JP2003110007A - ステージ装置、保持装置、及び露光装置 - Google Patents
ステージ装置、保持装置、及び露光装置Info
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- JP2003110007A JP2003110007A JP2001305735A JP2001305735A JP2003110007A JP 2003110007 A JP2003110007 A JP 2003110007A JP 2001305735 A JP2001305735 A JP 2001305735A JP 2001305735 A JP2001305735 A JP 2001305735A JP 2003110007 A JP2003110007 A JP 2003110007A
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Abstract
振動のステージへの伝達を抑え、ステージ位置決め精度
に優れたステージ装置及び露光装置を提供する。 【解決手段】 基板ステージは、Xステージ8と、Xス
テージ8に接続し用力を伝達する用力ケーブルKと、一
端をXステージ8に接続するとともに他端をYステージ
に接続し、用力ケーブルKを保持してXステージ8の移
動方向に沿って移動するケーブルベア(登録商標)20
とを備え、Xステージ8とケーブルベア(登録商標)2
0との間には弾性体31を有する防振部材30が介在さ
れている。弾性体31が変形することによりケーブルベ
ア(登録商標)20で発生した振動は減衰されるので、
Xステージ8に伝達される振動は抑えられる。
Description
装置、及び露光装置に関し、特に液晶表示素子、半導体
素子、薄膜磁気ヘッド等のデバイスを製造するためのリ
ソグラフィ工程に用いて好適なステージ装置、保持装
置、及び露光装置に関する。
に形成されたパターンを基板上に転写する、いわゆるフ
ォトリソグラフィの手法により製造される。このフォト
リソグラフィ工程で使用される露光装置は、基板を載置
して2次元移動する基板ステージとパターンを有するマ
スクを載置して2次元移動するマスクステージとを有
し、マスク上に形成されたパターンをマスクステージ及
び基板ステージを逐次移動しながら投影光学系を介して
基板に転写するものである。
ン全体を同時に転写する一括露光型露光装置と、マスク
ステージと基板ステージとを同期走査させつつマスクパ
ターンを連続的に基板上に転写する走査露光型露光装置
との2種類が主に知られている。いずれの露光装置にお
いてもマスクと基板との相対位置を高精度に一致させて
マスクパターンの転写を行うことが要求されるため、マ
スクステージ及び基板ステージの位置決め精度は露光装
置の最も重要な性能の一つである。
下、両者を総称してステージという)には、基板及びマ
スクを吸着するための真空配管、ステージ内に設置され
ている各種駆動機構への電力供給ケーブル、ステージに
設置された各種センサの信号線、ステージを摺動可能と
するエアベアリングに使用する圧縮空気配管等(以下、
用力ケーブルという)の接続が不可避である。しかしな
がら、用力ケーブルをランダムに接続し、様々な方向に
引き出したのでは各用力ケーブルの張力が複雑に働き合
い、ステージの移動に支障を来すこととなる。
ジには、用力ケーブルを保持し、ステージ移動に伴って
所定の運動軌跡を移動するように案内する保持装置、い
わゆるケーブルベアが使用されている。従来、ケーブル
ベアとしては図13に示すようなものが使用されてい
た。図13に示すケーブルベア20は、複数の単位部材
21を回転軸22によって連続的に連結し、これにより
用力ケーブルKを保持するものである。ケーブルベア2
0はU字型に屈曲されて使用され、一端をステージST
に、他端をステージSTとは別の部材Bに固定される。
図14はケーブルベア20の一端とステージSTとの連
結部の拡大図である。図14に示すように、ケーブルベ
ア20の一端には第1の取付金具150がねじ150a
によって固定されており、ステージSTには第2の取付
金具151がねじ151aによって固定されている。そ
して、第1の取付金具150と第2の取付金具151と
は固定されており、これによりケーブルベア20がステ
ージSTに固定される。また、用力ケーブルKは、第1
の取付金具150に取り付けられたクランプ部材152
によって保持されている。同様に、図示はしないが、ケ
ーブルベア20の他端も部材Bに固定されている。
Tの移動に伴い所定の屈曲半径Rを維持しつつ屈曲位置
を変えながら用力ケーブルKを保持し案内するが、その
運動軌跡は単位部材21自体に形成されたストッパ27
(図15参照)によって規定される。ここで、図15を
参照しながらケーブルベア20を構成する単位部材21
について説明する。図15に示すように、ケーブルベア
20を構成する単位部材21は、対向する2枚の長円形
の板状部材23と、板状部材23を連結する2枚の連結
板24とから構成され、板状部材23と連結板24とに
より口の字型の開口を形成する。用力ケーブルKはこの
口の字型の開口で保持される。板状部材23の両端部は
半円形に形成されており、一方の半円の中心には回転軸
22が形成され、もう一方の中心には軸受25が形成さ
れている。回転軸22と軸受25とが嵌合することによ
り単位部材21は回動可能となる。単位部材21のう
ち、回転軸22が形成されている側の半円端部の外面に
は切欠部26が形成されており、板状部材23の内面に
はストッパ27が形成されている。そして、隣り合う単
位部材21どうしの回転軸22と軸受25とを嵌合し、
単位部材21のそれぞれを連結して回動させる際、スト
ッパ27に切欠部26が当たることによって、単位部材
21の回動範囲が規定される。
成されたストッパ27によってケーブルベア20の運動
軌跡が規定される。ケーブルベア20はストッパ27と
切欠部26とが当たることによりステージSTに付設し
た位置より上方に膨らむことはなく、自重や用力ケーブ
ルKの重量で垂れることもない。
20を使用することより用力ケーブKの運動軌跡を規定
し、スムーズな移動を確保していた。これは一般の工作
機械や搬送機械等でも通常用いられる技術である。
たケーブルベア20においてはステージSTの移動に伴
い屈曲位置が移動する際、隣り合う単位部材21どうし
の切欠部26とストッパ27とが連続的に衝突する。そ
して、ケーブルベア20とステージSTとは、図14に
示したようにねじや金具などの剛性部材を用いて固定さ
れているため、その衝撃(振動)がステージSTに直接
伝達される。また、用力ケーブルKはクランプ部材15
2で固定されているため、ケーブルベア20との擦れな
どに起因する用力ケーブルKの振動もクランプ部材15
2及び取付金具150,151を介してステージSTに
伝達される。露光装置のステージは極めて高精度な位置
決め精度を要求されることから、一般の工作機械や搬送
機械ではあまり問題とならないこの振動がステージの位
置決め精度の劣化及びステージ位置決め静定時間の長時
間化を招くという不都合があった。
にあたり、マスクステージと基板ステージとは常に高精
度に同期して走査する必要がある。(このマスクステー
ジと基板ステージとの同期走査性能を同期精度と呼
ぶ。)走査露光中に基板ステージに衝撃による振動が加
わった場合、基板ステージが予測不可能に大きく振動
し、マスクステージがこれに追従しきれず追従誤差が残
留する。このため、ごく短時間ではあるが両ステージの
相対位置関係にずれを生じ、同期精度が悪化する。この
露光時間帯はマスクパターンが基板に完全に転写(感
光)される前にマスクパターン像が基板に対してずれて
しまうので、基板に投影されるマスクパターン像のコン
トラストが低下しており、基板に形成された転写像は所
望のパターン線幅を得られない場合がある。微細な線幅
のパターンの場合には解像しないおそれすらあり、液晶
表示装置、半導体素子等に重大な欠陥を招来する。
持装置から発生する振動のステージへの伝達を抑え、ス
テージ位置決め精度及び解像力の劣化を引き起こすこと
のないステージ装置及び露光装置を提供することを第1
の目的とする。また、ステージ移動によって生じる振動
のステージへの伝達を抑え、円滑に用力ケーブルを保持
する保持装置を提供することを第2の目的とする。
め本発明は、実施の形態に示す図1〜図12に対応付け
した以下の構成を採用している。本発明のステージ装置
(PST,MST)は、移動可能な第1部材(8)と、
第1部材(8)に接続し用力を伝達する用力伝達装置
(K)と、一端を第1部材(8)に接続するとともに他
端を第1部材(8)と異なる第2部材(9)に接続し、
用力伝達装置(K)を保持して第1部材(8)の移動方
向に沿って移動する保持装置(20)とを備え、第1部
材(8)と第2部材(9)との少なくとも一方と保持装
置(20)との間に弾性体(31,36,37,39,
65)を介在させることを特徴とする。本発明によれ
ば、第1部材と第2部材との少なくとも一方と保持装置
との間に弾性体を介在させたことにより、第1部材の移
動によって保持装置から発生する振動は弾性体で減衰さ
れるので、第1部材あるいは第2部材への伝達を抑える
ことができる。
の弾性変形方向を第1部材(8)の移動方向に沿って配
置されるとともに、第1部材(8)の移動方向と交わる
方向に並列に複数設けられている。このため、保持装置
と第1部材あるいは第2部材とは安定して接続されると
ともに、第1部材の移動方向と交わる方向への保持装置
の揺動も抑えられる。
37,39)は弾性領域内で所定量圧縮されている。こ
のため、振動が弾性体の弾性変形方向に対していずれの
方向に作用した際にも、弾性体は安定した除振性能を発
揮する。
連結し凹部(51A)を有する第1連結部材(51)
と、第1部材(8)又は第2部材(9)に連結し凹部
(52A)を有する第2連結部材(52)と、第1連結
部材(51)と第2連結部材(52)とを接続するばね
部材(53)とを有し、弾性体は、第1連結部材(5
1)及び第2連結部材(52)のそれぞれの凹部(51
A,52A)の間に配置される弾性体(36)であるも
のとすることができる。このため、保持装置から振動が
発生しても、第1連結部材の凹部と第2連結部材の凹部
とに狭持された弾性体の変形によって振動が減衰され、
第1部材あるいは第2部材に伝達される振動を抑えるこ
とができる。また、弾性体は第1連結部材と第2連結部
材との間に狭持された構成であるので、保持装置を含む
第1連結部材は第2連結部材に対して回転することがで
きる。したがって、保持装置を第1部材あるいは第2部
材に連結する際の位置調整が容易にできる。
することができ、板ばねの変位によって保持装置から発
生した振動を減衰し、第1部材あるいは第2部材に伝達
されれる振動を抑えることができる。また、保持装置
(20)と第1部材(8)とを接続するロータリダンパ
(65)を設けることによって、ロータリーダンパの回
転方向の変位により振動エネルギーを吸収することがで
きる。
有するとともに、ケーブル(K)は保持装置(20)と
第1部材(8)との間で少なくとも2つの固定部材(4
5,46)で固定されており、2つの固定部材(45,
46)どうしの間に配設されるケーブル(K’)の長さ
は、2つの固定部材(45,46)どうしの間の距離よ
り長く設定されている。このため、2つの固定部材どう
しの間に配設されるケーブルは弛んだ状態となり、ケー
ブルと保持装置との擦れなどに起因して発生するケーブ
ルの振動は、この弛まされた部分において減衰されるの
で、ケーブルから第1部材に伝達される振動を抑えるこ
とができる。
5,46)どうしの間に配設されるケーブル(K’)
は、所定の力を作用した際、2つの固定部材(45,4
6)どうしの間に配設されるケーブル以外の部分(K)
より撓み量が大きく設定されたケーブルである。すなわ
ち、2つの固定部材どうしの間に配設されるケーブル
は、他の部分より柔軟な材質あるいは構造になってお
り、こうすることにより、簡単に弛み状態を作ることが
できるとともに、さらに効果的な振動減衰効果を得るこ
とができる。
部材(21)を回転軸(22)によって回動自在に連結
したものであるため、ケーブルを円滑に案内できる。そ
して、単位部材(21)どうしの衝突によって振動が発
生しても、上述した弾性体によって振動を効果的に減衰
できる。
動可能な第1部材(8)と第2部材(9)とを連結し
て、第1部材(8)と第2部材(9)とを接続している
線状部材(K)を保持する保持装置において、第1部材
(8)と第2部材(9)との少なくとも一方と、保持装
置(20)との連結部(100)に弾性体(31,3
6,37,39,65)を有することを特徴とする。本
発明によれば、第1部材あるいは第2部材との連結部に
弾性体を設けたことにより、保持装置から発生する振動
は弾性体で減衰されるので、第1部材あるいは第2部材
への振動の伝達を抑えることができる。
ージ(MST)に保持されたマスク(M)のパターンを
基板ステージ(PST)に保持された基板(P)に露光
する露光装置において、マスクステージ(MST)と基
板ステージ(PST)との少なくとも一方には、上記ス
テージ装置が用いられていることを特徴とする。本発明
によれば、保持装置から発生した振動は弾性体で減衰さ
れるので、ステージに対する振動の影響を抑えることが
できる。したがって、ステージ位置決め精度が高度に保
たれ、またステージ静定時間が短いので処理能力(スル
ープット)に優れ、更に結像性能においても安定した性
能を発揮する。
持装置、露光装置について図面を参照しながら説明す
る。図1は本発明に関する保持装置を有する走査型露光
装置の全体構成図である。図1において、露光装置EX
は、マスクステージ(ステージ装置)MSTに保持され
ているマスクMを露光光で照明する照明光学系IUと、
露光光で照明されたマスクMのパターンを基板ステージ
(ステージ装置)PSTに保持されている感光性の基板
Pに投影する投影光学系PLとを備えている。なお図1
では走査型露光装置として液晶表示素子パターンを露光
する液晶表示素子露光用の走査型露光装置を図示してい
る。
された露光光を均一化し整形し、この露光光を液晶表示
素子パターンが形成されたマスクMに照射する。光源と
してはg線、h線、i線等の紫外線域の輝線や、エキシ
マレーザーが用いられる。なお、後述するように投影光
学系PLを複数用いた場合には、複数の投影光学系PL
の数に応じて照明光学系IUも複数用いればよい。
着により保持し、マスク保持面に対して平行に2次元的
に移動可能である。また、マスクステージMSTは摺動
装置としてエアベアリング(不図示)を有し、不図示の
駆動装置によりマスク保持面に平行なX方向(紙面に平
行な方向)に走査可能であるとともに、X方向と直交し
マスク保持面に平行なY方向にも微動可能である。X方
向の駆動装置としてはムービングコイル型リニアモータ
を使用するのが望ましい。マスクステージMSTの位置
は、マスクステージ干渉計5によって位置計測される。
マスクステージ干渉計5はマスクステージMSTの位置
をnmオーダーで計測可能である。
光をレジスト(感光剤)の塗布された基板P上に投影
し、マスクMに形成されたパターンを角型のガラスプレ
ートである基板Pに転写する。投影光学系PLの投影倍
率は等倍、1/4倍、1/5倍等の各種の倍率が用いら
れる。投影倍率は縮小倍率に限らず、拡大倍率でも構わ
ない。投影光学系PLとしては光軸に沿って光学部品を
複数配置した屈折光学系や、反射光学系を一部に有する
ダイソン型光学系を使用することができる。投影光学系
PLは一つに限らず、複数搭載することができる。たと
えば、露光光を複数の台形状に成形しこれらをそれぞれ
投影する複数のダイソン型光学系を、投影された台形状
の露光領域の上底がY軸(非走査方向)と平行になるよ
うに2列に配置し、かつ第1列の台形の斜辺部分と第2
列の台形の斜辺部分とがX方向(走査方向)からみて重
なるように千鳥状に配置することができる。このように
複数の投影光学系PLの露光領域を部分的に重ねること
により、大型の基板P(たとえば1000mm×100
0mm)に前述の液晶表示素子パターンを露光すること
ができる。
は、それぞれ第1コラム1及び第2コラム2によって支
持される。第1コラム1は定盤3上に設置され投影光学
系PLを支持し、第2コラム2はその上面にマスクステ
ージMSTが移動する案内面を形成され、第1コラム1
上に設置される。
に移動する案内面を形成されており、防振台4上に設置
される。防振台4は、床からの振動が定盤3に伝達する
ことを防ぐため防振パッドを用いている。また、防振台
4は床振動の伝達を抑えるとともにマスクステージMS
T及び基板ステージPSTの走査による振動を制振する
ために、エアパッドと電磁アクチュエータ及び定盤3の
位置や加速度を計測するセンサとを組み合わせて構成
し、能動的に除振するシステムとしても構わない。
方に配置され、基板Pを真空吸着により保持して2次元
に移動する。基板ステージPSTの位置は、基板ステー
ジ干渉計6によって計測される。基板ステージ干渉計6
は基板ステージPSTの位置をnmオーダーで計測でき
る。
STはステージ制御装置7により動作制御が行われ、ス
テージ制御装置7を含む本露光装置の全ての制御装置
は、主制御装置MPにより動作制御が行われる。
Tの詳細を示す図であり、以下、図2に沿って基板ステ
ージPSTの構成について詳細に説明する。基板ステー
ジPSTは、定盤3上に形成された案内面と平行なY方
向に摺動可能なYステージ9と、Yステージ9上をY方
向と直交し案内面と平行なX方向に摺動可能なXステー
ジ8とから構成される。Xステージ8、Yステージ9の
いずれも摺動装置としてエアベアリング(不図示)が用
いられる。また、Xステージ8及びYステージ9は駆動
装置10、11により各軸方向に駆動可能である。駆動
装置10、11としては、リニアモータを使用すること
ができる。
部材)8に接続し用力を伝達する用力ケーブル(用力伝
達装置、用力伝達ケーブル、線状部材)Kと、一端をX
ステージ(第1部材)8に付設するとともに他端をYス
テージ(第2部材)9に付設したXケーブルベア(保持
装置)20Xとを備えている。更に、基板ステージPS
Tは、Yステージ(第1部材)9に接続し用力を伝達す
る用力ケーブルKと、一端をYステージ(第1部材)9
に付設するとともに他端を定盤(第2部材)3に付設し
たYケーブルベア(保持装置)20Yとを備えている。
用力ケーブルKは、基板Pを吸着するための真空配管、
ステージ8,9に設置された各種センサの信号線、Xス
テージ8内に設置されているZ方向駆動機構への電力供
給ケーブル、ステージ8,9を摺動可能とするエアベア
リングに使用する圧縮空気配管等の用力ケーブルであ
る。ここで、以下の説明において、Xステージ8とYス
テージ9とを連結するXケーブルベア20Xと、Yステ
ージ9と定盤3とを連結するYケーブルベア20Yとを
合わせて適宜、ケーブルベア(保持装置)20と称す
る。
用いて説明した構成と同等の構成を有する。すなわち、
ケーブルベア20は、複数の単位部材21を回転軸22
によって回動自在に連結したものであって、ストッパ2
7の位置・形状に基づく運動軌跡で用力ケーブルKを保
持しながらXステージ8(またはYステージ9)の移動
方向に沿って屈曲位置を変えながら移動する。そして、
ケーブルベア20においては、ステージ8,9の移動に
伴って切欠部26とストッパ27とが当たり、振動が発
生する。
明の基板ステージPSTの特徴的な部分であるケーブル
ベア20とステージとの連結部について説明する。以下
の説明ではXケーブルベア20XとXステージ8との連
結部について説明するが、Xケーブルベア20XとYス
テージ9との連結部、Yケーブルベア20YとYステー
ジ9との連結部、あるいはYケーブルベア20Yと定盤
3との連結部としてもよい。
の基板ステージ(ステージ装置)PSTの第1実施形態
について説明する。図3は基板ステージPSTのXステ
ージ8とケーブルベア20との連結部100を−Y側か
ら見た拡大図であり、図4は+Z側から見た図である。
図3及び図4に示すように、基板ステージPSTの連結
部100において、ケーブルベア20とステージ8との
間には、弾性体31を有する防振部材30が介在してい
る。防振部材30は、図5に示すように、円柱形の弾性
体31と、弾性体31の両端に接着剤で接着された金属
からなる円形の板部32と、弾性体31の周囲に設けら
れたばね部材33とを備えている。円柱形の弾性体31
はその軸線方向を弾性変形方向としている。ばね部材3
3は弾性体31に対して離間しつつ弾性体31を巻くよ
うに配置され、その両端を2つの板部32のそれぞれに
接着剤で接着している。また、それぞれの板部32のう
ち弾性体31と接着している面と反対側には、おねじ3
4がそれぞれ設けられている。弾性体31はゴムなどの
弾性を有する材質で構成されている。なお、この弾性体
31としては弾性を有する材質であればよく、ゴム以外
の任意の合成樹脂製でもよい。弾性体31の材質は、ケ
ーブルベア20の単位部材21の切欠部26とストッパ
27とが当たった際に発生する振動成分に応じて選択さ
れる。すなわち、ケーブルベア20から発生した振動を
十分に減衰してステージ8に伝達しないように、ケーブ
ルベア20から発生する振動周波数に応じて、最適な弾
性係数及び減衰係数(減衰特性)を有する材質が選択さ
れる。同様に、ばね部材33の弾性係数もケーブルベア
20から発生する振動成分に応じて設定される。なお、
ケーブルベア20から発生する振動成分は、実験的な振
動解析によって求められる。
端には、−Y側から見て逆L字状の第1取付部材(取付
金具)41がねじ50aによって固定されている。一
方、ステージ8には第2取付部材42がねじ50bによ
って固定されている。ここで、第1取付部材41及び第
2取付部材42のそれぞれは、Z方向に延びるように形
成され互いに対向する支持面41a及び支持面42aを
有している。支持面42aは支持面41aより+X側に
配置されている。第2取付部材42には、支持面41a
と支持面42aとの間に配置される支持面43aを有す
る第3取付部材43が固定されている。さらに、第3取
付部材43の下部は−X側に延びており、その先端には
支持面41aの−X側に配置され支持面41aと対向す
る支持面44aを有する第4取付部材44が固定されて
いる。
は複数設けられており、それぞれの弾性変形方向をステ
ージ8の移動方向(X方向)に沿って配置されている。
このうち、支持面41aと支持面43aとの間には1つ
の防振部材30が設けられ、おねじ34とナット35と
によって支持面41a,43aのそれぞれに固定されて
いる。また、支持面41aと支持面44aとの間には2
つの防振部材30がステージ8の移動方向と交わる方向
(Y方向)に並列に設けられ、おねじ34とナット35
とによって支持面41a,44aのそれぞれに固定され
ている。防振部材30をステージ8の移動方向(すなわ
ちケーブルベア20の一端の移動方向)と交わる方向に
並列に複数設けることにより、ケーブルベア20とステ
ージ8とは安定して接続されるとともに、ケーブルベア
20の水平方向への揺動も抑えられる。
は、ケーブルベア20の一端から離れた位置にある防振
部材(つまり支持面41aと43aとの間の防振部材)
30と、この防振部材30よりケーブルベア20に近い
位置にある防振部材(つまり支持面41aと44aとの
間の防振部材)30とが設けられているが、図3に示す
ように、支持面41aと43aとの間に配置されている
防振部材30は、支持面41aと44aとの間に配置さ
れている防振部材30に対して上方(+Z側)に距離B
ずれて配置されている。具体的には、ケーブルベア20
の一端から離れた位置にある防振部材30と近い位置に
ある防振部材30とのそれぞれが、それぞれの軸線のZ
方向における位置をずらし、且つ、それぞれの板部32
を所定量オーバーラップするように配置されるように距
離Bが設定されている。このように、ケーブルベア20
の一端から離れた位置にある防振部材30のZ方向にお
ける位置を、ケーブルベア20に近い位置にある防振部
材30より高く設定したことにより、ケーブルベア20
のY軸まわり方向への移動(回転)を抑えることができ
る。
防振部材30を固定するナット35の巻き締め量の調整
により、弾性領域内で所定量圧縮された状態で連結部1
00に取り付けられている。すなわち、連結部100に
取り付けられた際の防振部材30の軸線方向の長さ(弾
性体31の軸線方向の長さと板部32の厚みとの和)を
A、支持面41aの厚みをC、防振部材30の自然長
(外力が作用されていない状態での防振部材30の軸線
方向の長さ)をL、としたとき、A < 2L+C の
関係が成り立つように設定されている。具体的には、連
結部100に取り付けられた状態での弾性体31は自然
長に対して10〜30%程度圧縮されている。弾性体3
1は所定量圧縮されていることで、ステージ8が+X方
向あるいは−X方向のいずれに移動した際にも安定した
除振性能を発揮する。また、弾性体31を所定量圧縮さ
せておくことにより、ケーブルベア20はステージ8に
連結された位置より上方に盛り上がることなく安定して
支持される。
テージ8との間で2つのクランプ部材(固定部材)4
5,46によって固定されている。このうち、クランプ
部材45は第1取付部材41に固定され、クランプ部材
46は第2取付部材42に固定されている。そして、2
つのクランプ部材45,46どうしの間に配設される用
力ケーブルK’の長さは2つのクランプ部材45,46
どうしの間の距離より長く設定されており、図3に示す
ように、2つのクランプ部材45,46どうしの間に配
設される用力ケーブルK’は弛んだ状態となっている。
用力ケーブルK(K’)をケーブルベア20とステージ
8との間で弛ませておくことにより、ケーブルベア20
との擦れなどに起因して発生する用力ケーブルKの振動
は弛まされた部分において減衰されるので、ステージ8
に伝達されない。
うしの間に配設されるケーブルK’は、所定の力を作用
した際、この2つのクランプ部材45,46どうしの間
に配設される以外の部分のケーブル(すなわちケーブル
K)より撓み量が大きく設定されたケーブルによって構
成されている。つまり、ケーブルK’はケーブルKより
柔軟な材質あるいは構造によって構成されている。具体
的には、用力ケーブルKが基板を吸着するための真空配
管やステージを摺動可能とするエアベアリングに使用す
る圧縮空気配管など気体を通す用力ケーブルの場合に
は、クランプ部材45,46にマニホルドを設け、この
マニホルドを介して、用力ケーブルKとこの用力ケーブ
ルKより柔軟な材質からなる用力ケーブルK’とが接続
される。また、用力ケーブルKがステージ内に設置され
ている各種駆動機構への電力供給ケーブルやステージに
設置された各種センサの信号線など電力を通す用力ケー
ブルの場合には、クランプ部材45,46にコネクタを
設け、このコネクタを介して、用力ケーブルKとこの用
力ケーブルKより柔軟な構造の用力ケーブルK’とが接
続される。この場合の用力ケーブルKは電線を寄り合わ
せたロボット線材などの硬いケーブルであり、用力ケー
ブルK’は一般線材である。用力ケーブルK’を他の部
分である用力ケーブルKより柔軟なものとしたことによ
り、用力ケーブルKで発生した振動を用力ケーブルK’
で減衰できるので、ステージ8に対する振動の伝達を確
実に抑えることができる。なお、用力ケーブルK’は用
力ケーブルKより強度が低く劣化しやすいが、マニホル
ドやコネクタを介して用力ケーブルKに対して接続・離
脱可能なので、劣化したら交換すればよい。
0によれば、ステージ8の移動に伴ってケーブルベア2
0の切欠部26とストッパ27とが当たり、ケーブルベ
ア20から振動が発生しても、連結部100に設けられ
た弾性体31を有する防振部材30によってステージ8
に伝達される振動は減衰される。このとき、防振部材3
0をステージ8の移動方向と交わる方向に並列に複数設
けたことにより、ケーブルベア20とステージ8とは安
定して接続されるとともに、ケーブルベア20の水平方
向への揺動も抑えられる。そして、ナット35を用いて
弾性体31を弾性領域内で予め圧縮しておくことによ
り、ステージ8が+X方向あるいは−X方向のいずれに
移動した際にも安定した除振性能を発揮する。また、用
力ケーブルKをケーブルベア20とステージ8との間で
弛ませておくことにより、用力ケーブルKとケーブルベ
ア20との擦れなどに起因して発生する用力ケーブルK
の振動は弛んだ部分において減衰されるので、用力ケー
ブルKからステージ8に伝達される振動を抑えることが
できる。そして、この弛まされる部分のケーブルK’を
他の部分のケーブルKより柔軟な材質あるいは構造にす
ることにより、簡単に弛み状態を作ることができるとと
もに、さらに効果的な振動減衰効果を得ることができ
る。そして、用力ケーブルKで発生した振動は防振部材
30や弛み状態のケーブルK’で減衰されるので、用力
ケーブルKとしてどのような材質・構造のものを用いて
もよく、用いる用力ケーブルの選択範囲を広げることが
できる。このとき、耐久性の高い用力ケーブルKを選択
することによって用力ケーブルKの交換期間が長くなる
ので低コスト化が実現される。
ージ装置の第2実施形態について説明する。図6(a)
はケーブルベア20とステージ8との連結部100を−
Y側から見た拡大図、図6(b)は+Z側から見た図、
図6(c)は図6(b)のA−A矢視図である。ここ
で、以下の説明において、上述した第1実施形態と同一
又は同等の構成部分についてはその説明を簡略もしくは
省略する。ケーブルベア20とステージ8との連結部1
00は、ケーブルベア20の一端にねじ50aで固定さ
れた第1取付部材41と、第1取付部材41にねじ50
cで固定された第1連結部材51と、ステージ8にねじ
50bで固定された第2取付部材42と、第2取付部材
42にねじ50dで固定された第2連結部材52とを有
しており、第1連結部材51は第1取付部材41を介し
てケーブルベア20に連結し、第2連結部材52は第2
取付部材42を介してステージ8に連結している。第1
連結部材51及び第2連結部材52のそれぞれはV字溝
状の凹部51A及び凹部52Aを有しており、それぞれ
の凹部51Aと凹部52Aとを対向した状態でばね部材
53によって接続されている。ここで、ばね部材53は
4つあり、第1連結部材51と第2連結部材52とのそ
れぞれの外面どうしを連結している。
第2連結部材52の凹部52Aとの間には球状の弾性体
36が配置されている。この弾性体36は所定の弾性係
数及び減衰係数(減衰特性)を有するゴム製である。な
お、この弾性体36としては弾性を有する材質であれば
よく、ゴム以外の任意の合成樹脂製でもよい。そして、
球状の弾性体36は、ばね部材53によって、凹部51
Aと凹部52Aとの間に狭持されている。ここで、ばね
部材53の張力は、凹部51Aと凹部52Aとの間に弾
性体36を挟持した際、弾性領域内で圧縮するように設
定されている。また、ばね部材53の張力は、振動が作
用した際にも、第1連結部材51と第2連結部材52と
の間での弾性体36の狭持を維持可能な程度に設定され
ている。
0によれば、ステージ8の移動に伴ってケーブルベア2
0の切欠部26とストッパ27とが当たり、ケーブルベ
ア20から振動が発生しても、連結部100に設けられ
た弾性体36の変形によって振動エネルギーが吸収さ
れ、ステージ8に伝達される振動は減衰される。そし
て、弾性体36は、第1連結部材51の凹部51Aと第
2連結部材52の凹部52Aとの間に狭持された構成で
あるので、ケーブルベア20を含む第1連結部材51は
第2連結部材52に対してX軸まわりに回転することが
できる。このため、ケーブルベア20を連結部100を
介してステージ8に連結する際の位置調整作業などを効
率良く簡単に行うことができる。また、弾性体36は球
状体であるため、回転方向(X軸まわり方向)への取付
自由度が高く、また、図5に示したような円柱形の弾性
体31に比べて剪断力に強いという利点がある。
ージ装置の第3実施形態について説明する。図7はケー
ブルベア20とステージ8との連結部100を−X側か
ら見た図である。ケーブルベア20とステージ8との連
結部100は、ケーブルベア20にねじ50eで固定さ
れた取付部材47と、取付部材47とステージ8とを接
続する弾性体としての板ばね37とを有している。ここ
で、ステージ8には板ばね37と連結するための凸部8
aが形成されている。取付部材47は、ケーブルベア2
0を支持する水平板部47aと、ステージ8に対向する
垂直板部47bとを有している。板ばね37は2つ設け
られており、一方の板ばね37Aは一端を垂直板部47
bの上部に接続し他端をステージ8に接続しており、も
う一方の板ばね37Bは一端を垂直板部47bの下部に
接続し他端をステージ8に接続している。また、垂直板
部47bの中央部とステージ8とはゴムなどの減衰部材
38で接続されている。ここで、取付部材47及び板ば
ね37は、ケーブルベア20の長手方向(X方向)に所
定間隔で複数箇所に設けられている。
0によれば、ステージ8の移動に伴ってケーブルベア2
0の切欠部26とストッパ27とが当たり、ケーブルベ
ア20から振動が発生しても、板ばね37の変位(矢印
r参照)によって振動エネルギーが吸収され、ステージ
8に伝達される振動は減衰される。なお、板ばね37の
変位は減衰部材38によってやがて収束する。
ージ装置の第4実施形態について説明する。図8(a)
はケーブルベア20とステージ8との連結部100を−
X側から見た図、図8(b)は+Z側から見た図であ
る。ケーブルベア20とステージ8との連結部100
は、ケーブルベア20を支持する受け皿部48と、受け
皿部48の両側に取り付けられた取付部材49A、49
Bと、ステージ8にねじ50fで固定された取付部材6
0とを有している。取付部材60は、ケーブルベア20
を支持する受け皿部48の−Z側に離間して設けられて
いる。そして、取付部材49A、49Bのそれぞれと取
付部材60との間には、図5で説明した防振部材30が
取り付けられている。防振部材30の弾性体31は、防
振部材30を取付部材49A、49B、取付部材60に
固定するナット35の巻き締め量の調整によって、弾性
領域内で所定量圧縮されている。連結部100に取り付
けられた状態の弾性体31の圧縮量は、第1実施形態同
様、自然長に対して10〜30%程度圧縮されている。
ケーブルベア20は、その両側に取り付けられた防振部
材30によって、取付部材60上で揺動可能となってい
る。
0によれば、ステージ8の移動に伴ってケーブルベア2
0の切欠部26とストッパ27とが当たり、ケーブルベ
ア20から振動が発生しても、防振部材30の弾性体3
1の変形によって振動エネルギーが吸収され、ステージ
8に伝達される振動は減衰される。
ージ装置の第5実施形態について説明する。図9はケー
ブルベア20とステージ8との連結部100を−Y側か
ら見た図である。
100は、ケーブルベア20の一端にねじ50aで固定
された第1取付部材41と、第1取付部材41とケーブ
ルベア20との間に介在する弾性体としてのラバーパッ
ド(防振パッド)39と、ステージ8にねじ50bで固
定された第2取付部材42とを有しており、第1取付部
材41と第2取付部材42とは固定されている。
0によれば、ステージ8の移動に伴ってケーブルベア2
0の切欠部26とストッパ27とが当たり、ケーブルベ
ア20から振動が発生しても、防振パッド39によって
振動エネルギーが吸収され、ステージ8に伝達される振
動は減衰される。
テージ装置の第6実施形態について説明する。第6実施
形態に関するケーブルベア20は、基板ステージPST
の定盤3とYステージ9とを連結するケーブルベア20
Yであり、図10(a)はケーブルベア20とステージ
9の接続部9a(図2参照)との連結部101を−X側
から見た図、図10(b)は+Z側から見た図である。
ケーブルベア20とステージ9との連結部101は、ケ
ーブルベア20の一端にねじ50aで固定された取付部
材61と、取付部材61に連結されたロータリーダンパ
65と、ロータリーダンパ65とステージ9とを連結す
るねじなどの取付部材62とを有している。ロータリー
ダンパ65は、回転方向(Y軸まわり方向)に作用する
変位や加速度に対する減衰機能を有するものである。
のうちロータリーダンパ65と接続している側の端部
は、−Y側に向かって窄まる凸部61aとなっている。
ステージ9には支持アーム70が固定されている。支持
アーム70は、+Z側から見た際、ケーブルベア20側
に向けて開口するコ字状部材である上側アーム70a
と、上側アーム70aの下側に設けられ、上側アーム7
0aと同様ケーブルベア20側に向けて開口するコ字状
部材である下側アーム70bと、上側アーム70aと下
側アーム70bとのそれぞれの両端を接続するように設
けられた柱部材73A、73Bとを有している。そし
て、取付部材61の凸部61aの+X側面及び−X側面
と、柱部材73A及び柱部材73Bのそれぞれの中央部
とは、ばね部材81、82を介してそれぞれ接続されて
いる。
0によれば、ステージ9の移動に伴ってケーブルベア2
0の切欠部26とストッパ27とが当たり、ケーブルベ
ア20から振動が発生しても、ロータリーダンパ65の
回転方向の変位やばね部材81,82の伸縮によって振
動エネルギーが吸収され、ステージ9に伝達される振動
は減衰される。ロータリーダンパ65の変位はばね部材
81,82によってやがて収束する。
Xケーブルベア20Xの一端とXステージ8との連結部
に設けられているように説明したが、Xケーブルベア2
0Xの他端とYステージ9との連結部に設けてもよい。
もちろん、Xケーブルベア20Xの両端の連結部に弾性
体を設ける構成としてもよい。同様に、Yケーブルベア
20Yの一端とYステージ9との連結部、あるいはYケ
ーブルベア20Yと定盤3との連結部のいずれか一方、
もしくはYケーブル部屋20Yの両端の連結部に弾性体
を設ける構成としてもよい。また、本発明の弾性体を有
するケーブルベアは基板ステージPSTに設けられたも
のとして説明したが、マスクステージMSTに設けられ
てもよい。
ルベア20はステージ8,9に対して用力を伝達する用
力ケーブルKを保持するものであるが、相対的に移動可
能な2つの任意の部材(ステージ)のそれぞれに接続し
た任意の線状部材(ケーブル)を保持するものに適宜用
いることができる。
20を構成する単位部材21の内部に、例えば電力導通
用ケーブルKaと気体導通用ケーブルKbといったよう
に複数のケーブルKを仕切る仕切部材29を設けてもよ
い。仕切部材29によりケーブルベア20が移動する際
のケーブルKのばらつきを抑えることができる。ここ
で、仕切部材29はケーブルベア20を構成する全ての
単位部材21のそれぞれに設ける必要はなく、所定間隔
毎に(例えば単位部材21の1つおきに)設けてもよ
い。
液晶ディスプレイデバイス用のガラス基板のみならず、
半導体デバイス用の半導体ウエハや、薄膜磁気ヘッド用
のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマ
スクまたはレチクルの原版(合成石英、シリコンウエ
ハ)等が適用される。
とを同期移動してマスクMのパターンを走査露光するス
テップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置の他
に、マスクMと基板Pとを静止した状態でマスクMのパ
ターンを露光し、基板Pを順次ステップ移動させるステ
ップ・アンド・リピート方式の投影露光装置にも適用す
ることができる。
スプレートに液晶表示素子パターンを露光する液晶表示
素子製造用の露光装置に限られず、ウエハに半導体デバ
イスパターンを露光する半導体デバイス製造用の露光装
置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子(CCD)あるいはマ
スクなどを製造するための露光装置などにも広く適用で
きる。
水銀ランプから発生する輝線(g線(436nm)、h
線(404.7nm)、i線(365nm))、KrF
エキシマレーザ(248nm)、ArFエキシマレーザ
(193nm)、F2 レーザ(157nm)のみなら
ず、X線や電子線などの荷電粒子線を用いることができ
る。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱
電子放射型のランタンヘキサボライト(LaB6 )、タ
ンタル(Ta)を用いることができる。さらに、電子線
を用いる場合は、レチクルRを用いる構成としてもよい
し、レチクルRを用いずに直接ウエハ上にパターンを形
成する構成としてもよい。また、YAGレーザや半導体
レーザ等の高周波などを用いてもよい。
などの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石な
どの遠紫外線を透過する材料を用い、F2 レーザやX線
を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし
(マスクMも反射型タイプのものを用いる)、また電子
線を用いる場合には光学系として電子レンズ及び偏向器
からなる電子光学系を用いればよい。なお、電子線が通
過する光路は、真空状態にすることはいうまでもない。
また、投影光学系PLを用いることなく、マスクMと基
板Pとを密接させてマスクMのパターンを露光するプロ
キシミティ露光装置にも適用可能である。
Tにリニアモータ(USP5,623,853またはUSP5,528,118参
照)を用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上
型及びローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気
浮上型のどちらを用いてもよい。また、各ステージPS
T、MSTは、ガイドに沿って移動するタイプでもよ
く、ガイドを設けないガイドレスタイプであってもよ
い。
ては、二次元に磁石を配置した磁石ユニット(永久磁
石)と、二次元にコイルを配置した電機子ユニットとを
対向させ電磁力により各ステージPST、MSTを駆動
する平面モータを用いてもよい。この場合、磁石ユニッ
トと電機子ユニットとのいずれか一方をステージPS
T、MSTに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットと
の他方をステージPST、MSTの移動面側(ベース)
に設ければよい。
反力は、特開平8−166475号公報に記載されてい
るように、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に
逃がしてもよい。本発明は、このような構造を備えた露
光装置においても適用可能である。
る反力は、特開平8−330224号公報に記載されて
いるように、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)
に逃がしてもよい。本発明は、このような構造を備えた
露光装置においても適用可能である。
Xは、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含
む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精
度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造さ
れる。これら各種精度を確保するために、この組み立て
の前後には、各種光学系については光学的精度を達成す
るための調整、各種機械系については機械的精度を達成
するための調整、各種電気系については電気的精度を達
成するための調整が行われる。各種サブシステムから露
光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、
機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続
等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への
組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工
程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露
光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行わ
れ、露光装置全体としての各種精度が確保される。な
お、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理され
たクリーンルームで行うことが望ましい。
デバイスの機能・性能設計を行うステップ201、この
設計ステップに基づいたマスク(レチクル)を製作する
ステップ202、デバイスの基材である基板を製造する
ステップ203、前述した実施形態の露光装置EXによ
りマスクのパターンを基板に露光する基板処理ステップ
204、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、
ボンディング工程、パッケージ工程を含む)205、検
査ステップ206等を経て製造される。
ジ移動に伴う保持装置から発生する振動は弾性体によっ
て減衰されるためステージへの伝達を抑えられる。した
がって、良好なステージ位置決め精度を確保できるとと
もに、ステージ位置決め静定時間を短縮できる。本発明
の保持装置によれば、保持装置が発生する振動のステー
ジへの伝達を抑え、線状部材を円滑に保持できる。本発
明の露光装置によれば、ステージ移動に伴う保持装置か
ら発生する振動のステージへの伝達を抑えることができ
るので、ステージ位置決め精度が高度に保たれ、またス
テージ静定時間が短いので処理能力に優れ、更に結像性
能においても安定した性能を発揮する。
る露光装置の全体構成図である。
部拡大図であって、保持装置と第1部材との連結部を−
Y側から見た図である。
部拡大図であって、(a)は連結部を−Y側から見た
図、(b)は(a)を+Z側から見た図、(c)は
(b)のA−A矢視図である。
部拡大図であって、連結部を−X側から見た図である。
部拡大図であって、(a)は連結部を−X側から見た
図、(b)は+Z側から見た図である。
部拡大図であって、連結部を−Y側から見た図である。
要部拡大図であって、(a)は連結部を−X側から見た
図、(b)は(a)を+Z側から見た図である。
る。
ーチャート図である。
ための図である。
図である。
9…Yステージ(第2部材、第1部材)、20…ケーブ
ルベア(保持装置)、21…単位部材、22…回転軸、
30…防振部材、31…弾性体、36…弾性体、37…
板ばね(弾性体)、39…防振パッド(弾性体)、45
…クランプ部材(固定部材)、46…クランプ部材(固
定部材)、51…第1連結部材、51A…凹部、52…
第2連結部材、52A…凹部、53…ばね部材、65…
ロータリーダンパ、100…連結部、101…連結部、
EX…露光装置、K、K’…用力ケーブル(用力伝達装
置、用力伝達ケーブル)、M…マスク、MST…マスク
ステージ(ステージ装置)、P…基板、PST…基板ス
テージ(ステージ装置)
Claims (11)
- 【請求項1】 移動可能な第1部材と、 前記第1部材に接続し用力を伝達する用力伝達装置と、 一端を前記第1部材に接続するとともに他端を前記第1
部材と異なる第2部材に接続し、前記用力伝達装置を保
持して前記第1部材の移動方向に沿って移動する保持装
置とを備え、 前記第1部材と前記第2部材との少なくとも一方と前記
保持装置との間に弾性体を介在させることを特徴とする
ステージ装置。 - 【請求項2】 前記弾性体は、その弾性変形方向を前記
第1部材の移動方向に沿って配置されるとともに、前記
移動方向と交わる方向に並列に複数設けられていること
を特徴とする請求項1記載のステージ装置。 - 【請求項3】 前記弾性体は弾性領域内で所定量圧縮さ
れていることを特徴とする請求項1又は2記載のステー
ジ装置。 - 【請求項4】 前記保持装置に連結し凹部を有する第1
連結部材と、 前記第1部材又は前記第2部材に連結し凹部を有する第
2連結部材と、 前記第1連結部材と前記第2連結部材とを接続するばね
部材とを有し、 前記弾性体は、前記第1連結部材及び前記第2連結部材
のそれぞれの凹部の間に配置される弾性体であることを
特徴とする請求項1記載のステージ装置。 - 【請求項5】 前記弾性体は、板ばねであることを特徴
とする請求項1記載のステージ装置。 - 【請求項6】 前記保持装置と前記第1部材とを接続す
るロータリダンパを備えることを特徴とする請求項1記
載のステージ装置。 - 【請求項7】 前記用力伝達装置は用力伝達ケーブルを
有するとともに、前記ケーブルは前記保持装置と前記第
1部材との間で少なくとも2つの固定部材で固定されて
おり、 前記2つの固定部材どうしの間に配設される前記ケーブ
ルの長さは、該2つの固定部材どうしの間の距離より長
く設定されていることを特徴とする請求項1〜6のいず
れか一項に記載のステージ装置。 - 【請求項8】 前記2つの固定部材どうしの間に配設さ
れる前記ケーブルは、所定の力を作用した際、前記2つ
の固定部材どうしの間に配設される前記ケーブル以外の
部分より撓み量が大きく設定されたケーブルであること
を特徴とする請求項7記載のステージ装置。 - 【請求項9】 前記保持装置は、複数の単位部材を回転
軸によって回動自在に連結したものであることを特徴と
する請求項1〜8のいずれか一項に記載のステージ装
置。 - 【請求項10】 相対的に移動可能な第1部材と第2部
材とを連結して、前記第1部材と前記第2部材とを接続
している線状部材を保持する保持装置において、 前記第1部材と前記第2部材との少なくとも一方と、前
記保持装置との連結部に弾性体を有することを特徴とす
る保持装置。 - 【請求項11】 マスクステージに保持されたマスクの
パターンを基板ステージに保持された基板に露光する露
光装置において、 前記マスクステージと前記基板ステージとの少なくとも
一方には、請求項1〜請求項9のいずれか一項に記載さ
れたステージ装置が用いられていることを特徴とする露
光装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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---|---|
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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