JP5031671B2 - 液処理装置、液処理方法および記憶媒体 - Google Patents
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Description
5 ケーシング
12 排液カップ
15 外側排出部
16 内側排出部
17 第1環状部
18 第2環状部(内側環状部)
18b 第2の段部
19 第3環状部(外側環状部)
20 基板保持機構
21 回転プレート
30 処理液供給機構
34 リングバルブ(排出部開閉機構)
34a 第2の受け面
34b 第1の段部
40 処理液供給部
41 第1の供給源
42 第2の供給源
43 IPA供給源
45 DIW供給源
50 制御部
52 シリンダ機構
56 昇降機構
57 ノズル昇降機構
61 回転カップ
61a 第1の受け面
67 排気管
70 回転機構
W ウエハ(被処理基板)
Claims (9)
- 回転プレートと、回転プレートに設けられ被処理基板を水平状態で回転可能に保持する保持部材とを有する基板保持機構と、
基板保持機構に保持された被処理基板に対して第1の処理液および第2の処理液を選択的に供給する処理液供給機構と、
基板保持機構に保持された被処理基板の周縁外方に配置され、被処理基板を液処理した後の第1の処理液および第2の処理液を受ける第1の受け面を有する回転可能な回転カップと、
回転カップの下方に設けられ、回転カップの第1の受け面で受けた第1の処理液および第2の処理液をそれぞれ排出する外側排出部および内側排出部と、
回転カップの周縁外方に昇降自在に設けられ、外側排出部を開閉する排出部開閉機構とを備え、
回転カップの第1の受け面の下端は、基板保持機構によって保持された被処理基板より下方に延びるとともに、基板保持機構の回転プレートより下方に延び、
排出部開閉機構が上昇して外側排出部が開放された場合、回転カップの第1の受け面で受けた第1の処理液は、第1の受け面の下端から外側排出部へ向けて排出され、
排出部開閉機構が下降して外側排出部が閉鎖された場合、回転カップの第1の受け面で受けた第2の処理液は、第1の受け面の下端から内側排出部へ向けて排出され、
排出部開閉機構は、外側排出部に設けられた内側環状部との間で外側排出部を開閉するものであり、排出部開閉機構は、内周側下部に形成された第1の段部を有し、内側環状部は、上端に形成された第2の段部を有し、
排出部開閉機構が上昇して外側排出部が開放された場合、第1の受け面の下端は、排出部開閉機構の第1の段部下端と略同一の高さに位置し、
排出部開閉機構が下降して外側排出部が閉鎖された場合、排出部開閉機構の第1の段部と内側環状部の第2の段部とが係合することを特徴とする液処理装置。 - 回転カップの第1の受け面は、下方に向かうほどその内径が大きくなるように傾斜することを特徴とする請求項1記載の液処理装置。
- 排出部開閉機構は、回転カップの第1の受け面で受けた第1の処理液を受ける第2の受け面を有し、
排出部開閉機構が上昇して外側排出部が開放された場合、回転カップの第1の受け面で受けた第1の処理液は、第1の受け面の下端から、排出部開閉機構の第2の受け面を介して外側排出部へ向けて排出されることを特徴とする請求項1または2記載の液処理装置。 - 排出部開閉機構の第2の受け面は、下方に向かうほどその内径が大きくなるように傾斜することを特徴とする請求項3記載の液処理装置。
- 排出部開閉機構の第2の受け面は、排出部開閉機構が上昇して外側排出部が開放された状態で、回転カップの第1の受け面の外側下方に位置することを特徴とする請求項3または4記載の液処理装置。
- 請求項1記載の液処理装置を用いた液処理方法において、
排出部開閉機構を上昇させて外側排出部を開放する外側排出部開放工程と、
処理液供給機構によって、基板保持機構により保持された被処理基板に第1の処理液を供給する第1の処理液供給工程と、
被処理基板を水平状態で回転させ、被処理基板を第1の処理液により液処理する第1の処理工程と、
被処理基板を処理した後、回転カップの第1の受け面で受けた第1の処理液を、第1の受け面の下端から外側排出部へ向けて排出させる第1の排出工程とを備えたことを特徴とする液処理方法。 - 排出部開閉機構を下降させて外側排出部を閉鎖する外側排出部閉鎖工程と、
処理液供給機構によって、基板保持機構により保持された被処理基板に第2の処理液を供給する第2の処理液供給工程と、
被処理基板を水平状態で回転させ、被処理基板を第2の処理液により液処理する第2の処理工程と、
被処理基板を処理した後、回転カップの第1の受け面で受けた第2の処理液を、第1の受け面の下端から内側排出部へ向けて排出させる第2の排出工程とを更に備えたことを特徴とする請求項6記載の液処理方法。 - 請求項1記載の液処理装置を用いる液処理方法に使用され、コンピュータ上で動作するコンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記液処理方法は、
排出部開閉機構を上昇させて外側排出部を開放する外側排出部開放工程と、
処理液供給機構によって、基板保持機構により保持された被処理基板に第1の処理液を供給する第1の処理液供給工程と、
被処理基板を水平状態で回転させ、被処理基板を第1の処理液により液処理する第1の処理工程と、
被処理基板を処理した後、回転カップの第1の受け面で受けた第1の処理液を、第1の受け面の下端から外側排出部へ向けて排出させる第1の排出工程とを備えたことを特徴とする記憶媒体。 - 前記液処理方法は、
排出部開閉機構を下降させて外側排出部を閉鎖する外側排出部閉鎖工程と、
処理液供給機構によって、基板保持機構により保持された被処理基板に第2の処理液を供給する第2の処理液供給工程と、
被処理基板を水平状態で回転させ、被処理基板を第2の処理液により液処理する第2の処理工程と、
被処理基板を処理した後、回転カップの第1の受け面で受けた第2の処理液を、第1の受け面の下端から内側排出部へ向けて排出させる第2の排出工程とを更に備えたことを特徴とするを特徴とする請求項8記載の記憶媒体。
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