JPH10284824A - プリント配線基板の製造方法及びローラ回転式コンベア - Google Patents
プリント配線基板の製造方法及びローラ回転式コンベアInfo
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- JPH10284824A JPH10284824A JP8177497A JP8177497A JPH10284824A JP H10284824 A JPH10284824 A JP H10284824A JP 8177497 A JP8177497 A JP 8177497A JP 8177497 A JP8177497 A JP 8177497A JP H10284824 A JPH10284824 A JP H10284824A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 レジスト膜形成基板の移送の際に基板のレジ
スト膜に傷が入らない移送方法を開発し、プリント配線
基板の不良率を低減する。 【解決手段】 導電性被膜を表面に有する基板の両面に
レジスト膜を形成した長方形状の両面レジスト膜形成基
板に、露光、現像及びエッチングを行ってプリント配線
基板を製造する方法において、レジスト膜形成基板の移
送にローラ回転式コンベアを用い、レジスト膜形成基板
の配線回路を形成しない左右端部のみが該回転ローラに
接触して、該基板が移動するようにしてなることを特徴
とするプリント配線基板の製造方法及びこの方法に使用
するレジスト膜形成基板移送用ローラ回転式コンベア。
スト膜に傷が入らない移送方法を開発し、プリント配線
基板の不良率を低減する。 【解決手段】 導電性被膜を表面に有する基板の両面に
レジスト膜を形成した長方形状の両面レジスト膜形成基
板に、露光、現像及びエッチングを行ってプリント配線
基板を製造する方法において、レジスト膜形成基板の移
送にローラ回転式コンベアを用い、レジスト膜形成基板
の配線回路を形成しない左右端部のみが該回転ローラに
接触して、該基板が移動するようにしてなることを特徴
とするプリント配線基板の製造方法及びこの方法に使用
するレジスト膜形成基板移送用ローラ回転式コンベア。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レジスト膜形成基
板の移送の際の基板の傷つきを改良したプリント配線基
板の製造方法及びレジスト膜形成基板移送用ローラ回転
式コンベアに関する。
板の移送の際の基板の傷つきを改良したプリント配線基
板の製造方法及びレジスト膜形成基板移送用ローラ回転
式コンベアに関する。
【０００２】
【従来の技術及び解決すべき課題】従来、レジスト膜を
有する基板からリソグラフ法によりプリント配線基板を
製造する場合、現像工程やエッチング工程などの工程に
おいて、基板を移送するのにローラ式コンベアが用いら
れており、基板がローラの上に置かれ、基板の端から中
央部まで種々の箇所がローラに接触して移送されてい
た。
有する基板からリソグラフ法によりプリント配線基板を
製造する場合、現像工程やエッチング工程などの工程に
おいて、基板を移送するのにローラ式コンベアが用いら
れており、基板がローラの上に置かれ、基板の端から中
央部まで種々の箇所がローラに接触して移送されてい
た。
【０００３】上記従来方法においては、ローラに接触し
た基板の回路形成箇所のレジスト膜にも傷が入り、最終
的に得られるプリント配線基板の回路に傷や線とびなど
の欠陥が発生しやすくなるという問題があった。
た基板の回路形成箇所のレジスト膜にも傷が入り、最終
的に得られるプリント配線基板の回路に傷や線とびなど
の欠陥が発生しやすくなるという問題があった。
【０００４】本発明は、現像工程及び／又はエッチング
工程において、基板の移送の際に基板のレジストに傷が
入らない移送方法を開発し、プリント配線基板の不良率
を低減することを目的とするものである。
工程において、基板の移送の際に基板のレジストに傷が
入らない移送方法を開発し、プリント配線基板の不良率
を低減することを目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するためローラ式コンベアを用いた基板の移送に
ついて検討の結果、ローラと基板の回路形成部のレジス
ト膜とを接触させないで基板を移送できる方法を見出し
本発明を完成するに至った。
を達成するためローラ式コンベアを用いた基板の移送に
ついて検討の結果、ローラと基板の回路形成部のレジス
ト膜とを接触させないで基板を移送できる方法を見出し
本発明を完成するに至った。
【０００６】すなわち、本発明は、導電性被膜を表面に
有する基板の両面にレジスト膜を形成した長方形状の両
面レジスト膜形成基板に、露光、現像及びエッチングを
行ってプリント配線基板を製造する方法において、レジ
スト膜形成基板の移送にローラ回転式コンベアを用い、
レジスト膜形成基板の配線回路を形成しない左右端部の
みが該回転ローラに接触して、該基板が移動するように
してなることを特徴とするプリント配線基板の製造方法
を提供するものである。
有する基板の両面にレジスト膜を形成した長方形状の両
面レジスト膜形成基板に、露光、現像及びエッチングを
行ってプリント配線基板を製造する方法において、レジ
スト膜形成基板の移送にローラ回転式コンベアを用い、
レジスト膜形成基板の配線回路を形成しない左右端部の
みが該回転ローラに接触して、該基板が移動するように
してなることを特徴とするプリント配線基板の製造方法
を提供するものである。
【０００７】また本発明は、コンベアの移送方向に対し
て回転軸が垂直な複数の回転ローラがコンベアの左右部
に配置され、該回転ローラにレジスト膜形成基板の左右
端部のみが接触することによってレジスト膜形成基板を
移送可能なコンベアであって、レジスト膜形成基板の左
右端部と回転ローラとの接触部より外側にレジスト塗装
板の位置調整用壁面を有するガイドが設けられ、該壁面
は２列で、該壁面間をレジスト膜形成基板が、回転する
回転ローラとの接触により通過可能であり、且つレジス
ト膜形成基板の幅に応じて、左右の回転ローラ間の距離
及びガイドの位置調整用壁面間の距離が調整可能である
レジスト膜形成基板移送用ローラ回転式コンベアを提供
するものである。
て回転軸が垂直な複数の回転ローラがコンベアの左右部
に配置され、該回転ローラにレジスト膜形成基板の左右
端部のみが接触することによってレジスト膜形成基板を
移送可能なコンベアであって、レジスト膜形成基板の左
右端部と回転ローラとの接触部より外側にレジスト塗装
板の位置調整用壁面を有するガイドが設けられ、該壁面
は２列で、該壁面間をレジスト膜形成基板が、回転する
回転ローラとの接触により通過可能であり、且つレジス
ト膜形成基板の幅に応じて、左右の回転ローラ間の距離
及びガイドの位置調整用壁面間の距離が調整可能である
レジスト膜形成基板移送用ローラ回転式コンベアを提供
するものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明方法において、レジスト膜
形成基板は、導電性被膜を表面に有する基板の両面にレ
ジスト膜を形成した長方形状の塗装基板である。
形成基板は、導電性被膜を表面に有する基板の両面にレ
ジスト膜を形成した長方形状の塗装基板である。
【０００９】上記レジスト膜を形成する導電性被膜を表
面に有する基板としては、例えば、ガラス−エポキシ板
などのプラスチック板やプラスチックフィルム等の電気
絶縁性の平板状基材上に、銅、アルミニウムなどの金属
箔を接着することによって、あるいは銅などの金属又は
導電性酸化物などの化合物を、メッキ、真空蒸着又は化
学蒸着などの方法で導電性皮膜を形成した基板；金属な
どの導電体パターンを形成した基板上に絶縁性樹脂層を
設け、この樹脂層にレーザー加工又は写真法などにより
穴開けを行い、ついで銅メッキなどの方法によってスル
ーホール内面を含む絶縁性樹脂層表面に導電性皮膜を形
成してなる多層基板などを挙げることができる。
面に有する基板としては、例えば、ガラス−エポキシ板
などのプラスチック板やプラスチックフィルム等の電気
絶縁性の平板状基材上に、銅、アルミニウムなどの金属
箔を接着することによって、あるいは銅などの金属又は
導電性酸化物などの化合物を、メッキ、真空蒸着又は化
学蒸着などの方法で導電性皮膜を形成した基板；金属な
どの導電体パターンを形成した基板上に絶縁性樹脂層を
設け、この樹脂層にレーザー加工又は写真法などにより
穴開けを行い、ついで銅メッキなどの方法によってスル
ーホール内面を含む絶縁性樹脂層表面に導電性皮膜を形
成してなる多層基板などを挙げることができる。
【００１０】上記基板に形成するレジストは、液状レジ
スト、ドライフィルムレジストのいずれであってもよ
く、ネガ型フォトレジスト、ポジ型フォトレジストのい
ずれも使用することができる。またレジストの乾燥膜厚
は、特に限定されるものではないが、通常、５〜２００
μｍ、好ましくは１０〜１００μｍの範囲であることが
好適である。
スト、ドライフィルムレジストのいずれであってもよ
く、ネガ型フォトレジスト、ポジ型フォトレジストのい
ずれも使用することができる。またレジストの乾燥膜厚
は、特に限定されるものではないが、通常、５〜２００
μｍ、好ましくは１０〜１００μｍの範囲であることが
好適である。
【００１１】本発明方法は、上記レジスト膜形成基板
に、リソグラフィー法により露光、現像及びエッチング
を行ってプリント配線基板を製造する方法である。本発
明方法は、エッチング後、必要に応じて、残存レジスト
膜を除去してプリント配線基板を製造する方法も包含す
る。露光、現像、エッチング及び残存レジスト膜の除去
の条件は、プリント配線基板の製造における従来公知の
条件を適用することができる。
に、リソグラフィー法により露光、現像及びエッチング
を行ってプリント配線基板を製造する方法である。本発
明方法は、エッチング後、必要に応じて、残存レジスト
膜を除去してプリント配線基板を製造する方法も包含す
る。露光、現像、エッチング及び残存レジスト膜の除去
の条件は、プリント配線基板の製造における従来公知の
条件を適用することができる。
【００１２】本発明方法においては、上記プリント配線
基板の製造におけるレジスト膜形成基板の移送の際、例
えば、現像工程やエッチング工程における基板の移送の
際に、ローラ回転式コンベアを用い、レジスト膜形成基
板における配線回路を形成しない左右端部のみが該回転
ローラに接触して、該基板が移送される。
基板の製造におけるレジスト膜形成基板の移送の際、例
えば、現像工程やエッチング工程における基板の移送の
際に、ローラ回転式コンベアを用い、レジスト膜形成基
板における配線回路を形成しない左右端部のみが該回転
ローラに接触して、該基板が移送される。
【００１３】現像工程においては、レジスト膜と現像液
とが接触しレジスト膜強度が低下しやすいため、回転ロ
ーラに接触するレジスト膜に傷が付きやすくなる。ま
た、エッチング工程においては、レジスト膜とエッチン
グ液とが接触しレジスト膜強度が低下しやすいため、回
転ローラに接触するレジスト膜に傷が付きやすくなる。
レジスト膜に傷が付くと、エッチング工程において、そ
の傷からエッチング液が侵入し下の導電性被膜を溶解、
剥離してしまい、そこに回路がある場合、回路に線とび
や傷が発生する。
とが接触しレジスト膜強度が低下しやすいため、回転ロ
ーラに接触するレジスト膜に傷が付きやすくなる。ま
た、エッチング工程においては、レジスト膜とエッチン
グ液とが接触しレジスト膜強度が低下しやすいため、回
転ローラに接触するレジスト膜に傷が付きやすくなる。
レジスト膜に傷が付くと、エッチング工程において、そ
の傷からエッチング液が侵入し下の導電性被膜を溶解、
剥離してしまい、そこに回路がある場合、回路に線とび
や傷が発生する。
【００１４】本発明方法における上記移送方法による
と、回転ローラに接触するのは配線回路を形成しない基
板の左右端部のみであり、この箇所のレジスト膜に傷が
ついても、この箇所はもともと回路を形成させない箇所
であり、この箇所の導電性被膜は最終的に除去されてし
まうため回路形成に支障はない。
と、回転ローラに接触するのは配線回路を形成しない基
板の左右端部のみであり、この箇所のレジスト膜に傷が
ついても、この箇所はもともと回路を形成させない箇所
であり、この箇所の導電性被膜は最終的に除去されてし
まうため回路形成に支障はない。
【００１５】上記移送方法において、レジスト膜形成基
板を円滑に移送するために、必要に応じて、移送時にお
ける回転ローラ上での基板の位置を調整する、位置調整
用壁面を有するガイドを設けることができる。このガイ
ドの位置調整用壁面は２列に並べられており、この壁面
間を上記基板が通過可能であり、該壁面間の距離が上記
基板の幅より１〜２０ｍｍ、さらには２〜１２ｍｍ長く
なるように設定しておくことが好ましい。回転ローラ
が、基板の左右端部（通常、端から５〜２０ｍｍ程度の
幅の部分）に接触して基板を運んでいくが、基板がずれ
たときにガイドの壁面に基板が当たり、それ以上に基板
がずれない目的でガイドが設けられる。
板を円滑に移送するために、必要に応じて、移送時にお
ける回転ローラ上での基板の位置を調整する、位置調整
用壁面を有するガイドを設けることができる。このガイ
ドの位置調整用壁面は２列に並べられており、この壁面
間を上記基板が通過可能であり、該壁面間の距離が上記
基板の幅より１〜２０ｍｍ、さらには２〜１２ｍｍ長く
なるように設定しておくことが好ましい。回転ローラ
が、基板の左右端部（通常、端から５〜２０ｍｍ程度の
幅の部分）に接触して基板を運んでいくが、基板がずれ
たときにガイドの壁面に基板が当たり、それ以上に基板
がずれない目的でガイドが設けられる。
【００１６】本発明製造方法においては、レジスト膜形
成基板の移送を上記ローラ回転式コンベアを用いて行
う。この基板の移送は、現像工程やエッチング工程にお
ける基板の移送に適用するのが特に効果的であるが、こ
れら以外の工程や各工程間の移送に使用することも本発
明製造方法に包含される。
成基板の移送を上記ローラ回転式コンベアを用いて行
う。この基板の移送は、現像工程やエッチング工程にお
ける基板の移送に適用するのが特に効果的であるが、こ
れら以外の工程や各工程間の移送に使用することも本発
明製造方法に包含される。
【００１７】本発明方法に使用できる本発明ローラ回転
式コンベアを後記図１、図２及び図３を参照して以下に
説明する。図１は、本発明ローラ回転式コンベアであっ
て、ガイド回転式の場合の一例を示す平面説明図であ
る。図２は、本発明ローラ回転式コンベアであって、ガ
イド一体式の場合の一例を示す平面説明図である。図２
のガイド一体式の本発明ローラ回転式コンベアにおい
て、ガイド、回転ローラの位置調整を示す平面説明図で
ある。
式コンベアを後記図１、図２及び図３を参照して以下に
説明する。図１は、本発明ローラ回転式コンベアであっ
て、ガイド回転式の場合の一例を示す平面説明図であ
る。図２は、本発明ローラ回転式コンベアであって、ガ
イド一体式の場合の一例を示す平面説明図である。図２
のガイド一体式の本発明ローラ回転式コンベアにおい
て、ガイド、回転ローラの位置調整を示す平面説明図で
ある。
【００１８】本発明ローラ回転式コンベアは、コンベア
の移送方向に対して回転軸が垂直な複数の回転ローラが
コンベアの左右部に配置され、該回転ローラにレジスト
膜形成基板の左右端部のみが接触することによってレジ
スト膜形成基板を移送可能なコンベアであって、レジス
ト膜形成基板の左右端部と回転ローラとの接触部より外
側にレジスト塗装板の位置調整用壁面を有するガイドが
設けられ、該壁面は２列で、該壁面間をレジスト膜形成
基板が回転ローラにより通過可能であり、レジスト膜形
成基板の幅に応じて、左右の回転ローラ間の距離及びガ
イドの位置調整用壁面間の距離が調整可能となってい
る。
の移送方向に対して回転軸が垂直な複数の回転ローラが
コンベアの左右部に配置され、該回転ローラにレジスト
膜形成基板の左右端部のみが接触することによってレジ
スト膜形成基板を移送可能なコンベアであって、レジス
ト膜形成基板の左右端部と回転ローラとの接触部より外
側にレジスト塗装板の位置調整用壁面を有するガイドが
設けられ、該壁面は２列で、該壁面間をレジスト膜形成
基板が回転ローラにより通過可能であり、レジスト膜形
成基板の幅に応じて、左右の回転ローラ間の距離及びガ
イドの位置調整用壁面間の距離が調整可能となってい
る。
【００１９】図１において、移送方向に垂直で且つ水平
な回転軸１がほぼ等間隔に支持台（図示せず）に複数個
配置されており、回転軸１の両端部が支持台に保持され
るようになっている。各回転軸１の左右には回転ローラ
２がピンなどによって固定されており、回転軸１本に回
転ローラが２個取付けられている。回転軸１はモーター
など（図示せず）によって回転し、回転軸１の回転とと
もに回転ローラ２が回転し、回転ローラ２上のレジスト
膜形成基板３を移送できる。各回転ローラは、回転軸１
本に２個設けられており、その回転ローラの一つに基板
の右端部又は左端部が接触し、左右２個の回転ローラで
基板を支持、移送するようになっている。基板に接触す
る回転ローラの上端部は、隣接する前後左右の回転ロー
ラにおいて、平面を形成する位置関係にあることが移送
性の点で好適である。
な回転軸１がほぼ等間隔に支持台（図示せず）に複数個
配置されており、回転軸１の両端部が支持台に保持され
るようになっている。各回転軸１の左右には回転ローラ
２がピンなどによって固定されており、回転軸１本に回
転ローラが２個取付けられている。回転軸１はモーター
など（図示せず）によって回転し、回転軸１の回転とと
もに回転ローラ２が回転し、回転ローラ２上のレジスト
膜形成基板３を移送できる。各回転ローラは、回転軸１
本に２個設けられており、その回転ローラの一つに基板
の右端部又は左端部が接触し、左右２個の回転ローラで
基板を支持、移送するようになっている。基板に接触す
る回転ローラの上端部は、隣接する前後左右の回転ロー
ラにおいて、平面を形成する位置関係にあることが移送
性の点で好適である。
【００２０】図１において、ガイド４は左右の各回転ロ
ーラのすぐ外側となる位置に２列にピンなどによって固
定されており、回転軸１の回転とともに回転する。ガイ
ド４は回転ローラに面する側に位置調整用壁面５を有す
る。基板３が回転ローラの上端部に接し回転によって移
送されていく際に、振動、回転ムラなどによって基板３
の位置がずれることがあるが、ずれた際にガイド４の位
置調整用壁面５に基板３があたって、一定以上に基板が
ずれないようにできる。位置調整用壁面５は、潤滑性の
良い表面であることが好ましい。左右の位置調整用壁面
間の距離は、基板３の幅より１〜２０ｍｍ程度、好まし
くは１〜１２ｍｍ程度長くすることが適当である。上記
壁面間の距離調整のためガイド４は回転軸１に沿って移
動可能であり、また回転ローラも移動可能となってい
る。ガイド４と回転ローラ２とは連結させていてもよ
く、これによってガイド４の位置調整を行うことによっ
て自動的に回転ローラ２の位置調整を行うことが可能と
なる。
ーラのすぐ外側となる位置に２列にピンなどによって固
定されており、回転軸１の回転とともに回転する。ガイ
ド４は回転ローラに面する側に位置調整用壁面５を有す
る。基板３が回転ローラの上端部に接し回転によって移
送されていく際に、振動、回転ムラなどによって基板３
の位置がずれることがあるが、ずれた際にガイド４の位
置調整用壁面５に基板３があたって、一定以上に基板が
ずれないようにできる。位置調整用壁面５は、潤滑性の
良い表面であることが好ましい。左右の位置調整用壁面
間の距離は、基板３の幅より１〜２０ｍｍ程度、好まし
くは１〜１２ｍｍ程度長くすることが適当である。上記
壁面間の距離調整のためガイド４は回転軸１に沿って移
動可能であり、また回転ローラも移動可能となってい
る。ガイド４と回転ローラ２とは連結させていてもよ
く、これによってガイド４の位置調整を行うことによっ
て自動的に回転ローラ２の位置調整を行うことが可能と
なる。
【００２１】図２においては、１本の回転軸１に回転ロ
ーラ２が１個取付けられており、左右の回転ローラ２同
志を結合する回転軸は存在しない。またガイド４は、左
右それぞれの側で複数の回転ローラ２に対して１個のガ
イド４の位置調整用壁面５が対面する形となっている。
片側の回転ローラの全部が１個のガイドに対向し、ガイ
ドの数が両側で合計２個であってもよい。図２において
は、６本の回転軸１、６個の回転ローラ２及び１個のガ
イド４が結合している。また回転軸１の回転とともに回
転ローラ２が回転するが、ガイド４は静置しており回転
しない。図２に示すローラ回転式コンベアは、上記の点
で図１のローラ回転式コンベアと異なるものである。
ーラ２が１個取付けられており、左右の回転ローラ２同
志を結合する回転軸は存在しない。またガイド４は、左
右それぞれの側で複数の回転ローラ２に対して１個のガ
イド４の位置調整用壁面５が対面する形となっている。
片側の回転ローラの全部が１個のガイドに対向し、ガイ
ドの数が両側で合計２個であってもよい。図２において
は、６本の回転軸１、６個の回転ローラ２及び１個のガ
イド４が結合している。また回転軸１の回転とともに回
転ローラ２が回転するが、ガイド４は静置しており回転
しない。図２に示すローラ回転式コンベアは、上記の点
で図１のローラ回転式コンベアと異なるものである。
【００２２】図２のローラ回転式コンベアにおいて、ガ
イド４は左右に移動可能なように、例えばスライダーを
介するなどの方法によって支持台に保持されており、基
板３の幅に応じて回転ローラ２及びガイド４の位置を調
整するときには、図３に示すように、ガイド４の位置を
調整することによって自動的に連動する６個の回転ロー
ラ２の位置を調整することができるので、位置調整の手
間を少なくすることができる。
イド４は左右に移動可能なように、例えばスライダーを
介するなどの方法によって支持台に保持されており、基
板３の幅に応じて回転ローラ２及びガイド４の位置を調
整するときには、図３に示すように、ガイド４の位置を
調整することによって自動的に連動する６個の回転ロー
ラ２の位置を調整することができるので、位置調整の手
間を少なくすることができる。
【００２３】
【発明の効果】本発明方法によって、現像工程やエッチ
ング工程などにおけるレジスト膜形成基板の移送の際
に、基板の回路を形成する箇所のレジスト膜と回転ロー
ルとが接触することがなくなり、上記箇所のレジスト膜
に傷が入らないようにできるので、プリント配線基板製
造における不良率を低減することができる。
ング工程などにおけるレジスト膜形成基板の移送の際
に、基板の回路を形成する箇所のレジスト膜と回転ロー
ルとが接触することがなくなり、上記箇所のレジスト膜
に傷が入らないようにできるので、プリント配線基板製
造における不良率を低減することができる。
【図１】本発明ローラ回転式コンベアであって、ガイド
回転式の場合の一例を示す平面説明図である。
回転式の場合の一例を示す平面説明図である。
【図２】本発明ローラ回転式コンベアであって、ガイド
一体式の場合の一例を示す平面説明図である。
一体式の場合の一例を示す平面説明図である。
【図３】図２のガイド一体式の本発明ローラ回転式コン
ベアにおいて、ガイド、回転ローラの位置調整を示す平
面説明図である。
ベアにおいて、ガイド、回転ローラの位置調整を示す平
面説明図である。
１……回転軸、 ２……回転ローラ、 ３……レジスト
膜形成基板、４……ガイド、 ５……位置調整用壁面。
膜形成基板、４……ガイド、 ５……位置調整用壁面。
Claims (4)
- 【請求項１】 導電性被膜を表面に有する基板の両面に
レジスト膜を形成した長方形状の両面レジスト膜形成基
板に、露光、現像及びエッチングを行ってプリント配線
基板を製造する方法において、レジスト膜形成基板の移
送にローラ回転式コンベアを用い、レジスト膜形成基板
の配線回路を形成しない左右端部のみが該回転ローラに
接触して、該基板が移動するようにしてなることを特徴
とするプリント配線基板の製造方法。 - 【請求項２】 ローラ回転式コンベアに、レジスト膜形
成基板を円滑に移送するための位置調整用壁面を有する
ガイドが設けられており、該壁面は２列で、該壁面間を
レジスト膜形成基板が通過可能であり、該壁面間の距離
が、レジスト膜形成基板の幅より１〜１２ｍｍ長くなる
ように設定してなることを特徴とする請求項１記載のプ
リント配線基板の製造方法。 - 【請求項３】 レジスト膜形成基板の現像後の水洗工程
及び／又はエッチング後の水洗工程において、水洗後の
水切り乾燥をエアナイフにより行うことを特徴とする請
求項１又は２記載のプリント配線基板の製造方法。 - 【請求項４】 コンベアの移送方向に対して回転軸が垂
直な複数の回転ローラがコンベアの左右部に配置され、
該回転ローラにレジスト膜形成基板の左右端部のみが接
触することによってレジスト膜形成基板を移送可能なコ
ンベアであって、レジスト膜形成基板の左右端部と回転
ローラとの接触部より外側にレジスト塗装板の位置調整
用壁面を有するガイドが設けられ、該壁面は２列で、該
壁面間をレジスト膜形成基板が、回転する回転ローラと
の接触により通過可能であり、且つレジスト膜形成基板
の幅に応じて、左右の回転ローラ間の距離及びガイドの
位置調整用壁面間の距離が調整可能であるレジスト膜形
成基板移送用ローラ回転式コンベア。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8177497A JPH10284824A (ja) | 1997-04-01 | 1997-04-01 | プリント配線基板の製造方法及びローラ回転式コンベア |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8177497A JPH10284824A (ja) | 1997-04-01 | 1997-04-01 | プリント配線基板の製造方法及びローラ回転式コンベア |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10284824A true JPH10284824A (ja) | 1998-10-23 |
Family
ID=13755835
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8177497A Pending JPH10284824A (ja) | 1997-04-01 | 1997-04-01 | プリント配線基板の製造方法及びローラ回転式コンベア |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10284824A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006273461A (ja) * | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Fujitsu Ltd | 配線基板の搬送機構 |
| JP2010159105A (ja) * | 2009-01-07 | 2010-07-22 | Fujitsu Ltd | ローラーコンベア |
-
1997
- 1997-04-01 JP JP8177497A patent/JPH10284824A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006273461A (ja) * | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Fujitsu Ltd | 配線基板の搬送機構 |
| JP2010159105A (ja) * | 2009-01-07 | 2010-07-22 | Fujitsu Ltd | ローラーコンベア |
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