JPH09320927A

JPH09320927A - 投影露光装置

Info

Publication number: JPH09320927A
Application number: JP8131776A
Authority: JP
Inventors: Naohiko Iwata; 直彦岩田
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1996-05-27
Filing date: 1996-05-27
Publication date: 1997-12-12

Abstract

(57)【要約】【課題】測距系やアライメント系の測定精度を向上さ
せる。【解決手段】投影光学系（ＰＬ）を支持する架台（１
１０）及び隔壁（１１０Ｃ）で囲まれ、測距系（１１
８）やアライメント系（１２０）が収納されるステージ
空間（１１２）内への外部からの熱伝達経路中に断熱材
（１４０）を介装し、あるいは架台（１１０）に温調装
置（１５０）を設けることにより、ステージ空間（１１
２）への伝熱を遮断し、ステージ空間（１１２）内の温
度変化や温度むらの発生を防止する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、マスク上のパター
ンの像を感光基板上に投影露光する露光装置に係り、特
に高精度の温度安定性を必要とする露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体素子や液晶表示素子などをリソグ
ラフィ工程で製造する際に、フォトマスクまたはレチク
ル（以下、レチクルと称する。）のパターンの像を投影
光学系を介して感光基板上に露光する投影露光装置が使
用されている。かかる投影露光装置は、感光基板を保持
して二次元移動させる基板ステージを備えており、その
基板ステージの上方に投影光学系が架台により支持され
ている。基板ステージの位置は、レーザ干渉計などの測
距系により正確に測定されており、アライメント系によ
り測定されたアライメントマークに基づいて基板ステー
ジを高精度に駆動することにより、レチクルのパターン
の像を投影光学系を介して感光基板上に高精度に重ね合
わせ露光している。

【０００３】ところで、基板ステージの位置を測定する
測距光学系やレチクルと感光基板との位置合わせをする
アライメント光学系などのユニットは非常に高感度であ
るため、その光路中の空気のゆらぎなどの影響を受けや
すい。従って、高精度な測定を行うためには、測距系や
アライメント系など、高精度な温度安定性が要求される
光学ユニットの周囲環境の温度を一定に保持する必要が
ある。

【０００４】そこで、従来の装置では、電気基板、光源
ボックスやコントロールボックスなど発熱源となるもの
は、装置外部に配置したり、装置本体から浮かして設置
したり、あるいはその発熱源に局所的な排熱機構を設け
たりして、発熱源からの発熱が測距系やアライメント系
に与える影響を最小限に抑えるようにしていた。また、
温度むらによる空気のゆらぎを抑えるために、露光装置
全体を高精度の温調が可能な恒温チャンバ内に設置し
て、露光装置の周囲環境の温度が一定に保持されるよう
にしていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、発熱源
となる電気基板、電源ボックスやコントロールボックス
などの中には、ノイズ低減のためにセンサ近傍に配置せ
ねばならないものや、レーザ干渉計のレーザヘッドのよ
うに計測対象に対する相対位置がずれないように装置本
体に装着せねばならないものもある。従って、全ての発
熱源を装置外部に設置したり、装置から浮かして設置す
ることはできない。

【０００６】また、従来の装置のように、発熱源となる
ユニットに局所的排熱機構を設けても、発熱源からの熱
により熱源付近の部品や空気が暖まってしまうため、精
密温調が必要なユニットやその付近の周囲空気に温度変
化や温度むらが生じてしまい、空気のゆらぎのために、
測距系やアライメント系による測定結果に悪影響を与え
ていた。

【０００７】本発明は、従来の装置が有する上記問題点
に鑑みてなされたものであり、精密温調が必要なユニッ
トへの熱量流入を遮断して、ユニット自体の温度変化や
その周囲空気の温度むらの発生を防止し、高精度の測距
やアライメントを行うことができる投影露光装置を提供
することを目的としている。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の第１の観点によれば、マスク（Ｒ）上のパ
ターンの像を感光基板（Ｗ）上に投影する投影光学系
（ＰＬ）と、その感光基板（Ｗ）を保持して移動可能な
基板ステージ（１１４）と、その基板ステージ（１１
４）の位置を測定するための干渉計（１１８）とを備え
た投影露光装置（１１０）に断熱材（１４０）を設けて
いる。この断熱材（１４０）は、投影光学系（ＰＬ）を
支持する架台（１１０）に設けられ、その架台（１１
０）と隔壁（１１０Ｃ）とで囲まれた基板ステージ（１
１４）及び干渉計（１１８）のビーム光路を含む空間
（１１２）への外部からの熱の伝達経路を遮断するもの
である。この断熱材（１４０）は、架台（１１０）に設
けられる熱源（１３０）との間に介挿してもよい。その
場合の熱源（１３０）としては、干渉計の光源と、基板
ステージの移動を制御するための電気基板との少なくと
も一方であることが好ましい。また、断熱材（１４０）
は、前記空間（１１２）と接する架台表面のほぼ全面に
設けてもよい。さらに、架台（１１０）に温度制御され
た流体を供給して架台の温度との少なくとも一方の温度
を調整する温度調整手段（１５０）を設けてもよい。

【０００９】また本発明の第２の観点によれば、マスク
（Ｒ）上のパターンの像を感光基板（Ｗ）上に投影する
投影光学系（ＰＬ）と、その感光基板（Ｗ）を保持して
移動可能な基板ステージ（１１４）と、その基板ステー
ジ（１１４）の位置を測定するための干渉計（１１８）
とを備えた投影露光装置（１１０）にマスク（Ｒ）を支
持する支持機構（ＲＳＴ）の少なくとも一部の温度と、
投影光学系（ＰＬ）を支持するとともに干渉計の光源
（１１８）と基板ステージ（１１４）の移動を制御する
ための電気基板（１３０）との少なくとも一方が設置さ
れる架台（１１０）の温度との少なくとも一方の温度を
調整する温度調整手段（１５０）を設けている。そし
て、この温度調整手段（１５０）は、架台と隔壁とで囲
まれた基板ステージ（１１４）及び干渉計（１１８）の
ビーム光路を含む空間（１１２）と接する架台表面の温
度をほぼ一定に維持するものであることが好ましい。ま
た、この温度調整手段（１５０）は、架台（１１０）に
温度制御された流体を供給するように構成することがで
きる。

【００１０】さらに本発明の第３の観点によれば、マス
ク（Ｒ）上のパターンの像を感光基板（Ｗ）上に投影す
る投影光学系（ＰＬ）と、その感光基板（Ｗ）を保持し
て移動可能な基板ステージ（１１４）と、その基板ステ
ージ（１１４）の位置を測定するための干渉計（１１
８）とを備えた投影露光装置（１１０）において、投影
光学系（ＰＬ）を支持する架台（１１０）と隔壁（１１
０Ｃ）とで囲まれた基板ステージ（１１４）及び干渉計
（１１８）のビーム光路を含む空間（１１２）への外部
からの熱の伝達経路中に、温度制御された流体を供給す
る温度調整手段（１５０）を設けている。

【００１１】また、本発明は、マスク（Ｒ）と感光基板
（Ｗ）とを位置合わせするアライメント系（１２０）を
備え、そのアライメント系（１２０）の光源と制御用基
板（１３０）との少なくとも一方が架台に設置された投
影露光装置にも適用することができる。さらに、本発明
にかかる投影露光装置（１１０）には、架台（１１０）
と隔壁（１１０Ｃ）とで囲まれた基板ステージ（１１
４）及び干渉計（１１８）のビーム光路を含む空間（１
１２）内に温度制御された気体を供給する気体供給手段
（１１６）をさらに設けてもよい。

【００１２】さらにまた、本発明にかかる投影露光装置
（１１０）を、空調手段（１０４）により温度制御され
た気体が循環するチャンバ（１０２）内に収納し、その
チャンバ（１０２）内の温度と架台（１１０）と隔壁
（１１０Ｃ）とで囲まれた基板ステージ（１１４）及び
干渉計（１１８）のビーム光路を含む空間（１１２）内
の温度とを独立に制御してもよい。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下に、添付図面を参照しながら
本発明を投影露光装置に適用した実施の一形態について
詳細に説明する。図１には、本発明にかかる投影露光装
置１００の実施の一形態の概略構成が示されている。図
示のように、本投影露光装置１００は、クリーンチャン
バ１０２内に収納される。クリーンチャンバ１０２内の
天井部には、空調機１０４Ａ及びフィルタユニット１０
４Ｂなどから成る空調システム１０４が設置されてい
る。空調機１０４Ａは、例えば給気ファン及び温調器
（不図示）を備えており、所定の温度、例えば２３℃〜
２５℃に温調された空気を供給するものである。また、
フィルタユニット１０４Ｂは、例えばケミカルフィルタ
及びＨＥＰＡフィルタ（不図示）を備えており、空調機
１０４Ａにより所定の温度に温調された空気中から有機
物及び塵埃などを除去し、所定の温度／清浄度のクリー
ンエアをダウンフローの層流としてクリーンチャンバ１
０２内に供給するものである。クリーンチャンバ１０２
内に供給されたクリーンエアは床面に多数形成された排
気孔（不図示）より排気される。このように、クリーン
チャンバ１０２内では、所定の温度に温調されたクリー
ンエアが循環している。

【００１４】クリーンチャンバ１０２の床面には基台１
０８が設置され、その基台１０８上に、投影露光装置１
００の本体が設置されている。投影露光装置１００は、
基台１０８上に固定される架台１１０を備えており、こ
の架台１１０に投影光学系ＰＬ及びレチクルステージ
（不図示）などが固定される。なお、図示の例では、装
置構成の理解を容易にするために、レチクルステージを
支持する上部架台は省略して、レチクルＲのみを示して
いる。架台１１０は、図２に示すような略矩形の天板１
１０Ａとその天板１１０Ａを四隅にて支持するコラム１
１０Ｂを備えている。さらに、コラム１１０Ｂ間には隔
壁１１０Ｃが形成されている。そして、天板１１０Ａ、
コラム１１０Ｂ及び隔壁１１０Ｃによって囲まれる空間
（以下、ステージ空間と称する。）１１２内に基板ステ
ージ１１４が設置される。

【００１５】本露光装置１００は、基板ステージ１１４
が設置されるステージ空間１１２を所定の温度及び清浄
度に保持するための局所空調システム１１６を備えてい
る。この局所空調システム１１６は、クリーンチャンバ
１０２の外部に設置されて給気ファンや温調器（不図
示）などを備える局所空調機１１６Ａと、ステージ空間
１１２を囲む一方の隔壁１１０Ｃに設置されてケミカル
フィルタやＨＥＰＡフィルタなどを備える局所フィルタ
ユニット１１６Ｂとから主に構成されている。また、局
所フィルタユニット１１６Ｂが設置される隔壁１１０Ｃ
に対向する側の隔壁１１０Ｃ’には不図示の排気孔が設
けられている。局所空調機１１６Ａは、高い温調精度を
有するものであり、ステージ空間１１２内の温度を所定
の温度、例えば２０℃〜２３℃に保持することができ
る。局所空調機１１６Ａから供給される温調された空気
は、局所フィルタユニット１１６Ｂによって有機物及び
塵埃を除去され、所定の温度／清浄度を有するクリーン
エアの層流としてステージ空間１１２を流れ、対向面の
排気孔から排気される。このように、ステージ空間１１
２内には、クリーンチャンバ１０２とは異なる空調系に
より、所定の温度に温調されたクリーンエアが循環して
いる。

【００１６】なお、ステージ空間１１２はクリーンチャ
ンバ１０２とは隔離された閉鎖空間である必要ない。ク
リーンチャンバ１０２の空調システム１０４とは別系統
の局所空調システム１１６により、ステージ空間１１２
内の温度をクリーンチャンバ１０２内の温度とは独立に
制御することができればよく、開放空間であっても構わ
ない。後述するように、ステージ空間１１２内には、レ
ーザヘッド１３０Ｂなどの発熱源が配置されるととも
に、熱量流入により悪影響を受けやすい測距系１１８や
アライメント系１２０が配置されている。しかし、本実
施の形態にかかる構成によれば、ステージ空間１１２内
を高精度に恒温状態に保持することができるので、測距
系１１８やアライメント系１２０の測定精度を向上させ
ることができる。なお、ステージ空間１１２内には、オ
ートフォーカス機構（不図示）なども設置されており、
本実施の形態によれば、かかるオートフォーカス機構の
精度も向上させることができる。

【００１７】上記ステージ空間１１２内に設置される基
板ステージ１１４は、Ｘステージ１１４Ａ及びＹステー
ジ１１４Ｂとを備えている。そして、ウェハなどの感光
基板Ｗは、この基板ステージ１１４上に微少回転可能に
保持され、Ｘステージ１１４Ａ及びＹステージ１１４Ｂ
を不図示の駆動機構により駆動することにより、所望の
位置に高精度に位置合わせすることが可能である。また
基板ステージ１１４上には、所定形状、例えば十字状の
アライメントマークが付された基準板ＦＭが設置されて
おり、投影光学系ＰＬの外筒に設置されているアライメ
ント顕微鏡１２０Ａによりアライメントマークを観測す
ることにより、基板ステージ１１４に保持されたウェハ
Ｗの位置合わせを行うことができる。なお、図示の例で
は、アライメント系１２０のうち、アライメント顕微鏡
１２０Ａのみを示し、他の光学系は省略している。な
お、本発明が適用可能なアライメント系は、アライメン
ト顕微鏡を用いたオフアクシス方式のものに限定され
ず、各種アライメント系に適用することができる。

【００１８】基板ステージ１１４の位置を高精度に測定
するために、レーザ干渉計１１８Ａなどの測距系１１８
が設けられている。各ステージの端部には移動鏡１１８
Ｃが設置されており、レーザ干渉計１１８Ａはレーザヘ
ッド１３０Ｂから各ステージ上に設置された移動鏡１１
８Ｃにレーザ光を照射し、その反射光を不図示の受光素
子により受光して基板ステージ１１４の正確な位置座標
を測定する。なお、図示の例では、基板ステージ１１４
のＸ座標を測定するためのレーザ干渉計１１８Ａのみを
示し、基板ステージ１１４のＹ座標及び回転を計測する
ためのレーザ干渉計は省略している。

【００１９】レーザ干渉計１１８Ａは、投影レンズに設
置した固定鏡に対する基板ステージ１１４の相対位置を
測定するものであるため、ステージ空間１１２内におい
て基板ステージ１１４と同じ基台１０８上に設置する必
要がある。しかし、レーザ干渉計１１８Ａ、特にそのレ
ーザヘッド１３０Ｂは、高エネルギーのレーザ光を出射
するため、発熱源となり、架台の温度を上昇させ、その
結果、熱源付近の部品や空気を暖め、例えば、レーザ干
渉計１１８Ａのビーム光路に空気のゆらぎを生じさせる
など、測距系１１８やアライメント系１２０に悪影響を
与えるおそれがある。この点、本実施の形態によれば、
局所空調システム１１６により高精度に温調されたクリ
ーンエアをステージ空間１１２内に循環させることによ
り、ステージ空間１１２内に存在する発熱源に起因する
悪影響を最小限に抑えることができる。なお、温度変化
に鋭敏な測距系１１８やアライメント系１２０は、レー
ザヘッド１３０Ｂなどの発熱源よりも、局所空調システ
ム１１６からのクリーンエアの気流方向の上流側に設置
することが好ましい。

【００２０】図２には、架台１１０の天板１１０Ａの平
面図が示されている。図示のように、天板１１０Ａのほ
ぼ中央には投影光学系ＰＬが設置される。この投影光学
系ＰＬは、不図示の照明光学系から露光光（例えば、ｉ
線やｇ線）で照明されたレチクルＲのパターン像を、ス
テージ空間１２０内のステージ１１４に載置されたウェ
ハＷ上に縮小投影するためのものである。レチクルＲは
レチクルステージＲＳＴ上に載置されており、レチクル
ステージＲＳＴは、架台１１０上に設けられた架台２０
０上に載置されている。さらに天板１１０Ａ上には、レ
ンズ制御や基板ステージの移動制御を行う制御ボックス
１３０Ａなどの各種コントローラ類、レーザヘッド１３
０Ｂなどの光源類、基板１３０Ｃなどの電気基板類、大
気圧センサ１３０Ｄなどのセンサ類などが設置されてい
る。これらの装置類１３０は、ノイズ対策などの理由か
ら接続される装置の近傍に置かねばならいないものであ
り、設置スペースの関係から天板１１０Ａ上に集約され
て設置されている。しかし、これらの装置類１３０は駆
動時に熱を発生し、発熱源となるものである。従来の装
置では、これらの発熱源からの熱量は架台１１０中を伝
熱し、ステージ空間１２０内の空気を暖め、ステージ空
間１２０内に設置される測距系１１８やアライメント系
１２０の測定精度に悪影響を与えていた。そこで、本実
施の形態にかかる装置では、天板１１０Ａに設置された
発熱源１３０からの熱がステージ空間１２０に伝熱しな
いように、各種熱対策が施されている。

【００２１】第１の熱対策は、ステージ空間への外部か
らの熱の伝達経路を遮断する断熱材１４０を備えたこと
である。この断熱材１４０は、図２に１４０Ａ〜１４０
Ｄで示すように、天板１１０Ａと発熱源となる装置類１
３０との間に介装することができる。これにより、発熱
源となる装置類１３０で発生する熱が天板１１０Ａに直
接伝達する伝熱経路を遮断することができる。なお、図
示の例では、各装置類１３０が設置される場所のみに断
熱材を配しているが、天板１１０Ａのほぼ全面を覆うよ
うに断熱材を配してもよい。また、天板１１０Ａ以外の
架台部分に設置される発熱源に対しても、その発熱源と
架台部分との間に断熱材を介装することができることは
言うまでもない。さらに、断熱材１４０は、図１に１４
０Ｅで示すように、ステージ空間１２０に接する架台１
１０の表面部分に配してもよい。これにより、ステージ
空間１２０が架台１１０中を伝熱してきた熱から遮断さ
れ、ステージ空間１２０内の温度を高精度に安定させる
ことができる。なお、架台に配される断熱材として、例
えば、ポリカーボネイトを使用することができる。

【００２２】第２の熱対策は、架台１１０自体に架台１
１０の温度を調整する温調装置１５０を設けることであ
る。図１及び図２には温調装置１５０の一例が示されて
いる。この温調装置１５０は、熱媒源１５０Ａを備え、
この熱媒源１５０Ａにおいて高精度に温調された不活性
液体（例えば、フッ素系不活性液体）などの熱媒は、送
り管路１５０Ｂを介して、架台１１０に設けられた流入
継手１５０Ｃに送られる。架台１１０の天板１１０Ａ内
には熱媒循環管路１５０Ｄが形成されており、熱媒がこ
の熱媒循環管路１５０Ｄを流通する際に架台１１０の温
度を高精度に温調する。そして、熱媒は流出継手１５０
Ｅから架台１１０外部に流出し、戻り管路１５０Ｆを介
して、熱媒源１５０Ａに戻された後、再び温調されて架
台１１０に送られる。このように、温調装置１５０によ
り架台１１０自体の温度を調整することにより、架台１
１０に囲まれたステージ空間１２０の温度を安定させる
ことが可能である。

【００２３】なお図２に示す例では、直線状の２本の熱
媒循環管路１５０Ｄを投影光学系ＰＬを紙面上下に挟む
ように配置し、紙面右方向から左方向に熱媒を流す構成
を示しているが、本発明はかかる例に限定されない。例
えば図３及び図４に示すように、架台１６０にＵ字状の
管路１６２Ｂ、１６４Ｂを配し、架台１６０の同じ側に
配された流入継手と流出継手１６２Ａ、１６２Ｃ及び１
６４Ａ、１６４Ｂを介して熱媒を循環させるように構成
してもよい。このように、架台には任意の本数の任意の
形状の管路を配することが可能であり、特に、発熱源と
なる装置が設置される部分に密に熱媒循環管路を配する
ことにより、より効果的に架台の温度変化を防止するこ
とが可能となる。

【００２４】また上記例では、いずれも架台の内部に熱
媒循環管路を配していたが、図５に示すように、ジャケ
ット１７２で覆い、そのジャケット１７２内に流入継手
１７４Ａ及び流出継手１７４Ｂを介して熱媒を循環させ
る構成を採用することも可能である。かかる構成によれ
ば、架台の内部に熱媒循環管路を形成することが困難な
場合であっても、架台の温度を調整し、ステージ空間１
２０に対する熱の流入を防止することができる。

【００２５】また図１及び図２に示す実施の形態では、
断熱材１４０と温調装置１５０との両方を架台１１０に
設けたが、必ずしも両方の熱対策を行う必要はなく、い
ずれか一方の熱対策のみを架台に施してもよい。さら
に、上記実施の形態では、投影光学系ＰＬを支持する下
部の架台に対する熱対策のみを示したが、必要な場合に
は、レチクルステージを支持する上部の架台に対しても
上記熱対策を施すことも可能である。

【００２６】以上、本発明の好適な実施の形態について
説明したが、本発明はかかる例に限定されない。特許請
求の範囲に記載された技術的思想の範囲内において、当
業者であれば、さまざまな変更及び修正に想到すること
が可能であり、それらについても本発明の技術的範囲に
含まれることは言うまでもない。

【００２７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
断熱材（１４０）により発熱源（１３０）からの熱が架
台（１１０）に伝導するのを極力抑えるとともに、温度
調整手段（１５０）により架台（１１０）自体の温度が
一定に保持されるので、架台（１１０）と隔壁（１１０
Ｃ）に囲まれる空間（１１２）内の温度変化や温度むら
の発生が防止され、その空間（１１２）内に設置される
測距系（１１８）、アライメント系（１２０）の測定精
度を向上させることができる。

【００２８】さらにまた本発明によれば、投影露光装置
（１００）が収納されるチャンバ（１０２）内の温調を
行う空調手段（１０４）とは異なる気体供給手段（１１
６）により、架台（１１０）と隔壁（１１０Ｃ）とで囲
まれる空間（１１２）内の温度が精密温調されるので、
その空間（１１２）内に設置される測距系（１１８）、
アライメント系（１２０）の測定精度を向上させること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる投影露光装置の実施の一形態の
概略を示す構成図である。

【図２】図１の投影露光装置の架台の天板の概略を示す
平面図である。

【図３】図１に示す投影露光装置に適用可能な架台の別
の実施の形態を示す略側面図である。

【図４】図３に示す架台の天板の概略を示す平面図であ
る。

【図５】図１に示す投影露光装置に適用可能な架台のさ
らに別の実施の形態を示す略側面図である。

【符号の説明】

１００投影露光装置１０２クリーンチャンバ１０４空調システム１１０架台１１４基板ステージ１１６局所空調システム１１８測距系１２０アライメント系１３０発熱源１４０断熱材１５０温調装置ＷウェハＲレチクルＰＬ投影光学系

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】マスク上のパターンの像を感光基板上に
投影する投影光学系と、前記感光基板を保持して移動可
能な基板ステージと、該基板ステージの位置を測定する
ための干渉計とを備えた投影露光装置において、前記投影光学系を支持する架台に設けられ、該架台と隔
壁とで囲まれた前記基板ステージ及び前記干渉計のビー
ム光路を含む空間への外部からの熱の伝達経路を遮断す
る断熱材を備えたことを特徴とする投影露光装置。
【請求項２】前記断熱材は、前記架台に設けられる熱
源との間に介挿されることを特徴とする請求項１に記載
の装置。
【請求項３】前記熱源は、前記干渉計の光源と、前記
基板ステージの移動を制御するための電気基板との少な
くとも一方であることを特徴とする請求項２に記載の装
置。
【請求項４】前記断熱材は、前記空間と接する前記架
台表面のほぼ全面に設けられていることを特徴とする請
求項１〜３のいずれかに記載の装置。
【請求項５】前記架台に温度制御された流体を供給し
て前記架台の温度を調整する温度調整手段を更に備える
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の装
置。
【請求項６】マスク上のパターンの像を感光基板上に
投影する投影光学系と、前記感光基板を保持して移動可
能な基板ステージと、該基板ステージの位置を測定する
ための干渉計とを備えた投影露光装置において、前記マスクを支持する支持機構の少なくとも一部の温度
と、前記投影光学系を支持するとともに前記干渉計の光
源と前記基板ステージの移動を制御するための電気基板
との少なくとも一方が設置される架台の温度との少なく
とも一方の温度を調整する温度調整手段を備えたことを
特徴とする投影露光装置。
【請求項７】前記温度調整手段は、前記架台と隔壁と
で囲まれた前記基板ステージ及び前記干渉計のビーム光
路を含む空間と接する前記架台表面の温度をほぼ一定に
維持することを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項８】前記温度調整手段は、前記架台に温度制
御された流体を供給することを特徴とする請求項６又は
７に記載の装置。
【請求項９】マスク上のパターンの像を感光基板上に
投影する投影光学系と、前記感光基板を保持して移動可
能な基板ステージと、該基板ステージの位置を測定する
ための干渉計とを備えた投影露光装置において、前記投影光学系を支持する架台と隔壁とで囲まれた前記
基板ステージ及び前記干渉計のビーム光路を含む空間へ
の外部からの熱の伝達経路中に、温度制御された流体を
供給する温度調整手段を備えたことを特徴とする投影露
光装置。
【請求項１０】前記マスクと前記感光基板とを位置合
わせするアライメント系を更に備え、該アライメント系
の光源と制御用基板との少なくとも一方が前記架台に設
置されることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記
載の装置。
【請求項１１】前記架台と隔壁とで囲まれた前記基板
ステージ及び前記干渉計のビーム光路を含む空間内に温
度制御された気体を供給する気体供給手段を更に備える
ことを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の装
置。
【請求項１２】前記投影露光装置を収納するチャンバ
と、該チャンバ内で温度制御された気体を循環させる空
調手段とを更に備え、前記空間内の温度と前記チャンバ
内の温度とは独立に制御されることを特徴とする請求項
１１に記載の装置。