JP6951199B2

JP6951199B2 - ウェーハ洗浄装置

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Publication number: JP6951199B2
Application number: JP2017216241A
Authority: JP
Inventors: 二郎現王園
Original assignee: Disco Corp
Current assignee: Disco Corp
Priority date: 2017-11-09
Filing date: 2017-11-09
Publication date: 2021-10-20
Anticipated expiration: 2037-11-09
Also published as: CN109768000B; JP2019087685A; CN109768000A

Description

本発明は、ウェーハの一方の面を洗浄するウェーハ洗浄装置に関する。

ウェーハを所定の厚みに研削加工する場合、ウェーハの表面に保護テープを貼着し、研削砥石でウェーハの裏面を研削した後、保護テープを表面から剥離している。研削加工で発生した研削屑が保護テープに付着していると、保護テープを表面から剥離するときに研削屑が落下しデバイスに付着するため、デバイスに悪影響を及ぼし問題となる。そのため、保護テープを剥離する前に研削屑を取り除くために、例えば、下記の特許文献１に示す研削装置に備える洗浄手段を用いることにより、ウェーハの一方の面側（例えば表面に貼着された保護テープ）を洗浄している。洗浄手段は、例えばＰＶＡ（ポリビニルアルコール）から構成されるスポンジを備えている。そして、洗浄手段では、スポンジを保護テープに接触させ、洗浄水を保護テープに供給しながらスポンジとウェーハとを相対的に移動させることで、保護テープを洗浄することができる。

特開２０１３−２２０４８４号公報

しかし、上記したスポンジの洗浄面は、洗浄動作にともなって研削屑が付着するとともに摩耗するため、スポンジを定期的に交換することが必要であるが、交換作業が容易ではない。また、上記したスポンジの洗浄面は平面であるため、スポンジで洗浄を開始するときに、洗浄面の縁の角がウェーハの一方の面側に接触して欠けてしまうことがあり、スポンジの寿命が短くなるという問題もある。

本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、スポンジの交換作業を容易にするとともに、洗浄中にスポンジの角が欠けないようにすることを目的としている。

本発明は、ウェーハの一方の面側に矩形のスポンジの洗浄面を押し当てウェーハの一方の面側を洗浄するウェーハ洗浄装置であって、ウェーハを保持するウェーハ保持手段と、該スポンジを保持するスポンジ保持手段と、該ウェーハ保持手段と該スポンジ保持手段とを相対的にウェーハの面方向に移動させる移動手段と、を備え、該スポンジ保持手段は、該スポンジを収容する凹部を有する基台と、該凹部に収容された該スポンジの幅を狭めて挟持することにより凸状に湾曲させた該洗浄面を形成する挟持手段と、を備え、凸状に湾曲させた該洗浄面でウェーハを洗浄する。

上記挟持手段は、上記スポンジを狭めたときの上記幅を規定する規制部と、該スポンジの側面に接触し該スポンジの上面に達しない高さを有するプレートと、該プレートの一方の側面から他方の側面に向かって押し付ける押し付け部とを備える。

また、上記挟持手段は、挟持した上記スポンジの中に進入しスポンジの浮き上がりを防止する浮き上がり防止部を備える。

本発明に係るウェーハ洗浄装置は、ウェーハを保持するウェーハ保持手段と、スポンジを保持するスポンジ保持手段と、ウェーハ保持手段とスポンジ保持手段とを相対的にウェーハの面方向に移動させる移動手段と、を備え、スポンジ保持手段は、スポンジを収容する凹部を有する基台と、凹部に収容されたスポンジの幅を狭めて挟持することにより凸状に湾曲させた洗浄面を形成する挟持手段とを備え、凸状に湾曲させた洗浄面でウェーハを洗浄するように構成したため、例えば、ウェーハの表面に貼着された保護テープを洗浄するときにスポンジの角が保護テープに接触して欠けることがない。また、本発明によれば、挟持手段によって、基台に収容されたスポンジを挟持して保持することができるため、スポンジの交換作業を容易に行うことができる。スポンジを基台の凹部に収容するときには、接着剤を用いることがないため、接着剥がれを起こすという問題が生じない。

上記挟持手段は、スポンジを狭めたときの幅を規定する規制部と、スポンジの側面に接触しスポンジの上面に達しない高さを有するプレートと、プレートの一方の側面から他方の側面に向かって押し付ける押し付け部とを備えたため、押し付け部により押し付けられたプレートによって、凹部に収容されたスポンジを圧縮して幅を狭めることができ、洗浄面を所望の凸状に湾曲させた状態でスポンジを挟持することできる。

また、上記挟持手段は、挟持した上記スポンジの中に進入しスポンジの浮き上がりを防止する浮き上がり防止部を備えたため、洗浄中にスポンジが基台から浮き上がって離脱することを防止することができる。

ウェーハ洗浄装置の構成を示す断面図である。保護テープが貼着されたウェーハの構成を示す斜視図である。スポンジ保持手段の構成を示す分解斜視図である。洗浄水供給ノズルおよびスポンジ保持手段によって保持された状態のスポンジの構成を示す斜視図である。スポンジ保持手段の変形例の構成を示す分解斜視図である。（ａ）は、スポンジ保持手段の変形例によって保持された状態のスポンジの構成を示す断面図である。（ｂ）は、スポンジ保持手段の変形例によってスポンジの浮き上がりを防止している状態を示す断面図である。（ａ）は、スポンジ保持手段の第２変形例によって保持された状態のスポンジの構成を示す断面図である。（ｂ）は、スポンジ保持手段の第２変形例によってスポンジの浮き上がりを防止している状態を示す断面図である。

図１及び図２に示すウェーハＷは、円形板状の被加工物の一例であり、一方の面（例えば表面Ｗａ）には、デバイスを保護するための保護テープＴが貼着されている。図示の例における保護テープＴは、ウェーハＷと略同径の大きさを有している。表面Ｗａと反対側の裏面Ｗｂは、例えば研削砥石によって研削加工が施される被研削面となっている。本実施形態に示すウェーハＷは、図示しない研削装置において裏面Ｗｂが研削されて薄化されているものとする。

図１に示すウェーハ洗浄装置１は、ウェーハＷの一方の面側をスポンジ１０の洗浄面１１ａを押し当てて洗浄するウェーハ洗浄装置である。ウェーハ洗浄装置１は、ウェーハＷを保持するウェーハ保持手段２０と、スポンジ１０を保持するスポンジ保持手段３０と、スポンジ保持手段３０の側方側に配設された洗浄水供給ノズル４０と、ウェーハ保持手段２０とスポンジ保持手段３０とを相対的にウェーハＷの面方向に移動させる移動手段５０と、ウェーハ保持手段２０をスポンジ保持手段３０が保持したスポンジ１０に対して接近及び離反する方向に垂直移動させる昇降手段６０とを備えている。

ウェーハ保持手段２０は、枠体２１と、枠体２１の内部に配設されウェーハＷを吸引保持する保持面２３を有する保持部２２とを備えている。保持部２２は、例えばポーラスセラミックスにより構成されている。保持部２２には、保持面２３に吸引力を作用させる吸引源が接続されている。枠体２１の上部には、軸部２４を介してアーム２５が接続されている。アーム２５には、昇降手段６０及び移動手段５０が接続されている。昇降手段６０は、例えばエアシリンダとピストンとにより構成され、ウェーハ保持手段２０を垂直移動させることができる。移動手段５０は、例えばボールネジとボールネジの一端に接続されたモータとボールネジの回動によって水平移動するガイドとにより構成され、ウェーハ保持手段２０を水平移動させることができる。

図３に示すように、スポンジ１０は、例えば四角柱状に形成されており、矩形の洗浄面１１ａと下面１１ｂと側面１１ｃと側面１１ｄとを有している。スポンジ１０の長手方向の長さは、図２に示したウェーハＷの直径以上の構成となっている。本実施形態では、スポンジ１０の上側部１００の露出した上面である洗浄面１１ａによりウェーハＷの一方の面側を洗浄するものとする。なお、スポンジ１０の材質や大きさは、特に限定されない。

スポンジ保持手段３０は、スポンジ１０を収容する凹部３１３を有する基台３１と、凹部３１３に収容されたスポンジ１０の幅Ｌを狭めて挟持することにより凸状に湾曲させた洗浄面１１ａを形成する挟持手段３３とを備えている。基台３１は、長手方向に延在する底板３１０と、底板３１０の両端側から鉛直方向に立設した一対の側板３１１，３１２とを備え、底板３１０と側板３１１と側板３１２とに囲繞された領域が凹部３１３となっている。本実施形態に示すスポンジ保持手段３０では、基台３１の凹部３１３にスポンジ１０の下側部１０１が収容される構成となっている。もっとも、スポンジ１０のうち、凹部３１３に収容される部分は、下側部１０１に限られず、上側部１００でもよいし、スポンジ１０の高さ方向の一部分であればよい。

挟持手段３３は、スポンジ１０を狭めたときの幅Ｌを規定する規制部３４と、スポンジ１０の側面１１ｃに接触しスポンジ１０の上面（洗浄面１１ａ）に達しない高さＨ１を有するプレート３５と、プレート３５の一方の側面３５ａから他方の側面３５ｂに向かって押し付ける押し付け部３６とを備えている。図示の例では、平板からなる規制部３４の一端からプレート３５が立設されており、規制部３４とプレート３５とが一体となって断面略Ｌ字形状となっている。

規制部３４及びプレート３５は、スポンジ１０の長さに合わせて、長手方向に延在して構成されている。規制部３４の幅Ｌ１は、スポンジ１０の幅Ｌよりも狭くなっている。押し付け部３６は、例えば複数（例えば３本）のネジによって構成されている。基台３１の側板３１２には、複数の押し付け部３６が螺合する複数（例えば３つ）の雌ネジ孔３２が貫通して形成されている。

プレート３５の高さＨ１は、スポンジ１０の高さＨよりも低いため、プレート３５の他方の側面３５ｂでスポンジ１０の側面１１ｃを押し付けてスポンジ１０を圧縮すると、プレート３５で押し付けた部分に比べて押し付けていない部分は外側に拡張する。すなわち、押し付け部３６による押し付けにともないプレート３５の他方の側面３５ｂでスポンジ１０の下側部１０１の側面１１ｃを押し付けることで、凹部３１３に収容された下側部１０１の幅Ｌを狭めて上側部１００の洗浄面１１ａを凸状に湾曲させることができる。

挟持手段３３は、狭持したスポンジ１０の中に進入しスポンジ１０の浮き上がりを防止する浮き上がり防止部３７を備えている。浮き上がり防止部３７は、例えば突起した部材からなり、基台３１の側板３１１と、プレート３５の他方の側面３５ｂとに等間隔を設けてそれぞれ３つ配設されている。浮き上がり防止部３７の形状や個数などは特に限定されるものではない。

図４に示すように、洗浄水供給ノズル４０は、スポンジ１０の長手方向と同方向に延在しており、洗浄水を噴出させる複数の噴出口４１が形成されている。複数の噴出口４１は、洗浄水供給ノズル４０の長手方向に沿って整列している。噴出口４１が形成される位置や数は、本実施形態に示す構成に限られない。このように構成されるウェーハ洗浄装置１は、例えば、ウェーハＷに研削加工を施す研削装置に搭載される。

スポンジ保持手段３０によってスポンジ１０を保持する動作について説明する。図４に示すように、基台３１の凹部３１３に規制部３４及びプレート３５を配設してから、規制部３４の上にスポンジ１０の下面１１ｂを載置し、凹部３１３に下側部１０１を収容する。凹部３１３に下側部１０１が収容されると、プレート３５の上端からスポンジ１０の上側部１００が突出した状態となる。

次いで、３つの雌ネジ孔３２に押し付け部３６をそれぞれ螺入させながら、凹部３１３内に進入してきた押し付け部３６の端部でプレート３５の一方の側面３５ａを他方の側面３５ｂに向けて押し付けることにより、基台３１の側板３１１とプレート３５の他方の側面３５ｂとがスポンジ１０の側面１１ｃ，１１ｄに接触してスポンジ１０を挟み込んで、下側部１０１の幅Ｌを狭めると、プレート３５の上端から突出した上側部１００が外側へ拡張し、平坦な洗浄面１１ａが徐々に扇状に変形していく。規制部３４の一端が側板３１１に当接するまでスポンジ１０の下側部１０１を圧縮して幅Ｌをさらに狭めることにより、凸状に湾曲させた洗浄面１１ａを形成することができる。このようにして、スポンジ保持手段３０では、挟持手段３３においてスポンジ１０を挟持することにより保持する。

スポンジ保持手段３０でスポンジ１０を保持すると、基台３１の凹部３１３に収容されたスポンジ１０の内部に浮き上がり防止部３７が進入した状態となる。スポンジ保持手段３０からスポンジ１０を取り外す場合は、上記した動作の逆の動作を行えばよい。すなわち、全ての押し付け部３６を雌ネジ孔３２から外してから、基台３１の凹部３１３からスポンジ１０を取り外すだけでよい。

次に、図１に示したウェーハ洗浄装置１を用いて、ウェーハＷの表面Ｗａに貼着された保護テープＴを洗浄する動作について説明する。ウェーハ保持手段２０は、保持部２２の保持面２３で研削済みのウェーハＷの裏面Ｗｂ側を吸引保持し、保護テープＴ側を下向きに露出させる。続いて、ウェーハ保持手段２０をスポンジ保持手段３０により保持されたスポンジ１０の上方に位置づけたのち、昇降手段６０によってウェーハ保持手段２０を下降させ、保護テープＴをスポンジ１０の洗浄面１１ａに接触させる。

洗浄水供給ノズル４０が噴出口４１から保護テープＴに向けて洗浄水４２を供給しつつ、移動手段５０によりウェーハ保持手段２０を水平に移動させることにより、スポンジ１０の洗浄面１１ａと保護テープＴとを相対的に摺動させ、洗浄面１１ａで保護テープＴを洗浄する。これにより、保護テープＴに付着した研削屑を除去することができる。保護テープＴの洗浄中、スポンジ１０の洗浄面１１ａは、常に凸状に湾曲した状態が維持されているため、スポンジ１０の角が保護テープＴに接触することはなく、湾曲した洗浄面１１ａで保護テープＴの全面を洗浄することができる。

また、保護テープＴの洗浄中は、移動手段５０によりスポンジ１０とウェーハＷとを相対移動させており、スポンジ１０に対して加工負荷がかかるが、常に浮き上がり防止部３７がスポンジ１０の内部に入り込んでいることから、スポンジ１０が基台３１から浮き上がって離脱するのを防止することができる。

このように、本発明に係るウェーハ洗浄装置１は、ウェーハＷを保持するウェーハ保持手段２０と、スポンジ１０を保持するスポンジ保持手段３０と、ウェーハ保持手段２０とスポンジ保持手段３０とを相対的にウェーハＷの面方向に移動させる移動手段５０と、を備え、スポンジ保持手段３０は、スポンジ１０を収容する凹部３１３を有する基台３１と、凹部３１３に収容されたスポンジ１０の幅Ｌを狭めて挟持することにより凸状に湾曲させた洗浄面１１ａを形成する挟持手段３３とを備え、凸状に湾曲させた洗浄面１１ａでウェーハＷを洗浄するように構成したため、例えば、ウェーハＷの表面Ｗａに貼着された保護テープＴを洗浄するときにスポンジ１０の角が保護テープＴに接触して欠けることがない。また、本発明によれば、挟持手段３３によって、基台３１に収容されたスポンジ１０を挟持して保持することができるため、スポンジ１０の交換作業を容易に行うことができる。スポンジ１０を基台３１の凹部３１３に収容するときには、接着剤を用いることがないため、接着剥がれを起こすという問題が生じない。
また、上記挟持手段３３は、スポンジ１０を狭めたときの幅Ｌを規定する規制部３４と、スポンジ１０の側面１１ｃに接触しスポンジ１０の上面（洗浄面１１ａ）に達しない高さＨ１を有するプレート３５と、プレート３５の一方の側面３５ａから他方の側面３５ｂに向かって押し付ける押し付け部３６とを備えたため、押し付け部３６により押し付けられたプレート３５によって、例えばスポンジ１０の下側部１０１を圧縮でき、洗浄面１１ａを所望の凸状に湾曲させた状態でスポンジ１０を挟持することができる。

図５に示すスポンジ保持手段７０は、スポンジ１０Ａを保持するスポンジ保持手段の変形例である。スポンジ１０Ａは、複数（例えば３つ）のパイプ挿入穴１２が等間隔を設けて形成されている点以外は、上記のスポンジ１０と同様の構成である。スポンジ保持手段７０は、スポンジ保持手段３０と同様に、スポンジ１０Ａを収容する凹部７１３を有する基台７１と、凹部７１３に収容されたスポンジ１０Ａの幅を狭めて挟持することにより凸状に湾曲させた洗浄面１１ａを形成する挟持手段７４とを備えている。基台７１は、上記した基台３１と同様に、長手方向に延在する底板７１０と、底板７１０の両端側から鉛直方向に立設した一対の側板７１１，７１２とを備え、底板７１０と側板７１１と側板７１２とに囲繞された領域が凹部７１３となっている。スポンジ保持手段７０についても基台７１の凹部７１３にスポンジ１０Ａの下側部１０１が収容される構成となっている。

挟持手段７４は、スポンジ１０Ａを狭めたときの幅を規定する規制部７６と、スポンジ１０Ａの側面１１ｃに接触しスポンジ１０Ａの上面（洗浄面１１ａ）に達しない高さを有するプレート７５と、プレート７５の一方の側面７５ａから他方の側面７５ｂに向かって押し付ける押し付け部７７とを備えている。規制部７６は、例えば筒状のパイプからなる。変形例では、スポンジ保持手段７０でスポンジ１０Ａを保持する際に、スポンジ１０Ａのパイプ挿入穴１２に規制部７６が挿入される。押し付け部７７は、例えば複数（例えば３本）のネジによって構成されている。基台７１の側板７１２には、複数の押し付け部７７が螺合する複数（例えば３つ）の雌ネジ孔７２が貫通して形成されている。

プレート７５は、スポンジ１０Ａの長さに合わせて延在する平板からなり、例えば３つの貫通孔７５０が貫通して形成されている。プレート７５の高さは、上記したプレート３５と同様に、スポンジ１０Ａの高さよりも低いため、押し付け部７７による押し付けにともないプレート７５の他方の側面７５ｂでスポンジ１０Ａの下側部１０１の側面１１ｃを押し付けることで、下側部１０１の幅を狭めて上側部１００の洗浄面１１ａを凸状に湾曲させることができる。

挟持手段７４は、狭持したスポンジ１０Ａの中に進入しスポンジ１０Ａの浮き上がりを防止する浮き上がり防止部７８を備えている。浮き上がり防止部７８は、例えば複数（例えば６本）のネジによって構成されている。基台７１の側板７１１，７１２には、浮き上がり防止部７８が螺合する複数（例えば３つ）の雌ネジ孔７３がそれぞれ形成されている。プレート３５の貫通孔７５０は、側板７１２の雌ネジ孔７３の位置に対応している。

次に、スポンジ保持手段７０によってスポンジ１０Ａを保持する動作について説明する。まず、プレート７５の貫通孔７５０と側板７１２の雌ネジ孔７３とを一致させ、基台７１の凹部７１３にプレート７５を配設する。続いて、スポンジ１０Ａのパイプ挿入穴１２に規制部７６を挿入してから、凹部３１３にスポンジ１０Ａの下側部１０１を収容する。図６（ａ）に示すように、凹部７１３に下側部１０１が収容されると、プレート７５の上端からスポンジ１０Ａの上側部１００が突出した状態となる。

次いで、３つの雌ネジ孔７２に押し付け部７７をそれぞれ螺入させながら、凹部７１３内に進入してきた押し付け部７７の端部でプレート７５の一方の側面７５ａを他方の側面７５ｂに向けて押し付けることにより、基台７１の側板７１１とプレート７５の他方の側面７５ｂとがスポンジ１０Ａの側面１１ｃ，１１ｄに接触してスポンジ１０Ａを挟み込んで、下側部１０１の幅を狭めると、プレート７５の上端から突出した上側部１００が外側へ拡張し、平坦な洗浄面１１ａが徐々に扇状に変形していく。規制部７６の一端が側板７１１に当接するまでスポンジ１０Ａの下側部１０１を圧縮して幅をさらに狭めることにより、凸状に湾曲させた洗浄面１１ａを形成して、スポンジ保持手段７０でスポンジ１０Ａを保持する。

スポンジ保持手段７０では、図６（ｂ）に示すように、基台７１の側板７１１，７１２に形成された雌ネジ孔７３に浮き上がり防止部７８をそれぞれ螺入させながら、凹部７１３に収容されたスポンジ１０Ａの内部に浮き上がり防止部７８を進入させることができる。これにより、保護テープＴの洗浄中にスポンジ１０Ａが基台７１から浮き上がって離脱するのを防止することができる。スポンジ保持手段７０からスポンジ１０Ａを取り外す場合は、上記した動作の逆の動作を行えばよい。すなわち、全ての押し付け部７７及び浮き上がり防止部７８を、雌ネジ孔７２，雌ネジ孔７３から外してから、基台７１の凹部７１３からスポンジ１０Ａを取り外すだけでよい。このように、スポンジ保持手段７０においても、スポンジ１０Ａの洗浄面１１ａを凸状に湾曲させることができ、保護テープＴを洗浄するときにスポンジ１０Ａの角が保護テープＴに接触して欠けることがない。また、挟持手段７４によって、基台７１に収容されたスポンジ１０Ａを挟持して保持することができるため、スポンジ保持手段３０と同様に、スポンジ１０Ａの交換作業を容易に行うことができる。基台７１へのスポンジ１０の収容時には接着剤を用いることがないため、接着剥がれを起こすという問題が生じない。

図７（ａ）に示すスポンジ保持手段７０’は、スポンジ１０Ｂを保持するスポンジ保持手段の第２変形例であり、プレート７５をスポンジ１０Ｂの側面１１ｃ，１１ｄのそれぞれに配置し、２枚のプレート７５でスポンジ１０Ｂの側面１１ｃ，１１ｄに接触してスポンジ１０Ｂを挟み込む構成となっている。スポンジ１０Ｂは、スポンジ１０Ａと同様に、規制部７６が挿入される複数のパイプ挿入穴（不図示）が等間隔を設けて形成されている。複数のパイプ挿入穴が形成された高さ位置は、上記したスポンジ１０Ａのパイプ挿入穴１２よりも上側に位置している。

スポンジ保持手段７０’によってスポンジ１０Ｂを保持する動作について説明する。３つの雌ネジ孔７２に押し付け部７７をそれぞれ螺入させながら、凹部７１３内に進入してきた押し付け部７７の端部でプレート７５の一方の側面７５ａを他方の側面７５ｂに向けて押し付けることにより、２枚のプレート７５の他方の側面７５ｂでスポンジ１０Ｂの側面１１ｃ，１１ｄに接触してスポンジ１０Ｂを挟み込んで、下側部１０１の幅を狭めると、２枚のプレート７５の上端から突出した上側部１００が外側へ拡張し、平坦な洗浄面１１ａが徐々に扇状に変形していく。また、下側部１０１のうち、２枚のプレート７５の下端から突出した部分も外側へ拡張して拡がり部１３が形成される。規制部７６の一端が側板７１１に当接するまでスポンジ１０Ｂの下側部１０１を圧縮して幅をさらに狭めることにより、凸状に湾曲させた洗浄面１１ａを形成して、スポンジ保持手段７０’でスポンジ１０Ｂを保持する。スポンジ保持手段７０’についても、スポンジ保持手段７０と同様に、図７（ｂ）に示すように、基台７１の側板７１１，７１２に形成された雌ネジ孔７３に浮き上がり防止部７８をそれぞれ螺入させながら、凹部７１３に収容されたスポンジ１０Ｂの内部に浮き上がり防止部７８を進入させることができる。スポンジ保持手段７０’では、スポンジ１０Ｂを挟持したときに、スポンジ１０Ｂの下側部１０１に外側へ拡張した拡がり部１３が形成されることから、保護テープＴの洗浄中にスポンジ１０Ｂが外れ難くなり、スポンジ１０Ｂが基台７１から離脱するのをより確実に防止しうる。

１：ウェーハ洗浄装置１０，１０Ａ，１０Ｂ：スポンジ１００：上側部
１０１：下側部１１ａ：洗浄面１２：パイプ挿入穴１３：拡がり部
２０：ウェーハ保持手段２１：枠体２２：保持部２３：保持面２４：軸部
２５：アーム
３０：スポンジ保持手段３１：基台３１０：底板３１１，３１２：側板
３１３：凹部３２：雌ネジ孔３３：挟持手段３４：規制部３５：プレート
３６：押し付け部３７：浮き上がり防止部４０：洗浄水供給ノズル４１：噴出口
４２：洗浄水５０：移動手段６０：昇降手段
７０，７０’：スポンジ保持手段７１：基台７１０：底板７１１，７１２：側板
７１３：凹部７２：雌ネジ孔７３：雌ネジ孔
７４：挟持手段７５：プレート７６：規制部７７：押し付け部
７８：浮き上がり防止部

Claims

ウェーハの一方の面側に矩形のスポンジの洗浄面を押し当てウェーハの一方の面側を洗浄するウェーハ洗浄装置であって、
ウェーハを保持するウェーハ保持手段と、
該スポンジを保持するスポンジ保持手段と、
該ウェーハ保持手段と該スポンジ保持手段とを相対的にウェーハの面方向に移動させる移動手段と、を備え、
該スポンジ保持手段は、該スポンジを収容する凹部を有する基台と、
該凹部に収容された該スポンジの幅を狭めて挟持することにより凸状に湾曲させた該洗浄面を形成する挟持手段と、を備え、
凸状に湾曲させた該洗浄面でウェーハを洗浄するウェーハ洗浄装置。
前記挟持手段は、前記スポンジを狭めたときの前記幅を規定する規制部と、
該スポンジの側面に接触し該スポンジの上面に達しない高さを有するプレートと、
該プレートの一方の側面から他方の側面に向かって押し付ける押し付け部と、を備える請求項１記載のウェーハ洗浄装置。
前記挟持手段は、挟持した前記スポンジの中に進入し該スポンジの浮き上がりを防止する浮き上がり防止部を備える請求項１または請求項２のいずれかに記載のウェーハ洗浄装置。