JPH08293449A

JPH08293449A - 露光装置

Info

Publication number: JPH08293449A
Application number: JP7098160A
Authority: JP
Inventors: Naoyuki Kobayashi; 直行小林
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1995-04-24
Filing date: 1995-04-24
Publication date: 1996-11-05

Abstract

(57)【要約】【目的】露光装置の発熱体から発生する熱を除去する
ための冷却機構のスペースを小さくし、他の機器に影響
を与えることなく発生熱を局所的に効率よく除去する。【構成】Ｘ軸ステージ１４をＸ方向に駆動するリニヤ
モータ２０の可動子２０Ｂと、ウエハ３を載置する試料
台１５をＺ方向及びチルト方向に移動するためのＺチル
ト駆動機構１８Ａ，１８Ｂとが固定されたＸ軸ステージ
１４上にヒートポンプ２２を設置する。ヒートポンプ２
２の上に固定された熱交換器２１に外部の温調装置２４
から給水パイプ２３Ａ及び排水パイプ２３Ｂを介して冷
却水を循環させ、可動子２０Ｂ及びＺチルト駆動機構１
８Ａ，１８Ｂから発生してＸ軸ステージ１４を介してヒ
ートポンプ２２に吸収された熱を冷却する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、マスク上のパターンを
投影光学系を介して感光基板上に露光する露光装置に関
し、特に例えばリニアモータのような発熱体を含む露光
装置に適用して好適なものである。

【０００２】

【従来の技術】半導体素子や液晶表示素子等を製造する
ためのフォトリソグラフィー工程で使用される投影露光
装置（ステッパー等）では、レチクル（又はフォトマス
ク等）上に形成されたパターンを、投影光学系を介して
フォトレジストが塗布されたウエハ（又はガラスプレー
ト等）上に高精度で転写するため、投影光学系には極め
て高い結像特性が要求される。また、レチクル及びウエ
ハを載置するステージの位置を計測するレーザ干渉計等
に対しては高い測定精度が求められている。

【０００３】これらの投影光学系の結像特性及びレーザ
干渉計の測定精度は装置及び周囲温度の変化に大きな影
響を受ける。そのため、投影露光装置の装置及び周囲の
温度を一定に維持することが重要となる。ところが、こ
のような投影露光装置においては、露光用の光源やステ
ージを駆動する駆動モータ等の発熱体により装置の温度
が上昇すると、ステージの位置を計測するレーザ干渉計
等の測定精度や投影光学系の結像特性が低下する。ま
た、大気の温度変化によっても投影露光装置の周囲の温
度が変化して、投影光学系の結像特性が劣化することが
ある。そのため、一般に投影露光装置を環境制御用のチ
ャンバ内に収納し、チャンバ内部に温度制御された空気
を流す全体空調が行われる。

【０００４】図４は、投影露光装置に対する全体空調系
の構成を示し、この図４において、チャンバ１０３内に
投影露光装置１０１が設置されている。そして、送風機
１０５により加圧された冷却空気は循環回路１０８Ａを
通って、チャンバ１０３に設けられた塵埃除去フィルタ
（ＨＥＰＡフィルタ）１１０を介してチャンバ１０３内
に送風される。塵埃除去フィルタ１１０によりチャンバ
１０３内には高度に清浄化された空気が吹き込まれる。
チャンバ１０３の投影露光装置１０１からの熱を吸収し
た空気は、チャンバ１０３の一部に設けられた排出口
（リターン）１０６から戻り回路１０８Ｂに導入され
る。

【０００５】戻り回路１０８Ｂに導入された空気は、戻
り回路１０８Ｂ中に設置された熱交換器１０９により冷
却される。熱交換器１０９には外部の温調装置１０２か
ら供給配管１０７Ａを通じて冷却水が供給されており、
この冷却水との熱交換により冷却された空気は送風機１
０５に吸引され、熱交換後の冷却水は戻り配管１０７Ｂ
を介して温調装置１０２に戻る構成となっている。

【０００６】また、特に精密な温度管理を必要とする露
光装置では、図４に示す全体空調に加えて、温度制御し
た空気や水等の冷却媒体を直接冷却する箇所に送り込む
等の方法を組み合わせることにより温度管理が行われて
いる。例えば、レーザ干渉計の測定精度を一定に保つた
めに、レーザ干渉計とレーザ干渉計からのレーザビーム
を反射する移動鏡との間のレーザビームの光路上の局所
空間に、一定の方向に一定の温度に制御された空気を送
風する方法が行われている。また、レチクルステージや
ウエハステージを駆動する駆動モータ等の発生熱を除去
するために、駆動モータの周辺に冷却用の循環配管を設
け、外部の温調装置から循環配管に水等の冷却媒体を循
環させる方法も使用されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】一般に装置から出る熱
を熱交換用の媒体を流すことにより装置外に排出する場
合、単位時間当たりに媒体が運び出せる熱量Ｑは、熱を
吸収することによる媒体の上昇温度ΔＴ、媒体の比熱
Ｃ、及び媒体の単位時間当たりの流量Ｖから下記式
（１）により算出される。

【０００８】Ｑ＝ΔＴ×Ｃ×Ｖ（１）図４に示すような全体空調方式により装置の温度管理を
行う場合、使用する媒体が空気であるために（１）式に
示す比熱Ｃが小さい。従って、精密に温度を制御しよう
とする場合は大量の空気を流す必要があり、送風機から
の振動が装置に伝達し、位置決め精度等に影響すると共
に、装置との熱交換により空気の温度が上昇するため、
風下側の装置要素では温度が上昇して装置内部に温度勾
配が生じたり、あるいは暖かくなった空気がレーザ干渉
計のレーザビームの光路に進入する等して、装置の位置
決め精度等に影響を与える等の不都合があった。

【０００９】また、必要部位を局所的に冷却する場合に
は、外部にある温調装置から必要とする部分に直接温度
制御した媒体を流すため、目的とする部位の温度管理は
精密に行えるが、目的とする場所へ媒体を送り込むため
の配管を設ける必要がある。また、その場合でも発熱体
及び温度調節を必要とする部位（以下「熱要素」とい
う）の熱を吸収した上で（１）式に示す温度上昇ΔＴが
装置に許容される温度差より小さくなるよう媒体の流量
Ｖを確保する必要がある。

【００１０】また、複数の熱要素を精密に温度管理する
場合、それぞれの熱要素に対し温度制御した必要量の媒
体を流すか、全部の熱要素の発熱を吸収した上でも媒体
の温度上昇が装置に許容される温度差より小さくなるよ
う流量を確保した上で全ての熱要素を通る配管を設ける
必要がある。この場合、媒体を供給するための配管が複
雑になり、特にウエハステージ等の温度管理をする場合
には配管による抵抗や配管を付設する場所の確保等の問
題を解決する必要があった。

【００１１】本発明は斯かる点に鑑み、スペースが小さ
く必要部位を的確に温調できる温調機構を備えた露光装
置を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明による露光装置
は、感光基板（３）にマスクパターンを転写する露光装
置において、その露光装置内の発熱体（２０Ａ，２０
Ｂ，１８Ａ，１８Ｂ）の近傍に配置され、その発熱体の
熱を吸収するヒートポンプ（２２）と、このヒートポン
プにより吸収された熱を装置の外部に排出する排出手段
（２１，２３Ａ，２３Ｂ，２４）と、を設けたものであ
る。

【００１３】この場合、その露光装置が、ベース部材
（１４）と、このベース部材（１４）上に設置された駆
動モータ（１８Ａ，１８Ｂ）により駆動されその感光基
板（３）が載置される載物台（１５）とを有するとき、
その発熱体の一例はその駆動モータ（１８Ａ，１８Ｂ）
であり、そのヒートポンプ（２２）はそのベース部材
（１４）上に設置されることが好ましい。

【００１４】また、そのヒートポンプ（２２）の一例
は、ペルチェ素子である。

【００１５】

【作用】斯かる本発明の露光装置によれば、スペースが
小さく簡単な構成をもつヒートポンプ（２２）により発
熱体（２０Ａ，２０Ｂ，１８Ａ，１８Ｂ）から発生する
熱を効率よく吸収し、吸収した熱を排出手段（２１，２
３Ａ，２３Ｂ，２４）により装置の外部に排出すること
ができる。また、本発明の露光装置はヒートポンプ（２
２）を装置要素に内蔵することから、例えば排出手段と
して冷却用の媒体を循環用の配管を通して用いる場合に
は、装置要素内からヒートポンプ（２２）を通じて冷却
用の媒体に吸収される熱による媒体の温度上昇分、即ち
（１）式の上昇温度ΔＴを大きくとっても温度制御を精
密に行える。従って、装置外に廃熱する際の媒体の流量
を小さくすることができ、装置外に廃熱を行うための配
管の引き回しが容易になると共に、冷却用の媒体の循環
による振動の発生を抑えることができる。

【００１６】また、ヒートポンプ（２２）の放熱先の温
度変動とほぼ無関係に対象とする要素の温度制御を行え
るため、例えば複数のヒートポンプを用いる場合、ヒー
トポンプからの配管を直列につないでも精度良く温度制
御をすることができ配管が容易になる。また、露光装置
が、ベース部材（１４）と、このベース部材（１４）上
に設置された駆動モータ（１８Ａ，１８Ｂ）により駆動
され感光基板（３）が載置される載物台（１５）を有
し、発熱体が駆動モータ（１８Ａ，１８Ｂ）であり、ヒ
ートポンプ（２２）がベース部材（１４）上に設置され
る場合には、ベース部材（１４）に伝わった駆動モータ
（１８Ａ，１８Ｂ）の熱がヒートポンプ（２２）により
効率よく吸収される。

【００１７】また、ヒートポンプ（２２）がペルチェ素
子である場合には、スペースをとらない非常にコンパク
トな構成で発熱体を効率的に冷却することができる。

【００１８】

【実施例】以下、本発明による露光装置の一実施例につ
き、図１及び図２を参照して説明する。本例はレチクル
上のパターンを投影光学系を介してウエハ上の各ショッ
ト領域に投影露光するステッパー型の投影露光装置に本
発明を適用したものである。

【００１９】図１は、本例の投影露光装置の概略構成を
示し、この図１において、照明光学系ＡＬからの照明光
ＩＬによりレチクル支持台４に保持されたレチクル１の
パターンが照明され、レチクル１上のパターンが投影光
学系ＰＬを介してウエハ３上に投影露光される。ここ
で、図１において、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに平行に
Ｚ軸を取り、Ｚ軸に垂直な平面内で図１の紙面に垂直に
Ｙ軸を、図１の紙面に平行にＸ軸を取る。

【００２０】ウエハ３は、Ｘ軸ステージ１４上に保持さ
れた試料台１５上にウエハホルダ２を介して保持され、
Ｘ軸ステージ１４は空気軸受けで支持されるガイド１６
及びこのガイド上に設置されたスペーサ１７Ａ，１７Ｂ
を介してＸ方向に移動自在にＹステージ１３上に載置さ
れ、Ｙステージ１３は定盤１２上にＹ方向に移動自在に
載置されている。

【００２１】試料台１５の−Ｘ方向の端部には移動鏡７
Ｘが固定されており、移動鏡７Ｘと対向する位置に配置
されたレーザ干渉計８とにより試料台１５のＸ方向の位
置が高精度に計測されている。同様に、不図示であるが
試料台１５の＋Ｙ方向の端部にも移動鏡が固定され、こ
の移動鏡及び外部のレーザ干渉計により試料台１５のＹ
方向の位置が高精度に計測されている。レーザ干渉計の
測定値はＸＹステージ制御系９を介して中央制御系１１
に供給されており、中央制御系１１はこれらの情報に基
づきＸＹステージ制御系９を介してＸ軸ステージ１４及
びＹ軸ステージ１３のそれぞれの駆動モータを制御して
試料台１５をＸＹ方向の任意の位置に位置決めする。ま
た、試料台１５はＸ軸ステージ１４上に固定された３個
のＺチルト駆動機構１８Ａ〜１８Ｃにより駆動される３
個の駆動棒１９Ａ〜１９Ｃを介して支持され、試料台１
５は、駆動機構１８Ａ〜１８ＣによりＸ軸ステージ１４
に対してフォーカス方向（Ｚ方向）の位置及び傾斜角が
任意に設定できるようになっている。駆動機構１８Ａ〜
１８Ｃは、それぞれ発熱体としてのロータリモータと、
このロータリモータの回転運動を上下方向の変位に変え
るカム機構とより構成されている。

【００２２】また、投影光学系ＰＬの結像面付近のウエ
ハ３の露光面に向けて、光軸ＡＸに対して斜めに複数個
のピンホール、あるいはスリットパターン等の像を投影
する照射光学系５と、その投影された像からの反射光束
よりその像を再結像する受光光学系６とからなる斜入射
方式の多点の焦点位置検出系５，６が設けられている。
ウエハ３の表面の少なくとも３点以上のＺ方向の位置
は、この焦点位置検出系５，６によって検出されてＺチ
ルト方向制御系１０に供給され、Ｚチルト方向制御系１
０はその検出情報に基づきウエハ３の表面が投影光学系
ＰＬの結像面に合致するように駆動機構１８Ａ〜１８Ｃ
を介してオートフォーカス及びオートレベリングを行
う。Ｚチルト方向制御系１０の動作も中央制御系１１に
よって制御される。

【００２３】次に、図２を参照して本例のウエハステー
ジ周辺の構成について更に詳しく説明する。図２は、ウ
エハステージの一部分の構成を示し、この図２におい
て、Ｘ軸ステージ１４はＸ軸ステージ１４の裏面に取り
付けられた可動子２０Ｂ及びＹ軸ステージ１３上に架設
された固定子２０Ａ（図１参照）よりなるリニアモータ
２０により、Ｙ軸ステージ１３に対して相対的にＸ方向
に駆動される。また、Ｘ軸ステージ１４上には、リニア
モータ２０及びＺチルト駆動機構１８Ａ，１８Ｂ等から
の発生する熱を除去するためのヒートポンプ２２が設置
されている。ヒートポンプ２２は、リニアモータ２０の
可動子２０Ｂが取り付けられたＸ軸ステージ１４の裏面
と対応する反対側の表面に設置されている。

【００２４】また、ヒートポンプ２２上には熱交換器２
１が固定されている。熱交換器２１には、外部の温調装
置２４から給水パイプ２３Ａ及び排水パイプ２３Ｂを介
して冷却水が供給されており、ヒートポンプ２２で発生
した熱を冷却水により吸収するようになっている。この
場合、本例の投影露光装置は不図示の温度制御されたチ
ャンバ内に設置され、温調装置２４はそのチャンバの外
部に設置されている。また、ヒートポンプ２２の廃熱面
側の表面温度を測定する温度センサ２７が設置されてお
り、その温度センサ２７の測定値は外部の温調装置２４
に供給されている。なお、ヒートポンプ２２としてはペ
ルチェ素子等の熱電素子等が使用される。

【００２５】また、Ｘ軸ステージ１４上のヒートポンプ
２２の近傍にはＸ軸ステージ１４の表面温度を測定する
ための温度測定用プローブ（温度センサ）２６が配置さ
れており、温度測定用プローブ２６で検出された測定値
は外部に設置された温度制御系２９に供給されている。
温度制御系２９はその測定値に基づきＸ軸ステージ１４
の温度が一定になるようにヒートポンプ駆動用電源３０
の動作を制御する。

【００２６】次に、本例の温度制御の動作につき説明す
る。図２において、Ｘ軸ステージ１４上に設置されたリ
ニアモータ２０の可動子２０Ｂ及びＺチルト駆動機構１
８Ａ〜１８Ｃ等の駆動に伴って発生した熱はＸ軸ステー
ジ１４に伝わり、Ｘ軸ステージ１４の温度を上昇させ
る。Ｘ軸ステージ１４の表面温度は、温度測定用プロー
ブ２６により測定され、その測定値が温度制御系２９に
供給される。温度制御系２９は温度測定用プローブ２６
からの測定値を基に、Ｘ軸ステージ１４の温度が一定と
なるようにヒートポンプ駆動用電源３０を介してヒート
ポンプ２２を駆動する。Ｘ軸ステージ１４の熱はヒート
ポンプ２２に吸収され、熱交換機２１を介して温調装置
２４から供給される冷却水により装置の外部に持ち去ら
れる。温調装置２４は温度センサ２７の測定値に基づ
き、ヒートポンプ２２の廃熱面側の温度が所定の温度に
なるように冷却水の温度及び流量を制御する。

【００２７】以上の動作によりＸ軸ステージ１４上の表
面温度が一定に保たれるため、Ｘ軸ステージ１４や周辺
機器への熱による影響が除去され、ステージの位置決め
精度が高精度に保たれる。ウエハステージの周辺で最も
大きな熱発生源であるリニアモータ２０の可動子２０Ｂ
の最も近傍にヒートポンプ２２が配置されているため、
Ｘ軸ステージ１４はヒートポンプ２２により非常に効率
よく冷却される。前述のように、Ｘ軸ステージ１４の近
傍にはレーザ干渉計８が配置されている。移動鏡７Ｘと
レーザ干渉計８との間のレーザビームの光路２５上の空
気の温度の変化はレーザ干渉計８の測定精度に大きく影
響するため、特にリニアモータの熱を除去するための各
種の冷却方法が試みられているが、本例の方法によれ
ば、スペースも小さく簡単な構成でリニアモータ２０の
発生熱を効率的に除去することができる。Ｚチルト駆動
機構１８Ａ〜１８Ｃで発生する熱も、ヒートポンプ２２
を介して効率的に外部に排出される。

【００２８】従来の方法によれば、例えば図４に示す全
体空調系で全部の熱発生源を均一に空調することは可能
であり、従来の局所空調系により個別の熱発生源を個別
に冷却することは可能であるが、複数の発熱体及び温度
調節を必要とする部位（以下「熱要素」という）を同時
に効率よく冷却できない。例えば、局所空調系により個
別の熱要素を冷却するためには、冷却媒体が空気及び水
等にかかわらず、個々の熱要素まで個別に配管を設ける
必要があり、配置スペースの点から不可能に近い。しか
し、本例によれば、リニアモータ２０の発生熱だけでな
く、Ｚチルト駆動機構１８Ａ〜１８Ｃの発生熱も同時に
除去できる等、複数の熱要素に対して一つのヒートポン
プ及び１系統の冷却回路で対応することができる。

【００２９】更に、ヒートポンプ２２を装置要素に内蔵
することから、装置要素内からヒートポンプ２２が廃熱
する際の冷却水の温度上昇分、即ち（１）式の上昇温度
ΔＴが大きくても温度制御を精密に行える。従って、装
置外に廃熱する際の冷却水の流量を小さくすることがで
き、装置外に廃熱を行うための配管の引き回しが容易に
なると共に、冷却水の循環に伴う振動の発生を抑えるこ
とができる。また、ヒートポンプ２２の放熱先の温度変
動とほぼ無関係に対象とする熱要素の温度制御を行える
ため、例えば複数のヒートポンプを用いる場合、ヒート
ポンプからの配管を直列につないでもそれぞれの熱要素
を精度良く温度制御をすることができ、配管が容易にな
る。

【００３０】なお、ヒートポンプ２２としてペルチェ素
子を使用した場合、ヒートポンプ駆動用電源３０からの
電流の向きを変えることによりＸ軸ステージ１４に接す
る面が廃熱側（高温側）になり、熱交換器２１に接する
面が吸熱側（低温側）となる。従って、例えば逆に対象
要素の温度を上げたい場合にも効果的に利用することが
できる。

【００３１】次に、図２の実施例の変形例について図３
を参照して説明する。本例はヒートポンプで発生した熱
を外部の温調装置から冷却水を循環させて外部に排出す
る方法を採らず、放熱板により装置内部に放出するもの
であり、図３において図２に対応する部分には同一符号
を付してその詳細説明を省略する。図３は、本例の投影
露光装置のウエハステージ周辺の構成を示し、この図３
において、ヒートポンプ２２の上表面にはヒートポンプ
２２からの熱を効率よく吸収する熱伝導性に優れた熱交
換板２１Ａが重なるように固定されている。熱交換板２
１Ａの一部には、熱交換板２１Ａからの熱を排出するた
めの高い熱伝導率をもつ物質（銅、アルミニウム等）で
できたヒートパイプからなる熱伝導素子２８Ａが設けら
れている。熱伝導素子２８ＡはＸ軸ステージ１４の上表
面に平行に設けられ、その先端部はＸ軸ステージ１４及
び試料台１５の右端より外部まで伸びている。そして、
その先端部には多数の放熱フィンよりなる放熱板２８Ｂ
が設けられており、ヒートポンプ２２の熱はこの放熱板
２８Ｂから放出される。また、本例では−Ｘ方向（図３
の左側）に全体空調系の吹き出し口（不図示）が設けら
れ、その吹き出し口から＋Ｘ方向に温調された空気流３
１が供給され、放熱板２８Ｂはその空気流３１の風下側
に配置されている。

【００３２】本例では、リニアモータ２０及びＺチルト
駆動機構１８Ａ，１８Ｂ等で発生する熱により温度が上
昇したＸ軸ステージ１４の熱はヒートポンプ２２により
吸収され、熱交換板２１Ａ、熱伝導素子２８Ａ、及び放
熱板２８Ｂを介して全体空調系からの空気流の風下側に
放出される。また、図１に示す実施例と同様に、Ｘ軸ス
テージ１４の表面温度は温度測定用プローブ２６により
測定され、その測定値が温度制御系２９に供給される。
温度制御系２９は温度測定用プローブ２６からの測定値
を基に、Ｘ軸ステージ１４の温度が一定となるようにヒ
ートポンプ駆動用電源３０を介してヒートポンプ２２を
駆動する。

【００３３】本例によれば、熱交換板２１Ａ、ヒートパ
イプ２８Ａ、及び放熱板２８Ｂからなる放熱機構並びに
放熱板２８Ｂの周辺の空気温度によりヒートポンプ２２
の冷却能力が決定され、そしてヒートポンプ２２での発
生熱が装置周辺に放出されるため、ヒートポンプ２２の
廃熱側の温度を測定する温度センサ、温調装置、及び冷
却水の循環配管等の設備を必要としない。また、放熱先
の温度とほぼ無関係にＸ軸ステージ１４の温度を制御で
きることから、熱伝導素子の効率が良くなる温度差を熱
伝導素子２８Ａの両端に持たせることができるため、放
熱板２８Ｂの位置を比較的自由に設定でき、装置内の他
の要素に影響を与えない場所に設置することができる。
なお、熱伝導素子２８Ａとしてはヒートパイプの他に金
属板等をも使用できる。

【００３４】なお、以上の実施例ではＸ軸ステージ１４
上だけにヒートポンプを設けたが、投影露光装置内のす
べての熱要素の周辺に許容される範囲でヒートポンプを
設置することができる。なお、上述実施例はステッパー
方式の投影露光装置に本発明を適用したものであるが、
本発明はステップ・アンド・スキャン方式等の走査露光
型の投影露光装置にも適用できる。特に、走査露光型で
はステージの走査方向の駆動系として比較的大きな容量
のリニアモータ等を使用することから駆動系の発生熱も
大きいため、本発明の方法は効果的である。

【００３５】このように本発明は上述実施例に限定され
ず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り
得る。

【００３６】

【発明の効果】本発明の露光装置によれば、スペースが
小さく簡単な構成をもつヒートポンプにより発熱体から
発生する熱を効率よく吸収し、吸収した熱を排出手段に
より装置の外部に排出することができる。また、ヒート
ポンプとして、例えば熱電素子等の様にコンパクトな形
態を有するものを使用すれば、所望の場所に設置でき、
他の機器に影響を与える等の弊害が発生しない。従っ
て、例えば投影露光装置のＸＹステージ等の可動部分に
ついても冷却用の媒体の循環により生じる振動や配管に
よる抵抗の影響を抑えて精密な温度管理が可能になる。
また、特に配管を行わずとも装置内の他の要素に影響を
与えない場所に放熱することが可能になり、設計を容易
にすることができる利点がある。

【００３７】また、露光装置が、ベース部材と、このベ
ース部材上に設置された駆動モータにより駆動され感光
基板が載置される載物台とを有し、発熱体が駆動モータ
であり、ヒートポンプがベース部材上に設置される場合
には、駆動モータの熱がベース部材を通してヒートポン
プにより効率よく吸収される。また、ヒートポンプがペ
ルチェ素子である場合には、スペースをとらない非常に
コンパクトな構成で発熱体を効率的に冷却する効果があ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による露光装置の一実施例の全体を示す
概略構成図である。

【図２】図１のウエハステージ周辺の構成を示す拡大図
である。

【図３】図２の実施例の変形例を示す拡大図である。

【図４】従来の露光装置の全体空調の状況を示す断面図
である。

【符号の説明】

１レチクル２ウエハホルダ３ウエハ７Ｘ移動鏡８レーザ干渉計１３Ｙ軸ステージ１４Ｘ軸ステージ１５試料台１８Ａ〜１８ＣＺチルト駆動機構２０リニアモータ２０Ａ固定子２０Ｂ可動子２１熱交換器２２ヒートポンプ２３Ａ給水パイプ２３Ｂ排水パイプ２４温調装置２６温度測定用プローブ２７温度センサ２９温度制御系

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】感光基板にマスクパターンを転写する露
光装置において、前記露光装置内の発熱体の近傍に配置され、前記発熱体
の熱を吸収するヒートポンプと、該ヒートポンプにより
吸収された熱を装置の外部に排出する排出手段と、を設
けたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】請求項１記載の露光装置であって、ベー
ス部材と、該ベース部材上に設置された駆動モータによ
り駆動され、前記感光基板が載置される載物台とを有
し、前記発熱体は前記駆動モータであり、前記ヒートポ
ンプを前記ベース部材上に設置したことを特徴とする露
光装置。