JP2000182926A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 フットプリントの低減化および低コスト化を
図りつつ所定の温度に調整された処理液を用いて基板に
均一な処理を行うことができる基板処理装置を提供する
ことである。 【解決手段】 現像装置は、装置本体部１００および別
置キャビネット２００により構成される。装置本体部１
００は処理部１および中継ボックス１０を備える。別置
キャビネット２００は温調器２０、温調集合ボックス３
０および現像液バッファタンク７０を備える。別置キャ
ビネット２００の温調集合ボックス３０と装置本体部１
００の中継ボックス１０とは二重配管６３により接続さ
れる。二重配管６３は内側の現像液配管４３および外側
の恒温水配管５３からなる二重構造を有する。中継ボッ
クス１０は二重配管６０を介して処理部１の現像液吐出
ノズル４に接続される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、処理液を用いて基
板に所定の処理を行う基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の
基板に種々の処理を行うために基板処理装置が用いられ
ている。基板処理装置の一例として、露光処理された基
板上のレジスト膜に現像液を供給して現像処理を行う現
像装置がある。

【０００３】現像装置において、現像処理により基板上
のレジスト膜に形成されるパターンの線幅は、供給され
る現像液の温度に依存して変化することが知られてい
る。このため、パターンの線幅のばらつきを防止するた
めに、現像液を所定の温度に調整して基板上に供給する
必要がある。そこで、現像装置には、現像液の温度を調
整するための温度調整機構が設けられている。

【０００４】図６は従来の現像装置の構成を示す概略図
である。図６の現像装置は、装置本体部５００内に処理
部１、熱交換タンク８０、温調集合ボックス９０および
温調器（サーキュレータ）９５を備える。

【０００５】処理部１は、基板Ｗを水平に保持して回転
する回転保持部２および基板Ｗの周囲を取り囲む現像液
飛散防止用のカップ３を備える。回転保持部２に保持さ
れた基板Ｗの上方には、現像液を吐出する現像液吐出ノ
ズル４が基板Ｗの上方位置と基板Ｗの上方から外れた待
機位置との間で移動可能に設けられている。

【０００６】温調器９５により恒温水が所定の温度に調
整され、その恒温水が恒温水配管１３１を通して熱交換
タンク８０内に供給される。熱交換タンク８０内には、
現像液配管１２０がコイル状に巻回されて収納されてい
る。外部の現像液供給源（図示せず）から現像液が現像
液配管１２１を介して熱交換タンク８０内の現像液配管
１２０に供給される。現像液が現像液配管１２０内を流
動する間に、熱伝導により現像液の温度が恒温水の温度
とほぼ同一に設定される。

【０００７】熱交換タンク８０の現像液配管１２０を流
動した現像液は、現像液配管１２２を通して温調集合ボ
ックス９０に供給される。また、熱交換タンク８０内の
恒温水は、恒温水配管１３２を通して温調集合ボックス
９０に供給される。

【０００８】温調集合ボックス９０は、二重配管１４０
により処理部１の現像液吐出ノズル４に接続されてい
る。二重配管１４０は、内側の現像液配管１２３および
外側の恒温水配管１３３からなる二重構造を有する。

【０００９】温調集合ボックス９０に供給された現像液
は、二重配管１４０の現像液配管１２３を通して現像液
吐出ノズル４に供給され、現像液吐出ノズル４から基板
Ｗ上に吐出される。

【００１０】温調集合ボックス９０に供給された恒温水
は、二重配管１４０の恒温水配管１３３内を現像液配管
１２３の外周面に沿って流れ、現像液吐出ノズル４の手
前から恒温水戻り配管１３５を通して温調器９５に戻さ
れる。これにより、温調器９５、恒温水配管１３１、熱
交換タンク８０、恒温水配管１３２、温調集合ボックス
９０、二重配管１４０の恒温水配管１３３および恒温水
戻り配管１３５からなる恒温水の循環経路が構成され
る。

【００１１】このようにして、所定の温度に調整された
現像液が基板Ｗ上に供給され、回転保持部２の回転によ
り基板Ｗの全面に塗り広げられる。それにより、基板Ｗ
上のレジスト膜に現像処理が行われる。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の現像装置においては、現像液を熱伝導により恒温
水とほぼ同一の温度に調整するために、恒温水を熱交換
タンク８０内に貯留するとともに、熱交換タンク８０内
に一定以上の長さの現像液配管１２０をコイル状に巻回
する必要がある。

【００１３】そのため、熱交換タンク８０のサイズが大
きくなり、熱交換タンク８０が装置本体部５００内の大
きな場所を占有することになる。それにより、装置本体
部５００内の他の内蔵物の設置スペースが制限され、配
管が複雑になるとともに、交換部品の保守が困難にな
る。

【００１４】また、大型でかつ複雑な構造を有する熱交
換タンク８０を内蔵するため、装置本体部５００が大型
化し、クリーンルーム内に占める基板処理装置の設置床
面積（フットプリント）が増大するとともに、基板処理
装置の低コスト化が妨げられる。

【００１５】さらに、熱交換タンク８０内の現像液配管
１２０がコイル状に巻回されていることから、現像液配
管１２０内での圧力損失が大きくなり、熱交換タンク８
０内の現像液配管１２０に現像液を供給するために現像
液を大きな圧力で加圧する必要がある。それにより、現
像液内に加圧気体が溶存し、現像液吐出ノズル４から現
像液が吐出されたときに現像液中の溶存気体が発泡する
現象が生じる場合がある。その結果、基板Ｗ上のレジス
ト膜に現像欠陥が生じることとなる。

【００１６】本発明の目的は、フットプリントの低減化
および低コスト化を図りつつ所定の温度に調整された処
理液を用いて基板に均一な処理を行うことができる基板
処理装置を提供することである。

【００１７】

【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る基板処理装置は、基板に所定の処理を行う基
板処理装置であって、処理液を用いて基板に処理を行う
処理部および処理液を処理部に導く処理液供給経路を含
む装置本体部と、装置本体部とは別個に設けられ、処理
液を供給する処理液供給手段および所定の温度に調整さ
れた恒温水を供給する恒温水供給手段を含む別置収納部
と、別置収納部と装置本体部との間に接続され、別置収
納部の処理液供給手段から供給される処理液を装置本体
部の処理液供給経路に導く第１の内側管路および第１の
内側管路の外側を取り囲むように設けられかつ別置収納
部の恒温水供給手段から供給される恒温水を第１の内側
管路の外周面に沿って流動させる第１の外側管路を有す
る第１の供給配管とを備えたものである。

【００１８】本発明に係る基板処理装置においては、別
置収納部が装置本体部と別個に設けられ、別置収納部と
装置本体部とが第１の内側管路および第１の外側管路を
有する第１の供給配管により接続される。

【００１９】別置収納部の処理液供給手段から供給され
る処理液は、第１の供給配管の第１の内側配管を通して
装置本体部の処理液供給経路に導かれ、処理液供給経路
から処理部に導かれ、その処理液を用いて基板に処理が
行われる。

【００２０】また、別置収納部の恒温水供給手段により
供給される恒温水は、第１の供給配管の第１の外側管路
内を第１の内側管路の外周面に沿って流動する。別置収
納部から装置本体部まで第１の供給配管の第１の内側管
路内を流動する処理液は、熱伝導により第１の外側管路
内を流れる恒温水とほぼ同じ温度に調整される。

【００２１】このように、処理液が別置収納部の処理液
供給手段から装置本体部の処理液供給経路に導かれる間
に、恒温水との熱交換作用により処理液が所定の温度に
調整される。そのため、装置本体部内に大型でかつ複雑
な構造を有する熱交換タンクを設ける必要がなくなる。

【００２２】それにより、装置本体部内の内蔵物の設置
スペースに余裕が生じ、配管を単純化することができる
とともに、交換部品の保守が容易になる。また、装置本
体部を小型化することが可能になるため、装置本体部の
フットプリントを低減するとともに、基板処理装置の低
コスト化を図ることが可能となる。

【００２３】また、別置収納部と装置本体部とを接続す
る第１の供給配管をコイル状に巻回する必要がないの
で、第１の供給配管での圧力損失が小さくなる。それに
より、第１の供給配管の第１の内側管路内に処理液を供
給するために高い圧力で処理液を加圧する必要がなくな
る。その結果、処理液中への気体の溶存量が低減され、
処理部において溶存気体の発泡により処理欠陥が発生す
ることが防止される。

【００２４】第２の発明に係る基板処理装置は、第１の
発明に係る基板処理装置の構成において別置収納部は、
装置本体部の下方に配置されたものである。この場合、
基板処理装置のフットプリントが低減される。

【００２５】第３の発明に係る基板処理装置は、第１ま
たは第２の発明に係る基板処理装置の構成において、恒
温水供給手段は、恒温水を所定の温度に調整して第１の
供給配管に供給する温調器を含むものである。

【００２６】この場合、温調器により恒温水が所定の温
度に調整され、所定の温度に調整された恒温水が第１の
供給配管に供給される。

【００２７】第４の発明に係る基板処理装置は、第１、
第２または第３の発明に係る基板処理装置の構成におい
て、別置収納部は、処理液供給手段から供給される処理
液を第１の供給配管の第１の内側管路内に導きかつ恒温
水供給手段から供給される恒温水を第１の供給配管の第
１の外側管路内に導く集合手段をさらに備えたものであ
る。

【００２８】この場合、処理液供給手段から供給される
処理液および恒温水供給手段から供給される恒温水が集
合手段によりそれぞれ第１の供給配管の第１の内側管路
内および第１の外側管路内に導かれる。

【００２９】第５の発明に係る基板処理装置は、第１〜
第４のいずれかの発明に係る基板処理装置の構成におい
て、処理液供給経路は、処理液を処理部に導く第２の内
側管路および第２の内側管路の外側を取り囲むように設
けられかつ恒温水を第２の内側管路の外周面に沿って流
動させる第２の外側管路を有する第２の供給配管と、第
１の供給配管の第１の内側管路と第２の供給配管の第２
の内側管路とを接続しかつ第１の供給配管の第１の外側
管路と第２の供給配管の第２の外側管路とを接続する中
継手段とを含むものである。

【００３０】この場合、別置収納部から第１の供給配管
の第１の内側管路を通して装置本体部に導かれた処理液
が、中継手段を介して第２の供給配管の第２の内側管路
内に供給され、さらに第２の内側管路を通して処理部に
導かれる。また、別置収納部から第１の供給配管の第１
の外側管路を通して装置本体部に導かれた恒温水が、中
継手段を介して第２の供給配管の第２の外側管路内に供
給され、第２の外側管路内を第２の内側管路の外周面に
沿って流動する。それにより、装置本体部の中継手段か
ら処理部まで第２の供給配管の第２の内側管路内を流動
する処理液が、熱伝導により第２の外側管路内を流れる
恒温水とほぼ同じ温度に保たれる。

【００３１】第６の発明に係る基板処理装置は、第１〜
第５のいずれかの発明に係る基板処理装置の構成におい
て、第１の供給配管の第１の外側管路により装置本体部
に供給された恒温水を別置収納部の恒温水供給手段に戻
す恒温水戻り配管をさらに備えたものである。

【００３２】この場合、別置収納部から装置本体部に導
かれた恒温水が、恒温水戻り配管を通して別置収納部の
恒温水供給手段に戻される。これにより、別置収納部の
恒温水供給手段、第１の供給配管の第１の外側管路、装
置本体部および恒温水戻り配管からなる恒温水の循環経
路が構成される。それにより、別置収納部から装置本体
部に導かれる処理液が効率良く常時所定の温度に調整さ
れる。

【００３３】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る基板処理装置
の一例として現像装置について説明する。

【００３４】図１は本発明の一実施例における現像装置
の構成を示す概略図である。図１の現像装置は、装置本
体部１００および別置キャビネット２００により構成さ
れる。装置本体部１００は、床材３００上のクリーンル
ーム３０１内に設置される。また、別置キャビネット２
００は、床材３００下の床下空間３０２に設けられる。

【００３５】装置本体部１００は、処理部１および中継
ボックス１０を備える。処理部１は、基板Ｗを水平に保
持して回転する回転保持部２および基板Ｗの周囲を取り
囲む現像液飛散防止用のカップ３を備える。回転保持部
２に保持された基板Ｗの上方には、現像液を吐出する現
像液吐出ノズル４が基板Ｗの上方位置と基板Ｗの上方か
ら外れた待機位置との間で移動可能に設けられている。

【００３６】中継ボックス１０と現像液吐出ノズル４と
は、二重配管６０により接続されている。二重配管６０
は、現像液が流動する内側の現像液配管４０および恒温
水が流動する外側の恒温水配管５０からなる二重構造を
有する。

【００３７】別置キャビネット２００は、温調器（サー
キュレータ）２０、温調集合ボックス３０および現像液
バッファタンク７０を備える。外部の現像液供給源（図
示せず）から現像液配管４１を介して現像液バッファタ
ンク７０内に現像液が供給される。現像液バッファタン
ク７０内に貯溜された現像液は、現像液配管４２を通し
て温調集合ボックス３０に供給される。一方、温調器２
０により恒温水が所定の温度に調整され、その恒温水が
恒温水配管５２を通して温調集合ボックス３０に供給さ
れる。

【００３８】別置キャビネット２００の温調集合ボック
ス３０と装置本体部１００の中継ボックス１０とは二重
配管６３により接続されている。二重配管６３は、現像
液が流動する内側の現像液配管４３および恒温水が流動
する外側の恒温水配管５３からなる二重構造を有する。
中継ボックス１０においては、二重配管６３の現像液配
管４３と二重配管６０の現像液配管４０とが継手１１に
より接続されている。

【００３９】また、装置本体部１００内の二重配管６０
の恒温水配管５０は、恒温水戻り配管５１を介して別置
キャビネット２００の温調器２０に接続されている。

【００４０】図２は図１の現像装置における二重配管６
３の断面図である。図３に示すように、現像液配管４３
の外側を取り囲むように恒温水配管５３が設けられてい
る。現像液は現像液配管４３内を流動し、恒温水は現像
液配管４３の外周面と恒温水配管５３の内周面との間の
空間を流動する。現像液配管４３内を流動する現像液
は、現像液配管４３を介した熱伝導により恒温水配管５
３内を流動する恒温水とほぼ同一の温度に調整される。

【００４１】図３は図１の現像装置における温調集合ボ
ックス３０の断面図である。図３に示すように、温調集
合ボックス３０の一面には、現像液配管４２の一端が継
手３１を介して挿入されている。また、温調集合ボック
ス３０の他の一面には、継手３３を介して二重配管６３
の恒温水配管５３の一端が接続されるとともに現像液配
管４３の一端が挿入されている。現像液配管４２と現像
液配管４３とは温調集合ボックス３０内で継手３２によ
り互いに接続されている。また、温調集合ボックス３０
のさらに他の一面には、恒温水配管５２の一端が継手３
４を介して接続されている。

【００４２】現像液配管４２を通して供給される現像液
は、温調集合ボックス３０において二重配管６３の現像
液配管４３に導かれる。恒温水配管５２を通して供給さ
れる恒温水は、温調集合ボックス３０内に一旦供給さ
れ、継手３３を介して二重配管６３の恒温水配管５３内
に導かれる。

【００４３】本実施例では、別置キャビネット２００が
別置収納部に相当し、現像液バッファタンク７０および
現像液配管４２が処理液供給手段に相当し、温調器２０
が恒温水供給手段に相当する。また、二重配管６３が第
１の供給配管に相当し、現像液配管４３が第１の内側管
路に相当し、恒温水配管５３が第１の外側管路に相当す
る。さらに、二重配管６０が処理液供給経路および第２
の供給配管に相当し、現像液配管４０が第２の内側管路
に相当し、恒温水配管５０が第２の外側管路に相当す
る。また、温調集合ボックス３０が集合手段に相当し、
中継ボックス１０が中継手段に相当する。

【００４４】次に、図１の現像装置の動作を説明する。
現像液バッファタンク７０内に貯留された現像液が、現
像液配管４２を通して温調集合ボックス３０に導かれ
る。一方、温調器２０により所定の温度に調整された恒
温水は、恒温水配管５２を通して温調集合ボックス３０
に導かれる。

【００４５】温調集合ボックス３０に導かれた現像液
は、二重配管６３の現像液配管４３内を流動し、装置本
体部１００の中継ボックス１０に導かれる。また、温調
集合ボックス３０に導かれた恒温水は、二重配管６３の
恒温水配管５３内を現像液配管４３の外周面に沿って流
動し、装置本体部１００の中継ボックス１０に導かれ
る。このとき、現像液配管４３内を流動する現像液は、
現像液配管４３を介した熱伝導により恒温水配管５３内
を流れる恒温水とほぼ同一の温度に調整される。

【００４６】中継ボックス１０に導かれた現像液は、二
重配管６０の現像液配管４０を通して現像液吐出ノズル
４に供給され、現像液吐出ノズル４から基板Ｗ上に吐出
される。

【００４７】中継ボックス１０に導かれた恒温水は、二
重配管６０の恒温水配管５０内を現像液配管４０の外周
面に沿って流れ、現像液吐出ノズル４の手前から恒温水
戻り配管５１を通して別置キャビネット２００内の温調
器２０に戻される。

【００４８】これにより、温調器２０、恒温水配管５
２、温調集合ボックス３０、二重配管６３の恒温水配管
５３、中継ボックス１０、二重配管の恒温水配管５０お
よび恒温水戻り配管５１からなる恒温水の循環経路が構
成される。

【００４９】このようにして、所定の温度に調整された
現像液が基板Ｗ上に供給され、回転保持部２の回転によ
り基板Ｗの全面に塗り広げられる。それにより、基板Ｗ
上のレジスト膜に現像処理が行われる。

【００５０】本実施例の現像装置においては、現像液が
別置キャビネット２００の温調集合ボックス３０から装
置本体部１００の中継ボックス１０に導かれる間に、恒
温水との熱交換作用により現像液が所定の温度に調整さ
れる。そのため、装置本体部１００内に大型でかつ複雑
な構造を有する熱交換タンクを設ける必要がなくなる。

【００５１】それにより、装置本体部１００内の内蔵物
の設置スペースに余裕が生じ、配管を単純化することが
できるとともに、交換部品の保守が容易になる。また、
装置本体部１００を小型化することが可能になるため、
装置本体部１００のフットプリントを低減するととも
に、現像装置の低コスト化を図ることが可能となる。

【００５２】また、別置キャビネット２００と装置本体
部１００とを接続する二重配管６３をコイル状に巻回す
る必要がないので、二重配管６３での圧力損失が小さく
なる。それにより、二重配管６３の現像液配管４３内に
現像液を供給するために高い圧力で現像液を加圧する必
要がなくなる。その結果、現像液中への加圧気体の溶存
量が低減され、処理部１において溶存気体の発泡により
現像欠陥が発生することが防止される。

【００５３】また、別置キャビネット２００が装置本体
部１００の下部の床下空間３０２に設けられるので、現
像装置のフットプリントが低減される。

【００５４】なお、本実施例では、装置本体部１００の
処理部１が１つの現像液吐出ノズル４を備える場合につ
いて説明したが、処理部１が複数の現像液吐出ノズル４
を備える場合には、二重配管６３の恒温水配管５３内に
複数本の現像液配管を設けるとともに、二重配管６０の
恒温水配管５０内に複数本の現像液配管を設ける。

【００５５】図４は装置本体部１００の処理部１が２つ
の現像液吐出ノズルを備える場合の二重配管６３の断面
図である。図５は装置本体部１００の処理部１が２つの
現像液吐出ノズルを備える場合の温調集合ボックス３０
の断面図である。

【００５６】図４に示すように、２本の現像液配管４３
ａ，４３ｂの外側を一体的に取り囲むように恒温水配管
５３が設けられている。現像液は現像液配管４３ａ内お
よび現像液配管４３ｂ内をそれぞれ流動し、恒温水は現
像液配管４３ａ，４３ｂの外周面と恒温水配管５３の内
周面との間の空間を流動する。

【００５７】なお、装置本体部１００内の中継ボックス
１０と２つの現像液吐出ノズルとを接続するためにも、
図４の二重配管６３と同様の構造を有する二重配管６０
を用いる。

【００５８】図５に示すように、温調集合ボックス３０
の一面には、現像液バッファタンク７０から現像液を導
く２本の現像液配管４２ａ，４２ｂの一端がそれぞれ継
手３１ａ，３１ｂを介して挿入されている。また、温調
集合ボックス３０の他の一面には、二重配管６３の恒温
水配管５３の一端が継手３３を介して接続されるととも
に２本の現像液配管４３ａ，４３ｂの一端が挿入されて
いる。現像液配管４２ａと現像液配管４３ａとは温調集
合ボックス３０内で継手３２ａにより接続され、現像液
配管４２ｂと現像液配管４３ｂとは温調集合ボックス３
０内で継手３２ｂにより接続されている。また、温調集
合ボックス３０のさらに他の一面には、温調器２０から
恒温水を導く恒温水配管５２の一端が継手３４により接
続されている。

【００５９】現像液配管４２ａ，４２ｂを通して供給さ
れる現像液は、温調集合ボックス３０において二重配管
６３の現像液配管４３ａ，４３ｂにそれぞれ導かれる。
恒温水配管５２を通して供給される恒温水は、温調集合
ボックス３０内に一旦供給され、継手３３を介して二重
配管６３の恒温水配管５３内に導かれる。

【００６０】なお、上記実施例では、現像液を所定の温
度に調整する場合の構成について説明しているが、本発
明は、現像処理前のプリウエット処理の際に用いる純水
を所定の温度に調整する場合に適用することもできる。
この場合には、工場の純水供給ラインから別置キャビネ
ット２００に供給される純水を温調集合ボックス３０お
よび二重配管６３を介して装置本体部１００の中継ボッ
クス１０に導く。

【００６１】また、上記実施例では、本発明を現像装置
に適用した場合を説明したが、本発明は、処理液を用い
て処理を行う他の基板処理装置にも適用することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における現像装置の構成を示
す概略図である。

【図２】図１の現像装置における二重配管の断面図であ
る。

【図３】図１の現像装置における温調集合ボックスの断
面図である。

【図４】装置本体部の処理部が２つの現像液吐出ノズル
を備える場合の二重配管の断面図である。

【図５】装置本体部の処理部が２つの現像液吐出ノズル
を備える場合の温調集合ボックスの断面図である。

【図６】従来の現像装置の構成を示す概略図である。

【符号の説明】

１ 処理部 ４ 現像液吐出ノズル １０ 中継ボックス １１ 継手 ２０ 温調器 ３０ 温調集合ボックス ４０，４１，４２，４２ａ，４２ｂ，４３，４３ａ，４
３ｂ 現像液配管 ５０，５２，５３ 恒温水配管 ５１ 恒温水戻り配管 ６０，６３ 二重配管 ７０ 現像液バッファタンク １００ 装置本体部 ２００ 別置キャビネット ３００ 床材 ３０１ クリーンルーム ３０２ 床下空間

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 近森 隆一 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 (72)発明者 前田 正史 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 Ｆターム(参考） 2H096 GA01 5F046 JA03 JA24 LA03 LA13

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板に所定の処理を行う基板処理装置で
   あって、 処理液を用いて基板に処理を行う処理部および処理液を
   前記処理部に導く処理液供給経路を含む装置本体部と、 前記装置本体部とは別個に設けられ、処理液を供給する
   処理液供給手段および所定の温度に調整された恒温水を
   供給する恒温水供給手段を含む別置収納部と、 前記別置収納部と前記装置本体部との間に接続され、前
   記別置収納部の前記処理液供給手段から供給される処理
   液を前記装置本体部の前記処理液供給経路に導く第１の
   内側管路および前記第１の内側管路の外側を取り囲むよ
   うに設けられかつ前記別置収納部の前記恒温水供給手段
   から供給される恒温水を前記第１の内側管路の外周面に
   沿って流動させる第１の外側管路を有する第１の供給配
   管とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 前記別置収納部は、前記装置本体部の下
   方に配置されたことを特徴とする請求項１記載の基板処
   理装置。
3. 【請求項３】 前記恒温水供給手段は、恒温水を所定の
   温度に調整して前記第１の供給配管に供給する温調器を
   含むことを特徴とする請求項１または２記載の基板処理
   装置。
4. 【請求項４】 前記別置収納部は、前記処理液供給手段
   から供給される処理液を前記第１の供給配管の前記第１
   の内側管路内に導きかつ前記恒温水供給手段から供給さ
   れる恒温水を前記第１の供給配管の前記第１の外側管路
   内に導く集合手段をさらに備えたことを特徴とする請求
   項１、２または３記載の基板処理装置。
5. 【請求項５】 前記処理液供給経路は、 処理液を前記処理部に導く第２の内側管路および前記第
   ２の内側管路の外側を取り囲むように設けられかつ恒温
   水を前記第２の内側管路の外周面に沿って流動させる第
   ２の外側管路を有する第２の供給配管と、 前記第１の供給配管の前記第１の内側管路と前記第２の
   供給配管の前記第２の内側管路とを接続しかつ前記第１
   の供給配管の前記第１の外側管路と前記第２の供給配管
   の前記第２の外側管路とを接続する中継手段とを含むこ
   とを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の基板処
   理装置。
6. 【請求項６】 前記第１の供給配管の前記第１の外側管
   路により前記装置本体部に供給された恒温水を前記別置
   収納部の前記恒温水供給手段に戻す恒温水戻り配管をさ
   らに備えたことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに
   記載の基板処理装置。