JP2007042860A - 現像処理装置及び現像処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 処理容器10内に,受け渡し部11と現像処理部12が並べて形成される。処理容器10内には,受け渡し部11と現像処理部12との間を,ウェハWの外側面を両側から把持した状態で搬送する搬送機構13が設けられる。受け渡し部11と現像処理部12との間であって,搬送機構13によるウェハの搬送路の上方には,現像液供給ノズル50と,エア吹出しノズル51が設けられる。現像処理部12には,洗浄液供給ノズル80が設けられる。洗浄液供給ノズル80は,ウェハWの上下面を挟むように略U字型に形成され,洗浄液を吐出しながらウェハWに沿って移動し,ウェハWの表裏面に洗浄液を供給できる。
【選択図】 図2
Description
10 処理容器
11 受け渡し部
12 現像処理部
13 搬送機構
50 現像液供給ノズル
51 エア吹出しノズル
80 洗浄液供給ノズル
W ウェハ
Claims (19)
- 基板の現像処理装置であって,
処理容器内に,処理容器の外部との間で基板の受け渡しが行われる基板受け渡し部と,基板の現像が行われる現像処理部とを並べて備え,
前記処理容器内には,前記基板受け渡し部と前記現像処理部との間を,基板の外側面を両側から把持した状態で基板を搬送する搬送機構が設けられ,
前記基板受け渡し部と前記現像処理部との間であって,前記搬送機構による基板の搬送路の上方には,基板に現像液を供給する現像液供給ノズルと,基板に気体を吹き付ける気体吹出しノズルが設けられ,
前記現像処理部には,基板に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルが設けられていることを特徴とする,現像処理装置。 - 前記洗浄液供給ノズルは,前記搬送機構による基板の搬送方向に対して直角方向に水平移動しながら基板に洗浄液を供給できることを特徴とする,請求項1に記載の現像処理装置。
- 前記洗浄液供給ノズルは,基板の上面に洗浄液を供給する上部ノズルと,基板の下面に洗浄液を供給する下部ノズルを,前記現像処理部内の基板を挟むようにして備え,
前記上部ノズルと前記下部ノズルは,前記基板の搬送方向の基板の一端部から他端部にわたり洗浄液を吐出できるように形成されていることを特徴とする,請求項2に記載の現像処理装置。 - 前記洗浄液供給ノズルは,前記現像処理部内の基板の上面と,当該基板の前記基板受け渡し部と反対の側面と,前記基板の下面とを囲む略U字型に形成されていることを特徴とする,請求項3に記載の現像処理装置。
- 前記基板受け渡し部と前記現像処理部の間であって,前記基板の搬送路の上方には,ノズル保持部が設けられ,
前記ノズル保持部には,前記基板受け渡し部から前記現像処理部に向かって,前記気体吹出しノズル,前記現像液供給ノズルがこの順に並べて設けられていることを特徴とする,請求項1〜4のいずれかに記載の現像処理装置。 - 前記基板の搬送路の下方側にも,気体吹出しノズルが設けられていることを特徴とする,請求項1〜5のいずれかに記載の現像処理装置。
- 基板の現像処理装置であって,
処理容器内に,処理容器の外部との間で基板の受け渡しが行われる基板受け渡し部と,基板の現像が行われる現像処理部とを並べて備え,
前記処理容器内には,前記基板受け渡し部と前記現像処理部との間を,基板の外側面を両側から把持した状態で基板を搬送する搬送機構が設けられ,
前記基板受け渡し部と前記現像処理部との間であって,前記搬送機構による基板の搬送路の上方には,基板に現像液を供給する現像液供給ノズルと,基板に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルと,基板に気体を吹き付ける気体吹出しノズルが設けられていることを特徴とする,現像処理装置。 - 前記基板受け渡し部と前記現像処理部の間であって,前記基板の搬送路の上方には,ノズル保持部が設けられ,
前記ノズル保持部には,前記基板受け渡し部から前記現像処理部に向かって,前記気体吹出しノズル,前記洗浄液供給ノズル,前記現像液供給ノズルがこの順に並べて設けられていることを特徴とする,請求項7に記載の現像処理装置。 - 前記基板の搬送路の下方にも洗浄液供給ノズルが設けられていることを特徴とする,請求項7又は8のいずれかに記載の現像処理装置。
- 前記基板の搬送路の下方にも気体吹出しノズルが設けられていることを特徴とする,請求項9に記載の現像処理装置。
- 前記基板受け渡し部と前記現像処理部の間であって,前記基板の搬送路の下方には,ノズル保持部が設けられ,
前記基板の搬送路の下方のノズル保持部には,前記基板受け渡し部から前記現像処理部に向かって,前記気体吹出しノズル,前記洗浄液供給ノズルがこの順に並べて設けられていることを特徴とする,請求項10に記載の現像処理装置。 - 前記基板受け渡し部と前記現像処理部との間にエアカーテンを形成するエア供給部を備えていることを特徴とする,請求項1〜11のいずれかに記載の現像処理装置。
- 前記気体吹出しノズルは,前記エア供給部を共用していることを特徴とする,請求項12に記載の現像処理装置。
- 前記処理容器には,前記基板受け渡し部側に給気口を形成され,前記現像処理部側に排気口が形成されていることを特徴とする,請求項1〜13のいずれかに記載の現像処理装置。
- 前記基板受け渡し部には,基板を支持する支持部材が設けられ,
前記搬送機構は,前記支持部材上の基板の外側面を把持できることを特徴とする,請求項1〜14のいずれかに記載の現像処理装置。 - 前記搬送機構は,基板の搬送方向に対し直角方向の基板の両側面を把持する把持部材と,当該把持部材を支持して前記直角方向に移動させる移動部材を備え,
前記把持部材と前記移動部材との間には,弾性体が介在されていることを特徴とする,請求項1〜15のいずれかに記載の現像処理装置。 - 把持する基板の反対側に位置する前記把持部材の後方側には,前記移動部材に固定された固定部材が設けられ,
前記固定部材と前記把持部材とは,弾性体を介して接続されていることを特徴とする,請求項16に記載の現像処理装置。 - 前記把持部材における基板の外側面との接触端面は,側面から見て内側に凹むように湾曲していることを特徴とする,請求項16又は17のいずれかに記載の現像処理装置。
- 請求項7〜11のいずれかに記載の現像処理装置を用いた現像処理方法であって,
基板受け渡し部の基板の外側面を前記搬送機構により把持する工程と,
現像液供給ノズルから現像液を吐出した状態で,基板受け渡し部の基板を前記搬送機構によって現像処理部に搬送し,前記基板上に現像液の液膜を形成する工程と,
前記現像処理部において基板を静止現像する工程と,
洗浄液供給ノズルから洗浄液を吐出した状態で,前記現像処理部と前記基板受け渡し部との間で基板を前記搬送機構により往復させ,前記基板上に洗浄液の液膜を形成する工程と,
気体吹出しノズルから気体を吹き出した状態で,前記現像処理部の基板を前記搬送機構により前記基板受け渡し部に搬送して,基板上の洗浄液を除去する工程と,を有することを特徴とする,現像処理方法。
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