JP4413829B2

JP4413829B2 - 現像処理装置及び現像処理方法

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Publication number: JP4413829B2
Application number: JP2005225249A
Authority: JP
Inventors: 高広北野; 正巳飽本; 修一錦戸; 大熊谷
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2005-08-03
Filing date: 2005-08-03
Publication date: 2010-02-10
Anticipated expiration: 2025-08-03
Also published as: JP2007042860A; CN1908819B; CN1908819A

Description

本発明は，基板の現像処理装置及び現像処理方法に関する。

例えば半導体デバイスの製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程では，例えば所定パターンに露光されたウェハを現像する現像処理が行われている。この現像処理は，通常現像処理装置で行われ，この現像処理装置では，例えばウェハＷをスピンチャックにより回転させ，当該ウェハ上に現像液供給ノズルから現像液を供給し，ウェハ表面上に現像液の液膜を形成することにより，ウェハの現像が行われている。

しかしながら，上述した現像処理装置では，ウェハを回転させる必要があることから，スピンチャックに高トルクの回転モータを用いる必要があった。このため，モータのための広いスペースが必要になり，現像処理装置が大型化していた。またモータを回転させるための電力消費量が多く，ランニングコストも増大していた。

そこで，ウェハを回転させない，いわゆるスピンレスの現像処理装置を用いることが提案できる。現在，複数のローラによるコロ搬送式のコンベアによりウェハを搬送し，ウェハを現像液供給ノズルの下を通過させることにより，ウェハを現像するものが提案されている（例えば特許文献１参照。）。

特開２００１−８７７２１号公報

しかしながら，ウェハをコロ搬送により搬送し，ウェハを現像する現像処理装置の場合には，例えば現像液で汚れたウェハの下面にローラが接触する。このため，ローラが汚れ，その汚れがウェハの別の部分や他のウェハに付着し，汚れが拡散され，パーティクルの発生源が広がる。こうなると，パーティクルが大量に発生し，例えば現像される前にウェハが汚染され，現像欠陥を招く。

本発明は，かかる点に鑑みてなされたものであり，基板を回転させない現像処理装置において，パーティクルの発生を抑制することをその目的とする。

上記目的を達成するための本発明は，基板の現像処理装置であって，処理容器内に，処理容器の外部との間で基板の受け渡しが行われる基板受け渡し部と，基板の現像が行われる現像処理部とを並べて備え，前記処理容器内には，前記基板受け渡し部と前記現像処理部との間を，基板の外側面を両側から把持した状態で基板を搬送する搬送機構が設けられ，前記基板受け渡し部と前記現像処理部との間であって，前記搬送機構による基板の搬送路の上方には，基板に現像液を供給する現像液供給ノズルと，基板に気体を吹き付ける気体吹出しノズルが設けられ，前記現像処理部には，基板に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルが設けられていることを特徴とする。

本発明によれば，基板の外側面を把持した状態で基板が搬送されるので，従来のように汚れが広がることがなく，処理容器内のパーティクルの発生を抑制できる。この結果，現像処理装置で処理される基板の現像欠陥を減少できる。

前記洗浄液供給ノズルは，前記搬送機構による基板の搬送方向に対して直角方向に水平移動しながら基板に洗浄液を供給できるようにしてもよい。

前記洗浄液供給ノズルは，基板の上面に洗浄液を供給する上部ノズルと，基板の下面に洗浄液を供給する下部ノズルを，前記現像処理部内の基板を挟むようにして備え，前記上部ノズルと前記下部ノズルは，前記基板の搬送方向の基板の一端部から他端部にわたり洗浄液を吐出できてもよい。

前記洗浄液供給ノズルは，前記現像処理部内の基板の上面と，当該基板の前記基板受け渡し部と反対の側面と，前記基板の下面とを囲む略Ｕ字型に形成されていてもよい。

前記基板受け渡し部と前記現像処理部の間であって，前記基板の搬送路の上方には，ノズル保持部が設けられ，前記ノズル保持部には，前記基板受け渡し部から前記現像処理部に向かって，前記気体吹出しノズル，前記現像液供給ノズルがこの順に並べて設けられていてもよい。

前記基板の搬送路の下方側にも，気体吹出しノズルが設けられていてもよい。

別の観点による本発明は，基板の現像処理装置であって，処理容器内に，処理容器の外部との間で基板の受け渡しが行われる基板受け渡し部と，基板の現像が行われる現像処理部とを並べて備え，前記処理容器内には，前記基板受け渡し部と前記現像処理部との間を，基板の外側面を両側から把持した状態で基板を搬送する搬送機構が設けられ，前記基板受け渡し部と前記現像処理部との間であって，前記搬送機構による基板の搬送路の上方には，基板に現像液を供給する現像液供給ノズルと，基板に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルと，基板に気体を吹き付ける気体吹出しノズルが設けられていることを特徴とする。

前記基板受け渡し部と前記現像処理部の間であって，前記基板の搬送路の上方には，ノズル保持部が設けられ，前記ノズル保持部には，前記基板受け渡し部から前記現像処理部に向かって，前記気体吹出しノズル，前記洗浄液供給ノズル，前記現像液供給ノズルがこの順に並べて設けられていてもよい。

前記基板の搬送路の下方にも洗浄液供給ノズルが設けられていてもよく，また，気体吹出しノズルが設けられていてもよい。

前記基板受け渡し部と前記現像処理部の間であって，前記基板の搬送路の下方には，ノズル保持部が設けられ，前記基板の搬送路の下方のノズル保持部には，前記基板受け渡し部から前記現像処理部に向かって，前記気体吹出しノズル，前記洗浄液供給ノズルがこの順に並べて設けられていてもよい。

前記現像処理装置は，前記基板受け渡し部と前記現像処理部との間にエアカーテンを形成するエア供給部を備えていてもよい。

前記気体吹出しノズルは，前記エア供給部を共用していてもよい。

前記処理容器には，前記基板受け渡し部側に給気口を形成され，前記現像処理部側に排気口が形成されていてもよい。

前記基板受け渡し部には，基板を支持する支持部材が設けられ，前記搬送機構は，前記支持部材上の基板の外側面を把持できてもよい。

前記搬送機構は，基板の搬送方向に対し直角方向の基板の両側面を把持する把持部材と，当該把持部材を支持して前記直角方向に移動させる移動部材を備え，前記把持部材と前記移動部材との間には，弾性体が介在されていてもよい。

把持する基板の反対側に位置する前記把持部材の後方側には，前記移動部材に固定された固定部材が設けられ，前記固定部材と前記把持部材とは，弾性体を介して接続されていてもよい。

前記把持部材における基板の外側面との接触端面は，側面から見て内側に凹むように湾曲していてもよい。

別の観点による本発明によれば，請求項７〜１１のいずれかに記載の現像処理装置を用いた現像処理方法であって，基板受け渡し部の基板の外側面を前記搬送機構により把持する工程と，現像液供給ノズルから現像液を吐出した状態で，基板受け渡し部の基板を前記搬送機構によって現像処理部に搬送し，前記基板上に現像液の液膜を形成する工程と，前記現像処理部において基板を静止現像する工程と，洗浄液供給ノズルから洗浄液を吐出した状態で，前記現像処理部と前記基板受け渡し部との間で基板を前記搬送機構により往復させ，前記基板上に洗浄液の液膜を形成する工程と，気体吹出しノズルから気体を吹き出した状態で，前記現像処理部の基板を前記搬送機構により前記基板受け渡し部に搬送して，基板上の洗浄液を除去する工程と，を有することを特徴とする現像処理方法が提供される。

本発明によれば，スピンレスの現像処理装置が実現され，現像処理装置の大幅な小型化が図れる上，パーティクルの発生を著しく減少できるので，現像欠陥のない適正な現像を行い，歩留まりを向上できる。

以下，本発明の好ましい実施の形態について説明する。図１は，本実施の形態にかかる現像処理装置１の構成の概略を示す縦断面の説明図である。図２は，現像処理装置１の構成の概略を示す横断面の説明図である。

現像処理装置１は，例えば図１に示すように閉鎖可能な処理容器１０を備えている。処理容器１０は，外形がＸ方向（図１の左右方向）に長い略直方体形状に形成されている。処理容器１０には，外部との間でウェハＷの受け渡しを行うための受け渡し部１１と，ウェハＷを現像処理する現像処理部１２がＸ方向に並べて設けられている。また，処理容器１０には，図２に示すように受け渡し部１１と現像処理部１２との間で，ウェハＷの外側面を把持した状態でウェハＷを搬送する搬送機構１３が設けられている。

図１に示すように例えば処理容器１０のＸ方向負方向（図１の左方向）側の側壁面には，処理容器１０の外部との間でウェハＷを搬入出するための搬送口２０が形成されている。搬送口２０には，シャッタ２１が設けられており，処理容器２０内の雰囲気を外部から遮断することができる。

受け渡し部１１には，ウェハＷを水平に支持するための複数の支持部材としての支持ピン２２が設けられている。支持ピン２２は，例えばシリンダなどの昇降駆動部２３により上下方向に昇降でき，ウェハＷを所定の高さで支持できる。

図２に示すように処理容器１０内のＹ方向（図２の上下方向）の両端付近には，受け渡し部１１から現像処理部１２にわたってＸ方向に延伸する第１のガイドレール３１がそれぞれ形成されている。第１のガイドレール３１上には，図１及び図３に示すようにレール３１上を移動するガイド部である第１のスライダ３２が設けられている。第１のスライダ３２は，モータなどの駆動源を備え，第１のガイドレール３１に沿ってＸ方向に移動できる。第１のスライダ３２上には，図３に示すようにＹ方向の延伸する第２のガイドレール３３が形成されている。第２のガイドレール３３には，移動部材としての第２のスライダ３４が設けられている。第２のスライダ３４は，モータなどの駆動源を備え，第２のガイドレール３３に沿ってＹ方向に移動できる。

第２のスライダ３４の上部には，ウェハＷの外側面を把持する把持部材としての把持アーム３５が取り付けられている。把持アーム３５は，少なくともウェハＷの厚みよりも厚い板形状に形成され，図２に示すように第２のスライダ３４から処理容器１０のＹ方向の中心に向かって長い略長方形に形成されている。

図４に示すように把持アーム３５でウェハＷと接触する先端面３５ａは，側面から見て内側に凹んで湾曲している。把持アーム３５の先端面３５ａとウェハＷの外側面が接触した際に，ウェハＷの高さと把持アーム３５との高さが多少ずれている場合であっても，先端面３５ａの凹みにより，ウェハＷを把持アーム３５の厚み方向の中心に誘導できる。なお，先端面３５ａの形状は，側面から見て内側に三角形状に凹んでいてもよい。

把持アーム３５の先端面３５ａは，図２に示すように平面から見てウェハＷの外側面の形状に合わせて湾曲形状に形成されている。先端面３５ａは，ウェハＷよりも僅かに曲率半径が大きくなるように形成されている。これにより，把持アーム３５とウェハＷとがＸ方向にずれている場合にも，先端面３５ａの湾曲により，ウェハＷを把持アーム３５の幅方向（Ｘ方向）の中心に誘導できる。

図３に示すように第２のスライダ３４と把持アーム３５との間には，垂直方向に立てられた複数の弾性体としてのばね３６が介在されている。このばね３６により，把持アーム３５がウェハＷを把持したときの衝撃を吸収できる。

把持アーム３５の後方側の第２のスライダ３４上には，板状の固定部材３７が垂直方向に立てられている。把持アーム３５の後端面と固定部材３７は，Ｙ方向に向けられた弾性体としてのばね３８によって接続されている。このばね３８により，把持アーム３５がウェハＷを把持する際の接触圧力を維持できる。

本実施の形態において，搬送機構１３は，上述の第１のガイドレール３１，第１のスライダ３２，第２のガイドレール３３，第２のスライダ３４，把持アーム３５，ばね３６，固定部材３７及びばね３８により構成されている。この搬送機構１３は，第２のスライダ３４により把持アーム３５をＹ方向に移動し，支持ピン２２上に載置されたウェハＷを両側から把持し，その状態で第１のスライダ３２により把持アーム３５をＸ方向に移動できる。これによって，ウェハＷの外側面を把持した状態で，受け渡し部１１と現像処理部１２との間でウェハＷを水平方向に搬送できる。なお，搬送機構１３の動作は，図２に示す現像処理装置１の制御部Ｃに制御されている。

図１に示すように処理容器１０内の受け渡し部１１と現像処理部１２との間には，二つのノズル保持部４０，４１が設けられている。ノズル保持部４０，４１は，処理容器１０の天井面と底面の上下に互いに対向するように配置されている。ノズル保持部４０，４１は，上記搬送機構１３によるウェハＷの搬送路を挟むように配置されている。

ノズル保持部４０，４１は，例えば図５に示すようにＹ方向に向けて，少なくともウェハＷの直径より長い略直方体形状に形成されている。ノズル保持部４０，４１は，図２に示すように平面から見て処理容器１０のＹ方向の両側の２つの第１のガイドレール３１の間に形成され，ノズル保持部４０，４１によって，受け渡し部１１と現像処理部１２の雰囲気がおよそ隔離されている。

例えばノズル保持部４０は，図１に示すように処理容器１０の天井面に取り付けられている。ノズル保持部４０の下端面は，水平に形成され，現像液供給ノズル５０と，気体吹出しノズル及びエア供給部としてのエア吹出しノズル５１がＸ方向に並設されている。例えば現像液供給ノズル５０が現像処理部１２側に配置され，エア吹出しノズル５１が受け渡し部１１側に配置されている。

現像液供給ノズル５０は，図５に示すようにノズル保持部４０の長手方向（Ｙ方向）の両端部にわたり形成されている。現像液供給ノズル５０には，丸穴の複数の吐出口５０ａが長手方向に沿って一列に並べて形成されている。

例えば図１に示すようにノズル保持部４０には，現像液供給源６０に連通する現像液供給管６１が接続されている。ノズル保持部４０の内部には，現像液を流す流路が形成されており，現像液供給管６１を通じてノズル保持部４０内に供給された現像液を，現像液供給ノズル５０の吐出口５０ａから吐出できる。ノズル保持部４０の下方をＸ方向にウェハＷを通過させながら，現像液供給ノズル５０からウェハＷに現像液を吐出することにより，ウェハＷの表面に現像液を供給することができる。

エア吹出しノズル５１は，図５に示すようにノズル保持部４０の長手方向の両端部にわたり形成されている。エア吹出しノズル５１には，スリット状の吹出し口５１ａが長手方向に沿って形成されている。例えば図１に示すようにノズル保持部４０には，エア供給源６２に連通するエア供給管６３が接続されている。例えばノズル保持部４０の内部には，エアを通過させる通気路が形成されている。エア供給管６３を通じてノズル保持部４０に供給されたエアは，ノズル保持部４０を通じて，エア吹出しノズル５１の吹出し口５１ａから噴出される。ノズル保持部４０の下方をＸ方向に通過するウェハＷに対して，エア吹出しノズル５１からエアを吹き出すことにより，エアナイフを形成し，ウェハＷ上の液体を除去しウェハＷを乾燥せることができる。なお，例えばエア供給源６２には，エアの供給量を調整する調整機構が設けられており，例えば制御部Ｃの制御により，エア吹出しノズル５１からのエアの吹き出し量を任意に調整できる。

ノズル保持部４１は，処理容器１０の底面に取り付けられている。ノズル保持部４１の上端面は，水平に形成され，その上端面には，エア吹出しノズル７０が設けられている。エア吹出しノズル７０は，上記ノズル保持部４０のエア吹出しノズル５１と対向するように配置されている。エア吹出しノズル７０は，エア吹出しノズル５１と同様の構成を有し，エア供給源７１からエア供給管７２を通じて供給されたエアをエア吹出しノズル７０の吹出し口から噴出できる。ノズル保持部４１の上方を通過するウェハＷに対して，エア吹出しノズル７０からエアを吹き出すことにより，エアナイフを形成し，ウェハＷの下面の液体を除去することができる。また，ウェハＷに対し上下からエアを吹き付けることにより，ウェハＷの上下面にかかる圧力を同程度に維持できる。これにより，ウェハＷの上面の液体を除去するために，上方からウェハＷの上面に高圧力のエアが吹き付けられた場合にも，ウェハＷが把持アーム３５から外れて落下することを防止できる。

現像処理部１２には，洗浄液供給ノズル８０が配置されている。洗浄液供給ノズル８０は，Ｘ方向負方向側を開口部とする略Ｕ型状に形成されている。つまり洗浄液供給ノズル８０は，図１及び図６に示すようにウェハＷの上方に位置しＸ方向に沿った細長の上部ノズル８０ａと，ウェハＷの下方に位置しＸ方向に沿った細長の下部ノズル８０ｂと，ウェハＷのＸ方向正方向側の側方に位置し上部ノズル８０ａの端部と下部ノズル８０ｂの端部を接続する垂直接続部８０ｃにより構成されている。

上部ノズル８０ａは，例えば図１に示すようにウェハＷの直径よりも長く形成されている。上部ノズル８０ａの下面には，図６に示すように長手方向に沿って複数の吐出口８０ｄが一列に並べて形成されている。下部ノズル８０ｂは，上部ノズル８０ａに対向配置されている。下部ノズル８０ｂは，上部ノズル８０ａと同様に，ウェハＷの直径よりも長く形成され，その上面に複数の吐出口８０ｄが形成されている。例えば図１に示すように洗浄液供給ノズル８０には，洗浄液供給源８１に連通する洗浄液供給管８２が接続されている。洗浄液供給ノズル８０の内部には，図示しない洗浄液の流路が形成されており，洗浄液供給管８１を通じて洗浄液供給ノズル８０に供給された洗浄液は，上部ノズル８０ａと下部ノズル８０ｂの吐出口８０ｄから吐出される。

処理容器１０のＸ方向正方向側の側壁面には，図１及び図２に示すようにＹ方向に延伸するレール９０が形成されている。洗浄液供給ノズル８０は，例えば垂直接続部８０ｃがノズルアーム９１により保持されている。ノズルアーム９１は，モータなどの駆動源９２によりレール９０上をＹ方向に移動できる。洗浄液供給ノズル８０は，ウェハＷを挟んだ状態で，上下の吐出口８０ｄから洗浄液を吐出し，ウェハＷの一端部から他端部までＹ方向に移動することによって，ウェハＷの上面と下面に洗浄液を供給できる。

現像処理部１２の下部には，洗浄液供給ノズル８０やウェハＷから落下する液体を受け止めて回収する受け容器１００が設けられている。図１に示すように受け容器１００には，処理容器１０の外部に通じる排液管１０１が接続されている。

処理容器１０のＸ方向負方向側の側壁面には，清浄なエアを給気する給気口１１０が形成されている。例えば給気口１１０には，エア供給源１１１に通じるエア供給管１１２が接続されている。処理容器１０のＸ方向正方向側の端部付近の底面には，排気口１１３が形成されている。排気口１１３は，例えば排気管１１４により，負圧発生装置１１５に接続されている。この負圧発生装置１１５により，排気口１１３から処理容器１０内の雰囲気を排気することができる。給気口１１０から清浄なエアを給気し，排気口１１３から排気することにより，処理容器１０内に受け渡し部１１から現像処理部１２に向けて流れる気流を形成できる。

なお，以上に記載の洗浄液供給ノズル８０の駆動，ノズル５０，５１，８０，７０の吐出又は噴出しの動停止，給気口１１０の給気，排気口１１３の排気の動停止などは，制御部Ｃにより制御されている。

次に，以上のように構成された現像処理装置１で行われる現像プロセスについて説明する。

例えば現像処理時には，常時給気口１１０からの給気と排気口１１３からの排気が行われ，処理容器１０内には，受け渡し部１１から現像処理部１２に向けて流れる清浄な気流が形成される。また，例えばエア吹出しノズル５１からエアが吹き出され，ノズル保持部４０，４１の間にエアカーテンが形成される。

そして，ウェハＷは，先ず外部の搬送アームにより搬送口２０から受け渡し部１１内に搬入され，図１に示すように支持ピン２２に支持される。ウェハＷが支持ピン２２に支持されると，Ｙ方向の両側で待機していた把持アーム３５がウェハＷ側に移動し，図２に示すように把持アーム３５によって，ウェハＷのＹ方向の両側の外側面が把持される。次にウェハＷは，把持アーム３５によって現像処理部１２側のＸ方向正方向に水平移動される。そして，ウェハＷがノズル保持部４０，４１の間を通過する直前に現像液供給ノズル５０から現像液が吐出され始め，現像液が吐出されている下方をウェハＷが通過する。つまり，現像液を吐出した現像液供給ノズル５０がウェハＷの一端部から他端部までウェハＷに対して相対的に移動する。これにより，ウェハＷの表面に現像液の液膜が形成される。この現像液の供給により，ウェハＷの現像が開始される。

ウェハＷは，例えば現像処理部１２の中央部まで移動し停止される。そして，ウェハＷは，把持アーム３５に把持された状態で，所定時間，静止現像される。所定時間が経過すると，洗浄液供給ノズル８０が洗浄液を吐出しながら，Ｙ方向にウェハＷの一端部側から他端部側まで移動する。例えば洗浄液供給ノズル８０は，ウェハＷの両端部間を複数回往復移動する。これによって，ウェハＷの表面の現像液が洗浄液に置換され，ウェハＷ上には，洗浄液の液膜（液盛り）が形成される。この洗浄液の供給によりウェハＷの現像が停止される。

ウェハＷの表面に洗浄液の液盛りが形成された後，ウェハＷは，把持アーム３５により，受け渡し部１１側のＸ方向負方向に移動される。ウェハＷがノズル保持部４０，４１の間を通過する直前に，下側のエア吹出しノズル７０からエアが噴出される。また，上側のエア吹出しノズル５１からのエアの噴出流量が上げられる。この上下からエアが吹き出されている位置を，ウェハＷが通過し，ウェハＷの表面の洗浄液の液盛りと，ウェハＷの裏面に付着した液体が除去される。この際，図７に示すようにエア吹出しノズル５１のエアがエアナイフとなり，ウェハＷの表面の洗浄液Ｒは，エアの圧力によってウェハＷの一端部から他端部に向けて一気に除去され，乾燥される。

ウェハＷは，受け渡し部１１内の支持ピン２２の上方まで移動すると停止され，把持アーム３５から支持ピン２２に受け渡され，支持ピン２２上に支持される。その後，ウェハＷは，外部の搬送アームによって搬送口２０から搬出されて，一連の現像処理が終了する。なお，この一連の現像処理は，例えば制御部Ｃが，搬送機構１３や洗浄液供給ノズル８０の駆動，各ノズルの吐出又は噴出の動停止，給気口１１０の給気や排気口１１３の排気の動停止などを制御することにより実現されている。

以上の実施の形態によれば，処理容器１０内に搬送機構１３を設けたので，把持アーム３５によりウェハＷの外側面を把持し，受け渡し部１１と現像処理部１２との間を搬送できる。このため，従来のように処理液による汚染が拡散することがなく，処理容器１０内のパーティクルの発生を抑制できる。

また，処理容器１０の現像処理部１２に，Ｙ方向に移動可能な洗浄液供給ノズル８０を設けたので，洗浄液を吐出した洗浄液供給ノズル８０をウェハＷの一端部から他端部にわたり移動させて，ウェハＷ上の現像液を洗浄液に置換し，ウェハＷ上に洗浄液の液盛りを形成できる。

洗浄液供給ノズル８０を略Ｕ字形状に形成し，ウェハＷの表面と裏面に洗浄液を供給できるようにしたので，ウェハＷの裏面側も洗浄できる。

受け渡し部１１と現像処理部１２の間に，エア吹出しノズル５１を設けたので，現像処理部１２から受け渡し部１１にウェハＷが移動する際に，ウェハＷ上の洗浄液を除去し，乾燥させることができる。これにより，現像処理部１２側でウェハＷに付着した液体が受け渡し部１１に侵入することがなく，受け渡し部１１を清浄に維持することができる。この結果，例えば受け渡し部１１に搬入されたウェハＷにパーティクルが付着することがなく，ウェハＷが適正に現像される。

エア吹出しノズル５１により，受け渡し部１１と現像処理部１２との間にエアカーテンを形成できる。これにより，現像処理部１２内に浮遊するミストが受け渡し部１１に入ることを抑制できる。

処理容器１０の下側にも，エア吹出しノズル７０を設けたので，ウェハＷの裏面に付着した液体も除去することができる。

受け渡し部１１側に給気口１１０を形成し，現像処理部１２側に排気口１１３を形成して，処理容器１０内に受け渡し部１１側から現像処理部１２側に流れる気流を形成するようにしたので，現像処理部１２側のミストなどの汚れが受け渡し部１１側に侵入することを抑制できる。この結果，受け渡し部１１に搬入されたウェハＷが汚染されることがなく，現像が適正に行われる。

搬送機構１３の把持アーム３５と第２のスライダ３４との間には，ばね３６が設けられたので，把持アーム３５がウェハＷの外側面と接触した際の衝撃を緩衝できる。また，支持ピン２２上のウェハＷの僅かな位置ずれにも柔軟に対応できる。

把持アーム３５の後方に固定部材３７が設けられ，固定部材３７と把持アーム３５とがばね３８によって接続されたので，把持アーム３５がウェハＷを把持する際の接触圧を一定に維持することができる。

把持アーム３５の先端面３５ａを側面から見て内側に凹むように湾曲させたので，把持アーム３５とウェハＷの高さが僅かにずれている場合であっても，把持アーム３５とウェハＷの厚み方向の中心が一致するようにウェハＷを誘導できる。この結果，搬送中にウェハＷが把持アーム３５から落下することを防止できる。

また，ウェハＷの表面に洗浄液の液盛りを形成し，その洗浄液の液盛りをエアナイフによって，ウェハＷの一端部から他端部に向けて除去するので，現像による生じた残渣が洗浄液中に取り込まれた状態で除去される。この結果，残渣がウェハＷに付着することがなく，この付着を原因とする現像欠陥を防止できる。

以上の実施の形態では，洗浄液供給ノズル８０が現像処理部１２に配置されていたが，受け渡し部１１と現像処理部１２との間に設けられていてもよい。かかる場合，図８に示すようにノズル保持部４０の現像液供給ノズル５０とエア吹出しノズル５１との間に洗浄液供給ノズル１２０が設けられる。洗浄液供給ノズル１２０は，例えば図９に示すように現像液供給ノズル５０と同様に，ノズル保持部４０の長手方向（Ｙ方向）の両端部にわたり形成されている。洗浄液供給ノズル１２０には，丸穴の複数の吐出口１２０ａが長手方向に沿って一列に並べて形成されている。例えば図８に示すようにノズル保持部４０には，洗浄液供給源１２１に連通する洗浄液供給管１２２が接続されている。洗浄液供給ノズル１２０は，洗浄液供給源１２１から洗浄液供給管１２２を通じて供給された洗浄液を吐出口１２０ａから下方に向けて吐出できる。

また，下側のノズル保持部４１にも同様に洗浄液供給ノズル１３０が設けられている。洗浄液供給ノズル１３０は，洗浄液供給ノズル１２０と対向するように配置されている。洗浄液供給ノズル１３０は，洗浄液供給ノズル１２０と同様の構成を有し，洗浄液供給源１３１から洗浄液供給管１３２を通じて供給された洗浄液を吐出口から上方に向けて吐出できる。

そして，所定時間の静止現像が終了したウェハＷが受け渡し部１１側のＸ方向負方向に移動し，ウェハＷがノズル保持部４０，４１の間を通過する際には，洗浄液供給ノズル１２０と洗浄液供給ノズル１３０から洗浄液が吐出される。このとき，エア吹出しノズル５１，７０からのエアの噴出しは停止される。そして，例えばウェハＷがノズル保持部４０，４１の間をＸ方向負方向側に通過し終えた後，今度はウェハＷが，現像処理部１２側のＸ方向正方向に移動し，洗浄液を吐出している洗浄液供給ノズル１２０と洗浄液供給ノズル１３０の間を再び通過する。この往復移動は，複数回行われてもよい。こうして，ウェハＷの表面側には，洗浄液の液盛りが形成される。また，ウェハＷの裏面側の汚れが除去される。そして，最終的に現像処理部１２側に到達したウェハＷは，受け渡し部１１側のＸ方向負方向に移動する。この際，洗浄液供給ノズル１２０と１３０の洗浄液の吐出が停止され，代わりに，エア吹出しノズル５１，７０からエアが吹き出され，エアナイフが形成される。こうして，上記実施の形態と同様に，ウェハＷの表面と裏面の洗浄液が除去され，乾燥される。

以上の例においても，把持アーム３５によりウェハＷの外側面を把持した状態で，ウェハＷの現像処理を行うことができるので，従来のコロ搬送に比べて処理容器１０内のパーティクルの発生を抑制できる。また，現像液，洗浄液及びエアの供給系がノズル保持部４０，４１に接続され，移動しないので，その供給系の配管構成を簡略化できる。

上記例において，洗浄液供給ノズル１２０，１３０をウェハＷの搬送路の上下に配置していたが，上方の洗浄液供給ノズル１２０だけであってもよい。また，エア吹出しノズル５１，７０についても上方のエア吹出しノズル５１だけであってもよい。

以上の実施の形態では，エア吹出しノズル５１を用いて，受け渡し部１１と現像処理部１２との間にエアカーテンを形成していたが，エアカーテンを形成するためのエア供給部を別途設けてもよい。

また，図１０に示すように平面から見てノズル保持部４０の長手方向の両側の第１のガイドレール３１の上方にもエア吹出しノズル１４０を配置してもよい。こうすることにより，処理容器１０のＹ方向の両側壁間にわたってエアカーテンを形成でき，現像処理部１２のミストで汚れた雰囲気が受け渡し部１１に流れ込むことを確実に防止できる。なお，このとき，ノズル保持部４０をレール３０上にまで伸ばし，そのノズル保持部４０に設けられたエア吹出しノズル５１を処理容器１０のＹ方向の両側壁間にわたって形成してもよい。

以上，添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが，本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において，各種の変更例または修正例に相到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。例えば以上の実施の形態では，現像液供給ノズル５０，エア吹出しノズル５１，洗浄液供給ノズル８０，１２０，１３０，エア吹出しノズル７０は，それぞれ丸穴又はスリット状の吐出口又は吹出し口を備えていたが，各ノズルは，いずれの形状の吐出口又は吹出し口を備えていてもよい。また，以上の実施の形態は，ウェハＷを現像処理する例であったが，本発明は，ウェハ以外の例えばＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ），フォトマスク用のマスクレチクルなどの他の基板を現像処理する場合にも適用できる。

本発明は，基板を回転させない現像処理装置において，パーティクルの発生を抑制する際に有用である。

本実施の形態にかかる現像処理装置の構成の概略を示す縦断面の説明図である。現像処理装置の構成の概略を示す横断面の説明図である。搬送機構の構成の概略を示す側面図である。把持アームの先端の側面図である。ノズル保持部の構成の概略を示す斜視図である。洗浄液供給ノズルの構成の概略を示す斜視図である。ウェハから洗浄液を除去する様子を示す説明図である。ノズル保持部に洗浄液供給ノズルを設けた場合の現像処理装置の構成の概略を示す縦断面の説明図である。洗浄液供給ノズルを備えたノズル保持部の構成の概略を示す斜視図である。ノズル保持部の両側にエア吹出しノズルを設けた場合の現像処理装置の構成の概略を示す横断面の説明図である。

符号の説明

１現像処理装置
１０処理容器
１１受け渡し部
１２現像処理部
１３搬送機構
５０現像液供給ノズル
５１エア吹出しノズル
８０洗浄液供給ノズル
Ｗウェハ

Claims

基板の現像処理装置であって，
処理容器内に，処理容器の外部との間で基板の受け渡しが行われる基板受け渡し部と，基板の現像が行われる現像処理部とを並べて備え，
前記処理容器内には，前記基板受け渡し部と前記現像処理部との間を，基板の外側面を両側から把持した状態で基板を搬送する搬送機構が設けられ，
前記基板受け渡し部と前記現像処理部との間であって，前記搬送機構による基板の搬送路の上方には，基板に現像液を供給する現像液供給ノズルと，基板に気体を吹き付ける気体吹出しノズルが設けられ，
前記現像処理部には，基板に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルが設けられていることを特徴とする，現像処理装置。
前記洗浄液供給ノズルは，前記搬送機構による基板の搬送方向に対して直角方向に水平移動しながら基板に洗浄液を供給できることを特徴とする，請求項１に記載の現像処理装置。
前記洗浄液供給ノズルは，基板の上面に洗浄液を供給する上部ノズルと，基板の下面に洗浄液を供給する下部ノズルを，前記現像処理部内の基板を挟むようにして備え，
前記上部ノズルと前記下部ノズルは，前記基板の搬送方向の基板の一端部から他端部にわたり洗浄液を吐出できるように形成されていることを特徴とする，請求項２に記載の現像処理装置。
前記洗浄液供給ノズルは，前記現像処理部内の基板の上面と，当該基板の前記基板受け渡し部と反対の側面と，前記基板の下面とを囲む略Ｕ字型に形成されていることを特徴とする，請求項３に記載の現像処理装置。
前記基板受け渡し部と前記現像処理部の間であって，前記基板の搬送路の上方には，ノズル保持部が設けられ，
前記ノズル保持部には，前記基板受け渡し部から前記現像処理部に向かって，前記気体吹出しノズル，前記現像液供給ノズルがこの順に並べて設けられていることを特徴とする，請求項１〜４のいずれかに記載の現像処理装置。
前記基板の搬送路の下方側にも，気体吹出しノズルが設けられていることを特徴とする，請求項１〜５のいずれかに記載の現像処理装置。
基板の現像処理装置であって，
処理容器内に，処理容器の外部との間で基板の受け渡しが行われる基板受け渡し部と，基板の現像が行われる現像処理部とを並べて備え，
前記処理容器内には，前記基板受け渡し部と前記現像処理部との間を，基板の外側面を両側から把持した状態で基板を搬送する搬送機構が設けられ，
前記基板受け渡し部と前記現像処理部との間であって，前記搬送機構による基板の搬送路の上方には，基板に現像液を供給する現像液供給ノズルと，基板に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルと，基板に気体を吹き付ける気体吹出しノズルが設けられていることを特徴とする，現像処理装置。
前記基板受け渡し部と前記現像処理部の間であって，前記基板の搬送路の上方には，ノズル保持部が設けられ，
前記ノズル保持部には，前記基板受け渡し部から前記現像処理部に向かって，前記気体吹出しノズル，前記洗浄液供給ノズル，前記現像液供給ノズルがこの順に並べて設けられていることを特徴とする，請求項７に記載の現像処理装置。
前記基板の搬送路の下方にも洗浄液供給ノズルが設けられていることを特徴とする，請求項７又は８のいずれかに記載の現像処理装置。
前記基板の搬送路の下方にも気体吹出しノズルが設けられていることを特徴とする，請求項９に記載の現像処理装置。
前記基板受け渡し部と前記現像処理部の間であって，前記基板の搬送路の下方には，ノズル保持部が設けられ，
前記基板の搬送路の下方のノズル保持部には，前記基板受け渡し部から前記現像処理部に向かって，前記気体吹出しノズル，前記洗浄液供給ノズルがこの順に並べて設けられていることを特徴とする，請求項１０に記載の現像処理装置。
前記基板受け渡し部と前記現像処理部との間にエアカーテンを形成するエア供給部を備えていることを特徴とする，請求項１〜１１のいずれかに記載の現像処理装置。
前記気体吹出しノズルは，前記エア供給部を共用していることを特徴とする，請求項１２に記載の現像処理装置。
前記処理容器には，前記基板受け渡し部側に給気口を形成され，前記現像処理部側に排気口が形成されていることを特徴とする，請求項１〜１３のいずれかに記載の現像処理装置。
前記基板受け渡し部には，基板を支持する支持部材が設けられ，
前記搬送機構は，前記支持部材上の基板の外側面を把持できることを特徴とする，請求項１〜１４のいずれかに記載の現像処理装置。
前記搬送機構は，基板の搬送方向に対し直角方向の基板の両側面を把持する把持部材と，当該把持部材を支持して前記直角方向に移動させる移動部材を備え，
前記把持部材と前記移動部材との間には，弾性体が介在されていることを特徴とする，請求項１〜１５のいずれかに記載の現像処理装置。
把持する基板の反対側に位置する前記把持部材の後方側には，前記移動部材に固定された固定部材が設けられ，
前記固定部材と前記把持部材とは，弾性体を介して接続されていることを特徴とする，請求項１６に記載の現像処理装置。
前記把持部材における基板の外側面との接触端面は，側面から見て内側に凹むように湾曲していることを特徴とする，請求項１６又は１７のいずれかに記載の現像処理装置。
請求項７〜１１のいずれかに記載の現像処理装置を用いた現像処理方法であって，
基板受け渡し部の基板の外側面を前記搬送機構により把持する工程と，
現像液供給ノズルから現像液を吐出した状態で，基板受け渡し部の基板を前記搬送機構によって現像処理部に搬送し，前記基板上に現像液の液膜を形成する工程と，
前記現像処理部において基板を静止現像する工程と，
洗浄液供給ノズルから洗浄液を吐出した状態で，前記現像処理部と前記基板受け渡し部との間で基板を前記搬送機構により往復させ，前記基板上に洗浄液の液膜を形成する工程と，
気体吹出しノズルから気体を吹き出した状態で，前記現像処理部の基板を前記搬送機構により前記基板受け渡し部に搬送して，基板上の洗浄液を除去する工程と，を有することを特徴とする，現像処理方法。