JP3420046B2

JP3420046B2 - 洗浄装置

Info

Publication number: JP3420046B2
Application number: JP33229197A
Authority: JP
Inventors: 秀哉田中; 健一宮本; 稔久保田; スワンソンウォルター
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 1996-11-19
Filing date: 1997-11-18
Publication date: 2003-06-23
Anticipated expiration: 2017-11-18
Also published as: JPH10209094A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、洗浄装置に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】例えば半導体デバイスの製造プロセスを
例にとって説明すると、ＬＳＩ等の半導体デバイスがそ
の表面に形成される半導体ウエハ（以下、「ウエハ」と
いう）表面は、プロセス中は、極めて厳格な清浄度を維
持する必要がある。そのため各種の製造、処理プロセス
の前後には、必要に応じてその都度ウエハの表面を洗浄
することがあり、例えばフォトリソグラフィ工程では、
かかる洗浄が不可欠になっている。

【０００３】そこで、フォトリソグラフィ工程などで
は、ウエハ表面を例えば特開昭５７−１０２０２４号公
報や特開昭６２−２５９４４７号公報等において開示さ
れたスクラブ洗浄装置により洗浄している。これらスク
ラブ洗浄装置は回転するウエハの表面に洗浄液を供給し
つつ、ブラシやスポンジ等の洗浄部材を備える洗浄体を
回転させながら、この洗浄部材を被洗浄体の表面に接触
させて、表面に付着した異物をこすり落として除去する
ようになっている。

【０００４】ところで、従来の洗浄部材の形状は例え
ば、次のようになっている。図１７、図１８はウエハの
回路パターン面（以下、「上面」という）用の洗浄部材
を備えている洗浄体３０１を各々正面と底面からみた形
状を示しており、洗浄液が供給される洗浄液供給孔３０
２を中心部に備える洗浄部材ホルダ３０３の底面に、円
柱形をしているＰＶＡスポンジ製の洗浄部材である洗浄
スポンジ３０４がこの洗浄液供給孔３０２を囲むように
環状に６個、取り付けられている。

【０００５】また図１９、図２０はウエハの回路パター
ン面の裏面（以下、「裏面」という）用の洗浄部材を備
えている洗浄体３１１を正面と底面からみた形状を各々
示しており、洗浄部材ホルダ３１２の底面に、洗浄部材
である毛製の洗浄ブラシ３１３と、材料がＰＶＡスポン
ジでできている洗浄スポンジ３１４の２種類が取り付け
られている。そして、洗浄ブラシ３１３は、洗浄部材ホ
ルダー３１２底面の洗浄液供給孔３１５を中心として、
十字状に８個、配置されている。また、洗浄ブラシ３１
３の取り付けられていない空間に、ちょうど中央に穴の
あいた円筒を縦に４分割した形状の洗浄スポンジ３１４
が洗浄ブラシ３１３を避けるように４個、配置されてい
る。このように裏面用の洗浄部材として洗浄ブラシ３１
３を併用しているのは、ウエハの裏面は汚れが付きやす
く、また上面と異なり、パターンへの配慮をする必要が
ないからである。

【０００６】そして、これら従来の上面用の洗浄部材で
ある洗浄スポンジ３０４と、裏面用の洗浄部材である洗
浄スポンジ３１４は共に、ウエハと接触する部分の周縁
部が直角に成形されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、ウエハ表面
と前記したようなスポンジの洗浄部材を接触させて洗浄
を行う場合、洗浄部材を支持するアームが少しでも傾く
と、周縁部に圧力が集中し、その結果、洗浄部材とウエ
ハ表面との接触圧が不均一になり所期の洗浄効果が得ら
れなくなってしまう。また、洗浄部材の周縁部の応力が
大きくなりこの周縁部だけがすぐに汚れてしまう。そし
て、洗浄を繰り返しているうちに、徐々に洗浄部材自身
の接触面全体が汚れ、所期の洗浄効果が得られなくなっ
てしまう。

【０００８】本発明はかかる点に鑑みてなされたもので
あり、洗浄部材と被洗浄体表面との接触圧を均一にし、
かつ洗浄部材を常に清浄に保つことのできる洗浄装置を
提供して、被洗浄体に対する洗浄部材の洗浄効果を高め
ることを目的としている。

【０００９】

【課題を解決するための手段】洗浄装置の参考例とし
て，回転する被洗浄体の被洗浄面に洗浄液を供給すると
共に，前記被洗浄面に洗浄部材を接触させて，被洗浄体
を洗浄する装置において，前記洗浄部材における前記被
洗浄面側の周縁部は外方に凸に湾曲した形状であり，被
洗浄体の外側には，洗浄液を貯留させる洗浄槽と，洗浄
部材が押し当てられて当該洗浄部材から汚れを除去する
クリーニング部材とが備えられ，前記クリーニング部材
は，洗浄槽内に斜めに設けられた傾斜板であるような洗
浄装置が提案できる。本発明である洗浄装置は，回転す
る被洗浄体の被洗浄面に洗浄液を供給すると共に，前記
被洗浄面に洗浄部材を接触させて，被洗浄体を洗浄する
装置において，前記洗浄部材における前記被洗浄面側の
周縁部は外方に凸に湾曲した形状であり，被洗浄体の外
側には，洗浄液を貯留させる洗浄槽と，洗浄部材が押し
当てられて当該洗浄部材から汚れを除去するクリーニン
グ部材とが備えられ，前記クリーニング部材は，洗浄槽
内で洗浄部材を受容する凹部を有するブロックであるこ
とを特徴とする。洗浄部材は液体を浸透させる材質から
なると共に，他から供給される洗浄液が洗浄部材の内部
から外方に向けて吐出されるように構成されていてもよ
い。また，前記洗浄液の供給圧力は可変であってもよ
い。なお，洗浄装置の参考例として，回転する被洗浄体
の被洗浄面に洗浄液を供給すると共に、前記被洗浄面に
洗浄部材を接触させて、被洗浄体を洗浄する装置におい
て、前記洗浄部材における前記被洗浄面側の周縁部が外
方に凸に湾曲した形状であるような洗浄装置が提案でき
る。このように周縁部を外方に凸に湾曲させた形状とす
れば、従来よりも圧力が集中する度合いが緩和され、例
えば洗浄部材を支持するアームの傾き等があっても、洗
浄部材と被洗浄体との接触面全体において、接触圧をよ
り均一にすることができる。

【００１０】前記参考例の洗浄装置は、洗浄部材は液体
を浸透させる材質からなると共に、他から供給される洗
浄液が洗浄部材の内部から外方に向けて吐出されるよう
になっていてもよく、この場合洗浄部材の表面に付着し
た塵埃等を洗浄液によって外方に捨て去ることができ
る。

【００１１】前記参考例の洗浄装置において、洗浄液の
供給圧力を可変にしてもよく、この場合供給圧を変えて
洗浄部材の膨圧度を調整することにより、被洗浄体との
接触圧を制御することができる。

【００１２】前記参考例の洗浄装置は、被洗浄体の外側
に洗浄液を貯留させる洗浄槽を有し、この洗浄槽には洗
浄液を供給自在とし、さらにこの洗浄槽には、超音波発
振子を設けられていてもよい。従って、この超音波発振
子の備えられている洗浄槽内にて洗浄部材自身を超音波
洗浄することが可能である。

【００１３】前記参考例の洗浄装置は、被洗浄体の外側
に、洗浄液を貯留させる洗浄槽の他に、洗浄部材が押し
当てられて当該洗浄部材から汚れを除去するクリーニン
グ部材を有していてもよい。これによって洗浄部材をク
リーニング部材に押し当てることで洗浄部材の汚れを除
去することができる。もちろんこの場合も、クリーニン
グ部材を洗浄槽内に設けると共にこの洗浄槽に洗浄液を
供給自在とすればなお好ましい。

【００１４】前記参考例のクリーニング部材としては、
例えば洗浄槽内に斜めに設けられた傾斜体を提案でき
る。傾斜体の例としては、傾斜板、さらには傾斜板の表
面に適宜凹凸や突条を形成したものが挙げられる。

【００１５】さらに参考例としてのクリーニング部材の
他の例としては、洗浄槽内で洗浄部材を受容する凹部を
有する形態を挙げられる。この場合も、凹部内表面に適
宜凹凸を形成するようにしてもよい。

【００１６】洗浄方法の参考例として、回転する被洗浄
体の被洗浄面に洗浄液を供給すると共に、前記被洗浄面
に洗浄部材を接触させて、被洗浄体を洗浄する方法にお
いて、洗浄部材は液体を浸透させる材質からなり、洗浄
部材が被洗浄体の外側にて待機しているときに、洗浄部
材の内部から外方に向けて洗浄液を吐出させるような洗
浄方法が提案できる。その結果、被洗浄体の洗浄を行っ
ていない待機している時間を利用して洗浄部材自身の洗
浄ができる。また、洗浄部材の表面に付着した塵埃等を
内部から吐出される洗浄液によって洗浄部材の外方に捨
て去ることができる。

【００１７】また，別の参考例として、回転する被洗浄
体の被洗浄面に洗浄液を供給すると共に、前記被洗浄面
に洗浄部材を接触させて、被洗浄体を洗浄する方法にお
いて、洗浄部材は液体を浸透させる材質からなり、洗浄
部材が被洗浄体の外側にて待機しているときに、当該洗
浄部材をクリーニング部材に接触させながら回転させる
と共に、洗浄部材の内部から外方に向けて洗浄液を吐出
させるような洗浄方法が提案できる。この洗浄方法で
は、クリーニング部材に接触させながら洗浄部材を回転
させると共に、洗浄部材の内部から外方に向けて洗浄液
を吐出させるようにしたので、被洗浄体の洗浄を行って
いない待機している時間を利用して洗浄部材自身の洗浄
ができる。

【００１８】さらに，別の参考例として、回転する被洗
浄体の被洗浄面に洗浄液を供給すると共に、前記被洗浄
面に洗浄部材を接触させて、被洗浄体を洗浄する方法に
おいて、洗浄部材は液体を浸透させる材質からなり、洗
浄液を貯留した洗浄槽を被洗浄体の外側に設けると共に
この洗浄槽内にクリーニング部材を設け、洗浄部材が被
洗浄体の外側にて待機しているときに、当該洗浄部材を
前記洗浄槽に浸漬させて前記クリーニング部材に接触さ
せながら当該洗浄部材を回転させると共に、洗浄部材の
内部から外方に向けて洗浄液を吐出させ、さらに前記洗
浄槽に洗浄液を供給しつつ洗浄槽内の洗浄液に振動を与
えるような洗浄方法が提案できる。したがって、この洗
浄方法によれば、さらにする洗浄槽内の洗浄液に対して
振動を与えるようにしたので、洗浄部材自身の洗浄をき
わめて高いレベルで実施することが可能になっている。

【００１９】洗浄方法の別の参考例としては、回転する
被洗浄体の被洗浄面に洗浄液を供給すると共に、前記被
洗浄面に洗浄部材を接触させて、被洗浄体を洗浄する方
法において、洗浄液を貯留した洗浄槽を被洗浄体の外側
に設け、洗浄部材を被洗浄体から待機させている間に、
前記洗浄槽に洗浄部材を浸漬させると共に、前記洗浄槽
に洗浄液を供給しつつ洗浄槽内の洗浄液に振動を与える
ような洗浄方法が提案できる。この洗浄方法によれば、
洗浄部材が待機している時間を利用して、洗浄部材自身
の洗浄を行うことができる。しかも、振動が与えられた
洗浄液によって洗浄されるので、洗浄部材自身の効果的
な洗浄を実施することができる。

【００２０】また，洗浄方法の別の参考例としては、回
転する被洗浄体の被洗浄面に洗浄液を供給すると共に、
前記被洗浄面に洗浄部材を接触させて、被洗浄体を洗浄
する方法において、洗浄液を貯留した洗浄槽を被洗浄体
の外側に設けると共にこの洗浄槽内にクリーニング部材
を設け、洗浄部材を被洗浄体から待機させている間に、
前記洗浄槽に洗浄部材を浸漬させると共に前記クリーニ
ング部材に当該洗浄部材を接触させながら回転させ、さ
らに前記洗浄槽に洗浄液を供給しつつ洗浄槽内の洗浄液
に振動を与えるような洗浄方法が提案できる。したがっ
て、この洗浄方法によれば、さらに効果的に洗浄部材自
身の洗浄を実施することができる。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、上述した参考例の実施の形
態を図に基づいて説明すると、この実施形態は被洗浄体
であるウエハの表面に対して、いわゆるスクラブ洗浄を
行うための洗浄装置として構成されており、図１はこの
洗浄装置を組み込んでいる洗浄システム１の斜視図であ
る。この洗浄システム１にはウエハＷを収納したキャリ
アＣを載置するキャリアステーション２があり、このキ
ャリアステーション２の中央には、キャリアＣを所定の
位置に位置決めして、その位置決めしたキャリアＣから
ウエハＷを搬入・搬出する機能を有する補助アーム３が
配置されている。この補助アーム３の背部には、補助ア
ーム３との間でのウエハＷの授受や各処理装置に対して
ウエハＷの搬入・搬出を行っているメインアーム５が待
機している。

【００２２】このメインアーム５は洗浄システム１の中
央に設けられた搬送路６に沿って移動可能である。そし
て、この搬送路６の両側には、各種の処理装置が配置さ
れている。具体的には、搬送路６の一方の側方には、例
えばウエハＷの上面を洗浄する上面洗浄装置７と、ウエ
ハＷの裏面を洗浄する裏面洗浄装置８が並んで配置され
ている。また、搬送路６の他方の側方には、加熱装置９
が４基積み重ねて設けられている。この加熱装置９は、
ウエハＷを加熱して乾燥させる機能を有している。そし
て、この加熱装置９に隣接して２基のウエハ反転装置１
０が積み重ねて設けられている。

【００２３】そして、洗浄システム１に組み込まれた本
実施形態にかかる上面洗浄装置７は、図２に示すよう
に、ウエハＷの上面を上向きにして水平な状態で、例え
ばベルヌーイ効果を利用して吸着保持しそのウエハＷを
回転させることが可能なスピンチャック２１と、このス
ピンチャック２１により保持されるウエハＷの上面に洗
浄液（純水）を供給するノズル２２と、スピンチャック
２１によって回転させられているウエハＷの表面を洗浄
するスクラバ本体２３と、スクラバ本体２３に備えられ
ている洗浄部材自体を洗浄する洗浄部材洗浄装置２４
と、外装であるケース２５の内部においてスピンチャッ
ク２１を挟んでスクラバ本体２３と対称位置に配置され
たメガソニックノズル２６とを備えている。

【００２４】ケース２５の前記搬送路６に面する側面に
は、ウエハＷをこの上面洗浄装置７に搬入・搬出する際
に上下動して開閉する開閉ドア２７が設けられている。
スピンチャック２１は、吸着保持したウエハＷを時計回
転方向ＣＷ（ｃｌｏｃｋｗｉｓｅ）に回転させるように
なっている。また、スピンチャック２１の周囲には、こ
の開閉ドア２７の開閉と連動して上下動し、ウエハＷの
洗浄時において、ウエハＷの表面に供給した洗浄液等が
周囲に飛び散ることを防止するカップ２８が設けられて
いる。

【００２５】図２に示すように、スクラバ本体２３は洗
浄体２９をスクラバアーム３０の先端に装着している。
そして、図３に拡大して示すように、スクラバアーム３
０の先端下方には図示しない駆動手段の稼働によって回
転する回転軸３１が設けられており、前記洗浄体２９
は、この回転軸３１の下端に取付板３２を介して固定さ
れて、回転駆動される構成になっている。この洗浄体２
９は下部に洗浄部材であるＰＶＡスポンジ製の洗浄スポ
ンジ３３を有しており、洗浄体２９を回転させてこの洗
浄スポンジ３３をウエハＷの表面に接触させることによ
り、ウエハＷ表面を洗浄するようになっている。また、
洗浄体２９の上部は両端が開口した中空の部材の洗浄部
材ホルダー３４で構成されており、洗浄体２９の上方に
設けられた洗浄体用ノズル３５から供給された洗浄液
（例えば純水）を洗浄部材ホルダー３４の内部を通して
洗浄スポンジ３３の内側から浸透させ、外方に吐出する
ようになっている。

【００２６】そして、図３、図４に示すように洗浄スポ
ンジ３３は被洗浄体側、即ち、スピンチャック２１上の
ウエハＷに対向した側が半球形状になっている。なお、
洗浄体２９を回転軸３１の下端に取り付けるための取付
板３２には、洗浄液を通すための孔である洗浄孔３６が
適当数設けられており、この洗浄孔３６を通った洗浄液
はさらに洗浄液供給孔３７を通過し洗浄スポンジ３３の
内部から浸透し外方に吐出するようになっている。

【００２７】洗浄部材洗浄装置２４は、図２に示される
ように、ウエハＷの洗浄位置から離れた位置にあり、洗
浄体２９の待機位置に配置されている。そして、図３に
拡大して示されるように、この洗浄部材洗浄装置２４は
超音波発振子３８と、洗浄液を貯留するための洗浄液貯
留槽３９と、この洗浄液貯留槽３９に洗浄液を供給する
洗浄槽用ノズル４０とを備えている。なお、前記した洗
浄スポンジ３３はこの洗浄液貯留槽３９に貯留された洗
浄液に浸漬自在である。

【００２８】一方、スクラバアーム３０の基端は、図２
に示すように、駆動手段４１の稼働によって回転する駆
動軸４２の上端に支持されていて、この駆動軸４２の回
転によってスクラバアーム３０が旋回することにより、
その先端に配置された洗浄体２９を、図２に示す待機位
置に配置された洗浄部材洗浄装置２４の上方の位置と、
スピンチャック２１によって保持されているウエハＷの
上方との間で往復移動できるようになっている。また、
スクラバアーム３０の基端を支持する駆動軸４２自体
も、昇降手段４３の稼働によって上下動する構成になっ
ており、この駆動軸４２の上下に従ってスクラバアーム
３０及びその先端の洗浄体２９が一体的に上下動するよ
うになっている。

【００２９】また、メガソニックノズル２６は先に説明
したスクラバ本体２３とほぼ同様の構成になっている
が、メガソニックアーム４４の先端に、図示しない励振
器からの超音波で励振した洗浄液を所望の振動数で供給
することのできるノズル本体４５を備えている。そし
て、このメガソニックノズル２６はスクラバ本体２３に
よるスクラバ洗浄を行った後に、ウエハＷの上面をさら
に清浄な状態にするため、再度ウエハＷを前記励振した
洗浄液で洗浄する機能を有している。

【００３０】一方、洗浄システム１に組み込まれている
裏面洗浄装置８は前記上面洗浄装置７と基本的に同じ構
成になっているが、洗浄体２９の代わりに、図５、図６
で示した洗浄体５０を備えている。この洗浄体５０はそ
の下部に毛製の洗浄ブラシ５１が、洗浄部材ホルダー５
２の洗浄液供給孔５３を中心に十字状に取り付けられて
いる。そして、さらに円柱の一端を半球形状にしたもの
を縦に４分割した形状の洗浄スポンジ５４が、半球形状
ではない他端を洗浄部材ホルダー５２底面に向け、洗浄
ブラシ５１を避けるように４個、取り付けられている。

【００３１】さて、以上のように構成された洗浄システ
ム１において、この参考例の実施の形態にかかる上面洗
浄装置７でウエハＷを洗浄する場合には、先ず、キャリ
アステーション２のキャリアＣに収納されたウエハＷを
補助アーム３によって取り出す。この補助アーム３が、
メインアーム５に受け渡しを行う位置まで移動し、ウエ
ハＷの位置決めを行った後、メインアーム５にウエハＷ
を渡す。その後の工程は、ウエハＷの上面洗浄のみ、あ
るいは上面洗浄と裏面洗浄を連続処理によって行うかに
よって異なる。

【００３２】先ず、メインアーム５によって搬送されて
きたウエハＷを、開放された開閉ドア２５から上面洗浄
装置７内に搬入し、スピンチャック２１の上方にウエハ
Ｗを移動した後、メインアーム５を下降させることによ
り、ウエハＷをスピンチャック２１上に受け渡す。その
後、メインアーム５は上面洗浄装置７内から退出し、開
閉ドア２７が閉じられ、同時にカップ２８が上昇してウ
エハＷの周囲を囲む。そして、スピンチャック２１は、
ウエハＷの上面を上向きにして水平な状態で例えばベル
ヌーイ効果を利用して吸着保持し、その保持したウエハ
Ｗを回転させる。

【００３３】こうしてウエハＷを回転させながら、スピ
ンチャック２１で支持されているウエハＷの中心近くの
所定の位置に、ノズル２２から洗浄液を供給すると、ウ
エハＷの表面全体に遠心力により洗浄液がむらなく供給
される。

【００３４】次に、スクラバ本体２３を稼働させてウエ
ハＷの表面全体をスクラブ洗浄する。即ち、待機状態に
あったスクラバ本体２３において、駆動軸４２の上昇に
従って洗浄体２９の下面の洗浄スポンジ３３を洗浄部材
洗浄装置２４上方に持ち上げた後、駆動軸４２の回転に
よってスクラバアーム３０を反時計回転方向ＡＣＷ（Ａ
ｎｔｉＣｌｏｃｋｗｉｓｅ）に旋回させ、洗浄体２９
をウエハＷの上方に移動させる。そして、洗浄体２９を
ウエハＷの中心に置いて洗浄体２９の回転を開始して、
洗浄体２９下部の洗浄スポンジ３３を下降させ、ウエハ
Ｗの表面の中心にて接触させる。

【００３５】次いで、スクラバアーム３０の時計回転方
向ＣＷへの旋回に従って洗浄体２９を、回転しているウ
エハＷの中心からウエハＷの周縁まで移動させる。こう
して、ウエハＷの表面全体に洗浄体２９の下部の洗浄ス
ポンジ３３を図７に示したように接触させることによ
り、洗浄体２９でウエハＷの表面全体を洗浄スポンジ３
３で洗浄する。

【００３６】かかるスクラブ洗浄において、洗浄スポン
ジ３３の下面は半球形状をしているので、図８に示した
ように、例えばスクラバアーム３０の傾き等があって
も、ウエハＷの表面と洗浄スポンジ３３との接触圧を均
一に保つことができ、接触面全体を所期の接触圧におい
て洗浄することができる。また、洗浄スポンジ３３の下
面周縁部には角の部分がなく、接触圧が局部的に過大に
高くなる場所はないので、洗浄スポンジ３３表面で部分
的に汚れがひどくなることはない。

【００３７】以上のようにしてスクラブ洗浄が終了する
と、洗浄体２９の回転を停止させ、駆動軸４２の上昇に
従って洗浄体２９を上方に持ち上げる。次に駆動軸４２
の回転によってスクラバアーム３０を時計回転方向ＣＷ
に旋回させ、洗浄体２９を洗浄部材洗浄装置２４の上方
に移動する。次いで、駆動軸４２の下降に従い、洗浄体
２９下部の洗浄スポンジ３３が洗浄部材洗浄装置２４の
内部に嵌入した待機状態に復帰する。ここで、洗浄液貯
留槽３９に洗浄槽用ノズル４０から洗浄液を供給しつ
つ、超音波発振子３８を作動させ、洗浄スポンジ３３を
超音波洗浄する。この超音波洗浄により洗浄スポンジ３
３自身を洗浄することができ、また待機時間における洗
浄なので、効率のよい装置の稼働になっている。さら
に、このとき同時に洗浄体用ノズル３５から洗浄液を供
給し、洗浄スポンジ３３の内部から外方に向け洗浄液を
吐出するようにすれば、洗浄スポンジ３３表面の塵埃等
を効果的に捨て去ることができ、より一層洗浄スポンジ
３３自体の洗浄効果を高めることができる。

【００３８】前記のようにしてスクラブ洗浄を終了した
ら、次に、メガソニックノズル２６を稼働させてウエハ
Ｗの表面全体を超音波で励振した洗浄液により、再度洗
浄する。

【００３９】このようにしてウエハＷの上面洗浄処理が
終了すると、カップ２８と開閉ドア２７が同時に下降
し、メインアーム５にウエハＷは上面洗浄装置７から取
り出される。この状態では、ウエハＷは上面が上に向い
ているので、そのウエハＷをウエハ反転装置１０に搬入
して反転させる。こうして反転させて裏面を上にした状
態のウエハＷを、次に、裏面洗浄装置８に搬入し、以下
同様の工程を繰り返すことによって、ウエハＷの裏面を
洗浄体５０下部の洗浄ブラシ５１と洗浄スポンジ５４に
より洗浄する。

【００４０】かかる裏面のスクラブ洗浄において、洗浄
スポンジ５４は円柱の一端を半球形状にしたものを縦に
４分割にした形状であり、その周縁部は凸に湾曲してい
るので、例えばこの洗浄スポンジ５４を支持するアーム
の傾き等があっても、ウエハＷの表面と洗浄スポンジ５
４との接触圧を均一にすることができる。従って、接触
面全体が所期の接触圧になっているので、確実に所定の
洗浄効果を得ることができる。

【００４１】このようにして、ウエハの上面、裏面の洗
浄処理が終了すると、スピンチャックの高速回転により
洗浄液を振りきり乾燥させる。その後、メインアーム５
によりウエハＷを加熱装置９に搬入し、例えば３０秒間
１００℃に加熱して乾燥させ、次いで、メインアーム５
によってウエハＷを補助アーム３に受け渡す。その後、
補助アーム３からキャリアＣにウエハＷを戻す。

【００４２】前記実施形態にかかる上面洗浄装置７によ
れば、洗浄スポンジ３３におけるウエハＷの表面側の端
面を半球形状にしたことにより、仮にスクラバアーム３
０に傾き等があったとしても、ウエハＷの上面と洗浄ス
ポンジ３３との接触圧を接触面全体において均一にする
ことができるので、確実な洗浄効果を得ることができ
る。また周縁部に角がないので、ウエハＷの上面と洗浄
スポンジ３３とが傾いて接触しても洗浄スポンジ表面が
部分的にひどく汚れることはない。洗浄スポンジ３３に
おけるウエハＷの表面側の周縁部は、外方に凸に湾曲し
ていればどのような形状でもかまわない。例えば、図９
に示した、円柱の下端の周縁部のみを丸く成形した形状
の洗浄スポンジ６１を用いても、前記実施形態と同様な
効果が得られる。このことは、裏面用の洗浄スポンジに
ついても同様である。

【００４３】また、既述したように洗浄スポンジ３３が
待機位置にある時に洗浄スポンジ３３の内部から外方に
向けて洗浄液を吐出するようにすれば、洗浄スポンジ３
３表面の塵埃等を効果的に、捨て去ることができる。

【００４４】しかも洗浄部材洗浄装置２４において、洗
浄スポンジ３３自身を超音波洗浄することができるの
で、洗浄体自身の清浄度を常に良好に保つことができ、
よりいっそう洗浄効果を高めることができる。そして被
洗浄体を洗浄していない待機時間を利用しながら、この
超音波洗浄をおこなうので効率の良い洗浄を実施するこ
とができる。

【００４５】なお、洗浄スポンジ３３内部への洗浄液の
供給圧を変え、洗浄スポンジの膨圧度を調節すれば、洗
浄スポンジ３３とウエハＷとの接触圧を制御することが
できる。この場合、洗浄スポンジ３３の材質として非浸
透性のものを使用してもよい。さらに、図１０で示すよ
うに、洗浄スポンジ７１を２層構造とし、内側に相対的
に硬い材質からなる第１のスポンジ７２、外側に相対的
に柔らかい材質からなる第２のスポンジ７３を配置した
構成としてもよい。この場合に第１のスポンジ７２には
例えば硬さが（３０％圧縮応力）→反発弾性８０〜９０
ｇ／ｃｍ²のような硬質のＰＶＡ又はＰＶＦを採用し、
第２のスポンジ７３には例えば硬さが３０％圧縮応力２
０〜３０ｇ／ｃｍ²のような軟質のＰＶＡ又はＰＶＦ等
を採用することが提案できる。

【００４６】次に本発明の実施の形態について説明す
る。本実施の形態にかかる洗浄装置も、前記実施形態と
同様、前出洗浄システム１に組み込まれる上面洗浄装置
として構成されている。図１１、図１２に示したよう
に、本実施の形態にかかる上面洗浄装置２０１は、スピ
ンチャック２２１と、ノズル２２２と、スクラバ本体２
２３と、洗浄部材洗浄装置２２４と、ケース２２５と、
メガソニックノズル２２６とを備えている。

【００４７】スピンチャック２２１はウエハＷの上面す
なわち表面が上向きになるようにウエハＷを吸着保持
し、ウエハＷを回転させるようになっている。ノズル２
２２はスピンチャック２２１上のウエハＷに洗浄液（純
水）を供給するようになっている。スクラバ本体２２３
は洗浄ブラシ部２２９を有し、回転中のウエハＷの上面
に洗浄ブラシ部２２９を当接させ、上面をスクラブ洗浄
するようになっている。

【００４８】洗浄部材洗浄装置２２４はスピンチャック
２２１から離れたホーム位置、すなわち待機位置に設け
られ、ここで非使用時の洗浄ブラシ部２２９をクリーニ
ングするようになっている。メガソニックノズル２２６
は、処理室２２５の内部においてスピンチャック２２１
を挟んでスクラバ機構２２３の反対側に配置されてい
る。

【００４９】スクラバ本体２２３は、前記洗浄ブラシ部
２２９と、スクラバアーム２３０ａと、駆動軸２４２
と、アームを旋回するための駆動手段２４１と、アーム
を昇降させるための昇降手段２４３とを具備している。
スクラバアーム２３０ａの基端側は是前記駆動２４２に
より支持され、水平アーム３０ａの自由端側には洗浄ブ
ラシ部２２９が取り付けられている。駆動手段２４１に
よりスクラバアーム２３０ａを駆動軸２４２のまわりに
旋回させると、洗浄ブラシ部２２９はスピンチャック２
２１の外方の待機位置からスピンチャック２２１の直上
の使用位置まで移動するようになっている。使用位置に
て洗浄ブラシ部２２９はスピンチャック２２１上のウエ
ハＷの中央部と周縁部とを往復移動されるようになって
いる。

【００５０】スピンチャック２２１は、吸着保持したウ
エハＷを時計回転方向ＣＷ（ｃｌｏｃｋｗｉｓｅ）に回
転させるようになっている。また、スピンチャック２２
１の周囲にはカップ２２８が設けられ、ウエハＷの洗浄
時においてウエハＷの表面に供給した洗浄液等が周囲に
飛び散ることを防止するようになっている。

【００５１】図１２に示すように、処理室２２５は前出
搬送路６側に搬入出口２２５ａをもち、この搬入出口２
２５ａは開閉ドア２２７により開閉されるようになって
いる。ウエハＷはメインアームにより搬入出口２２５ａ
を介して処理室２２５に出し入れされ、処理室２２５内
のスピンチャック２２１上に移載される。スピンチャッ
ク２２１はウエハＷを吸着保持するための真空吸着保持
機構を備えている。真空吸着保持機構の排気通路２１３
ｂはスピンチャック２２１の回転軸２１３ａを通り、ス
ピンチャック２２１の上面で開口している。回転軸２１
３ａはシール軸受を介してモータ２１４Ａの駆動軸に連
結している。

【００５２】カップ２２８は同心円状の内外カップ部２
２８ａ、２２８ｂを有する。外カップ部２２８ａは処理
室２２５の底部に繋設固定された底板２１８の上に起立
している。内カップ部２２８ｂは外カップ部２２８ａの
内側に設けられている。内カップ部２２８ｂは、上端開
口側に両方に挟まるテーパ部２２８ｄと、内向きのフラ
ンジ部２２８ｅとを備えている。

【００５３】内カップ部２２８ｂの円筒状基部２２８ｃ
は部材２２８ｇ、２２８ｈを介して下方のロッド２１７
ａに連結されている。このロッド２１７ａをシリンダ２
１７から突出進入させると、内カップ部２２８ｂがＺ軸
に沿って昇降するようになっている。この内カップ部２
２８ｂは、上昇時にはスピンチャック２２１及びウエハ
Ｗの周囲を包囲し、下降時には上端フランジ部２２８ｅ
がスピンチャック２２１の基板載置部より下方に位置す
るようになっている。

【００５４】連結部材２２８ｈには前記シャッタ状の開
閉ドア２２７が取り付けられ、この開閉ドア２２７は、
前記シリンダ２１７によって開閉動作されるようになっ
ている。すなわち、開閉ドア２２７は内カップ部２２８
ｂと同期して昇降されるようになっている。

【００５５】処理室２２５の天井部には多数の空気導入
孔２２５ｂが設けられ、これらの空気導入孔２２５ｂを
介して処理室２２５内に清浄空気が供給されるようにな
っている。一方、底板２１８には多数の孔２１８ａが形
成され、これらの孔２１８ａを介してドレンライン（図
示せず）及び排気ライン（図示せず）に廃液及び排ガス
がそれぞれカップ２２８内から排出されるようになって
いる。

【００５６】次に、図１３及び図１４を参照しながらス
クラバ本体２２３及びスピンチャック２２１について説
明する。図１３に示すように、スピンチャック２２１は
モータ２１４Ａの駆動軸に回転可能に支持され、さらに
モータ２１４Ａはシリンダ２１４Ｂのロッドにより昇降
可能に支持されている。すなわち、シリンダ２１４Ｂか
らロッドを突出させるとスピンチャック２２１が上昇
し、シリンダ２１４Ｂ内にロッドを退入させるとスピン
チャック２２１が下降するようになっている。

【００５７】スクラバ本体２２３は加圧調整機構２８０
及び制御器２９０を備えている。加圧調整機構２８０は
ウエハＷに当接する洗浄ブラシ部２２９の加圧力を調整
するものである。加圧調整機構２８０は昇降シリンダ２
８１を有し、この昇降シリンダ２８１のロッド２８１ａ
は昇降部材２８２を介してスクラバアーム２３０ａの適
宜箇所に連結されている。連結部材２８２はリニアガイ
ド２８４を介して垂直壁２８３の一側面に連結されてい
る。

【００５８】垂直壁２８３の反対側面には他のリニアガ
イド２８５を介してバランスウェイト２８６が設けられ
ている。このバランスウェイト２８６と昇降部材２８２
とはプーリ２８７に掛け渡されたワイヤ２８８を介して
互いに連結されている。なお、プーリ２８７は垂直壁２
８３の頂部に取り付けられている。

【００５９】ここで、洗浄ブラシ部２２９及びアーム２
３０ａの合計重量とバランスウェイト２８６の重量とが
均衡するようにゼロバランスが調整される。昇降部材２
８２には加圧用シリンダ２８９が連結されている。この
加圧用シリンダ２８９の操作により洗浄ブラシ部２２９
がウエハＷの上面、すなわち被洗浄面に加圧状態で接触
される。この加圧力は加圧用シリンダ２８９に加えられ
る空気圧力によってコントロールされるようになってい
る。

【００６０】図１３、図１４に示すように、洗浄ブラシ
部２２９は垂直軸２３１、プーリ２９１ｃ及びベルト２
９１ｄを介してモータ２９１の駆動軸２９１ｅに連結さ
れ、モータ２９１の回転駆動力が洗浄ブラシ部２２９に
伝達されるようになっている。垂直軸２３１はスリーブ
２３０ｆ内の１対の軸受２３０ｇを介してスクラバアー
ム２３０ａに支持されている。このスリーブ２３０ｆ内
には排気チューブ２３０ｈが連通しており、排気チュー
ブ２３０ｈを介してスリーブ２３０ｆの内部が排気され
るようになっている。なお、モータ２１４Ａ、２９１お
よびシリンダ２１４Ｂ、２１７、２８１、２８９の各電
源は制御器２９０の出力側に接続され、それぞれの動作
がこの制御器２９０によって制御されるようになってい
る。

【００６１】スクラバアーム２３０ａにはノズル２３５
が取り付けられている。このノズル２３５は供給管２３
５ａを介して洗浄液供給源２９２に連通している。ノズ
ル２３５と洗浄液供給源２９２との間には圧力制御弁２
９３が設けられ、ノズル２３５への洗浄液の供給圧力が
可変に調整されるようになっている。なお、圧力制御弁
２９３も前記制御器２９０によって制御される。またノ
ズル２３５の吐出口は洗浄ブラシ部２２９の上部液受け
２３６ａに向けられ、この上部液受け２３６ａに洗浄液
が吐出供給されるようになっている。

【００６２】図１５に示すように、洗浄ブラシ部２２９
のホルダ２３４は取付板２３２を介して垂直軸２３１の
下端に連結されている。また、ホルダ２３４の下部には
洗浄部材としてのスポンジ２３３が着脱自在に装着され
ている。取付板２３２はホルダ２３４の上部液受け２３
６ａのなかに嵌め込まれている。またこの取付板２３２
には複数の連通孔２３６ｂが形成され、これら連通孔２
３６ｂを介して上部液受け２３６ａは下方のテーパ部２
３７ａに連通している。

【００６３】さらにテーパ部２３７ａは供給孔２３７ｂ
を介して下部液溜め２３７ｃに連通している。ノズル２
３５から供給された洗浄液（純水）はホルダ２３４の内
部を通過して下部液溜め２３７ｃに導入され、下部液溜
め２３７ｃからスポンジ２３３の内部に浸透し、スポン
ジ２３３から外方に流れ出るようになっている。

【００６４】なおスポンジ２３３は、ポリビニルアルコ
ール（ＰＶＡ）やポリビニルボルマール（ＰＶＦ）を出
発原料とする発泡体からなり、経時変化が少なく、軟ら
かいものである。例えば、スポンジ２３３は３０％圧縮
応力（反発弾性）、２０〜８０ｇ／ｃｍ²の硬度を持
つ。またこのスポンジ２３３の最大含水率は約１２００
％であり、見掛けの比重は約０．０８である。また、ホ
ルダ２３４はポリプロピレン等の樹脂でできている。ま
た図１５に示すように、スポンジ２３３の下部は半球状
または疑似半球状に形成され、その表面は角部のない滑
らかな形状を呈している。

【００６５】洗浄部材洗浄装置２２４は、図１１に示す
ように、スピンチャック２２１から離れた洗浄ブラシ部
２２９のホーム位置（待機位置）に設けられている。図
１５に示すように、洗浄部材洗浄装置２２４は、超音波
発振子２３８と、洗浄液貯留槽２３９と、ノズル２４０
と、クリーニング部材としての洗濯板２４６ａとを備え
ている。

【００６６】洗浄液貯留槽２３９の中には前記板状のク
リーニング部材としての洗濯板２４６ａが設けられてい
るが、この洗濯板２４６ａはストッパ２４６ｂにより斜
めに位置決めされ、その傾斜面にスポンジ３３の下部が
押し当てられるようになっている。洗濯板２４６ａの傾
斜角度は３０°〜６０°であることが好ましい。また、
洗浄液貯留槽２３９の底部にはドレン２４７が設けられ
ている。なお洗浄液貯留槽２３９は耐食性の合金又は樹
脂でできている。

【００６７】洗浄部材洗浄装置２２４において、洗浄ブ
ラシ部２２９のスポンジ２３３は定期的に洗浄される。
すなわち、洗浄液貯留槽２３９内にノズル２４０から洗
浄液を供給し、スポンジ２３３を自転させながら洗濯板
２４６ａに押し付ける。これによりスポンジ２３３の表
面に付着した汚れが除去され、スポンジ２３３の表面は
洗浄化される。なお、スポンジ２３３のクリーニング中
に電源２３８ａからの電力の供給によって超音波発振子
２３８により超音波を洗浄液貯留槽２３９の中の洗浄液
に発振すると、さらにスポンジ２３３のクリーニング効
果が増大する。また、洗濯板２４６ａはポリプロピレン
等の硬質の樹脂からなり、その表面に細かな凹凸がある
ことが好ましい。

【００６８】メガソニックノズル２２６は、スクラバ本
体２２３によるスクラブ洗浄を行った後に、ウエハＷの
上面、すなわち被洗浄面をさらに清浄な状態にするた
め、被洗浄面を超音波で励振された洗浄液で洗浄するた
めのものである。このメガソニックノズル２２６はスク
ラバ本体２２３とほぼ同様の構成であるが、そのアーム
２４４の先端にノズル本体２４５を備えている。このノ
ズル本体２４５への液供給ラインには励振器（図示せ
ず）が設けられ、所定振動数の超音波で励振された洗浄
液がノズル本体２４５に供給されるようになっている。

【００６９】上面洗浄装置２０１は、以上の構成を有し
ており、次にその作用効果等について説明する。先ず、
メインアーム５によって搬送されてきたウエハＷを、解
放された開閉ドア２２７から処理室２２５内に搬入し、
スピンチャック２２１の上方にウエハＷを移動した後、
メインアーム５を下降させることにより、ウエハＷをス
ピンチャック２２１上に受け渡す。その後、メインアー
ム５は上面洗浄装置２０１内から退出し、開閉ドア２２
７が閉じられ、同時にカップ２２８が上昇してウエハＷ
の周囲を囲む。そして、スピンチャック２２１は、ウエ
ハＷの上面を上向きにして水平な状態で例えばベルヌー
イ効果を利用して装着保持し、その保持したウエハＷを
回転させる。

【００７０】こうしてウエハＷを回転させながら、スピ
ンチャック２２１で支持されているウエハＷの中心近く
の所定の位置に、ノズル２２２から洗浄液を供給する
と、ウエハＷの表面全体に遠心力により洗浄液がむらな
く供給される。次に、スクラバ本体２２３を稼働させて
ウエハＷの上面全面をスクラブ洗浄する。すなわち、待
機状態にあったスクラバ本体２２３において、駆動軸２
４２の上昇に従って洗浄ブラシ部２２９の下面のスポン
ジ２３３を持ち上げ、駆動軸２４２の回転によってスク
ラバアーム２３０ａを反時計回転方向ＡＣＷ（Ａｎｔｉ
Ｃｌｏｃｋｗｉｓｅ）に旋回させ、洗浄ブラシ部２２
９をウエハＷの上方に移動させる。そして、洗浄ブラシ
部２２９をウエハＷの中心に置いてスポンジ２３３の回
転を開始して、洗これを下降させ、ウエハＷの表面の中
心にて接触させる。

【００７１】次いで、スクラバアーム２３０ａの時計回
転方向ＣＷへの旋回に従って洗浄ブラシ部２２９を、回
転しているウエハＷの中心からウエハＷの周縁まで移動
させる。こうして、ウエハＷの被洗浄面全体に洗浄ブラ
シ部２２９の下部のスポンジ２３３を接触させることに
より、洗浄ブラシ部２２９でウエハＷのフロントフェー
ス全体をスポンジ２３３で洗浄する。

【００７２】かかるスクラブ洗浄において、スポンジ２
３３の下面当接部は前出実施形態と同様半球形状をして
いるので、例えばスクラバアーム２３０ａに多少の傾き
があっても、ウエハＷの表面とスポンジ２３３との接触
圧を均一に保つことができ、接触面全体を所期の接触圧
において洗浄することができる。またスポンジ２３３の
下面周縁部には角の部分がなく、接触圧が局部的に過度
に高くなる場所はないのでスポンジ２３３表面で部分的
に汚れがひどくなることはない。

【００７３】以上のようにしてスクラブ洗浄が終了する
と、洗浄ブラシ部２２９の回転を停止させ、駆動軸２４
２の上昇に従って洗浄ブラシ部２２９を上方に持ち上げ
る。次に駆動軸２４２の回転によってスクラバアーム２
３０ａを時計回転方向ＣＷに旋回させ、洗浄ブラシ部２
２９を洗浄部材洗浄装置２２４の上方に移動する。次い
で、駆動軸２４２の下降に従い、洗浄ブラシ部２２９下
部のスポンジ２３３が洗浄部材洗浄装置２２４の内部に
嵌入し、待機状態に復帰する。なお前記のようにしてス
クラブ洗浄を終了したら、次に、メカソニックスノズル
２２６を稼働させてウエハＷの表面全体を超音波で励振
した洗浄液により、再度洗浄するようにしてもよい。

【００７４】そして前記待機状態に復帰したら、洗浄液
貯留槽２３９にノズル２４０から洗浄液を供給しつつ、
超音波発振子２３８を作動させ、同時にスポンジ２３３
を回転させてこれを洗濯板２４６ａに当接させる。この
超音波洗浄＋洗濯板２４６ａへの当接によりスポンジ３
３自身を効果的に洗浄することができる。また待機時間
中における操作なので、効率のよい装置の稼働になって
いる。

【００７５】さらに、このとき同時にノズル２３５から
洗浄液を供給し、スポンジ２３３の内部から外方に向け
洗浄液を吐出するようにすれば、スポンジ２３３表面の
塵埃等を効果的に除去することができ、さらにスポンジ
２３３自体の洗浄効果を高めることができる。

【００７６】なお前記洗浄部材洗浄装置２２４に代え
て、図１６に示した、凹部２４８ａを持った凹状のブロ
ック２４８を有する洗浄部材洗浄装置２２４Ａを用いて
もよい。この洗浄部材洗浄装置２２４Ａにおいては、ク
リーニング部材としてのこのブロック２４８は、洗浄液
貯留槽２３９のなかに嵌め込まれ、その上面に凹部２４
８ａをもち、さらに凹部２４８ａその内部にドレン２４
７に連通する排出通路２４８ｂを備えている。ブロック
２４８はポリプロピレン等の硬質の樹脂からなり、凹部
４８ａの表面に細かな凹凸があることが好ましい。

【００７７】かかる構成を有する洗浄部材洗浄装置２２
４Ａによれば、スポンジ２３３の外周を凹部２４８ａが
受容するので、スポンジ２３３自体の洗浄を効率よくか
つ迅速に実施でき、しかも除去した汚れは周囲に飛散せ
ず、排出通路２４８ｂからドレン２４７を通じてそのま
ま外部へと排出できる。

【００７８】一方前記したようにしてウエハＷの上面洗
浄処理が終了すると、前記実施の形態と同様、カップ２
２８と開閉ドア２２７が同時に下降し、メインアーム５
にウエハＷは上面洗浄装置７から取り出される。この状
態では、ウエハＷは上面が上に向いているので、そのウ
エハＷをウエハ反転装置１０に搬入して反転させる。こ
うして反転させて裏面を上にした状態のウエハＷを、次
に、裏面洗浄装置８に搬入し、以下同様の工程を繰り返
すことによって、ウエハＷの裏面を例えば図５、図６に
示した洗浄体５０下部の洗浄ブラシ５１や洗浄スポンジ
５４により洗浄する。

【００７９】次に、ウエハＷの上面、すなわちフロント
フェースの洗浄（フロントフェース洗浄）とウエハＷの
裏面、すなわちリヤフェースの洗浄（リヤフェース洗
浄）との相違について説明する。フロントフェース洗浄
の場合、モータによる洗浄ブラシ部２２９を自転させな
いで、スクラバアーム２３０ａの往復振動に伴って洗浄
ブラシ部２２９を水平移動させるのがよい。フロントフ
ェース洗浄の場合はウエハ表面の膜質に影響を及ぼさな
いようにするため、ウエハ表面に対するスポンジ２３３
の接触は非常に微妙なものが要求される。そこで、フロ
ントフェース洗浄の場合は、自転させることなく洗浄ブ
ラシ部２２９をウエハＷの中央部から周縁部までの間に
て往復旋回移動させる。

【００８０】一方、リヤフェース洗浄の場合は、洗浄ブ
ラシ部２２９を自転させるとともに、洗浄ブラシ部２２
９をウエハＷの中央部から周縁部までの間にて往復旋回
移動させる。これにより強固に付着した異物をウエハ裏
面から完全除去することができる。

【００８１】また、スピンチャック２２１にメカニカル
方式（ベルヌーイチャック機構を含む）を採用した場
合、ウエハＷの縁を把握するので、ウエハ表面の膜質に
悪影響を及ぼさない。しかし、スピンチャック２２１に
真空吸着方式を採用した場合は、ウエハＷの吸着面側の
膜質に悪影響を及ぼすおそれがある。したがって、フロ
ントフェース洗浄およびリヤフェース洗浄と、スピンチ
ャック２２１のチャック方式との関係は、次の２つのい
ずれかとすることが望ましい。

【００８２】第１に、フロントフェース洗浄の場合は真
空吸着チャック方式を採用し、リヤフェース洗浄の場合
はメカニカルチャック方式を採用する。第２に、フロン
トフェース洗浄およびリヤフェース洗浄のいずれにおい
てもメカニカルチャック方式を採用する。ただし、この
第２の場合には、先にリヤフェース洗浄を行い、最後に
フロントフェース洗浄を行う。このようにするとウエハ
Ｗのフロントフェース側の膜質に悪影響を及びにくくな
る。

【００８３】なお前記実施形態において使用したクリー
ニング部材としての洗濯板２４６ａは、フラットな板材
で構成していたが、これに代えて例えば図１７、図１８
に示したような、中央部が斜面に沿って凹んだ洗濯板２
５１を用いたり、あるいは図１９、図２０な中央部が斜
面に沿って上方に凸に湾曲した洗濯板２５２を用いても
よい。このようにすることで、スポンジの形態に合わせ
た最適なクリーニング作用を実現することが可能であ
る。もちろんフラットな洗濯板２４６ａと同様、これら
洗濯板２５１、２５２についてもその表面に適宜凹凸や
スリット、溝等を形成してもよい。

【００８４】なお、以上はいずれも被洗浄体としてウエ
ハＷを用いた例について説明しているが、被洗浄体とし
てＬＣＤ基板を用いてもよい。また本発明の作用効果、
即ち洗浄部材における洗浄面側の周縁部を外方に凸に湾
曲させた形状にし、洗浄部材と被洗浄体表面との接触圧
を均一化したことに着目すれば、単なる洗浄のみなら
ず、例えば、所定の処理液を被洗浄体の表面に塗布する
場合の塗布方法や塗布装置に対しも本発明は応用できる
ものである。

【００８５】

【発明の効果】本発明によれば、洗浄部材を支持するア
ームの傾き等があっても、洗浄部材と被洗浄体表面との
接触圧を均一にすることができる。従って、接触面全体
を所期の接触圧にすることができ、確実に所定の洗浄効
果を得ることができる。また、洗浄部材における被洗浄
体面側の周縁部に角がないので、接触面が傾いていて
も、洗浄部材が部分的にひどく汚れることはない。

【００８６】また、洗浄部材表面に付着した塵埃等を洗
浄液によって外方に捨て去ることができ、洗浄部材の清
浄度を常に良好に保つことが可能である。

【００８７】さらに，洗浄液の供給圧を変えることによ
り、洗浄部材の膨圧力を調節できるので、被洗浄体と洗
浄部材との接触圧の制御が可能である。

【００８８】上述した参考例で示した洗浄装置によれ
ば、超音波洗浄により、洗浄部材自身を洗浄することが
できるので、洗浄部材自身のとれにくい汚れを除去する
ことができ、洗浄部材の洗浄効果をよりいっそう高める
ことができる。

【００８９】本発明によれば、洗浄部材をクリーニング
部材に押し当てることで洗浄部材の汚れを除去すること
ができるから、洗浄部材自身のとれにくい汚れを除去す
ることができる。また，クリーニング部材の配置や洗浄
部材に対するクリーニング作用、汚れの排出等が効果的
に実施できる。

【００９０】上述の参考例で示した洗浄方法によれば、
洗浄部材の表面に付着した塵埃等を洗浄液によって外へ
押し出すようにして捨て去ることができる。また、被洗
浄体の洗浄をしていない待機時にこの洗浄を行っている
ので効率良く装置を稼働させることができる。また，ク
リーニング部材との接触による洗浄部材の効果的なクリ
ーニングが行え、さらに洗浄液に与える振動でよりいっ
そう高いレベルでのクリーニングが実施できる。

【００９１】また，別の参考例としての洗浄方法によれ
ば、被洗浄体の洗浄を行っていない待機時間を利用して
洗浄部材の洗浄を行っているので、効率の良い処理を行
うことができる。また、洗浄槽内に振動を与えながらの
洗浄なので、さらに効果的な洗浄部材の洗浄を行うこと
ができる。また，よりいっそう高いレベルでの洗浄部材
のクリーニングを実施することが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態にかかる洗浄装置である上
面洗浄装置の組み込まれた洗浄システムの斜視図であ
る。

【図２】参考例の実施の形態にかかる洗浄装置である上
面洗浄装置の斜視図である。

【図３】図２の上面洗浄装置における洗浄体の一部断面
の正面図である。

【図４】図２の上面洗浄装置における洗浄体の底面図で
ある。

【図５】裏面洗浄装置における洗浄体の正面図である。

【図６】裏面洗浄装置における洗浄体の底面図である。

【図７】洗浄スポンジとウエハとが接触している状態の
説明図である。

【図８】洗浄スポンジが傾いてウエハと接触している状
態の説明図である。

【図９】本発明に使用できる他の洗浄スポンジの形状を
示す説明図である。

【図１０】本発明に使用できる２層構造を持った他の洗
浄スポンジの一部断面の説明図である。

【図１１】本発明の実施の形態にかかる上面洗浄装置の
斜視図である。

【図１２】図１１の上面洗浄装置の断面の説明図であ
る。

【図１３】図１１の上面洗浄装置の構成の概略を示す説
明図である。

【図１４】図１１の上面洗浄装置における洗浄ブラシ部
の示す説明図である。

【図１５】図１１の上面洗浄装置における洗浄ブラシ部
と洗浄液貯留槽を示す説明図である。

【図１６】図１１の上面洗浄装置に使用できる洗浄ブラ
シ部と他の洗浄液貯留槽を示す説明図である。

【図１７】図１１の上面洗浄装置に使用できる中央部が
凹んだ洗濯板の平面図である。

【図１８】図１７のＡ−Ａ線断面図である。

【図１９】図１１の上面洗浄装置に使用できる中央部が
上方に凸に湾曲した洗濯板の平面図である。

【図２０】図１９のＢ−Ｂ線断面図である。

【図２１】従来の上面用の洗浄体の正面図である。

【図２２】従来の上面用の洗浄体の底面図である。

【図２３】従来の裏面用の洗浄体の正面図である。

【図２４】従来の裏面用の洗浄体の底面図である。

【符号の説明】

１洗浄システム７上面洗浄装置８裏面洗浄装置２１スピンチャック２２ノズル２３スクラバ本体２４洗浄部材洗浄装置２６メガソニックノズル２９、５０洗浄体３０スクラバアーム３３、５４、６１、洗浄スポンジ３５洗浄体用ノズル３６洗浄孔３７、５３洗浄液供給孔３８超音波発振子３９洗浄液貯留槽４０洗浄槽用ノズルＣキャリアＷウエハ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者久保田稔熊本県菊池郡菊陽町津久礼2655番地東京エレクトロン九州株式会社熊本事業所内 (72)発明者ウォルタースワンソン熊本県菊池郡菊陽町津久礼2655番地東京エレクトロン九州株式会社熊本事業所内 (56)参考文献特開平10−92780（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/304 B08B 1/04

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】回転する被洗浄体の被洗浄面に洗浄液を
供給すると共に，前記被洗浄面に洗浄部材を接触させ
て，被洗浄体を洗浄する装置において，前記洗浄部材における前記被洗浄面側の周縁部は外方に
凸に湾曲した形状であり，被洗浄体の外側には，洗浄液を貯留させる洗浄槽と，洗
浄部材が押し当てられて当該洗浄部材から汚れを除去す
るクリーニング部材とが備えられ，前記クリーニング部材は，洗浄槽内で洗浄部材を受容す
る凹部を有するブロックであることを特徴とする，洗浄
装置。
【請求項２】洗浄部材は液体を浸透させる材質からな
ると共に，他から供給される洗浄液が洗浄部材の内部か
ら外方に向けて吐出されるように構成されたことを特徴
とする，請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項３】洗浄液の供給圧力は可変であることを特
徴とする，請求項２に記載の洗浄装置。