JP4616733B2 - 露光装置 - Google Patents
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Description
プリント配線基板の露光装置において、フォトマスクやプラテンに塵埃が存在すると、その部分が未露光となり製品不良となる問題がある。特にドライフィルムフォトレジストやソルダーレジストのように粘着性を持つ感光性樹脂は、フォトマスクやプラテンに付着して、除去しにくい問題があった。
この点を解決すべく、予め離型性をあたえたプラテンを用い、前記した粘着性の感光性樹脂を付着しにくくすることが提案されている。
本発明は上記従来技術の問題を解決することを目的とする。
上記構成において、必要な時に基板搬送装置を移動させることにより離型剤を塗布できるため所定の離型効果を維持することができる。また、離型剤塗布装置は基板搬送装置に連動して移動するため、新たに駆動装置などを設ける必要がなく、効率的である。離型剤塗布装置は基板搬送装置に装着することが可能であり、これにより基板搬送装置に連動して移動させることが望ましい。
基板搬送装置は、通常基板搬入部と基板搬出部に設けられており、前者が基板搬入装置、後者が基板搬出装置と呼ばれているが、離型剤塗布装置は基板搬入装置か基板搬出装置のどちらか一方或いは両方に連動させることが望ましく、一方或いは両方に装着することが望ましい。また、離型剤の塗布はプラテン又はフォトマスクの一方に行えば所定の効果が得られるが、プラテンとフォトマスクの両方に離型剤を塗布することが望ましい。この場合、例えば基板搬入装置と基板搬出装置の両方に離型剤塗布装置を設けるか或いは連動させて、一方の離型剤塗布装置によりプラテンに離型剤塗布を行い、他方の離型剤塗布装置によりフォトマスクに離型剤塗布を行うように構成することが可能である。
前記基板搬入装置に連動する離型剤塗布装置は、前記基板搬入装置の往路又は復路のどちらか或いは両方の際に離型剤を塗布することが可能である。また、記基板搬出装置に連動する離型剤塗布装置は、該基板搬出装置が基板位置まで移動する往路時又は元に戻る復路時のどちらか或いは両方の際に、離型剤を塗布するようにすることが可能である。
なお、前記離型剤塗布装置が清掃用の液体を塗布可能なように構成し、古い皮膜を除去できるように構成することも可能である。また塗布した離型剤や清掃用の液体を乾燥させる乾燥装置を設けることも可能である。
図1はプリント配線基板を製造するための露光装置であり、フォトレジストを施されたプリント配線基板Bはプラテン5上に載置され、露光ステージ7によりXYZ及びθ方向に移動可能になっている。露光部10において、基板Bの上方にはマスクフォルダ6に装着されたフォトマスクMが配置されており、更にその上に光源9が設けられている。光源9からの露光光はフォトマスクMに描かれたパターンを基板Bに露光するようになっている。
以上の動作により、第1離型剤塗布装置1によりプラテン5への離型剤塗布を行うように構成されている。
なお、離型剤塗布は往路か復路のどちらか1回行うようにすることも可能である。
第1離型剤塗布装置1と第2離型剤塗布装置2はローラ11と離型剤供給装置12及び乾燥装置13を備えている。ローラ11は吸水性を有する発泡体等からなるローラであり、その側面において離型剤供給装置12から離型剤の供給を受け、該離型剤を対象物に接触しつつ塗布する構成になっている。
なお、ローラ11は必ずしもローラとする必要はなく、離型剤を塗布できる形態のものであればどのような形態のものも使用可能である。例えば刷毛などを使用することも可能である。
以上の動作により、第2離型剤塗布装置2によりフォトマスクMの離型剤塗布を2回行うことができるが、往路か復路のどちらか1回のみ離型剤塗布を行うようにすることも可能である。
なお、搬出ハンド4は上向きに装着されていることを除いて第1離型剤塗布装置1と全く同一の構成であり、図2と図3に示す構成を備えている。
最初に第1離型剤塗布装置1の動作を説明する。プラテン5への離型剤の塗布が必要になったら、まず搬入部30に待機している搬入ハンド3を駆動し、搬入ハンド3をプラテン5上の基板受け渡し位置まで移動(往路)させる。搬入ハンド3移動中の所定位置で、第1離型剤塗布装置1が下降し、ローラ11がプラテン5の上面に接触する。この時、離型剤供給装置12から第1離型剤塗布装置1に離型剤が供給される。搬入ハンド3は移動を続け、移動による連れ回りでローラ11は回転し、プラテン5に離型剤を塗布する。同時に乾燥装置13により、塗布した離型剤の乾燥を行う。
フォトマスクMへの離型剤の塗布が必要になったら、搬出ハンド4を搬出部40からプラテン5上の基板受け渡し位置まで移動(往路)させる。搬出ハンド4移動中の所定位置で、第2離型剤塗布装置2が上昇し、ローラ11がフォトマスクMに接触する。この時離型剤供給装置12から離型剤をローラ11に供給する。搬出ハンド4は移動を続け、移動による連れ回りでローラ11は回転し、フォトマスクMに離型剤を塗布する。同時に乾燥装置13により塗布した離型剤を乾燥する。搬出ハンド4が基板受け渡し位置に到達したら、搬出ハンド4が搬出部40に戻る動作を(復路)を開始する。この時も往路と同様にローラ11によるフォトマスクMの離型剤塗布と乾燥装置13による乾燥を行う。
また、第1離型剤塗布装置1と第2離型剤塗布装置2は搬入ハンド3と搬出ハンド4に装着されているため、新たな駆動機構などを設ける必要がない等の効果がある。
なお、第1離型剤塗布装置1又は第2離型剤塗布装置2のどちらか一方を設け、プラテン5又はフォトマスクMの一方に離型剤を塗布するように構成しても、一定の効果は得られる。
Claims (6)
- 露光すべき基板を載置するプラテンと、該基板をプラテン上に搬入し又プラテンから搬出する基板搬送装置と、露光すべきパターンを描いたフォトマスクと、を備えた露光装置において、
前記基板搬送装置に連動して移動し、前記基板搬送装置の移動により、前記プラテン又はフォトマスクの少なくとも一方に離型剤を塗布する離型剤塗布装置、
を備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記基板搬送装置が、基板をプラテン上に載置すべく基板を搬入する基板搬入装置である、
請求項1の露光装置。 - 前記基板搬送装置が、基板をプラテンから搬出する基板搬出装置である、
請求項1の露光装置。 - 露光すべき基板を載置するプラテンと、該基板をプラテン上に載置すべく基板を搬入する基板搬入装置と、該基板をプラテンから搬出する基板搬出装置と、露光すべきパターンを描いたフォトマスクと、を備えた露光装置において、
前記基板搬入装置に連動して移動し、少なくとも基板搬入装置の往路又は復路時に、前記プラテン又はフォトマスクの中の一方に離型剤を塗布する第1の離型剤塗布装置と、
前記基板搬出装置に連動して移動し、少なくとも該基板搬出装置が基板位置まで移動する往路時又は復路時に、前記プラテン又はフォトマスクの中の他方に離型剤を塗布する第2の離型剤塗布装置と、
を備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記離型剤塗布装置が、清掃用の液体を塗布可能である、
請求項1又は2又は3又は4に記載の露光装置。 - 前記離型剤塗布装置が、塗布後の離型剤又は清掃用の液体を乾燥させる乾燥装置を備える、
請求項1又は2又は3又は4又は5に記載の露光装置。
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Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6227736A (ja) * | 1985-07-30 | 1987-02-05 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | レジストパタ−ンの形成方法 |
JPH01181519A (ja) * | 1988-01-11 | 1989-07-19 | Nec Corp | 縮小投影露光装置 |
JPH0462552A (ja) * | 1990-07-02 | 1992-02-27 | Brother Ind Ltd | 画像記録装置 |
JPH04256308A (ja) * | 1991-02-08 | 1992-09-11 | Nec Yamagata Ltd | ウェーハステッパー |
JPH07148455A (ja) * | 1993-11-30 | 1995-06-13 | Sekisui Chem Co Ltd | 粘着テープ製造装置 |
JPH1098090A (ja) * | 1996-09-25 | 1998-04-14 | Canon Inc | 基板保持装置及び露光装置 |
JPH117121A (ja) * | 1997-06-17 | 1999-01-12 | Kimoto & Co Ltd | 表面保護フィルム |
JP2000228439A (ja) * | 1999-02-05 | 2000-08-15 | Advantest Corp | ステージ上のパーティクル除去方法及び清掃板 |
JP2002062662A (ja) * | 2000-08-22 | 2002-02-28 | Adtec Engineeng Co Ltd | 露光装置 |
JP2002296793A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Toppan Printing Co Ltd | 露光装置及びそれを用いた多層配線板の製造方法 |
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Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6227736A (ja) * | 1985-07-30 | 1987-02-05 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | レジストパタ−ンの形成方法 |
JPH01181519A (ja) * | 1988-01-11 | 1989-07-19 | Nec Corp | 縮小投影露光装置 |
JPH0462552A (ja) * | 1990-07-02 | 1992-02-27 | Brother Ind Ltd | 画像記録装置 |
JPH04256308A (ja) * | 1991-02-08 | 1992-09-11 | Nec Yamagata Ltd | ウェーハステッパー |
JPH07148455A (ja) * | 1993-11-30 | 1995-06-13 | Sekisui Chem Co Ltd | 粘着テープ製造装置 |
JPH1098090A (ja) * | 1996-09-25 | 1998-04-14 | Canon Inc | 基板保持装置及び露光装置 |
JPH117121A (ja) * | 1997-06-17 | 1999-01-12 | Kimoto & Co Ltd | 表面保護フィルム |
JP2000228439A (ja) * | 1999-02-05 | 2000-08-15 | Advantest Corp | ステージ上のパーティクル除去方法及び清掃板 |
JP2002062662A (ja) * | 2000-08-22 | 2002-02-28 | Adtec Engineeng Co Ltd | 露光装置 |
JP2002296793A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Toppan Printing Co Ltd | 露光装置及びそれを用いた多層配線板の製造方法 |
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