CN111208714A - 显影设备及显影方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种显影设备及显影方法。该显影设备包括：机台，设置有用于承载待显影基材的显影区；支架，固定于机台上且位于显影区的侧方；导轨，固定于支架上，且该导轨的延伸方向与待显影基材在显影区内的传输方向相同；液刀，用于喷涂显影液，所述液刀设置于导轨上并位于显影区上方，且允许沿导轨的延伸方向移动。基于此，本发明设计液刀可沿导轨移动，其姿态和位置可被改变，有利于清除液刀背面及液刀底部沾粘的光刻胶，确保清洁效果及后续显影品质。

Description

显影设备及显影方法
技术领域
本发明涉及显影技术领域，具体涉及一种显影设备及显影方法。
背景技术
LCD(Liquid Crystal Display,液晶显示器)等显示装置的制造工艺通常包括阵列工艺，阵列工艺是在玻璃基板上有规则的做成TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶体管)器件、像素等图案(Pattern)的过程。阵列工艺中又包括对光刻胶(Photoresist，简称PR)进行处理的曝光显影工艺。曝光显影工艺需要在玻璃基板上涂布光刻胶，进行曝光，再在玻璃基板上由前端到后端依次喷涂显影液。显影液与曝光的光刻胶化学反应，从而在玻璃基板上形成相应的光刻胶图案。在这一环节当中，业界通常采用液刀向待显影的玻璃基板喷涂显影液。
在曝光显影工艺完成之后，需要对液刀进行清洁以去除沾粘于液刀上的光刻胶，以此确保后续显影品质。但是，当前的液刀一般采用螺丝锁附等方式固定，液刀姿态保持固定，导致液刀背面及液刀底部这些位置沾粘的光刻胶难以清除，而如果确保这些位置的清洁效果，则需要将液刀从所固定的机台上拆卸下来，操作较为复杂。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种显影设备及显影方法，以解决现有的液刀固定方式导致液刀清洗效果不佳而不利于确保显影品质的问题。
本发明提供的一种显影设备，包括：
机台，设置有用于承载待显影基材的显影区；
支架，固定于所述机台上且位于所述显影区的侧方；
导轨，固定于所述支架上，且所述导轨的延伸方向与所述待显影基材在所述显影区内的传输方向相同；
液刀，用于喷涂显影液，所述液刀设置于所述导轨上并位于所述显影区上方，且允许沿所述导轨的延伸方向移动。
可选地，所述显影设备还包括定位件，所述定位件设置于导轨上，并用于在液刀沿导轨移动至预定位置时将液刀定位在预定位置。
可选地，所述定位件包括套设于导轨上的第一旋转卡环和第二旋转卡环，所述第一旋转卡环和第二旋转卡环分设于液刀的两侧，并允许沿导轨相对旋转以缩小两者间距以此分别与液刀的两侧相抵接。
可选地，所述显影设备包括三个导轨，所述三个导轨垂直于待显影基材在显影区内的传输方向排布，所述三个导轨相互间隔设置。
可选地，所述三个导轨中相邻两个导轨之间的距离相等。
可选地，位于两侧的导轨均设置有第一旋转卡环和第二旋转卡环。
可选地，所述导轨的下部开设有轨道凹槽，所述液刀的上部设有滑块，所述滑块卡设于轨道凹槽内并允许沿轨道凹槽的延伸方向移动。
本发明提供的一种显影方法，包括：
将待显影基材承载于机台的显影区；
利用支架和导轨将液刀设置于所述机台上，其中所述支架固定于所述机台上且位于所述显影区的侧方，所述导轨固定于所述支架上，且其延伸方向与所述待显影基材在显影区内的传输方向相同；
将所述液刀沿所述导轨的延伸方向移动至所述显影区上方；
相对移动所述液刀和所述待显影基材，并利用所述液刀向所述显影区的待显影基材喷涂显影液并对所述待显影基材进行显影。
可选地，将所述液刀沿所述导轨的延伸方向移动至所述显影区上方之后，所述显影方法还包括：
在所述液刀沿导轨移动至预定位置时，利用设置于所述导轨上的定位件将所述液刀定位在所述预定位置。
可选地，所述利用设置于所述导轨上的定位件将所述液刀定位在所述预定位置，包括：
沿所述导轨相对旋转分设于所述液刀两侧的第一旋转卡环和第二旋转卡环，以缩小两者间距直至两者分别与所述液刀的两侧相抵接。
本发明通过支架和导轨将液刀设置于显影区上方，液刀可以沿导轨移动而改变其姿态和位置，从而有利于清除液刀背面及液刀底部这些位置沾粘的光刻胶，确保清洁效果及后续显影品质。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明一实施例的显影设备的局部结构示意图；
图2是本发明一实施例的液刀和导轨的装配示意图；
图3是图1所示显影设备的导轨一实施例的结构示意图；
图4是本发明一实施例的显影方法的流程示意图。
具体实施方式
为解决现有的液刀固定方式导致液刀清洗效果不佳而不利于确保显影品质的问题，本发明实施例采用导轨可移动方式设置液刀，液刀沿导轨移动而改变其姿态和位置，以此有利于清除液刀背面及液刀底部这些位置沾粘的光刻胶，确保清洁效果及后续显影品质。
下面结合附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而非全部实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。在不冲突的情况下，下述各个实施例及其技术特征可以相互组合。
图1是本发明一实施例的显影设备的局部结构示意图。结合图1所示，所述显影设备10包括机台11、支架12、导轨13及液刀14。
机台11设置有显影区111，该显影区111可参阅图中虚线所限定区域，其用于承载待显影基材，以允许待显影基材在显影区111内进行显影。在所述显影区111内，所述机台11可以设置有若干个传送轮121，这些传送轮121设置于多个转轴12上，各个传送轮121绕轴转动以传动位于其上的传送轮121转动，由此将位于其上的待显影基材沿预定的传输方向传送。
支架12固定于机台11上且位于显影区111的侧方。结合图1所示，该支架12可以为沿竖直方向延伸的条状结构，其固定于机台11的左侧，具体可以邻近设置于所述显影区111左侧的边缘。支架12与机台11的固定方式，本发明实施例并不予以限制，例如可以为螺丝锁附方式，具体地，支架12两端通过螺丝锁附固定于机台11上。
导轨13固定于支架12上，具体地，导轨13可以固定于支架12的朝向显影区111的一侧。该导轨13的延伸方向与待显影基材在显影区111内的传输方向相同，如图1所示，待显影基材在所述显影区111内的传输方向为水平从左往右，则导轨13为沿水平方向延伸设置的轨道状结构，其设置有允许液刀14水平从左往右移动。
液刀14设置于导轨13上，在一实施例中，请一并结合图1和图2所示，所述导轨13的下部可以开设有轨道凹槽131，所述液刀14的上部设有滑块141，该滑块141呈T字型设置以卡设于轨道凹槽131内，于此，滑块141可以沿轨道凹槽131的延伸方向移动。液刀14的下部开设有允许显影液喷出的槽口(图未示)，所述液刀14的延伸方向与支架12的延伸方向相同，例如均沿竖直方向设置，于此，液刀14从槽口喷出的面状显影液从上至下横跨显影区111。
在本发明实施例中，沿导轨13的延伸方向，将液刀14移动至所述显影区111的上方，当待显影基材进入显影区111后，液刀14通过其下部的槽口喷出显影液，显影液与待显影基材上曝光的光刻胶化学反应，从而在待显影基材上形成相应的光刻胶图案。
在完成显影工艺之后，本发明实施例控制液刀14沿导轨13移动，而改变其姿态和位置，姿态和位置的改变使得清洗液可以尽可能与液刀14外部的所有部位接触，以此有利于清除液刀14背面及液刀14底部这些位置沾粘的光刻胶，确保清洁效果及后续显影品质。
请继续参阅图1，所述显影设备10可以设置有三个导轨13，这三个导轨13垂直于所述待显影基材的传输方向排布，即沿竖直方向排布，且这三个导轨13相互之间间隔设置。液刀14的上部与这三个导轨13可以采用前述滑块141和轨道凹槽131相配合的方式设置。
鉴于液刀14悬挂于这三个导轨13的下方，为了确保各导轨13因液刀14受重力作用而受力均匀，相邻两个导轨13之间的距离相等，即这三个导轨13沿竖直方向等间距设置。
请一并参阅图1和图3，所述显影设备10还可以设置有定位件，该定位件设置于导轨13上，在所述液刀14沿导轨13移动至预定位置(例如显影液喷涂位置)时，将液刀14定位在该预定位置，从而避免在显影过程中液刀14位移而导致显影瑕疵。
在一具体实施例中，定位件可以采用卡环旋拧方式与导轨13结合以此将液刀14固定在预定位置。具体地，定位件包括套设于导轨13上的第一旋转卡环151和第二旋转卡环152，该第一旋转卡环151和第二旋转卡环152呈环状设置并套设于导轨13上，分设于液刀14的左右两侧。所述第一旋转卡环151和第二旋转卡环152的内侧可以设置有内螺纹，导轨13的外侧设置有外螺纹，这两个旋转卡环沿导轨13相对旋转而缩小两者间距，以此分别与液刀14的两侧相抵接，此时两个旋转卡环的间距不再改变，液刀14即固定在预定位置。
对于显影设备10设置有三个导轨13的情况，本发明实施例可以两侧的导轨13上设置第一旋转卡环151和第二旋转卡环152，即位于支架12上下两端的导轨13均设置有第一旋转卡环151和第二旋转卡环152，而中间的导轨13未均设置所述两个旋转卡环。
图4是本发明一实施例的显影方法的流程示意图。请参阅图4所示，所述显影方法包括如下步骤S41～S44。
S41：将待显影基材承载于机台的显影区。
S42：利用支架和导轨将液刀设置于机台上，其中所述支架固定于机台上且位于显影区的侧方，所述导轨固定于支架上，且其延伸方向与待显影基材在显影区内的传输方向相同。
S43：将液刀沿导轨的延伸方向移动至显影区上方。
S44：相对移动液刀和待显影基材，并利用液刀向显影区的待显影基材喷涂显影液并对所述待显影基材进行显影。
应该理解到，本发明实施例并不限定步骤S41～S44的先后顺序，例如可以在步骤S42和S43之后，再执行步骤S41。
在本实施例中，沿导轨的延伸方向，将液刀移动至所述显影区的上方，当待显影基材进入显影区后，液刀通过其下部的槽口喷出显影液，显影液与待显影基材上曝光的光刻胶化学反应，从而在待显影基材上形成相应的光刻胶图案。
在完成显影工艺之后，本实施例控制液刀沿导轨移动，而改变其姿态和位置，姿态和位置的改变使得清洗液可以尽可能与液刀外部的所有部位接触，以此有利于清除液刀背面及液刀底部这些位置沾粘的光刻胶，确保清洁效果及后续显影品质。
应该理解到，所述显影设备可以设置有多个导轨，举例而言，所述显影设备可以设置有三个导轨，这三个导轨垂直于所述待显影基材的传输方向排布，且这三个导轨相互之间间隔设置。液刀的上部与这三个导轨可以采用滑块和轨道凹槽相配合的方式设置，具体地，导轨的下部可开设有轨道凹槽，液刀的上部设有滑块，该滑块呈T字型设置以卡设于轨道凹槽内，于此，滑块可沿轨道凹槽的延伸方向移动。
进一步地，鉴于液刀悬挂于这三个导轨的下方，为了确保各导轨因液刀受重力作用而受力均匀，相邻两个导轨之间的距离相等，即这三个导轨沿竖直方向等间距设置。
为了避免在显影过程中液刀位移而导致显影瑕疵，在将液刀沿导轨的延伸方向移动至显影区上方之后，所述显影方法还可以包括步骤：在液刀沿导轨移动至预定位置时，利用设置于导轨上的定位件将液刀定位在所述预定位置。也就是说，所述显影设备还可以设置有定位件，该定位件设置于导轨上，在所述液刀沿导轨移动至预定位置(例如显影液喷涂位置)时，将液刀定位在该预定位置，从而避免在显影过程中液刀位移而导致显影瑕疵。
在一具体实施例中，定位件可以采用卡环旋拧方式与导轨结合以此将液刀固定在预定位置。具体地，定位件包括套设于导轨上的第一旋转卡环和第二旋转卡环，该第一旋转卡环和第二旋转卡环呈环状设置并套设于导轨上，分设于液刀的两侧。所述第一旋转卡环和第二旋转卡环的内侧可以设置有内螺纹，导轨的外侧设置有外螺纹，这两个旋转卡环沿导轨相对旋转而缩小两者间距，以此分别与液刀的两侧相抵接，此时两个旋转卡环的间距不再改变，液刀即固定在预定位置。
尽管已经相对于一个或多个实现方式示出并描述了本发明，但是本领域技术人员基于对本说明书和附图的阅读和理解将会想到等价变型和修改。本发明包括所有这样的修改和变型，并且仅由所附权利要求的范围限制。特别地关于由上述组件执行的各种功能，用于描述这样的组件的术语旨在对应于执行所述组件的指定功能(例如其在功能上是等价的)的任意组件(除非另外指示)，即使在结构上与执行本文所示的本说明书的示范性实现方式中的功能的公开结构不等同。
即，以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，例如各实施例之间技术特征的相互结合，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
另外，在本发明实施例的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。另外，对于特性相同或相似的结构元件，本发明可采用相同或者不相同的标号进行标识。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本发明中，“示例性”一词是用来表示“用作例子、例证或说明”。本发明中被描述为“示例性”的任何一个实施例不一定被解释为比其它实施例更加优选或更加具优势。为了使本领域任何技术人员能够实现和使用本发明，本发明给出了以上描述。在以上描述中，为了解释的目的而列出了各个细节。应当明白的是，本领域普通技术人员可以认识到，在不使用这些特定细节的情况下也可以实现本发明。在其它实施例中，不会对公知的结构和过程进行详细阐述，以避免不必要的细节使本发明的描述变得晦涩。因此，本发明并非旨在限于所示的实施例，而是与符合本发明所公开的原理和特征的最广范围相一致。

Claims (10)

1.一种显影设备，其特征在于，所述显影设备包括：
机台，设置有用于承载待显影基材的显影区；
支架，固定于所述机台上且位于所述显影区的侧方；
导轨，固定于所述支架上，且所述导轨的延伸方向与所述待显影基材在所述显影区内的传输方向相同；
液刀，用于喷涂显影液，所述液刀设置于所述导轨上并位于所述显影区上方，且允许沿所述导轨的延伸方向移动。
2.根据权利要求1所述的显影设备，其特征在于，所述显影设备还包括定位件，所述定位件设置于所述导轨上，并用于在所述液刀沿导轨移动至预定位置时将所述液刀定位在所述预定位置。
3.根据权利要求2所述的显影设备，其特征在于，所述定位件包括套设于所述导轨上的第一旋转卡环和第二旋转卡环，所述第一旋转卡环和第二旋转卡环分设于所述液刀的两侧，并允许沿所述导轨相对旋转以缩小两者间距以此分别与所述液刀的两侧相抵接。
4.根据权利要求3所述的显影设备，其特征在于，所述显影设备包括三个导轨，所述三个导轨垂直于所述待显影基材在所述显影区内的传输方向排布，所述三个导轨相互间隔设置。
5.根据权利要求4所述的显影设备，其特征在于，所述三个导轨中相邻两个导轨之间的距离相等。
6.根据权利要求4所述的显影设备，其特征在于，位于两侧的导轨均设置有所述第一旋转卡环和第二旋转卡环。
7.根据权利要求1所述的显影设备，其特征在于，所述导轨的下部开设有轨道凹槽，所述液刀的上部设有滑块，所述滑块卡设于所述轨道凹槽内并允许沿所述轨道凹槽的延伸方向移动。
8.一种显影方法，其特征在于，所述显影方法包括：
将待显影基材承载于机台的显影区；
利用支架和导轨将液刀设置于所述机台上，其中所述支架固定于所述机台上且位于所述显影区的侧方，所述导轨固定于所述支架上，且其延伸方向与所述待显影基材在显影区内的传输方向相同；
将所述液刀沿所述导轨的延伸方向移动至所述显影区上方；
相对移动所述液刀和所述待显影基材，并利用所述液刀向所述显影区的待显影基材喷涂显影液并对所述待显影基材进行显影。
9.根据权利要求8所述的显影方法，其特征在于，将所述液刀沿所述导轨的延伸方向移动至所述显影区上方之后，所述显影方法还包括：
在所述液刀沿导轨移动至预定位置时，利用设置于所述导轨上的定位件将所述液刀定位在所述预定位置。
10.根据权利要求9所述的显影方法，其特征在于，利用设置于所述导轨上的定位件将所述液刀定位在所述预定位置，包括：
沿所述导轨相对旋转分设于所述液刀两侧的第一旋转卡环和第二旋转卡环，以缩小两者间距直至两者分别与所述液刀的两侧相抵接。
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