KR100539187B1 - 처리액공급기구및처리액공급방법 - Google Patents

처리액공급기구및처리액공급방법 Download PDF

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Abstract

1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
처리액 공급기구
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
다수개의 처리장치로 처리액을 공급할 수 있으며, 탈기부재가 처리액에 침지되어 있음으로써, 높은 효율로 현상액을 탈기할 수 있는 신규하고 개선된 처리액 공급기구를 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
처리액을 담은 탱크와, 탱크로부터 장치로 처리액을 공급하기 위한 공급경로와, 처리장치내에 마련된 처리액 토출부재로 처리액을 공급하기 위하여 공급경로에 접속된 분기경로 및 분기경로에 마련된 밸브로 각각 구성된다. 밸브들은 상호간에 하나의 처리장치의 처리액 토출부재가 기판에 처리액을 토출하는 동안 다른 장치의 처리액 토출부재가 기판에 처리액을 토출하도록 상기 분기경로를 개폐하기 위하여 제어된다.
4. 발명의 중요한 용도
반도체제조장치등의 레지스트도포막 현상처리장치등에 사용됨.

Description

처리액 공급기구 및 처리액 공급방법
본 발명은, 피처리기판에 처리액을 공급하여 기판을 처리하기 위하여 처리액을 공급하는 기구 및 방법에 관한 것이다.
반도체장치의 제조에 있어서는, 소위 "현상처리공정"이 행해진다. 통상, 현상처리는 다음 공정으로 구성된다. 우선, 피처리기판, 예컨대 반도체 웨이퍼(이하, "웨이퍼" 라 칭한다)를, 스핀척라고 불리는 회전재치대의 위에 장착한다(웨이퍼는 소정의 패턴화된 마스크를 통하여 노광된 레지스트막이 도포되어 있다). 이어서, 스핀척이 회전되고, 웨이퍼를 회전하게 된다. 웨이퍼의 중심윗쪽에 위치된 토출부재, 예컨대 노즐로부터 현상액을 토출시킨다. 웨이퍼상에 작용하는 원심력에 의해 현상액이 확산되고, 웨이퍼의 표면상에서 균일하게 도포된다. 따라서, 레지스트막이 현상된다.
현상공정은 현상장치에 의하여 수행된다. 현상장치는 노즐 및 액공급기구를 포함하여 구성된다. 액공급기구는 현상액을 노즐로 공급하게 된다. 현상액공급기구는, 중간탱크, 유량조절기, 필터, 온도조절기, 밸브등으로 구성된다. 메인탱크는 다량의 현상액을 담고 있다. 중간탱크는 메인탱크로부터 공급되는 현상액을 저장한다. 유량조절기는 노즐로 공급되는 유량을 조절한다. 필터는 현상액으로부터 불순물을 제거한다. 온도조절기는 원하는 값으로 현상액의 온도를 조절한다. 밸브는 노즐로 현상액을 공급하고, 공급을 차단하도록 마련된다.
메인탱크, 중간탱크, 유량조절기, 필터, 온도조절기 및 밸브는 그와 같은 순서로 액체경로(즉, 파이프)에 의하여 접속되어 있다. 밸브가 개방되면, 현상액이 노즐로 공급될 수 있다. 현상처리장치가 복수로 이루어지고 있는 경우에는, 동일한 수의 액공급기구가 각 장치마다 각각 독립하여 사용 및 작동되며, 이들은 각각 한 개의 현상장치에 접속된다. 각 현상액 공급기구에 있어서, 특정한 가스가 중간탱크로 도입되고, 소정의 범위로 가압된다. 현상액은 중간탱크로부터 밸브를 통하여 노즐로 공급된다. 최종적으로, 현상액이 노즐로부터 웨이퍼로 가해진다.
중간 탱크내의 현상액이 소정의 하한 레벨에까지 달한 때에는, 중간 탱크내에의 가스의 도입을 정지한다. 동시에, 중간탱크는 탱크의 윗쪽에 접속되고 있는 배기관을 통해 감압되고, 그의 내부를 개방한다. 현상액이 메인탱크로부터 공급되고, 중간탱크내의 현상액의 면이 소정의 상한 레벨에까지 상승할 때까지 보충한다. 보충종료 후에도, 현상장치가 현상처리를 시작하기까지의 소정의 시간은, 감압이 계속된다. 중간탱크내의 현상액이 탈기되어, O2, N2 등의 가스를 탈기하고 있다.
각 현상처리장치마다 현상액공급기구를 가지는 경우에는, 시스템의 대형화나 시스템의 제조단가의 상승을 초래한다. 시스템이 더 많은 현상장치를 가질수록 시스템은 대형화되며, 그의 제조단가도 상승한다.
또한, 각 액공급기구의 이용효율이 낮아진다. 그 이유는, 현상장치가 웨이퍼상에 현상처리를 행하는 시간보다 관련된 현상처리장치로 액을 공급하는 시간이 더 짧기 때문이다.
또한, 그의 내에 포함되어 있는 현상액을 탈기하기 위하여 중간탱크를 감압하는 효율도 종래의 정도로 제한된다. 감압효율은 중간탱크의 단면적에 비례한다. 따라서, 중간탱크의 직경이 클수록 좋다. 그러나, 만약 탱크의 직경이 증가되면, 액공급기구도 비례하여 대형으로 되며, 액공급을 안정적으로 원활하게 공급하는 것이 어려워진다.
본 발명의 제 1 의 목적은 다수개의 처리장치로 처리액을 공급할 수 있는 신규하고 개선된 처리액 공급기구를 제공함에 있다.
본 발명의 제 2 의 목적은 탈기부재가 처리액에 침지되어 있음으로써, 높은 효율로 현상액을 탈기할 수 있는 신규하고 개선된 처리액 공급기구를 제공함에 있다.
상술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 제 1 실시형태에 따른 액공급기구는 기판을 처리하기 위하여 기판에 액을 공급하는 다수개의 장치로 액을 공급하도록 설계된다. 이 장치는: 처리액를 담고 있는 적어도 한 개의 탱크와, 탱크부터의 처리액를 처리장치측에 공급하는 공급경로와, 이 공급경로로부터 분기하여 처리장치내에 마련된 처리액공급부재로 처리액을 공급하기 위한 분기경로와, 분기경로에 마련되며 각 처리장치로 처리액을 상이한 시간에 공급하도록 분기경로를 개폐하는 밸브를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
만약 처리장치가 2대이고 2개의 밸브가 사용되는 경우에는, 밸브는 다음과 같은 방식으로 제어된다. 예를 들어, 제 1 밸브는 제 2 장치내에서 액체의 인가가 종료되었음을 나타내는 신호에 의하여 개방되고, 액체는 제 1 밸브를 통하여 제 1 장치로 공급된다. 선택적으로, 액체가 하나의 장치로 인가되지 전에 다른 장치내의 기판으로 액체가 가해졌는지를 결정할 수 있다.
하나의 액공급기구가 다수개의 처리장치로 현상액을 공급하는데 사용되므로, 현상액 공급기구를 구비하는 시스템이 다른 것보다 소형으로 된다. 시스템은 낮은 가격으로 제조될 수 있으며, 보다 용이하게 유지될 수 있으며, 또한 2개의 장치에 대해서 현상액을 각각 공급하는데 2개의 기구를 사용하는 경우보다 높은 효율로 작동될 수 있다.
본 발명의 제 1 실시형태에 따른 기구에서는, 장치의 액공급부재가 현상액을 기판에 가하도록 유지되면서 상한 및 하한레벨의 사이의 레벨로 현상액이 보충되도록 탱크내에 상한레벨 및 하한레벨이 설정된다. 이 경우에, 어느 장치도 기판에 현상액을 토출하지 않는 채로 현상액이 탱크로 공급될 수 있다. 따라서, 기판으로 현상액을 토출하는 것을 방해하지 않고서 탱크내에 액체가 보충될 수 있다. 이는, 각 액토출장치의 수율을 증가한다.
하한레벨은, 액면이 하한레벨 L 까지 내려갔을 때, 적어도 1 롯트분의 기판용으로 충분한 양만큼 탱크내에 남아 있도록 설정된다. 따라서, 같은 롯트의 기판에 대한 처리는, 액체가 어떤 사정으로 현상액의 보충이 이루어지지 않더라도, 중단되지 않는다.
본 발명의 제 2 실시형태에 따른 액공급기구는 기판을 처리하기 위하여 기판에 현상액을 토출하도록 설계된 것이다. 이 기구는: 처리액를 담고 있는 다수개의 탱크와, 탱크부터의 처리액를 처리장치측에 공급하는 공급경로와, 탱크중의 한 개로부터 다른 탱크로의 전환을 달성하기 위한 전환장치와; 공급경로로부터 분기하여 처리장치내에 마련된 처리액토출부재로 처리액을 공급하기 위한 분기경로와, 분기경로에 마련되며 하나의 장치의 액토출부재가 기판에 현상액을 토출하고 있을 때 기판으로 현상액를 다른 장치의 액토출부재가 기판으로 현상액을 토출하도록 분기경로를 개폐하는 밸브를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
전환은 어떠한 장치도 기판에 현상액을 토출하지 않는 채로 하나의 탱크로부터 다른 탱크로 행해진다. 즉, 하나의 탱크로부터 다른 탱크로의 전환은, 현상공정을 방해하지 않고서 이루어질 수 있다. 만약 2개의 장치가 준비되면, 현상액은 제 2 의 탱크로부터 장치로 현상액이 공급되면서 제 1 탱크내에 보충된다. 그 후에, 제 2 의 탱크로부터 제 1 의 탱크로 전환이 이루어진 직후에 제 1 탱크로부터 장치로 현상액이 공급된다. 밸브는 본 발명의 제 1 실시형태에 따른 액공급기구에서와 동일한 방식으로 제어된다.
본 발명의 제 3 실시형태에 따른 액공급기구는, 기판을 처리하기 위하여 기판에 현상액을 토출하는 장치로 현상액을 공급하도록 설계된다. 이 기구는: 처리액를 담고 있는 다수개의 탱크와, 탱크의 외부에 마련된 배기 수단과; 각각 탱크내에 마련되며 현상액내에 침지된 채로 탱크내에 담겨진 현상액을 탈기하기 위한 다수개의 탈기수단; 및 배기수단으로 공간에 접속된 배기경로를 포함하여 구성된다. 각 탈기수단은 본체와 본체내에 삽입된 공간유지부재를 포함하여 구성된다. 본체는 기체는 통과하지만 액체는 통과하지 않는 재료로 구성된다. 공간유지부재는 본체내에 공간을 제공 및 유지한다.
탈기부재는 탱크내에 담겨진 액체내에 침지되어 있으므로, 각각 큰 탈기영역, 즉 액체와 접촉하는 큰 영역을 가진다. 액체는 따라서 매우 효율적으로 탈기된다. 각 탈기부재의 본체는, 예를 들면, 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE), 폴리플루오로알콕시(PFA) 또는 불화에틸렌 프로필렌(FEP)등으로 만들어지며, 그의 내부에 공간을 가진다. 본체는 그의 전체면에서 액체를 고효율로 탈기할 수 있다.
본체내에 삽입된 공간유지부재는 나선형상의 선재이거나 또는 합성수지제의 스페이서이다. 공간유지부재는 탈기부재가 진공흡인유니트에 의하여 감압될 때 본체가 찌그러지는 것을 방지한다. 각 탈기부재는 고효율로 액체를 탈기할 수 있다.
각 탈기부재는 탄성튜브일 수 있다. 탈기부재는 탱크내에 배열되도록 임의의 형상으로 용이하게 구부러질 수 있으며, 많은 탈기영역을 가지게 된다.
탈기부재는 나선형상으로 구부러질 수 있다. 탈기부재가 그와 같이 구부저리면, 각각은 공간을 제공한다. 이 공간에 플로트 센서와 같은 레벨센선가 용이하게 탱크내에 배열될 수 있다.
본 발명의 제 4 실시예에 따른 현상액공급기구는 기판을 처리하기 위하여 기판에 현상액을 공급하는 장치로 현상액을 공급하도록 의도된 것이다. 이 장치는: 액체를 담기 위한 다수개의 탱크와; 탱크의 외부에 마련되는 배기수단과, 액체내에 침지된 채로 탱크내에 담겨진 액체를 탈기하기 위하여 각각 탱크내에 마련된 다수개의 탈기장치; 및 배기수단으로의 공간에 접속된 배기경로를 포함하여 구성된다. 탈기부재의 각각은 기액분리재료로 만들어진 시트형상의 본체와, 본체내에 삽입되고 본체내에 공간을 제공 및 유지하는 공간유지부내, 및 간격유지부재를 포함하여 구성된다.
판형상의 본체는 권취되어, 간격유지부재에 의한 간격으로 사이를 둔 용수철을 형성한다. 따라서 각 탈기부재는 매우 큰 탈기영역을 가지며, 공간을 제공한다. 플로트 센서와 같은 레벨센서가 이 탱크내에 용이하게 설치된다.
공간유지부재는 와이어메쉬일 수 있다. 공간유지부재는, 진공흡인유니트에 의하여 탈기부재가 감압될 때 본체가 찌그러지는 것을 방지한다. 각 탈기부재는 고효율로 액체를 탈기한다. 또한, 시트형상의 예를 들어 제 3 실시예에서와 같이 PTFE, PFA 또는 FEP 로 만들어질 수 있다.
본 발명의 제 5 실시예에 따른 액체공급기구는, 기판을 처리하기 위하여 기판에 액체를 공급하는 장치로 액체를 공급하도록 설계된다. 이 장치는: 액체를 담기 위한 다수개의 탱크와; 탱크의 외부에 마련된 배기수단과; 액체내에 침지진 채로 탱크내에 담긴 액체를 탈기하기 위하여, 그의 꼭대기가 상이한 레벨에 있도록 각 탱크내에 위치하여 마련되는 다수개의 탈기부재 및; 배기수단으로 탈기부재의 공간을 접속하기 위한 배기경로를 포함하여 구성된다. 각 탈기부재는 본체 및 본체내에 삽입된 공간유지부재를 포함하여 구성된다. 본체는 기체는 통과하지만 액체는 통과하지 않는 재료로 형성된다. 공간유지부재는 본체내에 공간을 제공 및 유지한다.
각 탱크내에 마련된 탈기부재는 이들의 꼭대기가 상이한 레벨로 위치되므로, 탱크내의 액체의 표면레벨에 관계없이 탱크내의 액체를 고효율로 탈기한다. 보다 상세하게는, 탈기부재는 액체의 표면이 소정의 상한레벨로 상승하고 또한 소정의 하한레벨로 하강할 때 액체를 효율적으로 탈기한다.
각 탱크내에 마련된 탈기부재의 꼭대기가 상이한 레벨에 있는 한, 하나의 탈기부재의 하부가 다른 탈기부재의 상부의 아래쪽에 위치될 수 있다. 부가적으로, 각 탈기부재는 본 발명의 제 3 또는 제 4 실시형태에 따른 액체공급기구에서와 같이 나선형으로 감겨진 탄성튜브 또는 탄성시트일수 있다.
본 발명의 제 5 실시형태에 따른 기구는 탱크내에 담긴 액체의 표면을 검지하기 위하여 각각 탱크내에 마련되는 다수개의 레벨센서 및 배기경로를 개폐하기 위한 제어기를 더욱 포함하여 구성될 수 있다. 이러한 경우에는, 각 탈기부재가 액체내에 완전히 침지되어 있는지의 여부를 액체의 검지된 표면으로부터 결절할 수 있으며, 액체내에 완전히 침지된 것으로 판명된 탈기부재만이 액체를 탈기하도록 감압된다. 따라서 액체는 자동적으로 고효율로 탈기될 수 있다.
본 발명의 부가적인 목적 및 장점등은 이하의 상세한 설명에서 개진될 것이며, 일부는 기술내용으로부터 명백하고, 또는 본 발명의 실시에 의해서 알 수 있다. 본 발명의 목적 및 장점은 첨부된 특허청구의 범위내에서 특별히 지적된 조합에 의하여 실현될 수 있다.
첨부된 도면은 명세서의 일부를 구성하는 것으로서, 본 발명의 현재의 바람직한 실시예들을 도시하며, 이하에서 주어질 바람직한 실시예의 상세한 기술내용 및 상기한 일반적인 기술내용과 함께 본 발명의 원리를 설명하는 것이다.
(실시예)
현상장치에 현상액을 공급하도록 설계된 본 발명에 따른 액체공급기구를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다. 상이한 장치의 기능 및 구성과 동일 또는 유사한 액체공급기구의 구성부분은 동일한 부호를 부여하고 상세히 설명하지는 않는다.
도 1은 레지스트 도포현상 시스템(100)을 나타낸다. 이 시스템(100)은 반도체웨이퍼를 세정하고, 웨이퍼에 레지스트를 도포하고, 반도체웨이퍼를 가열하며, 웨이퍼를 소정의 온도로 냉각하고, 웨이퍼를 노광하며, 웨이퍼상의 레지스트를 현상하고, 레지스트를 현상한 후 웨이퍼를 가열하도록 설계된 것이다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 시스템(100)은 카세트 스테이션(102)과, 제 1 반송아암(104)과, 반송기구(106)와, 반송로(108)와, 제 2 반송아암(110)과, 제 1 아암경로(112) 및 제 2 아암경로(114)를 포함하여 구성된다. 카세트 C 는 각각 다수개의 웨이퍼 W를 수납하고 있으며, 반송로(108)를 따라서 카세트 스테이션(102)상에 배열된다. 반송기구(106)는 반송로(108)를 따라서 이동가능하다. 카세트 C 로부터는 웨이퍼 W를 꺼내서 이들을 제 1 반송아암(104)으로 반송한다. 반송아암(104) 및 (110)는 각각 아암경로(112) 및 (114)를 따라 이동한다.
레지스트 도포현상 시스템(100)은 다양한 웨이퍼 처리장치를 더욱 포함하여 구성된다. 이들 장치는 브러시 세정장치(116)와, 웨이퍼 세정장치(118)와, 어드히젼 장치(120)와, 냉각장치(122)와, 2 개의 레지스트 도포장치(124)와, 가열장치(126) 및 2개의 현상장치(128) 및 (129)등이다.
브러시 세정장치(116)는 카세트 C 로부터 꺼내어진 웨이퍼 W를 회전 및 세정한다. 물세정장치(118)는 고압제트수의 형태인 물을 웨이퍼 W 의 표면에 가하여 웨이퍼 W를 세정한다. 어드히젼장치(120)는 각 웨이퍼 W 의 표면을 소수화 처리하여 레지스트가 표면에 확고하게 고착하도록 한다. 냉각장치(122)는 웨이퍼 W를 소정의 온도로 냉각한다. 레지스트 도포장치(124)는 웨이퍼 W 의 표면에 레지스트액을 도포하여 각 웨이퍼 W 에 레지스트막을 피막한다. 가열장치(126)는 레지스트로 피막되고 노광된 웨이퍼 W를 가열한다. 현상장치(128) 및 (129)는 노광된 웨이퍼 W를 회전하고 웨이퍼 W 에 현상액을 공급하며, 각 웨이퍼 W 상의 레지스트막을 현상한다.
웨이퍼 처리장치(116),(118),(120),(122),(124),(126),(128)및 (129)들은 적절한 위치상에 상호간에 밀접하게 배치되어, 비교적 적은 공간만을 점유하며, 높은 효율로 동작한다. 웨이퍼 W 들은 반송아암(104) 및 (110)의 수단에 의하여 장치들의 안팎으로 반송된다.
도 1에서 나타낸 바와 같이, 시스템(100)은 케이싱(130)을 더욱 포함하여 구성된다. 케이싱(130)은 카세트 스테이션(102)과, 반송아암(104) 및 (110)과, 반송기구(106)와, 반송로(108)와, 반송경로(112) 및 (114) 및, 반도체웨이퍼 처리장치(116),(118),(120),(122),(124),(126),(128) 및 (129)를 담고 있다.
현상장치(128) 및 (129)는 구성이 동일하다. 도 2를 참조하여 제 1 현상장치(128)만을 기술한다. 본 발명의 제 1 실시예인 하나의 액체공급기구가 현상장치(128) 및 (129)에 대하여 마련됨을 주목한다.
도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 제 1 현상장치(128)는 케이싱(128a)을 포함하여 구성된다. 도 2에서 나타낸 바와 같이, 현상장치(128)는 처리실(132)과, 스핀척(134)과, 척 드라이버(136)과, 드라이버 제어기(138) 및, 케이싱(128a)내에 마련된 배액파이프(140), 및 배액탱크(142)를 가진다. 스핀척(134)은 처리실(132)내에 마련된다. 척 드라이브(136)는 처리실(132)의 하부에 위치된다. 배액파이프(140)는 처리실(132)의 바닥으로부터 배액탱크(142)로 연장된다. 배액파이프(142)는 처리실(132) 외부에 위치된다.
스핀척(134)은 진공흡인에 의하여 웨이퍼 W를 수평위치로 유지하도록 설계된다. 척(134)은 척 드라이브(136)에 의하여 회전된다. 척 드라이브(136)는 예를 들면 펄스모우터이다. 드라이브(136)는 도 3에서 나타낸 제어기(138)에 의하여 제어된다. 제어기(138)는 척 드라이브(136)내에 마련된 엔코더(도시않됨)에 의하여 발생된 펄스신호를 계수한다. 따라서, 드라이브(136)는 제어기(138)내에 적절한 계수가 설정되면 제어된 속도로 스핀척(134)를 회전할수 있다.
처리실(132)의 외부에 마련된 진공펌프와 같은 배기수단(도시않됨)에 의하여 처리실(132)의 바닥의 중앙부로부터 가스가 배기될 수 있다. 현상액 및 린스액(즉, 순수한 물)은 배액파이프(140)를 통하여 배액탱크(142)내로 배출될 수 있다.
도 2에서 나타낸 바와 같이, 현상장치(128)는 또한 2개의 노즐(N1) 및 (N2)과, 2 개의 노즐 홀더(144) 및 (146)와, 한쌍의 레일(148)과, 2개의 배액팬(150) 및 (152) 및 2개의 배액파이프(154) 및 (156)을 더욱 포함하여 구성된다. 제 1 노즐(N1)은 스핀척(134)에 의하여 유지된 웨이퍼 W로 현상액을 공급하도록 마련된다. 제 2 노즐(N2)은 웨이퍼 W 에 린스액을 공급하도록 마련된다. 노즐(N1) 및 (N2)은 노즐홀더(144) 및 (146)에 의하여 각각 유지된다. 노즐홀더(144) 및 (146)들은 레일(148)상에 미끄럼가능하게 탑재되며, 레일은 케이싱(128a)의 대향하는 측벽의 사이에서 수평방향으로 연장된다. 노즐홀더(144) 및 (146)는 구동기구(도시안됨)를 각각 포함한다. 구동기구는 제어기(138)(도 3)에 의하여 제어된다. 제어기(138)의 제어하에서 구동될 때, 구동기구는 레일(148)에 따른 수평방향으로, 노즐홀더(144) 및 (146)를 각각 구동한다.
노즐(N1) 및 (N2)이 웨이퍼 W 에 현상액 및 린스액을 가할 필요가 있을 때까지, 노즐홀더(144) 및 (146)는 케이싱(128a)의 대향하는 측벽부근에 있는 대기위치에 머문다. 배액팬(150) 및 (152)은 각각 노즐홀더(144) 및 (146)의 대기위치하에 위치된다. 배액팬(150)은 제 1 노즐(N1)로부터 떨어지는 현상액을 받는다. 배액팬(152)은 제 2 노즐(N2)로부터 떨어지는 린스액을 받는다. 배액팬(150) 및 (152)은 각각 배액파이프(154) 및 (156)에 접속된다. 배액파이프(154) 및 (156)는 케이싱(128a)의 측벽을 통하여 연장되며 배액탱크(142)로 접속된다.
상술한 바와 같이, 액공급기구, 즉 본 발명의 제 1 실시예는, 현상장치(128) 및 (129)용으로 마련된다. 액공급기구를 도 3을 참조하여 기술한다.
도 3에서 나타낸 바와 같이, 액공급기구는 제 1 현상장치(128)의 제 1 노즐(N1)로 현상액을 공급하기 위한 분기파이프(158)를 포함하여 구성된다. 분기파이프(158)는 밸브(160)에 의하여 제 1 현상장치(128)의 제 1 노즐(N1)로 그의 한끝단이 접속된다. 분기파이프(158)의 다른 끝단은 공급파이프(162)에 접속된다. 공급파이프(162)는 현상액을 담고 있는 탱크(170)에 접속된다. 열교환기(164)와, 필터(166) 및 유량조절기(168)들이 공급파이프(162)상에 마련된다. 열교환기(164)는 현상액이 23℃ 와 같은 소정의 온도로 유지되도록 마련된다. 필터(166)는 현상액으로부터의 불순물을 제거하도록 마련된다. 유량조절기(168)는 현상액의 유량을 원하는 값으로 조절하도록 사용된다.
분기파이프(172)는, 현상액을 제 2 현상장치(129)의 제 1 노즐(N1)로 공급하기 위하여, 밸브(174)의 한끝단에 접속된다. 분기파이프(172)의 다른 끝단은 탱크(170)에 접속된 공급파이프(162)에 접속된다. 따라서, 공급파이프(162)상에 전부 마련된 열교환기(164)와, 필터(166) 및 유량조절기(168)는 제 1 현상장치(128)의 노즐(N1)뿐 아니라, 제 2 현상장치(129)의 노즐(N1)으로도 현상액을 공급하는데 사용된다. 밸브(160) 및 (174)는, 밸브(174)가 개방된 동안 밸브(160)가 개방되고, 그 반대로 되도록 제어기(138)의 수단에 의하여 제어된다.
현상액 공급원(180)은 밸브(178)가 마련된 공급파이프(176)에 의하여 탱크(170)로 접속된다. N2 와 같은 불활성가스가 파이프(182) 및 밸브(184)를 통하여 가스공급원(186)으로부터 탱크(170)내로 공급될 수 있어서, 탱크(170)내를 제 1 의 소정의 압력으로 가압한다. 또한, 진공흡인 유니트(192)가 밸브(190)가 마련된 배액파이프(188)에 의하여 탱크(170)로 접속된다. 진공흡인 유니트(192)는 제 1 소정의 압력보다 낮은 제 2 소정의 압력으로 탱크(170)를 감압하도록 설계된다. 유니트(192)는, 예를 들면 진공펌프이다.
상한레벨 H 및 하한레벨 L 이 탱크(170)에 설정된다. 공급원(180)으로부터 탱크(170)로의 액체의 공급은 탱크(170)내의 액체의 표면이 하한레벨 L 까지 하강하였을 때 시작되며, 중간탱크내의 액체의 표면이 상한레벨 H 로 상승하면 중단된다. 현상액은 이와 같이 제 1 현상장치(128) 또는 제 2 현상장치(129)가 웨이퍼 W 에 현상액을 토출하고 있지 않는 동안에 탱크(170)내로 공급된다. 따라서, 웨이퍼로의 현상액의 공급을 방해하지 않고서 탱크(170)내에 현상액이 보충될 수 있다.
하한레벨 L 은 현상액면이 하한레벨 L 로 하강하였을 때 적어도 1 롯트분의 웨이퍼 W 용으로 충분한 양이 탱크(170)내에 현상액이 남아있도록 설정된다. 따라서, 동일한 롯트의 웨이퍼 W 에 대한 현상처리는 어떠한 이유등으로 현상액이 보충될 수 없더라도 중단되지 않는다.
상술한 바와 같이 기술된 현상장치(128) 및 (129)와 액공급기구의 동작을 도 2 및 도 3을 참조하여 설명한다.
제 1 현상장치(128)에 있어서, 웨이퍼 W 는 처리실(132)내에 마련된 스핀척(134)상에 장착된다. 스핀측(134)은 제어기(138)로부터 인가된 제어신호의 제어하에 소정의 속도로 회전한다. 그에 의하여 웨이퍼 W 가 회전된다. 노즐홀더(144)가 이동하여, 노즐(N1)을 웨이퍼 W 상의 올바른 액체토출위치까지 보낸다.
이 때, 현상액이 상한레벨 H 까지 탱크(170)(도 3)내에 채워진다. 또한, 탱크(170)는 가스공급원(186)으로부터 공급된 N2 가스에 의하여 제 1 소정의 압력으로 가압된다. 현상액은 공급파이프(162) 및 분기파이프(158)를 통하여 밸브(160)로 공급된다. 현상액이 공급파이프(162)를 통하여 공급되는 동안, 그의 유량 및 온도가 유량제어기(168) 및 열교환기(164)에 의하여 조절된다. 부가적으로, 필터(166)는 현상액으로부터 불순물을 제거한다. 그와 같이 원하는 조건으로 설정된 현상액은, 제어기(138)로부터 인가된 제어신호에 의하여 밸브(160)가 개방될 때 제 1 현상장치(128)의 노즐(N1)로 공급된다. 제 1 노즐(N1)은 회전하고 있는 웨이퍼 W 로 현상액을 가한다.
그 동안, 웨이퍼 W 는 제 1 현상장치(128)에서와 동일한 방식으로, 마찬가지로 제 2 현상장치(129)내에 위치된다. 현상액은 제 1 현상장치(128)에서와 같은 원하는 조건으로 설정되어, 제 2 현상장치(129)의 노즐(N1)로 공급된다.
웨이퍼 W 가 제 1 현상장치(128)내에서 소정양의 현상액으로 도포될 때, 제어기(138)는 제어신호를 밸브(160)와, 척 드라이브(136) 및 노즐홀더(144)로 인가한다. 제어신호는 밸브(160)를 폐쇄하고, 현상액은 더 이상 제 1 노즐(N1)로 공급되지 않는다. 제어신호는 척 드라이브(136)를 정지하고, 그에 의하여 스핀척(134)이 회전이 정지된다. 제어신호는 노즐홀더(144)를 구동하고, 제 1 노즐(N1)을 액공급위치로부터 대기위치로 이동한다.
제 1 현상장치(128)에 있어서, 회전하지 않는 웨이퍼 W 는 소정시간동안 정지된채로 있게 된다. 웨이퍼 W 상의 레지스트막이 그에 의하여 현상된다. 노즐(N1)이 대기위치로 이동하고 웨이퍼 W 가 현상된 것이 확인되었을 때, 제어기(138)는 밸브(174) 및 척 드라이브(136)에 제어신호를 인가하고, 밸브(174)를 개방하며, 스핀척(134)을 회전하고 웨이퍼 W를 회전시킨다. 결과적으로, 제 2 노즐(N2)은 돌고 있는 웨이퍼 W 로 린스액을 공급하여, 웨이퍼 W 로부터 현상액을 제거한다. 보다 상세하게는, 제어신호는 노즐홀더(146)내에 담겨진 구동기구를 구동한다. 따라서, 노즐홀더(146) 및 제 2 노즐(N2)은 웨이퍼 W 바로 위의 액토출위치로 이동한다. 밸브(174)가 개방되면, 린스액이 린스액 공급원(도시않됨)으로부터 제 2 노즐(N2)로 공급된다. 노즐(N2)은 액을 소정시간동안 또는 소정의 양으로 돌고 있는 웨이퍼 W 상에 토출하여, 웨이퍼 W 로부터 현상액을 제거한다.
웨이퍼 W 로부터 현상액이 제거된 후에도, 웨이퍼 W 는 소정시간동안 계속적으로 회전하며, 그에 의하여 린스액을 털어내고 웨이퍼 W가 건조된다. 이 시간 경과시에, 제어기(138)는 제어신호를 척 드라이브(136)로 공급하여, 스핀척(134)을 정지시킨다. 웨이퍼 W 는 척(134)으로부터 제거되고 제 1 현상장치(128)로부터 다른 시스템으로 반송되며, 다음 공정에 처해지게 된다.
웨이퍼 W 가 제 1 현상장치(128)로부터 반송된 후에, 다른 웨이퍼 W 상의 레지스트막이 현상되고 현상액이 웨이퍼 W 로부터 제거되며, 따라서 제 1 현상장치(128)에서와 완전히 동일한 방식으로 제 2 현상장치(129)내에서 웨이퍼 W를 건조한다.
그 후에, 다음 웨이퍼 W 가 제 1 현상장치(128)내로 반송되고, 웨이퍼 W 상에 형성된 레지스트막은 상술한 바와 같이 현상된다. 유사하게, 다음 웨이퍼 W 는 제 2 현상장치(129)내로 반송되고, 웨이퍼 W 상에 형성된 레지스트막은 상술한 바와 같이 현상된다.
상술한 바와 같이, 도 3 에 나타낸 액공급기구, 즉 본 발명의 제 1 실시예는, 현상액을 한번은 제 1 현상장치(128)로, 또 한번은 제 2 현상장치(129)로 공급한다. 다시 말해서, 현상액은 하나의 현상장치내의 웨이퍼 W 로 가해지며, 다른 현상장치내의 웨이퍼 W 로는 가해지지 않는다. 이는, 탱크(170)내의 압력을 원하는 레벨로 유지하도록 도와준다. 따라서 현상액은 양 쪽 현상장치(128) 및 (129)내의 웨이퍼 W를 동일한 압력하에서 가해질 수 있다. 또한, 만약 제 1 현상장치(128)가 어떠한 이유로 소정시간내에 웨이퍼 W 상에 현상공정을 마치지 못할 때는, 제 2 의 현상장치(129)가 현상공정을 시작하는 것을 방지한다.
도 4 의 타이밍챠트를 참조하여 현상장치(128) 및 (129)내로 현상액을 공급하기 위하여 밸브(160) 및 (174)를 제어하는 것을 설명한다. 또한, 도 4를 참조하여 탱크(170)내의 현상액의 보충에 대하여도 기술한다.
상술한 바와 같이, 현상액은 제 1 현상장치(128)로 공급되고, 그 후에 제 2 현상장치(129)로 공급된다. 현상액은 적어도 한 롯트의 웨이퍼 W 가 현상장치(128) 및 (129)내에서 현상처리되는 한, 현상장치(128) 및 (129)에 교대로 공급된다. 따라서, 도 4에서 나타낸 바와 같이, 밸브(160)가 개방 및 폐쇄되고, 그 후에 밸브(174)가 개방 및 폐쇄되며, 다시 밸브(160)가 개방 및 폐쇄되고, 다시 밸브(174)가 개방 및 폐쇄를 계속한다. 밸브(160)는 다시 개방될 때까지의 시간동안에 폐쇄된 채로 있으며, 밸브(174)도 마찬가지이다. 이는, 각 웨이퍼 W를 레지스트 도포장치(124), 가열장치(126)등과 현상장치(128) 및 (129)내에서 처리하는데 약간의 시간이 소요되기 때문에 불가피한 것이다.
탱크(170)는 제 1 의 소정압력으로 가압된다. 탱크(170)내의 현상액은 탱크(170)로부터 현상장치(128) 및 (129)내로 힘을 받게 된다. 도 3 의 액공급기구는 밸브(160) 및 (174)가 폐쇄되어 있는 동안, 또는 현상액이 장치(128) 또는 장치(129)내로 공급되지 않는 동안에 탱크(170)내의 현상액을 보충하도록 설계된다.
즉, 밸브(184)는 밸브(160) 및 (174)가 폐쇄되어 있는 동안 폐쇄되며, 그에 의하여 가스공급원(186)으로부터 탱크(170)로의 불활성가스의 공급을 정지한다. 동시에, 진공흡인 유니트(192)가 구동되고 밸브(190)가 개방된다. 탱크(170)는 그에 의하여 제 2 의 소정압력으로 감압된다. 결과적으로, 현상액의 면이 상한레벨 H 로 상승할 때까지 탱크내(170)로 현상액이 보충된다. 그 후에, 밸브(178) 및 (190)가 폐쇄되고, 밸브(184)가 다시 개방된다. 탱크(170)는 그에 의하여 제 1 소정의 압력으로 가압된다. 밸브(178),(184) 및 (190)들은 제어기(138)로부터 인가되는 제어신호에 의하여 개폐된다.
도 4 로부터 이해할 수 있는 바와 같이, 탱크(170)는 양 밸브(160) 및 (174)가 폐쇄된 채로 있는 한은 제 2 의 소정압력으로 감압된다. 도 4 로부터 볼 수 있는 바와 같이, 탱크(170)는 밸브(160) 및 (174)가 개방되기 전에 제 1의 소정압력으로 가압된다.
액공급기구(도 3)는 양쪽 현상장치(128) 및 (129)로 현상액을 공급하는데 사용되므로, 레지스트 도포현상 시스템(100)(도 1)은 다른 것보다 작다. 시스템(100)은 저가로 제작될 수 있으며, 보다 용이하게 유지될 수 있으며, 현상액을 현상장치(128a) 및 (129)로 각각 공급하기 위하여 2개의 기구를 가지는 경우보다 높은 효율로 운용될 수 있다.
다른 방식, 즉 본 발명의 제 2 실시예의 액공급기구에 대하여 도 5를 참조하여 설명한다.
도 5에서 나타낸 바와 같이, 이 액공급기구는 도 3에서 나타낸 제 1 실시예에서의 한 개의 탱크가 아닌, 2개의 탱크(206) 및 (210)를 가진다. 따라서, 제 1 실시예에서와 동일한 구성부에 대하여는 동일한 부호를 부여하였으며, 상세한 기재는 생략한다.
공급파이프(162)는 유량조절기(168)의 한끝단에 접속된다. 분기파이프(200) 및 (202)는 공급파이프(162)의 다른 끝단에 한쪽 끝단이 접속된다. 제 1 분기파이프(200)는 제 1 탱크(206)의 다른 끝단에 접속된다. 제 2 분기파이프(202)는 제 2 탱크(210)에 한끝단이 접속된다. 2개의 밸브(204) 및 (208)들은 각각 분기파이프(200) 및 (202)상에 마련된다.
도 5에서 나타낸 바와 같이, 현상액 공급원(180)은 밸브(178a)를 통하여 제 1 탱크(206), 또한 밸브(178b)를 통하여 제 2 탱크(210)로 접속된다. 가스공급원(186)은 밸브(184a)를 통하여 제 1 탱크(206)로, 또한 밸브(184b)를 통하여 제 2 탱크(210)로 접속된다. 진공흡인유니트(192)는 밸브(190a)를 통하여 제 1 탱크(206), 또한 밸브(190b)에 의하여 제 2 탱크(210)로 접속된다. 밸브(178a),(178b),(184a),(184b),(190a) 및 (190b)들은 제어기(212)로부터 인가되는 제어신호에 의하여 개폐된다. 제어기(212)는 밸브(160) 및 (174)를 개폐하기 위하여 밸브(160) 및 (174)(도시않됨)로 제어신호를 보낸다. 제 1 실시예에서와 마찬가지로, 밸브(160)는 도 3에서 나타낸 방식의 현상장치의 노즐(N1)에 접속되며, 밸브(174)는 동일한 방식의 다른 현상장치의 노즐(N1)로 접속된다.
제어기(212)는 도 6에서 나타낸 바와 같이 밸브(174)가 폐쇄된 동안에 밸브(160)가 개방되고, 또한 그 반대로 되도록 밸브(160) 및 (174)를 제어한다. 그 후에, 제 1 탱크(206)내의 현상액면이 하한레벨 L 로 떨어진 때에 밸브(202) 및 (208)가 각각 폐쇄 및 개방된 상태로 있게 된다. 밸브(202) 및 (208)는 밸브(160) 및 (174)가 다시 개방 및 폐쇄될 때까지 각각 폐쇄 및 개방된 채로 있게 된다. 결과적으로, 현상액은 제 1 탱크(206)로부터가 아니라, 현상액이 상한레벨 H 까지 채워진 제 2 탱크(210)로부터 2개의 현상장치의 노즐(N1)로 공급될 수 있다. 다시 말해서, 현상공정에 악영향을 미치지 아니하고 제 1 탱크(206)로부터 제 2 탱크(210)로의 전환이 달성된다.
상한레벨 H 및 하한레벨 L 은 도 3에서 나타낸 탱크(170)에 대해서와 마찬가지의 방식으로 양 탱크(206) 및 (210)에 대해서 설정된다.
제 1 탱크(206)로부터 제 2 탱크(210)로이 전환후 즉시, 제 1 탱크(210)로부터 공급된 현상액은 현상장치(128) 및 (129)에 접속된 공급파이프(162)내에 남아있게 된다. 현상액은 제 1 탱크(206)로부터 탱크(210)로의 전환후 즉시 현상공정이 중단되는 동안 파이프(162)로부터 배출될 수 있다. 보다 상세하게는, 현상액은 예를 들면 제 1 현상장치(128)(도 2)의 제 1 노즐(N1)로부터 배액팬(150)으로 배출될 수 있으며, 따라서 배액파이프(154)를 통하여 배액탱크(142)로 공급될 수 있다. 따라서, 파이프(162)내에는 오랫동안 현상액이 남아있지 않게 되며, 현상공정에 해로운 일이 발생하지 않게 된다.
상술한 제 1 실시예 및 제 2 실시예는 2개의 현상장치(128) 및 (129)로 현상액을 공급하도록 구성된다. 본 발명은 2개의 현상장치로 현상액을 공급하는 기구에 한정되는 것은 아니다. 본 발명은 3개 이상의 현상장치에 현상액을 공급하기 위한 기구에도 적용가능하다.
또한, 본 발명은 현상장치로 현상액을 공급하는 기구에만 한정되는 것은 아니다. 본 발명은 다양한 도포장치에 액체를 공급하는 기구에도 적용될 수 있다. 또한, 액체가 공급되는 대상은 웨이퍼에만 한정되지 않는다. 그 대상은, 예를 들어 LCD(Liquid Crystal Display)의 유리기판일 수도 있다.
본 발명의 제 3 실시예에 관한 액공급기구를 기술한다. 본 기구는 도 1에서 나타낸 레지스트 도포현상 시스템(100)에 결합될 수 있는 2 개의 현상장치(128') 및 (129')로 현상액을 공급하도록 설계된 것이다. 제 1 현상장치(128') 및 제 2 현상장치(129')는 구성이 동일하다. 도 7을 참조하여 제 1 현상장치(128')만을 기술한다.
도 7에서 나타낸 바와 같이, 현상장치(128')에는 처리실(332)과, 스핀척(334)과, 척 드라이브(336)및 드라이브 제어기(338)과, 케이싱(328a)내에 마련된 배액파이프(340) 및 배액탱크(342)가 마련된다. 스핀척(334)은 처리실(332)내에 마련된다. 척 드라이브(336)는 처리실(332)밑에 위치한다. 배액파이프(340)는 처리실(332)의 바닥으로부터 배액탱크(342)로 연장된다. 배액탱크(342)는 처리실(332)의 외부에 위치된다.
스핀척(334)은 진공흡인에 의하여 수평위치로 웨이퍼 W를 유지하도록 구성된다. 척(334)은 척 드라이브(336)에 의하여 회전가능하다. 척 드라이브(336)는, 예를 들면 펄스모터이다. 드라이브(336)는 도 8에서 나타낸 제어기(338)에 의하여 제어될 수 있다. 제어기(338)는 척드라이브(336)내에 마련된 엔코더(도시않됨)에 의하여 발생된 펄스신호를 계수한다. 따라서, 드라이브(336)는 적절한 계수가 제어기(338)내에 설정되어 있으면 어떠한 제어된 속도로도 스핀척(334)을 회전할 수 있다.
처리실(332)의 외부에 마련된 진공펌프와 같은 배기수단(도시않됨)에 의하여 처리실(332)의 바닥의 중앙부로부터 가스가 배출될 수 있다. 현상액 및 린스액(즉, 순수한 물)이 배액파이프(340)을 통하여 배액탱크(342)로 배출될 수 있다.
도 7에서 나타낸 바와 같이, 현상장치(128')는 2개의 노즐(N1) 및 (N2)과, 2개의 노즐홀더(344) 및 (346)와, 한쌍의 레일(348)을 더욱 포함하여 구성된다. 제 1 노즐(N1)은 스핀척(334)에 의하여 유지된 웨이퍼 W 로 현상액을 인가하도록 마련된다. 노즐(N1) 및 (N2)은 각각 노즐홀더(344) 및 (346)에 의하여 유지된다. 노즐홀더(344) 및 (346)는 레일(348)상에 미끄럼가능하게 장착되며, 레일은 케이싱(328a)의 대향하는 측벽의 사이에 수평방향으로 연장된다. 노즐홀더(344) 및 (346)는 각각 구동기구(도시않됨)를 포함한다. 구동기구는 제어기(338)에 의하여 제어된다(도 8). 제어기(338)의 제어하에서 구동될 때, 구동기구는 노즐홀더(344) 및 (346)를 레일(348)을 따라서 수평방향으로 구동한다.
노즐홀더(344) 및 (346)는, 노즐(N1) 및 (N2)이 웨이퍼 W 로 현상액 및 린스액을 토출할 필요가 있을 때까지, 케이싱(328a)의 대향하는 측벽근처의 대기위치에 머물러 있는다. 노즐홀더(344) 및 (346)는 도 7에서 나타낸 바와 같이 웨이퍼 W 의 중앙 바로 위에 있는 액토출위치로 이동한다.
본 발명의 제 3 실시예인 현상장치(128') 및 (129')용으로 마련된 액공급기구를 도 8을 참조하여 설명한다.
도 8에서 나타낸 바와 같이, 액공급기구는 현상장치(128')및(129')의 노즐(N1)에 한끝단이 접속된 공급파이프(350)를 포함하여 구성된다. 밸브(352)와, 열교환기(354), 필터(356) 및 유량조절기(358)들은 공급파이프(350)상에 마련된다. 열교환기(354)는 23℃와 같은 소정의 온도로 현상액을 유지하도록 설계된다. 필터(356)는 현상액으로부터 불순물을 제거하도록 마련된다. 유량조절기(358)는 액의 유량을 원하는 값으로 조절하는데 사용된다.
공급파이프(350)의 다른 끝단은 분기파이프(360) 및 (362)로 접속된다. 분기파이프(360)는 제 1 중간탱크(368)에 밸브(364)에 의하여 접속된다. 유사하게, 분기파이프(362)는 제 2 중간탱크(270)로 밸브(366)에 의하여 접속된다. 밸브(352),(364) 및 (366)는 제어기(338)로부터 인가된 제어신호에 의하여 개폐된다.
2개 이상의 분기파이프(372) 및 (374)들은 중간탱크(368) 및 (370)에 한끝단이 각각 접속된다. 이들 분기파이프(372) 및 (374)들은 공급파이프(380)의 한끝단에 다른 끝단이 접속된다. 밸브(376) 및 (378)는 각각 분기파이프(372) 및 (374)상에 마련된다. 공급파이프(380)는 현상액 공급원(382)에 다른 끝단이 접속된다. 현상액은 밸브(376) 내지 (378)를 통하여 공급원(382)로부터 중간탱크(368) 내지 (370)로 각각 공급될 수 있어서, 중간탱크(368) 및 (370)내로 현상액을 보충한다.
다른 2개의 분기파이프(384) 및 (386)들은 한끝단에서 중간탱크(268) 및 (370)에 각각 접속된다. 분기파이프(384) 및 (386)들의 다른 끝단은 공급파이프(400)이 한끝단에 접속된다. 공급파이프(400)는 다른 끝단이 가스 공급원(402)에 접속된다. 밸브(388) 및 (390)는 각각 분기파이프(384) 및 (386)에 마련된다. N2 와 같은 불활성기체가 밸브(388)를 통하여 가스 공급원(402)으로부터 제 1 중간탱크(368)내로 공급되어 탱크(368)를 소정의 압력으로 가압하고, 밸브(390)를 통하여 제 2 중간탱크(370)로 공급되어 탱크(370)를 소정의 압력으로 가압한다. 밸브(388) 및 (390)는 제어기(338)로부터 인가되는 제어신호에 의하여 개폐된다.
봉형상의 레벨센서(404) 및 (406)가 중간탱크(368) 및 (370)의 바닥으로부터 직립하여 탱크(368) 및 (370)의 축내에서 각각 연장된다. 레벨센서(404) 및 (406)들은 예를 들면 플로트 센서 또는 광센서이다. 제 1 레벨센서(404)는 제 1 중간탱크(368)내의 현상액의 표면레벨을 검출하도록 마련된다. 제 2 레벨센서(406)는 제 2 중간탱크(370)내의 현상액의 표면레벨을 검출하도록 마련된다. 압력센서(408) 및 (410)는 각각 중간탱크(368) 및 (370)의 내부상부면상에 마련된다. 제 1 압력센서(408)는 제 1 중간탱크(368)내의 압력을 검출하여 검출된 압력을 나타내는 신호를 발생한다. 제 2 압력센서(410)는 제 2 중간탱크(370)내의 압력을 검출하고 검출된 압력을 나타내는 신호를 발생한다. 압력센서(408) 및 (410)의 신호는 제어기(338)로 인가된다.
상한레벨 H 및 하한레벨 L 들은 각 중간탱크에 설정된다. 탱크(368) 및 (370)에 대한 상한레벨 H 은 동일하다. 탱크(368) 및 (370)에 대한 하한레벨 L 도 마찬가지이다. 각 중간탱크에 있어서, 현상액은 현상액면이 상한레벨 H 및 하한레벨 L 의 사이에 유지되는 동안에 보충 및 탈기될 수 있다. 액면이 레벨 H 및 L 의 사이에 유지되는 동안, 각 중간탱크는 양쪽 현상장치(128') 및 (129')로 현상액을 공급하기 위하여 소정의 압력으로 가압될 수 있다. 하한레벨 L 은 예를 들어 탱크(268)로부터 탱크(370)로의 전환이 어떤 이유등으로 이루어지지 않더라도 최소한 한롯트분의 웨이퍼 W 에 대한 현상공정이 수행될 수 있도록 설정된다.
탈기부재(412) 및 (414)들은 각각 중간탱크(368) 및 (370)내에 마련된다. 탈기부재(412) 및 (414)는 동일한 구조를 갖는다. 제 1 탈기부재(412)만을 도 9 및 도 10을 참조하여 기술한다.
도 9에 나타낸 바와 같이, 탈기부재(412)는 PTFE, PFA 또는 FEP 등의 액체를 통과시키지않고 기체만을 통과시키는 재료로 만들어진 탄성튜브이다. 나선형 선재(418)가 탈기부재(412)내에 삽입된다. 나선형 선재(418)는, 부재(412)가 제 1 중간탱크(368)내에서 현상액을 탈기하도록 감압될 때, 부재(412)가 찌그러지지않도록 방지한다.
도 10에서 나타낸 바와 같이, 탈기부재(412)는 제 1 레벨센서(404)의 주위에 권취되며, 중간탱크(368)내에서 나선을 형성한다. 부재(412)의 상부는 상한레벨 H 의 약간 아래쪽에 위치되며, 부재(412)의 아래끝단은 중간탱크(368)의 바닥부근에 위치된다. 따라서, 현상액과 접촉하는 부재(412)의 표면영역(이하 "탈기영역"이라 한다)은 현상액이 탱크(368)내에서 상한레벨 H 로 채워질 때 많이 증가된다. 따라서 현상액이 상한레벨 H 로 탱크(368)내에 채워질 때 매우 효과적으로 탈기된다. 나선형상이기 때문에, 탈기부재(412)는 공간을 형성하며, 제 1 중간탱크(368)내의 제 1 레벨센서(404)를 배치하기 쉽게 한다.
탈기부재(412)는 분기파이프(420)의 한끝단에 상부끝단이 접속된다. 유사하게, 제 2 중간탱크(370)내에 마련된 탈기부재(414)는 상부끝단이 분기파이프(426)의 한끝단에 접속된다. 도 8에 나타낸 바와 같이, 분기파이프(420) 및 (426)들은 밸브(422) 및 (428)에 의하여 배액파이프(424)의 한끝단에 다른 끝단이 접속된다. 배액파이프(424)의 다른 끝단은 진공펌프로서의 진공흡인유니트(430)에 접속된다. 밸브(422) 및 (428)은 제어기(338)로부터 인가된 제어신호에 의하여 개폐된다.
도 8에 나타낸 액공급기구로부터 현상액이 예를 들어 현상장치(128')에 공급되는 것을 도 7 및 도 8을 참조하여 설명한다.
제 1 중간탱크(368)내에 액체가 보충되는 것(도 8) 및 현상액이 현상장치(128')에 공급되는 것(도 7)을 설명한다.
먼저, 진공흡인유니트(438)가 구동되고 밸브(422)가 개방된다. 제 1 중간탱크(368)는 그에 의하여 탈기부재(412)를 사용함으로써 소정의 압력으로 감압된다. 분기파이프(368)를 중간탱크(368)에 접속하는 밸브(364)는 현상액이 탱크(368)로부터 현상장치(128')로 공급될 때까지 폐쇄된다.
그리고, 제 1 중간탱크(368)가 탈기수단(412)에 의하여 감압되는 동안 밸브(376)가 개방된다〔상술한 바와 같이, 밸브(376)는 탱크(368)를 공급파이프(380)으로 접속하는 분기파이프(372)상에 마련되며, 공급파이프(380)는 현상액 공급원(382)에 접속되어 있다〕. 현상액은 현상액 공급원(382)으로부터 제 1 중간탱크(368)로 공급된다. 탱크(368)내의 액면이 상한레벨 H 로 상승할 때, 밸브(376)가 폐쇄되며, 중간탱크(368)내로의 액보충을 중지한다. 이제, 현상액내에 완전히 침지된 탈기부재(412)는 현상액을 탈기한다. 부재(412)가 탈기하는 시간(즉, 현상액으로부터 제거되는 가스의 양)은 현상액의 종류 및 현상장치(128')와 (129')의 운용조건의 근거하에 미리 설정된다.
제 1 중간탱크(368)내의 현상액이 원하는 정도로 탈기되었을 때, 밸브(422)가 폐쇄되고 밸브(388)는 개방된다. 밸브(388)는 가스공급원(402)을 중간탱크(368)로 접속하는 분기파이프(384)상에 마련되기 때문에, 불활성가스(예를 들어 N2)는 가스공급원(402)으로부터 중간탱크(368)내로 공급된다. 제 1 중간탱크(368)는 그에 의하여 소정의 압력으로 가압된다. 결과적으로, 현상액은 제 1 중간탱크(368)로부터 현상장치(128')로 공급될 수 있다.
압력센서(408)는 제 1 중간탱크(368)내의 압력을 검출하고, 검출된 압력을 나타내는 신호를 발생한다. 신호는 센서(408)로부터 제어기(338)로 인가된다. 제어기(338)는 밸브(376),(388) 및 (422)를 압력센서(408)로부터 출력된 신호에 의하여 개폐한다. 따라서, 제 1 중간탱크(368)내의 압력이 원하는 값으로 유지된다.
현상액은 제 1 중간탱크(368)에서와 동일한 방식으로 제 2 중간탱크(370)내에 보충되고, 현상장치(128')로 공급된다. 즉, 진공흡인유니트(430)가 구동되고 밸브(428)가 개방된다. 제 2 중간탱크(370)는 탈기부재(414)의 수단에 의하여 소정의 압력으로 감압된다. 분기파이프(362)를 제 2 중간탱크(370)로 접속하는 밸브(366)는, 현상액이 탱크(370)로부터 현상장치(128')로 공급될 때까지 폐쇄된다.
그리고, 밸브(378)는 탈기부재(414)의 수단에 의하여 탱크(370)가 감압되는 동안 개방된다〔밸브(378)는 탱크(370)를 공급파이프(380)로 접속하는 분기파이프(374)상에 마련되며, 공급파이프(380)는 현상액공급원(382)에 접속된다〕. 현상액은 현상액 공급원(382)으로부터 제 2 중간탱크(370)내로 공급된다. 탱크(370)내의 액면이 상한레벨 H 로 상승할 때, 밸브(378)가 폐쇄되어 제 2 중간탱크(370)내의 액보충이 중단된다. 이제 현상액중에 완전히 침지된 탈기부재(414)는 상술한 바와 같이 현상장치(128') 및 (129')의 운용조건의 근거하에 미리 설정된 시간동안 현상액을 탈기한다.
제 2 중간탱크(370)내의 현상액이 원하는 정도로 탈기되었을 때, 밸브(428)가 폐쇄되고 밸브(390)는 개방된다. 밸브(390)는 가스공급원(402)을 제 2 중간탱크(370)로 접속하는 분기파이프(386)상에 마련되므로, 불활성가스(예를 들면 N2)가 가스공급원(402)으로부터 중간탱크(370)내로 공급된다. 제 2 중간탱크(380)는 소정의 압력으로 가압된다. 결과적으로, 현상액이 제 2 중간탱크(370)로부터 현상장치(128')로 공급될 수 있다.
압력센서(410)는 제 2 중간탱크(370)내의 압력을 검출하고, 검출된 압력을 나타내는 신호를 발생한다. 이 신호는 센서(410)로부터 제어기(338)로 인가된다. 제어기(338)는 압력센서(410)로부터 출력된 신호에 따라서 밸브(378),(390) 및 (428)를 개폐한다. 따라서, 제 2 중간탱크(370)내의 압력이 원하는 값으로 유지된다.
도 8에서 나타낸 현상장치(128') 및 (129')와 액공급기구의 동작을 도 7 및 도 8을 참조하여 설명한다.
제 1 현상장치(128')에 있어서, 처리실(332)내에 마련된 스핀척(334)상에 웨이퍼 W 가 탑재된다. 스핀척(334)는 진공흡인에 의하여 웨이퍼 W를 유지한다. 척(334)은 제어기(338)로부터 공급된 제어신호의 제어하에 소정의 속도로 회전한다. 그에 의하여 웨이퍼 W 가 회전한다. 노즐홀더(344)가 이동하고, 제 1 노즐(N1)을 웨이퍼 W 바로 위의 액공급위치로 가져간다.
현상액을 제 1 중간탱크(368)로부터 제 1 현상장치(128')로 공급하고, 긍 의하여 현상액을 제 1 노즐(N1)로부터 웨이퍼 W 상으로 토출하기 위하여, 밸브(364) 및 (352)가 개방된다. 현상액은 분기파이프(360), 밸브(364) 및 분기파이프(350)를 통하여 탱크(368)로부터 제 1 노즐(N1)로 안내된다. 현상액은 공급파이프(350)상에 마련된 열교환기(354), 필터(356), 유량조절기(358)를 통하여 계속 안내된다. 유량조절기(358)는 현상액의 유량을 조절하며, 필터(356)는 현상액으로부터 불순물을 제거하고, 열교환기(354)는 현상액의 온도를 소정의 값으로 바꾼다. 그와 같이 바람직한 샹태로 설정된 현상액은 밸브(352)를 통하여 제 1 노즐(N1)로 공급된다. 노즐(N1)은 스핀척(334)에 의하여 유지되고 소정의 속도로 회전하는 웨이퍼 W 상에 소정량 토출한다. 현상액이 웨이퍼 W 상에 소정량 토출될 때, 밸브(352)가 폐쇄된다.
현상액은 웨이퍼 W 상에 작용하는 원심력에 근거하여 웨이퍼 W 의 표면에 확산되며 웨이퍼의 표면상에 균일하게 도포된다. 그리고, 척 드라이브(336)는 스핀척(334)의 회전을 중지하고, 웨이퍼 W 가 중지된다. 웨이퍼 W 는 소정시간동안 정지된 채로 유지되며, 그 동안 웨이퍼상의 레지스트막이 현상액으로 현상된다.
그 후에, 척 드라이브(336)는 다시 스핀척(334)를 회전하여 웨이퍼 W를 회전한다. 노즐홀더(346)가 이동하여, 제 2 노즐(N2)을 웨이퍼 W 바로 위의 액토출위치로 가져간다. 린스액(즉, 순수한 물)이 제 2 노즐(N2)로 린스액 공급원(도시않됨)으로부터 공급된다. 노즐(N2)은 린스액을 웨이퍼 W 상에 소정량 토출하여, 웨이퍼 W 로부터 현상액을 제거한다. 린스액은 웨이퍼 W 상에 작용하는 원심력에 의하여 웨이퍼 W 로부터 배제된다. 웨이퍼 W 는 그에 의하여 건조된다.
소정시간 경과후에, 제어기(338)는 척 드라이브(336)로 제어신호를 인가한다. 신호에 응답하여, 척드라이브(336)는 스핀척(334)을 정지하고, 웨이퍼 W 가 정지된다. 웨이퍼 W 가 스핀척(334)으로부터 빼내지고 제 1 현상장치(128')로부터 다른 시스템으로 반송되며, 그 곳에서 다음 공정이 수행된다.
웨이퍼 W 가 제 1 현상장치(128')로부터 반송된 후에, 다음 웨이퍼 W 는 제 1 현상장치(128')로 반송되고 스핀척(334)에 의하여 유지된다. 상술한 것과 동일한 현상공정이 이 웨이퍼 W 에 대하여 수행된다.
현상공정이 웨이퍼 W 에 대하여 하나씩 수행됨에 따라서, 제 1 현상장치(128')내에서는, 현상액이 제 1 중간탱크(368)내에서 점차적으로 감소된다. 액면이 하한레벨 L 에 가까운 레벨로 떨어진 것을 레벨센서(404)가 검출하고, 제 1 노즐(N1)이 웨이퍼 W 에 현상액을 토출하지 않는 동안, 제어기(338)는 밸브(364)를 폐쇄한다. 소정시간의 경과후, 제어기(338)는 밸브(366)를 개방한다. 결과적으로, 현상공정을 중지하지 않고서, 제 1 중간탱크(368)로부터 제 2 중간탱크(370)로의 전환이 달성된다.
그 후, 제 2 중간탱크(370)로부터 제 1 현상장치(128')로 현상액이 공급된다. 현상액이 제 2 중간탱크(370)로부터 제 1 현상장치(128')공급되는 동안, 현상액면이 상한레벨 H 로 상승할 때까지 제 1 중간탱크(369)내로 현상액이 보충된다. 제 1 중간탱크(368)내의 현상액은 탱크(368)내로 보충되고 상한레벨 H 로 액면이 상승한 후에도 탈기된다. 그리고, 중간탱크(368)내로 불활성가스가 도입되고, 탱크(368)를 소정의 압력으로 가압하며, 따라서 현상액이 양쪽 현상장치(128') 및 (129')로 공급될 수 있다. 제 2 중간탱크(370)내의 액면이 하한레벨 L 에 가까운 레벨로 떨어진 것을 레벨센서(404)가 검출하고, 제 1 노즐(N1)이 웨이퍼 W 에 현상액을 토출하지 않는 동안, 제어기(338)는 밸브(366)를 폐쇄한다. 소정시간의 경과후, 제어기(338)는 밸브(364)를 개방한다. 결과적으로, 현상공정을 중지하지 않고서, 제 2 중간탱크(370)로부터 제 1 중간탱크(368)로의 전환이 달성된다.
상술한 바와 같이, 탈기부재(412) 및 (414)는 각각 중간탱크(368) 및 (370)내에 위치하며, 따라서 이들은 탱크(368) 및 (370)내에 담겨진 현상액내에 침지된다. 부재(412) 및 (414)들은 따라서 높은 효율로 현상액을 탈기한다. 부가적으로, 부재(412) 및 (414)는 탄성튜브이므로, 나선형상으로 구부러져 있으므로, 레벨센서(404) 및 (406)는 중간탱크(368) 및 (370)내에 다른 것에 비하여 용이하게 배치될 수 있다. 또한, 각 탈기부재는, 나선형 선재(418)가 탈기부재내에 삽입되므로, 현상액을 탈기하기 위하여 진공흡인 유니트(430)에 의하여 감압될 때 찌그러지지 않는다.
본 발명의 제 4 실시예에 따른 액공급기구를 기술한다. 이 기구는 중간탱크(368) 및 (370)가 도 11 에 나타낸 방식의 탈기부재(500)를 각각 가지는 점을 제외하고는 도 8에 나타낸 것과 동일하다. 제 1 중간탱크(368)내에 마련된 탈기부재(500)에 대하여만 도 11 및 도 12를 참조하여 기술한다.
도 12에 나타낸 바와 같이, 탈기부재(500)는 탄성시이트(502) 및 와이어 메쉬(506)를 포함하여 구성된다. 시이트(502)는 PTFE, PFA 또는 FEP 등과 같이 기체는 통과하지만 액체는 통과하지 않는 재료로 만들어진다. 이들 층은 함께 접합되어 공간(504)을 형성한다. 와이어 메쉬(506)는 공간(504)내에 삽입되어, 부재(500)가 제 1 중간탱크(368)내의 현상액을 탈기하기 위하여 감압될 때 찌그러지는 것을 방지한다.
탄성시이트(502)는 분기파이프(420)의 한끝단에 그의 한쪽모서리가 접속된다. 분기파이프(420)의 다른 끝단은 밸브(422)로 접속된다. 분기파이프(420)는 공간(504)과 연이어 통한다. 시이트(502)는 도 1 에 나타낸 바와 같이 나선형상으로 권취된다. 근방의 권회된 시이트와의 사이는 스페이서(508)의 수단에 의하여 소정의 간격으로 떨어져 있다.
탈기부재(500)는 중간탱크(368)내에 배치되며, 그의 상부는 상한레벨 H 의 약간 아래쪽에 위치되며 그의 하부끝단은 중간탱크(368)의 바닥근방에 위치된다. 따라서, 현상액과 접촉하는 부재(500)의 표면영역(이하 "탈기영역"이라 함)은, 현상액이 탱크(368)내에서 상한레벨 H 까지 채워졌을 때 매우 효율적으로 탈기될 수 있다.
탈기부재(500)는 나선형상으로 권취되어 있기 때문에 큰 탈기면을 가지며, 따라서 나선형 튜브형상인 제 3 실시예의 탈기부재(212)(도 8)보다 효율적으로 현상액을 탈기할 수 있다. 부재(500)는 나선형이기 때문에 탈기부재(212)와 같은 공간을 형성하며, 제 1 레벨센서(404)를 제 1 중간탱크(368)내로 용이하게 배치할 수 있다.
본 발명의 제 5 실시예에 따른 액공급기구를 기술한다. 이 기구는 도 13에 나타낸 방식의 각 3개의 탈기부재를 중간탱크(368) 및 (370)을 담고 있는 점을 제외하고는 도 8에 나타낸 제 3 실시예와 동일하다. 탱크(368) 및 (370)는 구성이 동일하므로, 도 13을 참조하여 제 1 중간탱크(368)만을 설명한다.
도 13에 나타낸 바와 같이, 상한레벨 H, 중간레벨 M 및 하한레벨 L 이 제 1 중간탱크(368)내에 설정된다. 3개의 탈기부재(600a),(600b) 및 (600c)가 중간탱크(368)내에 마련된다. 제 1 탈기부재(600a)는 상한 및 중간레벨 H 및 M 사이에 위치한다. 제 2 탈기부재(600b)는 중간레벨 M 및 하한레벨 L 의 사이에 위치한다. 제 3 탈기부재(600c)는 하한레벨 L 과 탱크(368)의 바닥 사이에 위치된다. 따라서, 탈기부재(600a),(600b) 및 (600c)는 수직방향으로 중복되지 않는다.
탈기부재(600a),(600b) 및 (600c)는 제 3 실시예에서 사용된 탈기부재(412)(도 8)과 동일한 구성을 가진다. 이들은 공간을 제공하며, 중간탱크(368)내의 레벨센서(404)를 배치하는 것이 용이하다.
분기파이프(602), (604) 및 (606)들은 한끝단에서 탈기부재(600a), (600b) 및 (600c)와 접속되며, 한끝단에서는 밸브(608),(610) 및 (612)에 의하여 배액파이프(424)에 각각 접속되어 있다. 밸브(608),(610) 및 (612)들은 상호간에 독립적으로 개폐된다. 각 밸브는 제어기(338)에 의하여 발생되고 레벨센서(404)가 검출한 현상액의 액면레벨을 나타내는 제어신호에 의하여 자동적으로 제어된다.
상한레벨 H 까지 탱크(368)를 채운 현상액을 탈기하기 위하여, 밸브(608),(610) 및 (612)가 개방된다. 모든 탈기부재(608),(610) 및 (612)가 진공흡인 유니트(430)에 의하여 감압된다. 소정의 현상액이 탱크(368)로부터 공급되고, 웨이퍼 W 에 현상액이 공급되지 않는 동안 현상액을 탈기하기 위하여 밸브(608),(610) 및 (612)가 다음과 같이 개폐된다.
레벨센서(404)가, 현상액면이 상한레벨 H 와 중간레벨 M 의 사이에 있는 것을 검출하였을 때는, 제어기(338)가 제어신호를 발생하여 밸브(610) 및 (612)를 개방하고, 밸브(608)는 폐쇄된 채로 있게 된다. 따라서, 탈기부재(600b) 및 (600c)가 현상액을 탈기하고, 탈기부재(600a)는 탈기를 하지 않는다. 레벨센서(404)가, 현상액면이 중간레벨 M 과 하한레벨 L 의 사이에 있는 것을 검출하였을 때에는, 제어기(338)가 제어신호를 발생하여 밸브(612)만을 개방한다. 이 경우에, 탈기부재(600c)만이 현상액을 탈기한다. 다시 말해서, 현상액중에 완전히 침지된 탈기부재만이 현상액의 탈기를 행하게 되는 것이다. 이는, 현상액이 효과적으로 탈기됨을 의미한다.
도 8에 나타낸 제 3 실시예에 있어서, 탈기부재(412) 및 (414)들은 나선형 튜브이다. 도 11에서 나타낸 제 4 실시예에서, 탈기부재(500)는 나선형으로 권취된 탄성 시이트였다. 그럼에도 불구하고, 부재(412),(414) 및 (500)는 높은 효율로 현상액을 탈기하기 위하여 웨이퍼 W 상에 가해지는 현상액의 종류에 따라서 탈기하도록 재설계될 수 있다. 각 탈기부재(412),(414) 및 (550)의 각각의 권회수는 중간탱크(368)의 형상 및 현상액으로부터 제거되어야 하는 기체의 양에 따라서 변화될 수 있다.
도 13에 나타낸 제 5 실시예에 있어서, 탈기부재(600a),(600b) 및 (600c)들은 제 3 실시예내에 결합된 탈기부재(412) 및 (414)의 형상과 대략 동일하다. 그러나, 부재(600a),(600b) 및 (600c)들은 제 4 실시예에서 사용된 탈기부재(500)와 유사한 탈기부재로 대체될 수 있다. 또한 탈기부재는 본 발명에서 상술한 것이외의 형상이 사용될 수 있다. 제 5 실시예는 3개의 탈기부재(600a),(600b) 및 (600c)의 대신에 2개의 탈기부재 또는 적어도 4개의 탈기부재를 가질 수 있다.
제 3 내지 제 5 실시예들은 2개의 현상장치(128') 및 (129')로 현상액을 공급하기 위한 것이다. 그러나, 제 3 내지 제 5 실시예들은 다양한 도포장치에 액체를 공급하는데 사용될 수 있다. 또한, 액체를 공급하는 대상은 웨이퍼에 한정되지 않는다. 대상물은 예를 들어 LCD 의 글래스기판일 수 있다.
또한, 제 3 내지 제 5 실시예들은 제 1 및 제 2 실시예에서 사용된 분기파이프(158) 및 (170)와 밸브(160) 및 (174)를 가질 수 있다. 이 경우, 밸브(160) 및 (174)들은 제 1 및 제 2 실시예에서와 같이 제 1 현상장치(128')의 노즐(N1) 및 제 2 현상장치(129')의 노즐(N1)로 현상액을 공급하도록 배타적으로 제어된다.
부가적인 장점 및 변형이 당업자에게 용이하게 가능하다. 따라서, 본 발명은 그의 포괄적인 형태에서 본 명세서에 나타내고 기술한 대표적인 실시예 및 특정한 내용에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 첨부된 특허청구의 범위 및 이들의 등가물에 의하여 규정되는 포괄적인 발명개념의 요지에서 벗어나지 않고서 다양한 변형이 가능하다.
본 발명의 실시형태에 따른 기구에서는, 장치의 액공급부재가 현상액을 기판에 가하도록 유지되면서 상한 및 하한레벨의 사이의 레벨로 현상액이 보충되도록 탱크내에 상한레벨 및 하한레벨이 설정되며, 어느 장치도 기판에 현상액을 토출하지 않는 채로 현상액이 탱크로 공급될 수 있다. 따라서, 기판으로 현상액을 토출하는 것을 방해하지 않고서 탱크내에 액체가 보충될 수 있다. 이는, 각 액토출장치의 수율을 증가한다.
또한, 각 탈기부재가 액체내에 완전히 침지되어 있는지의 여부를 액체의 검지된 표면으로부터 결절할 수 있으며, 액체내에 완전히 침지된 것으로 판명된 탈기부재만이 액체를 탈기하도록 감압된다. 따라서 액체는 자동적으로 고효율로 탈기될 수 있다.
도 1은, 2개의 동일한 현상장치 및 그 현상장치용으로 마련된 본 발명의 제 1 실시예에 의한 한 개의 처리액공급기구가 결합된 레지스트도포현상 시스템의 사시도이다;
도 2는, 도 1에 나타낸 현상장치중의 하나를 나타내는 개략적인 단면도이다;
도 3은, 도 2에 나타낸 시스템내에 결합된 현상액공급기구의 개략적인 설명도이다;
도 4는, 도 3에 나타낸 현상액공급기구의 밸브가 개폐될 때를 나타내는 타이밍챠트이다;
도 5는, 본 발명의 제 2 실시예인 액공급기구의 개략적인 설명도이다;
도 6은, 도 5의 기구에 마련된 밸브가 개폐될 때를 나타내는 타이밍 챠트이다;
도 7은, 도 2에 도시한 현상장치 대신에, 도 1 에 나타낸 레지스트 도포현상시스템내에 결합된 2개의 동일한 현상장치중의 한 개를 나타내는 개략적인 단면도이다;
도 8은, 본 발명의 제 3 실시예인 도 7 내에 나타낸 현상장치로 현상액을 공급하는 액공급기구를 나타내는 개략적인 도면이다;
도 9는, 도 8에 나타낸 액공급기구내에 결합된 동일한 탈기부재중의 한 개의 일부를 나타낸다;
도 10은, 도 9에서 도시된 탈기부재의 사시도이다;
도 11은, 본 발명의 제 4 실시예에 따른 액공급기구내에서 사용된 탈기부재중의 하나의 사시도이다;
도 12는, 도 11에서 나타낸 탈기부재의 개략적인 사시도이며;
도 13은, 본 발명의 제 5 실시예에 따른 액공급기구내에서 사용된 탈기부재중의 하나를 나타내는 도면이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
100 : 레지스트 도포현상 시스템 102 : 카세트 스테이션
104 : 제 1 반송아암 106 : 반송기구
108 : 반송로 110 : 제 2 반송아암
112 : 제 1 아암경로 114 : 제 2 아암경로
116 : 브러시 세정장치 118 : 웨이퍼 세정장치
120 : 어드히젼 장치 122 : 냉각장치
124 : 레지스트 도포장치 126 : 가열장치
128, 129, 128', 129' : 현상장치
128a : 케이싱 132 : 처리실
134 : 스핀척 136 : 척 드라이버
138 : 드라이버 제어기 140 : 배액파이프
142 : 배액탱크 144, 146 : 노즐 홀더
148 : 레일 150, 152 : 배액팬
154, 156 : 배액파이프 158 : 분기파이프
160, 174, 178, 184, 184a, 190, 199a, 204, 208, 364, 366, 376, 378, 422, 428, 608, 610, 612 : 밸브
162, 176, 350 : 공급파이프 164 : 열교환기
166 : 필터 168 : 유량조절기
170 : 탱크
172, 200, 202, 360, 362, 384, 386, 372, 374, 420, 426, 602, 604, 606 : 분기파이프
182 :파이프 186 : 가스공급원
188 : 배액파이프 192, 430 : 진공흡인 유니트
210 : 제 2 탱크 212 : 제어기
332 : 처리실 334 : 스핀척
336 : 척 드라이브 338 : 드라이브 제어기
340 : 배액파이프 342 : 배액탱크
344, 346 : 노즐홀더 348 : 레일
354 : 열교환기 356 : 필터
358 : 유량조절기 368, 370 : 중간탱크
382 : 현상액 공급원 400 : 공급파이프
402 : 가스공급원 404, 406 : 레벨센서
408, 410 : 압력센서
412, 414, 500, 600a, 600b, 600c : 탈기부재
502 : 탄성 시이트 504 : 공간
506 : 와이어 메쉬 508 : 스페이서

Claims (9)

  1. 기판을 처리하기 위하여 기판에 처리액을 토출하는 다수개의 처리장치로 처리액을 공급하는 액체공급기구로서:
    처리액를 담고 있는 적어도 한 개의 탱크와;
    탱크부터의 처리액를 처리장치측에 공급하는 공급경로와;
    처리장치내에 마련된 처리액토출부재로 처리액을 공급하기 위하여 상기 공급경로에 접속된 분기경로; 및,
    하나의 처리장치의 처리액 토출부재가 기판에 처리액을 토출하는 동안 다른 장치의 처리액 토출부재가 기판에 처리액을 토출하도록 상기 분기경로를 개폐하기 위하여 상호간에 제어되며, 각각 상기 분기경로상에 마련되는 밸브를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 기구.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 탱크에는 상한레벨(H) 및 하한레벨(L)이 설정되어, 상기 처리장치의 처리액 토출부재가 기판으로 처리액을 토출하는 동안, 상한레벨과 하한레벨의 사이이 레벨로 처리액이 보충되도록 하는 기구.
  3. 기판을 처리하기 위하여 기판에 처리액을 토출하는 다수개의 처리장치로 처리액을 공급하는 액체공급기구로서:
    처리액를 담고 있는 다수개의 탱크와;
    탱크부터의 처리액를 처리장치측에 공급하는 공급경로와;
    상기 탱크중의 하나로부터 상기 탱크의 다른 하나로의 전환을 위한 전환기구와;
    처리장치내에 마련된 처리액토출부재로 처리액을 공급하기 위하여 상기 공급경로에 접속된 분기경로; 및,
    하나의 처리장치의 처리액 토출부재가 기판에 처리액을 토출하는 동안 다른 장치의 처리액 토출부재가 기판에 처리액을 토출하도록 상기 분기경로를 개폐하기 위하여 상호간에 제어되며, 각각 상기 분기경로상에 마련되는 밸브를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 기구.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 탱크의 외부에 마련된 배액수단과;
    처리액내에 침지되어 있으면서 상기 탱크내에 담겨있는 처리액을 탈기하기 위하여 각각 상기 탱크내에 마련되며, 기액분리재료로 만들어진 본체 및 그 본체내에 공간을 제공 및 유지하기 위하여 그 공간내에 삽입된 공간유지부재를 포함하여 구성되는 다수개의 탈기부재 및;
    상기 공간을 상기 배액수단으로 접속하는 배액경로를 더욱 포함하여 구성되는 기구.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 탈기부재의 각각의 본체는 탄성튜브인 기구.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 탈기부재의 각각은 나선형으로 굽어져 있는 기구.
  7. 제 3 항에 있어서, 상기 탱크의 외부에 마련된 배액수단과;
    처리액내에 침지되어 있으면서 상기 탱크내에 담겨있는 처리액을 탈기하기 위하여 각각 상기 탱크내에 마련되며, 기액분리재료로 만들어진 시이트형상의 본체와, 그 본체내에 공간을 제공 및 유지하기 위하여 그 공간내에 삽입된 공간유지부재, 및 상기 본체가 말아졌을 때 말려진 본체의 면이 일정한 간격으로 유지되도록 하는 간격유지부재를 포함하여 구성되는 다수개의 탈기부재 및;
    상기 공간을 상기 배액수단으로 접속하는 배액경로를 더욱 포함하여 구성되는 기구.
  8. 제 3 항에 있어서, 상기 탱크의 외부에 마련된 배액수단과;
    처리액내에 침지되어 있으면서 상기 탱크내에 담겨있는 처리액을 탈기하기 위하여 상기 각 탱크내에 마련되며 그의 꼭대기부가 상이한 레벨에 있도록 위치하고, 기액분리재료로 만들어진 본체와 및 그 본체내에 공간을 제공 및 유지하고 그 본체내에 삽입된 공간유지부재를 포함하여 구성되는 다수개의 탈기부재 및;
    상기 공간을 상기 배액수단으로 접속하는 배액경로를 더욱 포함하여 구성되는 기구.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 탱크내에 담겨진 처리액의 액면을 검출하기 위하여 각각 상기 탱크내에 마련되는 다수개의 레벨센서 및, 상기 배액경로를 개폐하기 위한 제어기를 더욱 포함하여 구성되는 기구.
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