JP4722570B2 - 基板洗浄方法,記録媒体及び基板洗浄装置 - Google Patents
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Description
1 基板洗浄装置
5 スピンチャック
7 制御コンピュータ
7c 記録媒体
10 スクラバ機
11 スクラバアーム
12 洗浄体
15 移動機構
22 洗浄液供給路
25 回転駆動機構
62 基板洗浄用スポンジ
62a 接触面
90 クリーニング部
91 クリーニング用カップ
92 底板
92a 上面
100 吸引路
Claims (18)
- 基板に対して基板洗浄用部材を接触又は近接させながら,液体供給路から供給された基板洗浄用流体を前記基板洗浄用部材の内側から外側に流出させ,基板を洗浄する基板洗浄工程と,
前記液体供給路から供給された部材クリーニング用流体を前記基板洗浄用部材の内側から外側に流出させると共に,前記基板洗浄用部材の外側から前記基板洗浄用部材に向かって部材クリーニング用流体を供給し前記基板洗浄用部材の外側の吸引路を介して前記部材クリーニング用流体を吸引させて前記基板洗浄用部材をクリーニングする部材クリーニング工程と,を有し,
前記部材クリーニング工程において,前記基板洗浄用部材の内側から外側に流出する部材クリーニング用流体は,前記基板洗浄工程において前記基板洗浄部材の内側から外側に流出する基板洗浄用流体の流速よりも速い流速で,液体供給路内と吸引路内との圧力の差圧により前記基板洗浄用部材の内側から外側に流出すると共に,前記基板洗浄用部材の外側から前記基板洗浄用部材に向かって供給される部材クリーニング用流体は,前記基板洗浄用部材の内側から外側に流出する部材クリーニング用流体を押し流すことを特徴とする,基板洗浄方法。 - 前記部材クリーニング工程において,前記基板洗浄用部材をクリーニング補助面に接触又は近接させてクリーニングすることを特徴とする,請求項1に記載の基板洗浄用部材の基板洗浄方法。
- 前記クリーニング補助面は,回転部材の外周面であって,
前記回転部材を回転させながら,前記基板洗浄用部材を前記回転部材の外周面に接触又は近接させることを特徴とする,請求項2に記載の基板洗浄方法。 - 前記部材クリーニング工程において,前記基板洗浄用部材の外面に沿った前記部材クリーニング用流体の流れを形成することを特徴とする,請求項1〜3のいずれかに記載の基板洗浄方法。
- 前記クリーニング補助面を回転させ,
前記クリーニング補助面の回転数は,前記基板洗浄工程における基板の回転数より高くすることを特徴とする,請求項2に記載の基板洗浄方法。 - 前記部材クリーニング工程において,前記基板洗浄用部材を回転させてクリーニングすることを特徴とする,請求項1〜5のいずれかに記載の基板洗浄方法。
- 前記部材クリーニング用流体はミスト状であることを特徴とする,請求項1〜6のいずれかに記載の基板洗浄方法。
- 前記部材クリーニング用流体は気体であることを特徴とする,請求項1〜7のいずれかに記載の基板洗浄方法。
- 基板洗浄装置の制御コンピュータによって実行することが可能なソフトウェアが記録された記録媒体であって,
前記ソフトウェアは,前記制御コンピュータによって実行されることにより,前記基板洗浄装置に,請求項1〜8のいずれかに記載の基板洗浄方法を行わせるものであることを特徴とする,記録媒体。 - 基板を洗浄する装置であって,
基板を保持する保持機構と,
前記保持機構によって保持された基板に対して接触又は近接して基板を洗浄する基板洗浄用部材と,
前記基板洗浄用部材の内側から外側に流出させる基板洗浄用流体を供給する基板洗浄用流体供給路と,
前記基板洗浄用部材の内側から外側に流出させる部材クリーニング用流体を供給する部材クリーニング用流体供給路と,
前記基板洗浄用部材のクリーニングを行うクリーニング部と,
前記クリーニング部に,前記基板洗浄用部材の外側から前記部材クリーニング用流体を供給する外部部材クリーニング用流体供給路と,
前記クリーニング部に,前記基板洗浄用部材の内側から外側に流出した前記部材クリーニング用流体および前記基板洗浄用部材の外側から供給された部材クリーニング用流体を吸引する吸引路と,
前記基板洗浄用部材を前記保持機構によって保持された基板を洗浄する位置と前記クリーニング部との間で移動させる移動機構とを備え,
前記クリーニング部においては,前記部材クリーニング用流体供給路内と前記吸引路内との圧力の差圧によって,前記基板洗浄用部材によって基板を洗浄する際に前記基板洗浄用部材の内側から外側に流出する基板洗浄用流体の流速よりも速い流速で,前記基板洗浄用部材の内側から外側に流出した部材クリーニング用流体を吸引すると共に,前記外部部材クリーニング用流体供給路から供給された部材クリーニング用流体によって前記基板洗浄用部材の内側から外側に流出する部材クリーニング用流体を押し流すことで前記基板洗浄用部材をクリーニングする構成としたことを特徴とする,基板洗浄装置。 - 前記クリーニング部に,前記基板洗浄用部材を接触又は近接させるクリーニング補助面を設けたことを特徴とする,請求項10に記載の基板洗浄装置。
- 前記クリーニング補助面は,回転部材の外周面であって,
前記回転部材を回転させる回転部材駆動機構を備えたことを特徴とする,請求項11に記載の基板洗浄装置。 - 前記基板洗浄用部材の外面に沿って前記部材クリーニング用流体の流れを形成する構成としたことを特徴とする,請求項10〜12のいずれかに記載の基板洗浄装置。
- 前記クリーニング補助面を回転させるクリーニング補助面回転機構と,前記保持機構を回転させる保持機構回転機構と,前記クリーニング補助面回転機構及び前記保持機構回転機構の駆動を制御する制御部とを備え,
前記制御部は,前記基板洗浄用部材をクリーニングする際の前記クリーニング補助面の回転数が,前記基板を洗浄する際の基板の回転数より高くなるように制御することを特徴とする,請求項11に記載の基板洗浄装置。 - 前記基板洗浄用部材を回転させる基板洗浄用部材回転機構を備えたことを特徴とする,請求項10〜14のいずれかに記載の基板洗浄装置。
- 前記基板洗浄用部材は多孔質材からなることを特徴とする,請求項10〜15のいずれかに記載の基板洗浄装置。
- 前記部材クリーニング用流体はミスト状であることを特徴とする,請求項10〜16のいずれかに記載の基板洗浄装置。
- 前記部材クリーニング用流体は気体であることを特徴とする,請求項10〜17のいずれかに記載の基板洗浄装置。
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