JP4110903B2 - 電気光学装置における基板のラビング装置及びラビング方法 - Google Patents
電気光学装置における基板のラビング装置及びラビング方法 Download PDFInfo
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気光学装置における基板のラビング装置及びラビング方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
周知のように、液晶装置等の電気光学装置は、ガラス基板、石英基板等からなる2枚の基板間に液晶を封入して構成されており、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下、TFTと称す)等のスイッチング素子をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能としている。
【0003】
また、TFTを配置したTFT基板と、このTFT基板に相対して配置される対向基板とは、別々に製造され、この両基板は、パネル組み立て工程において高精度に貼り合わされた後、液晶が封入されるようになっている。
【0004】
このパネル組立工程は、先ず、各基板の製作工程において夫々製造されたTFT基板と対向基板とを対向させ、その対向面、即ち、対向基板及びTFT基板の液晶層と接する面上に、液晶分子を基板面に沿って配向させるための配向膜を形成する。この配向膜は、例えばポリイミドを約数十ナノメータの厚さで印刷することにより形成される。その後、焼成を行い、さらに、電圧無印加時の液晶分子の配列を決定させるためのラビング処理を施す。次いで、一方の基板上の端辺に接着剤となるシール部を形成し、このシール部を用いてTFT基板と対向基板を貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させ、その後シール部の一部に設けられた切り欠きを介して液晶を封入するといった手法が用いられている。
【0005】
ここで、ラビング処理とは、布等のクロス材で表面が形成されたラビングローラを、基板表面に形成された配向膜上に回転しながら直線的に摺動させて、基板配向膜表面に細かい溝を形成して配向膜を配向異方性の膜にするものであり、配向膜に一定方向の溝を形成するラビング処理を施すことで、液晶分子の配列を規定することができる。
【0006】
このラビング処理は、従来、図6に示すように、固定された基板150に対して直動する移動テーブル105に、回転軸が垂直となるようにラビングローラ101を配設したラビング装置100により行われていた。しかし、この装置100では、ラビングローラ101の表面に、例えば、1つの傷があるかまたは異物102が付着すると、ラビングローラ101が基板150の配向膜上を直線的に回転しながら摺動する際、配向膜に1本のスジ151がついてしまい、このスジ151がついた基板を使用して構成された液晶装置を、プロジェクタ等に用いて投影すると、画面にも1本のスジが写ってしまうといった問題があった。
【0007】
そこで、このような問題を解決するための手段として、図7に示すバイアスラビング装置200が一般的に用いられている。即ち、このバイアスラビング装置200は、基板250を、図6で示した基板150が配置された位置の中心軸線152をθ角だけ傾けることによりθ角回動した位置に配置し、これとともに、直動する移動テーブル205及びラビングローラ201も、図6で示した移動テーブル105及びラビングローラ101の配置位置の中心軸線103を任意の上記θ角と同じだけ傾けた位置に設定し、その後、ラビングローラ201で基板250の配向膜上を回転しながら直線的に摺動するようにしたもので、所謂、バイアスラビングを行うようにしたものである。
【0008】
このバイアスラビング装置200によれば、ラビングローラ201の表面に、例えば1つの傷があるかまたは異物202が付着したとしても、ラビングローラ201は、設定されたある角度θをもって基板250の配向膜上を、回転しながら直線的に摺動するため、配向膜につく傷は、1本のスジにはならず、ある幅を持った、ぼやけた傷251となる。これにより、基板をプロジェクタ等に用いて投影した際、画面に写る傷痕を軽減することができる。このバイアスラビングで用いられるバイアスラビング装置は、特許文献1等に種々開示されている。
【0009】
【特許文献1】
特開2002−31803号公報
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このようなバイアスラビング装置では、大型のラビングローラを支持する移動テーブルまで任意の所定角θ、傾けるために回動しなければならず、また、固定した基板に対して大型のラビングローラが移動することにより基板上に形成された配向膜をラビングするため、装置が大型化してしまうといった問題がある。
【0011】
さらに、ラビングローラを支持する移動テーブルのみならず、基板をも任意の所定角θに回動しなければならないため、角度精度を両者に求めなければならず、作業の効率が良くない。
【0012】
本発明は上記問題に着目してなされたものであり、その目的は、基板に形成された配向膜の表面にラビング処理を行う際、装置を小型化し、かつ効率良くラビングを行うことができる電気光学装置における基板のラビング装置及びラビング方法を提供するにある。
【0013】
【課題を解決するための手段及び作用】
本発明に係る電気光学装置における基板のラビング装置の一つの態様としては、基板上に形成された配向膜に、ラビングローラを当接させラビング処理を施す電気光学装置における基板のラビング装置において、上記ラビングローラを固定配置し、上記ラビングローラに対し、上記基板をX軸とY軸の2軸方向への移動制御によってバイアス角度を制御して進行させ、また基板のラビング開始位置を基板が変わる毎に異なる位置に設定し、ラビング開始位置にかかわらず同じバイアス角度で基板をラビングすることを特徴とする。
【0014】
また、本発明の電気光学装置における基板のラビング装置としては、回転軸が所定の平面内に固定配置され基板の配向膜をラビング処理するラビングローラと、上記基板を載置して移動するステージと、上記ステージを上記ラビングローラに対し、上記平面に平行な平面上に規定したX軸方向にガイドする第1のガイドと、上記ステージを上記ラビングローラに対し、上記平面に平行な平面上に規定したY軸方向にガイドする第2のガイドと、基板のラビング開始位置を基板が変わる毎に異なる位置に設定するラビング開始位置設定手段と、上記第1のガイドと第2のガイドの移動の制御を行い、上記ステージをラビング開始位置にかかわらず同じバイアス角度で進行させるステージ移動制御手段と、を具備することを特徴とする。
【0015】
本発明の電気光学装置における基板のラビング装置によれば、上記基板を載置した上記ステージを、上記第1のガイド及び上記第2のガイドを用いた平面上の2軸制御により、バイアス角度を設定して上記ラビングローラに対して移動させ当接させるので、上記基板のみを移動させるだけで、上記基板上に形成された配向膜のラビングを行うことができ、従って、装置を小型化することができるという効果を有する。
【0016】
また、本発明の電気光学装置における基板のラビング装置としては、上記ステージは、基板の位置を規定する回動台を有し、載置した基板を上記平面に平行な平面上で回動自在に支持することを特徴とする。
【0017】
この構成によれば、上記ステージは、配設された回動台によって、載置した上記基板を平面上に回動自在に支持することにより、バイアスラビング時のラビングローラに対する基板の平面上の当接角度を自在に調節することができるという効果を有する。
【0018】
また、本発明の電気光学装置における基板のラビング装置としては、上記ステージは、回動台に載置した基板の円周方向の位置を規定することを特徴とする。
【0019】
この構成によれば、上記ステージは、載置した基板の円周方向に対する位置を規定することにより、基板の処理枚数を増やしても、バイアスラビングを常に精度良く同角度で行うことができるという効果を有する。
【0020】
また、本発明の電気光学装置における基板のラビング装置としては、上記ステージは、載置した上記基板の位置を検出するCCDカメラを有していることを特徴とする。
【0021】
この構成によれば、ステージに載置した基板の位置決め用切り欠きにより、基板の位置決めを行う際、CCDカメラを用いることにより、確度良く基板の円周方向に対する位置決めを行うことができるという効果を有する。
【0022】
また、本発明の電気光学装置における基板のラビング装置としては、上記ステージは、配設された回動台の回動中心がラビング処理時に、回転する上記ラビングローラの軸方向の当接面の中心に少なくとも当接して移動することを特徴とする。
【0023】
この構成によれば、上記ステージに配設された回動台の回動中心が、上記制御手段による2軸制御により上記ラビングローラの軸方向の当接面の中心に必ず当接することにより、基板全面を効率良くバイアスラビングすることができるという効果を有する。
【0026】
本発明の電気光学装置における基板のラビング方法の1つの態様としては、固定配置されたラビングローラに、基板上に形成された配向膜を当接させてラビング処理を施すラビング処理工程において、基板の開始位置を基板が変わる毎に異なる位置に設定し、上記基板を平面上に規定したX軸とY軸の2軸方向への移動制御によりバイアス角度を制御し、前記設定された開始位置にかかわらず同じバイアス角度で前記ラビングローラに進行させラビングする工程を有することを特徴とする。
【0027】
また、本発明の電気光学装置における基板のラビング方法は、基板をステージ上に載置する工程と、載置した基板の位置のX軸方向の位置を規定する工程と、記ステージ上に載置した基板の位置を、CCDカメラによって検出する工程と、上記ステージ上に載置した基板の厚みを、厚み検出手段によって検出し、上記ラビングローラ及び上記ステージを上記ラビングローラの高さ方向に制御する工程と、上記ステージ上に載置した基板を、平面上に規定したX軸、Y軸の2軸の原点座標位置に移動させる工程と、上記2軸の原点座標位置に移動した上記ステージに載置した基板を、基板が変わる毎に異なるラビングの開始位置に移動させる工程と、上記ステージ上に載置した基板を、上記2軸方向への移動制御によってバイアス角度を制御してラビング開始位置が異なっても同じバイアス角度で進行させることにより上記ラビングローラに当接させ、載置した上記基板のラビングを行う工程と、を具備したことを特徴とする。
【0028】
本発明の電気光学装置における基板のラビング方法によれば、上記基板を載置した上記ステージを、平面上に規定した2軸によってバイアス角度を制御して上記ラビングローラに向けて移動させ当接させる工程により、上記基板のみを前記2軸でバイアス制御させるだけで、上記基板上に形成された配向膜のラビングを行うことができるため、効率良くラビングを行うことができ、かつ装置を小型化することができるという効果を有する。 また、本発明の電気光学装置は、上記基板のラビング方法によりラビング処理された基板を用いて構成される。
この構成によれば、電気光学装置に用いる基板の配向膜は、バイアスラビング処理によりラビングが施されていることにより、ラビングローラの表面に、例えば1つの傷があるかまたは異物が付着したとしても、基板に付着する傷が1本のスジにはならず、ぼやけた傷となるので、基板を電気光学装置に用いてプロジェクタ等で投影した際、画面に写る傷痕を軽減することができるという効果を有する。
【0029】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照にして本発明の実施の形態を説明する。
図1は、本発明の一実施の形態を示す電気光学装置における基板のラビング装置の構成を示した平面図、図2は図1のラビング装置を用いて行うラビング動作を説明した要部拡大平面図、図3は、図1のラビング装置における第1の回動台24の要部拡大平面図、図4は、図1のラビング装置におけるステージ台10及びステージ回動台11の要部拡大平面図である。
【0030】
本実施形態においてX軸方向とは、後述するラビングローラ2の回転軸2bと平行な方向のことであり、また、Y軸方向とは、ラビングローラ2の回転軸2bと直交する方向のことである。さらに、本実施形態は電気光学装置として液晶パネルを例に挙げて説明する。
【0031】
図1に示すように、ラビング装置1は、図示しない基台上面(以下、基準平面と称す)に対して固定されたラビングローラ2と、ラビング処理時に基板3を載置してX軸、Y軸を規定した上記基準平面に平行な平面上を移動するステージ10と、このステージ10に配設され、基板3を上記基準平面に平行な平面で回動自在に保持するステージ回動台11と、ステージ10をX軸方向にガイドする第1のガイド13と、この第1のガイド13をY軸方向にガイドする第2のガイド14と、第1のガイド13及び第2のガイド14の移動の制御を行う制御手段50と、ステージ10上に載置した基板3の厚みを測定する厚み測定機15と、配向膜の形成されたラビング処理前の基板3が複数枚収納された第1のキャリアカセット20と、この第1のキャリアカセット20から基板3を1枚づつ基板搬入室26に抽出する取出しハンド21と、一対の第1の基板保持アーム23を有し、この第1の基板保持アーム23で基板3を保持してステージ10に搬送する第1の搬送シャトル22と、この第1の搬送シャトル22の移動の制御を行う第1の搬送シャトル制御機構25と、上記基準平面に固定され、基板の第1の位置決めを行う第1の回動台24と、一対の第2の基板保持アーム33を有し、この第2の基板保持アーム33でラビング処理の終えた基板3を保持して後述する収納ハンド31に搬送するための第2の搬送シャトル32と、この第2の搬送シャトル32の移動の制御を行う第2の搬送シャトル制御機構35と、上記基準平面に固定され、ラビング処理後の基板3を必要に応じて収納方向を一定に整える第2の回動台34と、この第2の回動台34から搬送された基板3を収納する基板収納室36と、ラビング処理後の基板3を第2のキャリアカセット30に収納するための収納ハンド31とで、その主用部が構成されている。
【0032】
上記ラビングローラ2は、布等のクロス材で形成されたローラ周面2aを有するローラと、回転軸2bと、一対の軸受け2cとでその主用部が構成されており、回転軸2bは、一対の軸受け2cにより上記基準平面に平行な平面上に回転自在に軸支されている。一対の軸受け2cは、その各々の一端面が上記基準平面に固定されており、上記基準平面に対し高さ調節機構を有している。このように構成されたラビングローラ2は、軸受け2cで支持された回転軸2bを中心に周面2aが一方向に回転しながら基板3の表面に形成された配向膜に当接し、基板3の配向膜表面に細かい溝を形成して前記配向膜を配向異方性の膜にするものである。
【0033】
上記ステージ10は、ラビング処理時には制御手段50に位置を制御され、図示しないサーボモータ及びボールネジを用いた第1のガイド13及び第2のガイド14により上記基準平面に平行な平面を直線的に移動し、載置した基板3をラビングローラ2の周面2aに当接させ、摺動させることにより、基板3に形成された配向膜のラビングを行うものである。
【0034】
上記ステージ回動台11は、ステージ10の上面に配設され、後述するCCDカメラ11a(図4参照)を有し、このCCDカメラ11aで後述する載置した基板3のアライメントマーク3bを検出して上記基準平面に平行な平面上を回動し、基板3の円周方向に対する位置合わせを行うものである。
【0035】
上記厚み検出器15は、ステージ上に載置した基板3の厚みを検出し、ラビング処理時に、ラビングローラ2と基板3が適切な高さで当接するよう、ラビングローラ2、または基板3を載置するステージ10の上記基準平面に対する高さ方向を制御するものである。
【0036】
上記第1の回動台24は、後述するCCDカメラ24a(図3参照)を有し、このCCDカメラ24aで、載置した基板3の後述するアライメントマーク3bを検出して、上記基準平面に平行な平面上を回動し、基板3のX軸方向に対する位置合わせを行うものである。
【0037】
次にこのように構成されたラビング装置1を用いた基板3のラビング方法について説明する。
【0038】
まず、図1に示すように、配向膜が形成された基板3が複数枚収納された第1のキャリアカセット20から基板3を1枚づつ、取出しハンド21によって基板搬入室26に抽出する。次に、基板3を第1の基板保持アーム23で保持しながら第1の搬送シャトル制御機構25によって移動が制御される第1の搬送シャトル22で、上述したラビングローラ2を固定した上記基準平面と同一平面に固定された第1の回動台24に搬送し、回動台24上に載置する。
【0039】
第1の回動台24では、図3に示すように、載置した基板3のアライメントマーク3bを第1の回動台24に配設されたCCDカメラ24aで検出して、上記基準平面に平行な平面上を回動することにより、基板3の円周方向に対する仮の位置合わせを行う。
【0040】
次に、第1の位置合わせの終えた基板3を第1の基板保持アーム23で保持して図2のポジションAにステージ10を搬送し、このステージ10の上面に配設されたステージ回動台11に基板3を載置する。そして、図1に示す厚み測定機15により、ステージ10上に載置した基板3の厚みを検出し、ラビング処理時に、ラビングローラ2と基板3が適切な高さで当接するよう、ラビングローラ2、または基板3を載置するステージ10の上記基準平面に対する高さ方向を調節する。
【0041】
その後、図2に示すように、ステージ10を、制御手段50によってポジションAから第1のガイド13によってX軸方向、つまりラビングローラの軸方向に移動させ、次いで第2のガイド14によってY軸方向、つまりラビングローラ2の回転軸2bと直交する方向に移動させ、2軸の原点座標位置(不図示)に移動させ制御手段50に原点座標を認識させた後、図2のポジションBに移動させる。
【0042】
ポジションBに移動後、ステージ10のステージ回動台11上では、図4に示すように、この回動台11に配設されたCCDカメラ11aにより、載置した基板3のアライメントマーク3bを検出して、上記基準平面に平行な平面上を回動することにより、基板3のX軸方向に対する精密な位置合わせを行う。
【0043】
基板3の位置合わせ終了後、基板3を載置したステージ10を、上記ポジションBから図2のポジションCに、ラビングローラ2の当接面に対して所定のバイアス角度をもって当接、摺動するように上記基準平面に平行な平面上を直動させる。尚、このとき、ステージ10は、このステージ10に配設されたステージ回動台11の回動中心が、ローラ周面2aが回転する上記ラビングローラの軸方向の当接面の中心4に少なくとも当接するよう、第1のガイド13、第2のガイド14によって直動するよう階段状に移動する。このことにより、基板3に形成された配向膜は、ステージ10が直動した方向に所謂、バイアスラビングされる。
【0044】
ラビング終了後は、ラビングローラ2またはステージ10を上記基準平面に対し高さ方向に移動させ、ラビングローラの周面2aと、基板3の配向膜が当接しないように、第1のガイド13及び第2のガイド14により、ステージ10は、ポジションAに復帰する。
【0045】
ポジションAに復帰後、図1に示すように、基板3は、第2の基板保持アーム33により保持され、第2の搬送シャトル制御機構35により移動される第2の搬送シャトル32で搬送され、上述したラビングローラ2を固定した上記基準平面と同一平面に固定された第2の回動台34に載置される。その後、ラビング処理後の基板3を必要に応じて収納方向を一定に整えられた後、再度、第2の搬送シャトル32により、基板収納室36に搬送され、収納ハンド31により、ラビング処理後の基板3を第2のキャリアカセット30に収納する。このようにして、ラビング装置1により、基板3上に形成された配向膜のラビングが行われる。
【0046】
このように本発明の一実施の形態を示す電気光学装置における基板のラビング装置とそのラビング方法においては、ラビングローラ2の角度制御を行うことなく、基板3を載置したステージ台10を、平面上の2軸制御のみで、ラビングローラの傷または付着した異物により基板に形成された配向膜に直線状のスジが付くことを防止することができるバイアスラビングを行うことができるため、装置を小型化することができる。
【0047】
尚、本実施形態においては、上述したラビング装置1は、所定のバイアス角度θをもってラビングを行うようにしたが、これに限らず、バイアス角θは、上述した第1のガイド13及び第2のガイド14(図1、2参照)の可動範囲であれば、どの角度でも良いことは云うまでもない。
【0048】
また、バイアスラビング時、基板3を載置したステージ台10を2軸の原点座標位置(不図示)に移動させ制御手段50に原点座標を認識させた後、図2のポジションBに移動させポジションCまで直動させることにより、ラビングは行われると示したが、これに限らず、原点座標認識後、図2に示すポジションDに移動させ、その後ポジションEまで直動させることにより、ラビングを行っても良い。このことにより、ポジションA〜Cにステージ台10を移動させたときとは別方向のラビングを行うことができる。
【0049】
また、本実施形態においては、第1のガイド13は、ラビングローラ2の回転軸2bと平行な方向に移動し、また、上記第2のガイド14は、ラビングローラ2の回転軸2bと直交する方向に移動するとしたが、これに限らず、ラビングローラ2を固定した基準平面に平行な平面上の2軸であれば、どのように2軸を設定しても上述した実施形態と同様の効果が得られることは勿論である。
【0050】
さらに、図5に示すように、基板3をポジションBからポジションC、叉はポジションDからポジションEにステージ10を直動させ、上述したように、このステージ10に配設されたステージ回動台11の回動中心が、ローラ周面2aが回転する上記ラビングローラの軸方向の当接面の中心4に少なくとも当接するよう直動する経路▲1▼で基板3の配向膜をラビングした後、次の基板3の配向膜をラビングする際には、経路▲1▼からラビングローラ2の回転軸2bに直交する方向に上下にずらした図5に示す経路▲2▼でラビングを行い、さらに、次の基板3の配向膜をラビングする際には、経路▲2▼からさらにラビングローラ2の回転軸2bに直交する方向に上下にずらした図5に示す経路▲3▼でラビングを行うことにより、仮にラビングローラ2に異物等が付着したとしても、ラビング処理後の基板の配向膜への傷が付着する位置を基板によってずらすことができるため、製造工程における製品信頼性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施の形態を示すラビング装置の構成を示した平面図、
【図2】 図1のラビング装置によるラビング方法を示した要部拡大平面図、
【図3】 図1のラビング装置における第1の回動台の要部拡大平面図、
【図4】 図1のラビング装置におけるステージ台及びステージ回動台の要部拡大平面図、
【図5】 本発明の一実施の形態のラビング装置によるラビング方法の変形例を示す要部拡大平面図、
【図6】 従来のラビング装置の一例を示す平面図、
【図7】 バイアスラビングを行う従来のラビング装置の一例を示す平面図。
【符号の説明】
1…ラビング装置
2…ラビングローラ
3…基板
10…ステージ
11a,24a…CCDカメラ
13…第1のガイド
14…第2のガイド
50…制御手段
Claims (8)
- 基板上に形成された配向膜に、ラビングローラを当接させラビング処理を施す電気光学装置における基板のラビング装置において、
上記ラビングローラを固定配置し、上記ラビングローラに対し、上記基板をX軸とY軸の2軸方向への移動制御によってバイアス角度を制御して進行させ、また基板のラビング開始位置を基板が変わる毎に異なる位置に設定し、ラビング開始位置にかかわらず同じバイアス角度で基板をラビングすることを特徴とする電気光学装置における基板のラビング装置。 - 回転軸が所定の平面内に固定配置され基板の配向膜をラビング処理するラビングローラと、
上記基板を載置して移動するステージと、
上記ステージを上記ラビングローラに対し、上記平面に平行な平面上に規定したX軸方向にガイドする第1のガイドと、
上記ステージを上記ラビングローラに対し、上記平面に平行な平面上に規定したY軸方向にガイドする第2のガイドと、
基板のラビング開始位置を基板が変わる毎に異なる位置に設定するラビング開始位置設定手段と、
上記第1のガイドと第2のガイドの移動の制御を行い、上記ステージをラビング開始位置にかかわらず同じバイアス角度で進行させるステージ移動制御手段と、
を具備することを特徴とする電気光学装置における基板のラビング装置。 - 上記ステージは、基板の位置を規定する回動台を有し、載置した基板を上記平面に平行な平面上で回動自在に支持することを特徴とする請求項2に記載の電気光学装置における基板のラビング装置。
- 上記ステージは、回動台に載置した基板の円周方向の位置を規定することを特徴とする請求項2または3に記載の電気光学装置における基板のラビング装置。
- 上記ステージは、載置した上記基板の位置を検出するCCDカメラを有していることを特徴とする請求項2または3あるいは4に記載の電気光学装置における基板のラビング装置。
- 上記ステージは、配設された回動台の回動中心がラビング処理時に、回転する上記ラビングローラの軸方向の当接面の中心に少なくとも当接して移動することを特徴とする請求項2に記載の電気光学装置における基板のラビング装置。
- 固定配置されたラビングローラに、基板上に形成された配向膜を当接させてラビング処理を施すラビング処理工程において、
基板の開始位置を基板が変わる毎に異なる位置に設定し、上記基板を平面上に規定したX軸とY軸の2軸方向への移動制御によりバイアス角度を制御し、前記設定された開始位置にかかわらず同じバイアス角度で前記ラビングローラに進行させラビングする工程を有することを特徴とする電気光学装置における基板のラビング方法。 - 基板をステージ上に載置する工程と、
載置した基板の位置のX軸方向の位置を規定する工程と、
上記ステージ上に載置した基板の位置を、CCDカメラによって検出する工程と、
上記ステージ上に載置した基板の厚みを、厚み検出手段によって検出し、上記ラビングローラ及び上記ステージを上記ラビングローラの高さ方向に制御する工程と、
上記ステージ上に載置した基板を、平面上に規定したX軸、Y軸の2軸の原点座標位置に移動させる工程と、
上記2軸の原点座標位置に移動した上記ステージに載置した基板を、基板が変わる毎に異なるラビングの開始位置に移動させる工程と、
上記ステージ上に載置した基板を、上記2軸方向への移動制御によってバイアス角度を制御してラビング開始位置が異なっても同じバイアス角度で進行させることにより上記ラビングローラに当接させ、載置した上記基板のラビングを行う工程と、
を具備したことを特徴とする電気光学装置における基板のラビング方法。
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