JP5323775B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
1 塗布ユニット
3,4 吸着チャック(回転保持部)
5,6 処理カップ
10 処理液供給ノズル
11 ノズル搬送部
12 把持アーム
13 ノズルバス(ノズル待機部)
16,16A ノズル把持体
17 ノズルブロック部
18,18A 把持用ブロック部
19 接続管
20 ノズル部材
21 処理液供給管
25 温調配管側把持穴(第1の把持穴)
26 温調配管(温度調整配管)
27 外殻温調チューブ(第2の配管)
28 内殻温調チューブ(第1の配管)
29 温調配管保持部材
30 処理液配管保持部材
35 距離調整管
38 位置決め部材
39 ノズル位置決め穴(ノズル位置決め凹部)
40 ノズル側把持穴(第1の把持穴)
41 第1の把持用凸部
42 第2の把持用凸部
50 ノズル待機穴
70 温調配管シールブロック
Claims (6)
- 水平面で回転可能に基板を保持する回転保持部と、
前記回転保持部に保持された基板の表面に向けて処理液を供給する複数の処理液供給ノズルと、
前記複数の処理液供給ノズルを前記回転保持部の側方の待機位置に着脱可能に保持するノズル待機部と、
前記ノズル待機部に保持される前記複数の処理液供給ノズルのうち一つを選択して把持して前記基板の上方に移動させる把持アームを有するノズル搬送部と、
を備える基板処理装置において、
前記処理液供給ノズルを接続し、上部に第1の把持穴を設けるノズルブロック部と、
上部に第2の把持穴を設ける把持用ブロック部と、
前記ノズルブロック部と前記把持用ブロック部の間に配置されて、前記両ブロック部同士を直状に接続する接続管と、を備え、
前記処理液供給ノズルに連通される処理液供給管は、前記接続管の中に配管され、
前記把持アームは、前記第1の把持穴に嵌合可能な第1の把持用凸部と、前記第2の把持穴に嵌合可能な第2の把持用凸部を備え、
前記基板の上方に前記処理液供給ノズルを移動する際は、前記ノズルブロック部の第1の把持穴と前記把持用ブロック部の第2の把持穴にそれぞれ前記第1及び第2の把持用凸部を同時に嵌合して把持した状態で移動させる、
ことを特徴とする基板処理装置。 - 前記接続管の中に配管され、前記処理液供給管を二重に囲うように設けられる第1の配管と第2の配管とを含む温度調整配管を備え、
前記温度調整配管は、前記処理液供給管と前記第1の配管の間には温度調整された流体を前記処理液供給ノズルに向かう方向に流通させ、前記第1の配管と前記第2の配管との間には前記流体をこの流体の供給側に戻す方向に流通させる、ことを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記処理液供給管を二重に囲うように設けられる第1の配管と第2の配管とを含む温度調整配管を備え、
前記温度調整配管は、前記処理液供給管と前記第1の配管の間には温度調整された流体を前記処理液供給ノズルに向かう方向に流通させ、前記第1の配管と前記第2の配管との間には前記流体をこの流体の供給側に戻す方向に流通させてなり、前記処理液供給管と前記第1の配管とを前記接続管の中に配管し、前記第2の配管の外皮を前記把持用ブロック部でシールして、前記流体を前記接続管内部に流して流体の供給側に戻すように構成してなる、ことを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記ノズル搬送部は少なくとも前記回転保持部を備える2つの処理カップの間に設けられて前記処理カップに共用されるように構成され、前記処理カップの間には、前記複数の処理液供給ノズルと対応する複数のノズル待機穴にそれぞれ処理液供給ノズルを挿入して待機させるためのノズル待機部を備えている、ことを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記把持用ブロック部の下方に位置決め凸部を備え、前記ノズル待機部における前記把持アームが待機位置に配置される位置に前記位置決め凸部が挿入される位置決め凹部が設けられている、ことを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記温度調整配管を内包して一方向にのみ屈曲自在な配管ガード部材を備え、
前記配管ガード部材は、この配管ガード部材を前記2つの処理カップの間の中間位置から前記把持アームの延在位置方向に沿った前記把持用ブロック部に向けて直角に前記温度調整配管を取り出す位置が左右対称に複数設けられている、ことを特徴とする請求項2ないし5のいずれかに記載の基板処理装置。
Priority Applications (1)
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JP2010157498A JP5323775B2 (ja) | 2010-07-12 | 2010-07-12 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010157498A JP5323775B2 (ja) | 2010-07-12 | 2010-07-12 | 基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2012023071A JP2012023071A (ja) | 2012-02-02 |
JP5323775B2 true JP5323775B2 (ja) | 2013-10-23 |
Family
ID=45777122
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2010157498A Active JP5323775B2 (ja) | 2010-07-12 | 2010-07-12 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
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- 2010-07-12 JP JP2010157498A patent/JP5323775B2/ja active Active
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