JP2008311481A - 基板洗浄方法、基板洗浄装置及び半導体製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板の洗浄に際して、洗浄ブラシへのパーティクルの蓄積による洗浄効果の低下を防止する。
【解決手段】研磨後の半導体基板4の被研磨面上に2つの円筒型の洗浄ブラシ11,12を並列に配置するとともに、それら2つの洗浄ブラシ11,12のうち、一方の洗浄ブラシ11を半導体基板4に接触させ、かつ他方の洗浄ブラシ12を半導体基板2から離して一方の洗浄ブラシ11に接触させた状態で、一方のノズル17から洗浄液19を供給しつつ半導体基板4の洗浄を行なう。
【選択図】図7
【解決手段】研磨後の半導体基板4の被研磨面上に2つの円筒型の洗浄ブラシ11,12を並列に配置するとともに、それら2つの洗浄ブラシ11,12のうち、一方の洗浄ブラシ11を半導体基板4に接触させ、かつ他方の洗浄ブラシ12を半導体基板2から離して一方の洗浄ブラシ11に接触させた状態で、一方のノズル17から洗浄液19を供給しつつ半導体基板4の洗浄を行なう。
【選択図】図7
Description
本発明は、洗浄ブラシを用いて基板を洗浄する際に用いられる基板洗浄方法、基板洗浄装置及び半導体製造方法に関する。
半導体集積回路における銅配線の加工技術として、CMP(Chemical Mechanical Polishing:化学的機械研磨)技術が広く用いられている。本技術は一般的に、絶縁膜上に露光及びドライエッチングにより形成した接続孔や溝に、導電材料としてバリアメタルと銅(Cu)のシード層をスパッタリング法で形成し、その上に配線主材料となる銅を電解めっきにより堆積した後、絶縁膜上の余分な導電材料(バリアメタル及び銅)をCMPにより除去するものである。
一般的なCMP装置は研磨部と洗浄部とを備えている。研磨部では、スラリーと研磨布を用いて基板を研磨する。研磨部で研磨された基板は洗浄部に搬送される。洗浄部では、例えば、洗浄ユニットにおいて回転させた基板に洗浄液を供給しながら、回転させたブラシを基板に接触させて薬液洗浄と純水リンス処理を行ない、次いで、乾燥ユニットにおいてスピン乾燥やIPA(イソプロピルアルコール)乾燥などの乾燥処理を行なう。これにより、一連のCMPプロセスが完了する。
洗浄部で使用される洗浄ブラシとしては、ブラシの表面(外周面)に円柱型の突起を持つPVA(Polyvinyl Alcohol)製のロールブラシが用いられている。PVAは、加工がしやすく、親水性で軟質な合成樹脂である。このため、PVAロールブラシを用いることで、基板を傷つけることなくパーティクルを除去することができる。ロールブラシを用いた基板洗浄装置としては、例えば下記特許文献1に記載されたものが知られている。
しかしながら、従来においては、CMP後の基板洗浄に際して、処理枚数の増加とともに洗浄ブラシにパーティクルが蓄積し、このパーティクルが基板に転移するという問題があった。パーティクルが基板上に残ると、凸状の段差が発生するため、露光不良やエッチング不良などを招く恐れがある。特に、金属を含むパーティクルが配線間上に残った場合は、ショート不良を発生させ、半導体素子の歩留まりが低下してしまう。
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、その目的とするところは、基板の洗浄に際して、洗浄ブラシへのパーティクルの蓄積による洗浄効果の低下を防止する仕組みを提供することにある。
本発明に係る基板洗浄方法は、基板の少なくとも一方の面上に2つの円筒型の洗浄ブラシを並列に配置するとともに、それら2つの洗浄ブラシのうち、一方の洗浄ブラシを基板に接触させ、かつ他方の洗浄ブラシを基板から離して一方の洗浄ブラシに接触させた状態で、基板の洗浄を行なうことを特徴とするものである。
本発明に係る基板洗浄装置は、基板の少なくとも一方の面上に並列に配置された2つの円筒型の洗浄ブラシと、それら2つの洗浄ブラシのうち、一方の洗浄ブラシを基板に接触させ、かつ他方の洗浄ブラシを基板から離して一方の洗浄ブラシに接触させるように、各々の洗浄ブラシの位置を調整する調整手段とを備えることを特徴とするものである。
本発明に係る基板洗浄装置及び基板洗浄方法においては、基板への接触によって一方の洗浄ブラシに付着したパーティクルが他方の洗浄ブラシによって除去される。このため、洗浄ブラシへのパーティクルの蓄積を防止することが可能となる。
本発明に係る半導体製造方法は、研磨後の半導体基板の被研磨面上に2つの円筒型の洗浄ブラシを並列に配置するとともに、それら2つの洗浄ブラシのうち、一方の洗浄ブラシを半導体基板に接触させ、かつ他方の洗浄ブラシを半導体基板から離して一方の洗浄ブラシに接触させた状態で、半導体基板の洗浄を行なうことを特徴とするものである。
本発明に係る半導体製造方法においては、半導体基板への接触によって一方の洗浄ブラシに付着したパーティクルが他方の洗浄ブラシによって除去される。このため、洗浄ブラシへのパーティクルの蓄積を防止することが可能となる。
本発明の基板洗浄装置及び基板洗浄方法によれば、洗浄ブラシを用いた基板の洗浄に際して、洗浄ブラシへのパーティクルの蓄積を防止して、基板の洗浄効果を高めることができる。
本発明の半導体製造方法によれば、洗浄ブラシを用いた半導体基板の洗浄に際して、洗浄ブラシへのパーティクルの蓄積を防止して、基板の洗浄効果を高めることができる。その結果、パーティクルの残存に起因する不良の発生を防止して、半導体素子の歩留まりを向上させることができる。
本発明は、半導体素子の形成に用いられる半導体基板(ウエハ)や、液晶表示装置、有機EL(Electro Luminescence)表示装置、プラズマ表示装置などの表示用基板(ガラス基板)、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板など、種々の基板の洗浄に適用可能であるが、ここでは一例として、半導体基板の洗浄に適用した場合の具体的な実施の形態について、図面を参照しつつ詳細に説明する。
半導体素子を形成する一連の工程の中には、シリコンウエハ等からなる半導体基板をCMP法で研磨した後、当該研磨後の半導体基板を洗浄する基板処理工程がある。この基板処理工程には、図1に示すように、基板研磨装置1、基板洗浄装置2及び基板乾燥装置3を備える基板処理装置(半導体製造装置)が用いられる。
基板研磨装置1は、半導体基板(以下、単に「基板」という)4をCMP法で研磨するものである。基板洗浄装置2は、基板研磨装置1で研磨した後の基板4を洗浄(湿式洗浄)するものである。基板乾燥装置3は、基板洗浄装置2で洗浄した後の基板4を乾燥するものである。
基板乾燥装置3は、例えば、高速回転による遠心力を利用して基板表面の水分を振り切るスピン乾燥装置や、IPAなどの有機溶媒の蒸気を利用した蒸気乾燥装置、あるいは加熱した空気や窒素ガスなどを吹き付けて基板表面の水分を蒸発させる熱風乾燥装置などを用いて構成されるものである。ここでは一例としてスピン乾燥装置を用いるものとする。
図2は基板研磨装置1の構成例を示す断面図である。図2において、研磨定盤5は回転可能に設けられている。研磨定盤5の上面には研磨布6が設けられている。基板4は研磨ヘッド7の下面に取り付けられている。研磨ヘッド7は回転可能に設けられている。ノズル8はスラリー9を供給するものである。
上記構成からなる基板研磨装置1を用いて基板4を研磨する場合は、研磨ヘッド7の下面に、被研磨面が下向きとなるように基板4を取り付ける。この状態で研磨定盤5と研磨ヘッド7をそれぞれ矢印方向に回転させるとともに、この回転中にノズル8から研磨布6上にスラリー9を供給しつつ、研磨ヘッド7の下降により基板4の下面(被研磨面)を所定の荷重で研磨布6に押し付ける。これにより、基板4の下面が研磨される。
図3は本発明の実施形態に係る基板洗浄装置2の構成例を示すもので、(A)はその平面図、(B)はその側面図である。図3において、4つの基板支持具10は、上記の被研磨面を上向きにして基板4を水平状態に支持するとともに、図示しないモータの駆動にしたがって回転(自転)するものである。各々の基板支持具10は、基板4の円周方向の4箇所で、それぞれ基板4の外周部に係合しつつ回転することにより、基板4を回転させるものである。その際、基板4は、当該基板4の中心を通る垂直軸を中心に回転する。
4つの基板支持具10によって支持される基板4の上方には、スクラバ洗浄のための2つの洗浄ブラシ11,12が並列に配置されている。各々の洗浄ブラシ11,12は、全体的に円筒型をなす、いわゆるロールブラシである。洗浄ブラシ11は回転軸13に取り付けられ、洗浄ブラシ12は回転軸14に取り付けられている。回転軸13,14は互いに平行に配置されている。このため、洗浄ブラシ11,12も互いに平行に配置されている。各々の回転軸13,14は、図示しないブラシ回転用モータの駆動にしたがって回転するものである。ブラシ回転用モータは、基板洗浄に際して、各々の洗浄ブラシ11,12を回転させるためのモータである。
各々の回転軸13,14の軸方向を洗浄ブラシ11,12の長手方向とすると、各々の洗浄ブラシ11,12の長手寸法は、基板4の直径よりも大きく設定されている。そして、4つの基板支持具10で支持される基板4の回転中心付近に洗浄ブラシ11,12を配置したときに、各々の洗浄ブラシ11,12の両端が基板4の外周部よりも外側にはみ出して配置されるようになっている
なお、長方形や正方形の基板を洗浄する場合は、洗浄ブラシ11,12の長手寸法が基板の一辺よりも大きく設定される。そして、洗浄ブラシ11,12と基板のいずれか一方を水平方向(基板面に平行な方向)に移動させることにより、基板全体を洗浄する。
洗浄ブラシ11,12のブラシ材料としては、加工がしやすく、軟質で親水性の高いPVAを用いることが望ましい。各々の洗浄ブラシ11,12の表面(外周面)には、図4にも示すように、円柱型の小さな突起11A,12Aが多数設けられている。各々の突起11A,12Aは、図5に示すように、ブラシ長手方向に対しては一定の間隔に並んで配列され、ブラシ回転方向に対しては隣り合う突起同士に「被り」をつけて配列されている。このため、各々の洗浄ブラシ11,12を回転させることで、ブラシ長手方向に隙間なく基板4を洗浄することができる。
洗浄ブラシ11の回転軸13は可動アーム15に支持され、洗浄ブラシ12の回転軸14は可動アーム16によって支持されている。各々の可動アーム15,16は、互いに独立した駆動源によって上下動(昇降)するものである。また、可動アーム15,16は、図6に示す回転軸13,14の軸間距離Lgを任意に調整できるように、水平面内でブラシ長手方向に直交する方向(図6の左右方向)に移動可能に設けられている。
また、基板洗浄装置2には2つのノズル17,18が設けられている。各々のノズル17,18は、4つの基板支持具10で支持された基板4の上面に洗浄液を供給するものである。一方のノズル17は洗浄ブラシ11に対応して設けられ、他方のノズル18は洗浄ブラシ12に対応して設けられている。
また、4つの基板支持具10によって支持される基板4の下方には、ウエハ裏面洗浄用として、スクラバ洗浄のための洗浄ブラシ20とノズル21が設けられている。洗浄ブラシ20は、上述した洗浄ブラシ11,12と同様の構造を有し、かつ同様の機構によって回転するものである。ノズル21は、4つの基板支持具10に支持された基板4の下面に洗浄液を供給するものである。
続いて、上記構成の基板洗浄装置2を用いた基板洗浄方法(半導体製造方法)について説明する。
まず、被研磨面を上向きにして基板4を4つの基板支持具10で支持するとともに、当該基板4の被研磨面上に2つの洗浄ブラシ11,12を並列に配置する。そして、図7(A),(B)に示すように、各々の基板支持具10の回転にしたがって基板4を回転させるとともに、この回転中の基板4の表面(被研磨面)に一方のノズル17から洗浄液19を供給するとともに、当該回転中の基板4の裏面にノズル21から洗浄液19を供給する。このとき、他方のノズル18からは洗浄液を供給しない。
また、一方の洗浄ブラシ11と他方の洗浄ブラシ12を互いに逆方向に回転させながら下降させることにより、一方の洗浄ブラシ11を基板4の表面に接触させ、他方の洗浄ブラシ12は基板4から離して配置する。また、洗浄ブラシ20を回転させながら上昇させることにより、当該洗浄ブラシ20を基板4の裏面に接触させる。このとき、基板4に対する洗浄ブラシ11,20の押し込み量は、パーティクルを効率的に除去し、かつ洗浄ブラシ11と基板4の過剰な接触によって洗浄ブラシ11が摩耗するのを避けるために、例えば0.5〜1mmの範囲に設定するとよい。この場合、基板4の表面には洗浄ブラシ11の突起11Aだけが接触するように、基板4への押し込み量を突起11Aの高さ寸法よりも小さく設定する。基板4に対する洗浄ブラシ11の押し込み量は、洗浄ブラシ11の突起11Aの先端を基板4の表面に接触させたところから、洗浄ブラシ11を下降させたときの下降量によって規定される。なお、基板4に接触させるときの洗浄ブラシ11の位置は、基板4との接触によって洗浄ブラシ11に加わる圧力を図示しない圧力センサで検知し、当該検知した圧力値が所定値となるように調整してもよい。
基板洗浄中において、基板4に接触する洗浄ブラシ11の回転方向は、ノズル17から供給される洗浄液19の流れる方向に対して順方向とする。同様に、基板4に接触する洗浄ブラシ20の回転方向は、ノズル21から供給される洗浄液19の流れる方向に対して順方向とする。洗浄ブラシ12は、基板4に接触しないように、基板4の表面から所定の距離(例えば、3mm)だけ離して配置する。基板4と洗浄ブラシ12の離間距離は、両者が接触しない範囲で、回転する洗浄ブラシ12から洗浄液等が広範囲に基板4上に飛散するのを避けるために、例えば1〜5mmの範囲に設定することが望ましい。また、ノズル17から供給された洗浄液19は基板4の表面に沿って流れるため、その液面に突起12Aが僅かに接触する状態で洗浄ブラシ12を配置してもよい。
また、上述のように一方の洗浄ブラシ11を基板4に接触させて基板4を洗浄する場合は、一方の洗浄ブラシ11に対して他方の洗浄ブラシ12を接触させる。洗浄ブラシ11,12同士の接触状態は、上記図6に示すように、回転軸13,14の軸間距離を「Lg」とし、洗浄ブラシ11の回転中心から突起11Aの先端までの距離を「Lr1」とし、洗浄ブラシ12の回転中心から突起12Aの先端までの距離を「Lr2」とすると、これらの寸法関係を「Lg<(LR1+Lr2)」の条件で設定することにより得られる。また、洗浄ブラシ11,12同士を接触させる際のブラシの押し込み量を「ΔL」とすると、このブラシの押し込み量は「ΔL=(Lr1+Lr2)−Lg」で表される。
上記ブラシの押し込み量ΔLは、洗浄ブラシ11,12同士の接触に伴うブラシ自身の摩耗を抑えたり、基板4に接触している洗浄ブラシ11へのパーティクルの蓄積を抑えたりするために、例えば0.5〜2mmの範囲に設定することが望ましい。具体例として、図8(A)に示すように、洗浄ブラシ11,12の突起11A,12A同士が互いに変形せずに接触するところから、図8(B)に示すように、上記の押し込み量ΔLが0.5〜2mmの範囲(例えば、ΔL=1mm)に設定されるように、回転軸13,14の軸間距離Lgを調整する。こうした洗浄ブラシ11,12の位置調整は、上述のように可動アーム15,16を上下動させる駆動系(不図示)や、可動アーム15,16を水平面内でブラシ長手方向に移動させる駆動系(不図示)によって実現されるものである。
このように洗浄ブラシ11,12同士を接触させることにより、基板4との接触(スクラバ洗浄)によって洗浄ブラシ11に付着したパーティクルを洗浄ブラシ12で取り除くことができる。このため、基板4に接触している洗浄ブラシ11へのパーティクルの蓄積を防止することができる。したがって、基板4に接触している洗浄ブラシ11を清浄な状態に維持しながら基板4の洗浄を行なうことができる。このため、洗浄ブラシ11から基板4へのパーティクルの転移を防止することができる。また、基板4からのパーティクルの除去効率を高めることができる。さらに、基板4を用いて半導体素子を形成するにあたっては、パーティクルの除去効率が高まることで、露光不良やエッチング不良、ショート不良の発生を低減し、半導体素子の歩留まりを向上させることができる。
また、基板洗浄中はブラシ回転用モータの駆動により洗浄ブラシ11,12を非同期で回転させることが望ましい。非同期での回転を実現する一つの手法としては、例えば下記の基板洗浄条件に示すように、洗浄ブラシ11の回転数(rpm)と洗浄ブラシ12の回転数(rpm)を異なる値に設定すればよい。ただし、その場合は、洗浄ブラシ11の回転数に対して、洗浄ブラシ12の回転数がn倍又は1/n倍(nは自然数)とならないようにする。
<基板洗浄条件>
洗浄時間:30sec
洗浄液(薬液)の流量:250ml/min
基板回転数:120rpm
洗浄ブラシ11の回転数:150rpm
洗浄ブラシ12の回転数:140rpm
洗浄時間:30sec
洗浄液(薬液)の流量:250ml/min
基板回転数:120rpm
洗浄ブラシ11の回転数:150rpm
洗浄ブラシ12の回転数:140rpm
これにより、互いに逆方向に回転する洗浄ブラシ11,12同士を接触させる際に、一方の洗浄ブラシ11に対して他方の洗浄ブラシ12の接触部位が回転のたびに円周方向にずれるようになる。また、洗浄ブラシ11,12の回転数を変えることにより、両者の接触部分に、周速差による適度な擦れが生じる。このため、基板4の洗浄を洗浄ブラシ11で行なう場合に、洗浄ブラシ11に付着したパーティクルを洗浄ブラシ12で効率良く除去することができる。
その後、薬液によるブラシ洗浄が終わったら、基板4に純水を供給してリンス処理を行なう。次いで、基板4を基板乾燥装置3に搬送し、必要に応じてリンス処理を行なった後、下記の条件でスピン乾燥を行なうことにより、一連の処理を終える。
<スピン乾燥条件>
乾燥時間:30sec
基板回転数:2000rpm
乾燥時間:30sec
基板回転数:2000rpm
その後、上記同様の条件で所定枚数の基板4の洗浄処理を終えたら、次の基板4を洗浄するにあたって、当該次の基板4に接触させる洗浄ブラシを、洗浄ブラシ11から洗浄ブラシ12に切り替える。すなわち、図9(A),(B)に示すように、4つの基板支持具10で水平に保持した基板4の表面に洗浄ブラシ12を接触させ、洗浄ブラシ11は基板4から離して洗浄ブラシ11に接触させる。洗浄ブラシ11,12の切り替えは、各々の洗浄ブラシ11,12の位置を上下方向で入れ替える(上下動させる)ことにより行なう。その場合、一方の洗浄ブラシ11は前回の基板洗浄時よりも高い位置に配置し、他方の洗浄ブラシ12は前回の基板洗浄時よりも低い位置に配置する。また、基板4に対する洗浄ブラシ12の押し込み量や、洗浄ブラシ11,12同士の押し込み量は、前回の基板洗浄時と同様に設定する。
また、洗浄ブラシ11,12の切り替えに伴って、基板4に洗浄液19を供給するノズルを、ノズル17からノズル18に切り替える。すなわち、上述のように基板4に洗浄ブラシ12を接触させる場合は、この洗浄ブラシ12に対応して設けられたノズル18から洗浄液19を供給し、ノズル17からは洗浄液を供給しない。
ここで、ノズル17は洗浄ブラシ11側に面する方向から洗浄液19から供給し、ノズル18は洗浄ブラシ12側に面する方向から洗浄液19を供給するため、基板洗浄中に両方のノズル17,18から同時に洗浄液19を供給すると、ノズル17によって供給された洗浄液19とノズル18によって供給された洗浄液19が基板4上で衝突して流れを乱し、基板4の洗浄効果が低下する恐れがある。したがって、基板4に洗浄ブラシ12を接触させる場合は、この洗浄ブラシ12に対応するノズル18から洗浄液19を供給し、前述のように基板4に洗浄ブラシ11を接触させる場合は、この洗浄ブラシ11に対応するノズル17から洗浄液19を供給することが望ましい。
また、各々の洗浄ブラシ11,12の回転方向は、基板4に接触する洗浄ブラシ12の回転方向がノズル18から供給される洗浄液19の流れる方向に対して順方向となるように、前回の基板洗浄時と同様の方向とする。ただし、各々の洗浄ブラシ11,12の回転数(rpm)は、前回の基板洗浄時と比較して、下記の基板洗浄条件で示すように洗浄ブラシ11の回転数と洗浄ブラシ12の回転数を相互に入れ替えた値とし、洗浄時間、洗浄液の流量及び基板回転数は、前回の基板洗浄時と同じ値とする。
<基板洗浄条件>
洗浄時間:30sec
洗浄液(薬液)の流量:250ml/min
基板回転数:120rpm
洗浄ブラシ11の回転数:140rpm
洗浄ブラシ12の回転数:150rpm
洗浄時間:30sec
洗浄液(薬液)の流量:250ml/min
基板回転数:120rpm
洗浄ブラシ11の回転数:140rpm
洗浄ブラシ12の回転数:150rpm
以後、所定枚数の基板4を洗浄するごとに、2つの洗浄ブラシ11,12を交互に切り替えて使用する。所定枚数は、1枚であってもよし、複数枚であってもよい。このように2つの洗浄ブラシ11,12の間で基板4に接触させる洗浄ブラシを交互に切り替えることにより、常に同じ洗浄ブラシを基板に接触させて洗浄する場合に比較して、洗浄ブラシに蓄積するパーティクルの量が格段に少なくなる。また、洗浄ブラシ11,12を交互に使用することで、ブラシ交換後の洗浄ブラシの寿命が長くなる。このため、プロセスコストを削減することができる。
なお、上記実施形態においては、基板4の一方の面上に2つの洗浄ブラシ11,12を並列に配置し、基板4の他方の面上には1つの洗浄ブラシ20を配置して基板洗浄を行なう場合について説明したが、本発明はこれに限らず、例えば表示用基板などの洗浄に際して、基板の一方の面上に2つの洗浄ブラシを並列に配置し、基板の他方の面上にもそれと別に2つの洗浄ブラシを並列に配置して基板洗浄を行なってもよい。
1…基板研磨装置、2…基板洗浄装置、3…基板乾燥装置、4…基板、10…基板支持具、11,12…洗浄ブラシ、13,14…回転軸、17,18…ノズル、19…洗浄液
Claims (7)
- 基板の少なくとも一方の面上に2つの円筒型の洗浄ブラシを並列に配置するとともに、前記2つの洗浄ブラシのうち、一方の洗浄ブラシを前記基板に接触させ、かつ他方の洗浄ブラシを前記基板から離して前記一方の洗浄ブラシに接触させた状態で、前記基板の洗浄を行なう
ことを特徴とする基板洗浄方法。 - 所定枚数の基板を洗浄するごとに、前記2つの洗浄ブラシの間で前記基板に接触させる洗浄ブラシを交互に切り替える
ことを特徴とする請求項1記載の基板洗浄方法。 - 前記2つの洗浄ブラシに対応して2つのノズルを設け、一方の洗浄ブラシを前記基板に接触させる場合は、当該一方の洗浄ブラシに対応するノズルから洗浄液を供給し、他方の洗浄ブラシを前記基板に接触させる場合は、当該他方の洗浄ブラシに対応するノズルから洗浄液を供給する
ことを特徴とする請求項2記載の基板洗浄方法。 - 前記2つの洗浄ブラシ同士を接触させる場合の押し込み量を0.5〜2mmの範囲に設定する
ことを特徴とする請求項1記載の基板洗浄方法。 - 前記2つの洗浄ブラシを互いに逆方向に非同期で回転させる
ことを特徴とする請求項1記載の基板洗浄方法。 - 基板の少なくとも一方の面上に並列に配置された2つの円筒型の洗浄ブラシと、
前記2つの洗浄ブラシのうち、一方の洗浄ブラシを前記基板に接触させ、かつ他方の洗浄ブラシを前記基板から離して前記一方の洗浄ブラシに接触させるように、各々の洗浄ブラシの位置を調整する調整手段と
を備えることを特徴とする基板洗浄装置。 - 研磨後の半導体基板の被研磨面上に2つの円筒型の洗浄ブラシを並列に配置するとともに、前記2つの洗浄ブラシのうち、一方の洗浄ブラシを前記半導体基板に接触させ、かつ他方の洗浄ブラシを前記半導体基板から離して前記一方の洗浄ブラシに接触させた状態で、前記半導体基板の洗浄を行なう
ことを特徴とする半導体製造方法。
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