JP4845668B2 - 複合配管及び複合配管を備える塗布・現像処理装置 - Google Patents
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Description
この場合、上記排気通路が排気手段に接続可能に形成する方がよい(請求項2)。
このように構成することにより、配管の固定設備側に排気手段を接続することで、移動体側に発生したパーティクルやミスト等を排気通路から外部に排出することができる。
まず、外部からキャリア20が載置台21に搬入され、トランスファーアームCによりこのキャリア20内からウエハWが取り出される。ウエハWは、トランスファーアームCにより、棚ユニットU5の受渡しステージTRS1に搬送された後、受渡しアームDにより棚ユニットU5の第3収納ブロック10cの冷却プレートCPL3まで搬送され、この冷却プレートCPL3を介してCOT層B4のメインアームA4に受け渡される。そして、ウエハWは、メインアームA4によって疎水化処理ユニット(ADH)に搬送されて疎水化処理された後、再び棚ユニットU5の第3収納ブロック10cの冷却プレートCPL4に搬送されて、所定温度に調整される。次に、メインアームA4によって棚ユニットU5から取り出されたウエハWは、塗布ユニット32に搬送されて、塗布ユニット32においてレジスト膜が形成される。レジスト膜が形成されたウエハWは、メインアームA4によって加熱ユニット(CLHP4)に搬送されて、溶剤をレジスト膜から蒸発させるためのプリベークが施される。その後、ウエハWは、メインアームA4によって棚ユニットU5の第3収納ブロック10cの載置棚BUF2上に収納されて一時待機し、その後、受渡しアームDが棚ユニットU5の第3収納ブロック10cの載置棚BUF2に進入してウエハWを受け取り、棚ユニットU5の受渡しステージTRS2に受け渡す。続いてシャトルアームAにより棚ユニットU6の受渡しステージICPLに搬送される。次いで受渡しステージICPLのウエハWは、インターフェイスアームEにより露光装置S4に搬送され、ここで所定の露光処理が行われる。
まず、外部からキャリア20が載置台21に搬入され、トランスファーアームCによりこのキャリア20内からウエハWが取り出される。ウエハWは、トランスファーアームCから受渡しアームDに受け渡された後、受渡しアームDにより棚ユニットU5の第2収納ブロック10bの冷却プレートCPL1まで搬送され、この冷却プレートCPL1を介してBCT層B3のメインアームA3に受け渡される。
まず、外部からキャリア20が載置台21に搬入され、トランスファーアームCによりこのキャリア20内からウエハWが取り出される。ウエハWは、トランスファーアームCにより、棚ユニットU5の受渡しステージTRS1に搬送された後、受渡しアームDにより、棚ユニットU5の第3収納ブロック10cの冷却プレートCPL3まで搬送され、この冷却プレートCPL3を介してCOT層B4のメインアームA4に受け渡される。そして、ウエハWは、メインアームA4により、疎水化処理ユニット(ADH)→棚ユニットU5の第3収納ブロック10cの冷却プレートCPL4に搬送されて、所定温度に調整される。次に、メインアームA4によって棚ユニットU5から取り出されたウエハWは、塗布ユニット32に搬送されて、塗布ユニット32においてレジスト膜が形成される。レジスト膜が形成されたウエハWは、メインアームA4によって加熱ユニット(CLHP4)に搬送されて、溶剤をレジスト膜から蒸発させるためのプリベークが施される。その後、ウエハWは、メインアームA4によって棚ユニットU5の第3収納ブロック10cの載置棚BUF2上に収納されて一時待機する。
レジスト膜の下側及び上側に反射防止膜を形成する場合は、上述したレジスト膜の下側に反射防止膜を形成する搬送処理とレジスト膜の下側に反射防止膜を形成する搬送処理とを組み合わせてレジスト膜の下側及び上側に反射防止膜を形成することができる。すなわち、まず、外部からキャリア20が載置台21に搬入され、トランスファーアームCによりこのキャリア20内からウエハWが取り出され、受渡しアームDに受け渡された後、受渡しアームDにより棚ユニットU5の第2収納ブロック10bの冷却プレートCPL1まで搬送され、この冷却プレートCPL1を介してBCT層B3のメインアームA3に受け渡される。
B1,B2 第1,第2の単位ブロック(DEV層)
B3 第3の単位ブロック(BCT層)
B4 第4の単位ブロック(COT層)
B5 第5の単位ブロック(TCT層)
S1 キャリアブロック
S2 処理ブロック
31 現像ユニット(処理ユニット)
32 塗布ユニット(処理ユニット)
33 第1の反射防止膜形成ユニット(処理ユニット)
34 第2の反射防止膜形成ユニット(処理ユニット)
35,35a〜35c 液処理部
47 供給ノズル
48 ノズルヘッド
49 ノズル駆動機構
54 配管連結ブロック(固定設備側)
60,60A,60B,60C 複合配管
61,61a〜61c 液用管体
62 電気用管体
63,63A 被覆部材
64,64A 液供給管
65 温度調整流体
66 電気配線
67 蛇腹状管部材
68a 空間部
68b 空間部(排気通路)
69 断熱層
100 板状ばね部材
200 ベース部材
201 凸条
202 凹条
300 バッファ部(容積拡大部)
Claims (8)
- 少なくとも液用管体と電気用管体を含む複数の管体が並列状に固着され、一端が固定設備側に接続され、他端が移動体側に接続される複合配管であって、
上記複数の管体は可撓性を有する被覆部材にて一体結合され、上記液用管体内に空間を空けて液供給管が挿入されると共に、液用管体と液供給管との空間部内に温度調整用流体が介在可能に形成され、
上記電気用管体内に空間を空けて電気配線が挿入されると共に、電気用管体と電気配線との空間部が、排気通路を形成する、ことを特徴とする複合配管。 - 請求項1記載の複合配管において、
上記排気通路が排気手段に接続可能に形成されている、ことを特徴とする複合配管。 - 請求項1又は2に記載の複合配管において、
上記管体が伸縮及び可撓性を有する蛇腹状管体であることを特徴とする複合配管。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の複合配管において、
少なくとも上記液用管体は、該管体の全周を被覆する被覆部材との間に断熱層が形成されている、ことを特徴とする複合配管。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の複合配管において、
上記被覆部材における管体の配列方向に沿って板状ばね部材が添設されている、ことを特徴とする複合配管。 - 請求項1ないし5のいずれかに記載の複合配管において、
上記被覆部材を移動可能に載置するベース部材を具備し、このベース部材と被覆部材の対向する接触面には、互いに摺動可能に係合する凹条及び凸条が形成されている、ことを特徴とする複合配管。 - 請求項1、3又は4に記載の複合配管において、
上記液用管体の端部に、該管体内を流れる液の容積拡大部が設けられている、ことを特徴とする複合配管。 - 請求項1ないし7のいずれかに記載の複合配管を備える塗布・現像処理装置であって、
被処理基板に塗布液を供給して処理を施す塗布処理部と、上記被処理基板に現像液を供給して処理を施す現像処理部を具備し、上記塗布処理部及び現像処理部は、液供給ノズル及び該ノズルの移動手段を具備すると共に、これら液供給ノズル及びノズルの移動手段に上記複合配管の移動体側端部を接続してなる、ことを特徴とする複合配管を備える塗布・現像処理装置。
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