JP7161418B2 - 基板洗浄装置、基板処理装置、洗浄部材のセルフクリーニング方法 - Google Patents
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Description
このため、上記従来技術では、変形例として、吐出孔に代えて、板状スクレイパーの一端縁付近に吸引孔を設け、ブラシに付着・堆積した汚染物質を掻き落とし、これを洗浄液と共に真空吸引する手法が提案されている(特許文献1の図5参照)。
しかしながら、上記従来技術の板状スクレイパーの一端縁付近は、接触によるブラシの損傷を低減させるために曲面となっており、また、ブラシは、複数の突起部を有することから、板状スクレイパーとブラシとの間に隙間が生じ易く、吸引孔からは周辺の空気ばかり吸引され、掻き落とした汚染物質及び洗浄液を効率よく吸引排除できない虞がある。
(2)上記(1)に記載された基板洗浄装置であって、前記接触領域は、平坦面によって形成されていてもよい。
(3)上記(1)または(2)に記載された基板洗浄装置であって、前記洗浄部材は、前記基板を回転しながらスクラブ洗浄するロール洗浄部材であってもよい。
(4)上記(3)に記載された基板洗浄装置であって、前記吸引領域には、前記ロール洗浄部材の回転軸方向に沿って延びるスリット溝と、前記スリット溝の底面に、前記回転軸方向において間隔をあけて配置された複数の吸引孔と、が形成されていてもよい。
(5)上記(4)に記載された基板洗浄装置であって、前記スリット溝の長さは、前記回転軸方向において、前記ロール洗浄部材よりも短くてもよい。
(6)上記(4)または(5)に記載された基板洗浄装置であって、前記スリット溝の長さは、前記回転軸方向において、前記基板よりも長くてもよい。
(7)上記(4)~(6)のいずれかに記載された基板洗浄装置であって、前記ロール洗浄部材の周面には、複数の突起部が形成されており、前記スリット溝の幅は、前記回転軸方向と直交する回転軸直交方向において、前記突起部の幅よりも小さくてもよい。
(8)上記(4)~(7)のいずれかに記載された基板洗浄装置であって、前記スリット溝の開口縁は、前記スリット溝を横断する横断面視及び前記スリット溝を縦断する縦断面視のそれぞれで、前記スリット溝の底面に向かって漸次傾きが深くなる円弧状に形成されていてもよい。
(9)上記(4)~(8)のいずれかに記載された基板洗浄装置であって、前記スリット溝の底面は、前記スリット溝を横断する横断面視で、前記吸引孔の開口位置が最も深くなる円弧状に形成されていてもよい。
(10)上記(1)~(9)のいずれかに記載された基板洗浄装置であって、前記セルフクリーニング装置は、前記接触領域及び前記吸引領域を有する接触吸引部材と、前記洗浄部材と前記接触吸引部材とが接触する接触位置と、前記洗浄部材と前記接触吸引部材とが離間する離間位置との間で、前記洗浄部材と前記接触吸引部材とを相対的に移動させる移動装置と、前記移動装置を制御する制御装置と、を備えてもよい。
(11)上記(10)に記載された基板洗浄装置であって、前記制御装置は、少なくとも前記洗浄部材が前記基板をスクラブ洗浄しているときに、前記洗浄部材と前記接触吸引部材とが接触するよう前記移動装置を制御してもよい。
(12)上記(10)または(11)に記載された基板洗浄装置であって、前記制御装置は、少なくとも前記洗浄部材が前記基板をスクラブ洗浄しない待機位置に位置するときに、前記洗浄部材と前記接触吸引部材とが接触するよう前記移動装置を制御してもよい。
(13)上記(1)~(12)のいずれかに記載された基板洗浄装置であって、前記セルフクリーニング装置は、前記接触領域及び前記吸引領域を有する接触吸引部材と、前記接触吸引部材の前記吸引領域に負圧を発生させる負圧発生装置と、前記負圧を計測する計測装置と、前記計測装置の計測結果に基づいて、前記接触吸引部材と接続する装置を、前記負圧発生装置と、前記吸引領域に正圧を発生させる正圧発生装置と、に切り替える切替装置と、を備えてもよい。
(16)上記(15)に記載された洗浄部材のセルフクリーニング方法であって、少なくとも前記洗浄部材が前記基板をスクラブ洗浄しているときに、前記洗浄部材と前記接触吸引部材とを接触させてもよい。
(17)上記(15)または(16)に記載された洗浄部材のセルフクリーニング方法であって、少なくとも前記洗浄部材が前記基板をスクラブ洗浄しない待機位置に位置するときに、前記洗浄部材と前記接触吸引部材とを接触させてもよい。
(18)上記(15)~(17)のいずれかに記載された洗浄部材のセルフクリーニング方法であって、前記接触吸引部材の前記吸引領域における負圧が正常値でなくなったとき、前記吸引領域に正圧を発生させてもよい。
図1は、第1実施形態に係る基板処理装置1の全体構成を示す平面図である。
図1に示す基板処理装置1は、シリコンウェハ等の基板Wの表面を平坦に研磨する化学機械研磨(CMP)装置である。この基板処理装置1は、矩形箱状のハウジング2を備える。ハウジング2は、平面視で略長方形に形成されている。
アトマイザ27は、研磨パッド22の研磨面に残留する研磨屑や砥粒などを高圧の流体により洗い流すことで、研磨面の浄化と、機械的接触であるドレッサ26による研磨面の目立て作業、すなわち研磨面の再生を達成する。
搬送ハンド45Aは、リニアガイド機構46によって、第1搬送位置TP1から第4搬送位置TP4の間を移動する。この搬送ハンド45Aは、リフター41から基板Wを受け取り、それを第2リニアトランスポータ43に受け渡すためのパスハンドである。
基板洗浄装置31は、基板Wを回転させる回転機構80と、基板Wに回転しながら接触しスクラブ洗浄するロール洗浄部材81(洗浄部材)と、を備える。回転機構80は、基板Wの外周を保持して鉛直方向に延びる軸回りに回転する複数の保持ローラ80aを備える。複数の保持ローラ80aは、モータ等の電気駆動部と接続されて水平回転する。また、複数の保持ローラ80aは、エアシリンダ等のエア駆動部によって上下に移動可能な構成となっている。
基板Wをセットする際には、先ず、上部ロール洗浄部材81a及び複数の保持ローラ80aを上昇させる。次に、上昇した複数の保持ローラ80aに基板Wを水平姿勢で保持させ、その後、基板Wの下面W2が下部ロール洗浄部材81bに接触するまで下降させる。
最後に、上部ロール洗浄部材81aを下降させ、基板Wの上面W1に接触させる。
基板洗浄装置31は、ロール洗浄部材81をセルフクリーニングするセルフクリーニング装置100を備える。図3に示すセルフクリーニング装置100は、上部ロール洗浄部材81aを移動させるアーム90に取り付けられている。
図4では、ロール洗浄部材81に対向する接触吸引部材101の対向面110aを平面視している。接触吸引部材101は、平面視でロール洗浄部材81の回転軸方向に延びる略長方形に形成されている。
固定板120には、洗浄板110の非対向面110b側に開口する複数の吸引孔112の開口端を取り囲むチャンバー121が形成されている。チャンバー121は、洗浄板110に対向する固定板120の対向面120aから非対向面120bに向かって所定の深さで形成されている。
具体的に、吸引領域100Bを形成するスリット溝111の長さは、回転軸方向(X軸方向)において、接触領域100Aを形成するロール洗浄部材81よりも短い。より具体的に、スリット溝111の長さは、回転軸方向において、ロール洗浄部材81のロールスポンジ82(弾性変形可能な周面部)よりも短い。つまり、回転軸方向において、ロールスポンジ82の長さ寸法をL1、スリット溝111の長さ寸法をL2としたとき、L2<L1の関係を有している。また、スリット溝111の長さは、回転軸方向において、基板Wよりも長い。つまり、スリット溝111の長さは、回転軸方向において、基板Wの直径よりも長い。したがって、基板Wの直径の寸法をL3としたとき、L3<L2<L1の関係を有している。仮に、L3の寸法が30cmであるすると、例えば、L1の寸法は、31cm~32cm程度であり、L2の寸法は、L1とL3の間の寸法であればよい。
なお、上述した各寸法はあくまで一例であり、装置の仕様によって適宜変更されるものであることは言うまでもない。
本実施形態のセルフクリーニング装置100は、図3に示すように、ロール洗浄部材81が基板Wをスクラブ洗浄している最中に、ロール洗浄部材81をセルフクリーニングする。なお、接触吸引部材101をロール洗浄部材81の周面に押し付けるタイミングは、基板Wのスクラブ洗浄中であってもよいし、スクラブ洗浄前であってもよい。
次に、本発明の第2実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
図7に示すように、第2実施形態は、セルフクリーニング装置100が、基板Wの洗浄位置から離間した、ロール洗浄部材81の待機位置に設置されている点で、上記実施形態と異なる。
次に、本発明の第3実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
図8に示すように、第3実施形態では、セルフクリーニング装置100が、吸引配管140に接続された上述した負圧発生装置160(なお、上述した実施形態では不図示)の他に、圧力センサ161(計測装置)と、正圧発生装置162と、切替装置163と、を備えている点で、上記実施形態と異なる。
圧力センサ161は、この負圧を計測するものであり、吸引配管140に設置されている。なお、負圧を計測できれば、例えば、圧力センサ161は、チャンバー121の中に設置しても構わない。
正圧発生装置162は、吸引配管140に流体(空気及び液体のいずれでもよい)を送り込み、複数の吸引孔112から流体を噴出(フラッシング)させるものである。正圧発生装置162は、例えば、流体を圧送するポンプであるとよい。
20 研磨部
30 洗浄部
31 基板洗浄装置
50 制御部(制御装置)
81 ロール洗浄部材(洗浄部材)
81a 上部ロール洗浄部材
81b 下部ロール洗浄部材
82 ロールスポンジ
82a 突起部
83 回転軸
84 洗浄液供給ノズル
85 洗浄液供給ノズル
90 アーム(移動装置)
100 セルフクリーニング装置
100A 接触領域
100B 吸引領域
101 接触吸引部材
102 アクチュエータ(移動装置)
111 スリット溝
111a 底面
111b 開口縁
112 吸引孔
160 負圧発生装置
161 圧力センサ(計測装置)
162 正圧発生装置
163 切替装置
163a 第1制御弁
163b 第2制御弁
W 基板
Claims (16)
- 基板をスクラブ洗浄する洗浄部材と、
前記洗浄部材をセルフクリーニングするセルフクリーニング装置と、を備え、
前記セルフクリーニング装置は、
前記洗浄部材と接触可能な接触領域と、
前記接触領域の中に収められた吸引領域と、を有し、
前記洗浄部材は、前記基板を回転しながらスクラブ洗浄するロール洗浄部材であり、
前記吸引領域には、
前記ロール洗浄部材の回転軸方向に沿って延びるスリット溝と、
前記スリット溝の底面に、前記回転軸方向において間隔をあけて配置された複数の吸引孔と、が形成されている、ことを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記接触領域は、平坦面によって形成されている、ことを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。
- 前記スリット溝の長さは、前記回転軸方向において、前記ロール洗浄部材よりも短い、ことを特徴とする請求項1または2に記載の基板洗浄装置。
- 前記スリット溝の長さは、前記回転軸方向において、前記基板よりも長い、ことを特徴とする請求項1~3のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 前記ロール洗浄部材の周面には、複数の突起部が形成されており、
前記スリット溝の幅は、前記回転軸方向と直交する回転軸直交方向において、前記突起部の幅よりも小さい、ことを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。 - 前記スリット溝の開口縁は、前記スリット溝を横断する横断面視及び前記スリット溝を縦断する縦断面視のそれぞれで、前記スリット溝の底面に向かって漸次傾きが深くなる円弧状に形成されている、ことを特徴とする請求項1~5のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 前記スリット溝の底面は、前記スリット溝を横断する横断面視で、前記吸引孔の開口位置が最も深くなる円弧状に形成されている、ことを特徴とする請求項1~6のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 前記セルフクリーニング装置は、
前記接触領域及び前記吸引領域を有する接触吸引部材と、
前記洗浄部材と前記接触吸引部材とが接触する接触位置と、前記洗浄部材と前記接触吸引部材とが離間する離間位置との間で、前記洗浄部材と前記接触吸引部材とを相対的に移動させる移動装置と、
前記移動装置を制御する制御装置と、を備える、ことを特徴とする請求項1~7のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。 - 前記制御装置は、少なくとも前記洗浄部材が前記基板をスクラブ洗浄しているときに、前記洗浄部材と前記接触吸引部材とが接触するよう前記移動装置を制御する、ことを特徴とする請求項8に記載の基板洗浄装置。
- 前記制御装置は、少なくとも前記洗浄部材が前記基板をスクラブ洗浄しない待機位置に位置するときに、前記洗浄部材と前記接触吸引部材とが接触するよう前記移動装置を制御する、ことを特徴とする請求項8または9に記載の基板洗浄装置。
- 前記セルフクリーニング装置は、
前記接触領域及び前記吸引領域を有する接触吸引部材と、
前記接触吸引部材の前記吸引領域に負圧を発生させる負圧発生装置と、
前記負圧を計測する計測装置と、
前記計測装置の計測結果に基づいて、前記接触吸引部材と接続する装置を、前記負圧発生装置と、前記吸引領域に正圧を発生させる正圧発生装置と、に切り替える切替装置と、を備える、ことを特徴とする請求項1~7のいずれか一項の基板洗浄装置。 - 基板を研磨する研磨部と、
前記基板を洗浄する洗浄部と、を有する基板処理装置であって、
前記洗浄部に、請求項1~11のいずれか一項に記載の基板洗浄装置を有する、ことを特徴とする基板処理装置。 - 基板をスクラブ洗浄する洗浄部材を接触吸引部材に接触させてセルフクリーニングする洗浄部材のセルフクリーニング方法であって、
前記接触吸引部材は、
前記洗浄部材と接触可能な接触領域と、
前記接触領域の中に収められた吸引領域と、を有し、
前記洗浄部材は、前記基板を回転しながらスクラブ洗浄するロール洗浄部材であり、
前記吸引領域には、
前記ロール洗浄部材の回転軸方向に沿って延びるスリット溝と、
前記スリット溝の底面に、前記回転軸方向において間隔をあけて配置された複数の吸引孔と、が形成されており、
前記洗浄部材と前記接触吸引部材とを接触させて前記接触領域を形成し、該接触領域の中に収められた前記吸引領域から、前記接触吸引部材を介して吸引を行う、ことを特徴とする洗浄部材のセルフクリーニング方法。 - 少なくとも前記洗浄部材が前記基板をスクラブ洗浄しているときに、前記洗浄部材と前記接触吸引部材とを接触させる、ことを特徴とする請求項13に記載の洗浄部材のセルフクリーニング方法。
- 少なくとも前記洗浄部材が前記基板をスクラブ洗浄しない待機位置に位置するときに、前記洗浄部材と前記接触吸引部材とを接触させる、ことを特徴とする請求項13または14に記載の洗浄部材のセルフクリーニング方法。
- 前記接触吸引部材の前記吸引領域における負圧が正常値でなくなったとき、前記吸引領域に正圧を発生させる、ことを特徴とする請求項13~15のいずれか一項に記載の洗浄部材のセルフクリーニング方法。
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