿って複数設けられ，
前記回転ロールには，２つの接触部材が近接して設けられ，
前記２つの接触部材は，その間に隙間が形成されるように配置され，
前記２つの接触部材の隙間には，回転ロールの表面に洗浄液を供給する洗浄液供給部が形成され，
前記洗浄液供給部に洗浄液を供給するための負荷を検出し，その検出結果に基づいて，前記接触部材の交換の要否を判断する制御部を有することを特徴とする，
回転ロールの汚れ除去機構
ノズルから基板に塗布液が吐出される前に，ノズルから塗布液が供給される回転ロールの汚れ除去機構であって，
回転ロールの外周面の円周に沿って当該円周の半周に接触する半円状の接触部材と，
前記接触部材を前記回転ロールの軸方向に沿って移動させる移動機構と，を有し，
前記汚れ除去機構は前記回転ロールの軸方向に沿って複数設けられ，
前記回転ロールの軸方向から見たときに，前記複数の汚れ除去機構の接触部材と，前記回転ロールの外周面との接触部分は，前記回転ロールの外周面の全周に及んでいることを特徴とする，回転ロールの汚れ除去機構。
前記接触部材に対し洗浄液を供給する接触部材用洗浄液供給部を有し，
前記接触部材用洗浄液供給部は，前記回転ロールの端部の外周面に形成された環状の溝と，前記溝内に形成された洗浄液吐出口によって構成されていることを特徴とする，請求項１〜１５のいずれかに記載の回転ロールの汚れ除去機構。
ノズルから基板に塗布液が吐出される前に，ノズルから塗布液が供給される回転ロールの汚れ除去機構であって，
回転ロールの外周面の円周に沿って当該円周の一部に接触する接触部材と，
前記接触部材を前記回転ロールの軸方向に沿って移動させる移動機構とを有し，
前記接触部材は，前記回転ロールの軸方向に沿って複数設けられ，
前記回転ロールには，２つの接触部材が近接して設けられ，
前記２つの接触部材は，その間に隙間が形成されるように配置され，
前記２つの接触部材の隙間には，回転ロールの表面に洗浄液を供給する洗浄液供給部が形成され，
前記洗浄液供給部に洗浄液を供給するための負荷を検出し，その検出結果に基づいて，前記接触部材の交換の要否を判断する制御部をさらに有することを特徴とする，回転ロールの汚れ除去機構。
ノズルから基板に塗布液が吐出される前に，ノズルから塗布液が供給される回転ロールの汚れ除去機構であって，
回転ロールの外周面の円周に沿って当該円周の一部に接触する接触部材と，
前記接触部材を前記回転ロールの軸方向に沿って移動させる移動機構とを有し，
前記汚れ除去機構は前記回転ロールの軸方向に沿って複数設けられ，
前記回転ロールの軸方向から見たときに，前記複数の汚れ除去機構の接触部材と，前記回転ロールの外周面との接触部分は，前記回転ロールの外周面の全周に及んでいることを特徴とする，回転ロールの汚れ除去機構。
ノズルから基板に塗布液が吐出される前に，ノズルから塗布液が供給される回転ロールの汚れ除去機構であって，
回転ロールの外周面の円周に沿って当該円周の一部に接触する接触部材と，
前記接触部材を前記回転ロールの軸方向に沿って移動させる移動機構と，
前記接触部材に対し洗浄液を供給する接触部材用洗浄液供給部を有し，
前記接触部材用洗浄液供給部は，前記回転ロールの端部の外周面に形成された環状の溝と，前記溝内に形成された洗浄液吐出口によって構成されていることを特徴とする，回転ロールの汚れ除去機構。