TWI408731B - 基板搬運裝置及基板搬運方法 - Google Patents

基板搬運裝置及基板搬運方法 Download PDF

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Description

基板搬運裝置及基板搬運方法
本發明是關於適用在例如對LCD用玻璃基板等的被處理基板塗布處理液之基板處理裝置之基板搬運裝置及基板搬運方法。
例如在FPD(平面顯示器)的製造過程，是藉由所謂光微影製程來形成電路圖案。該光微影製程，是在玻璃基板等的被處理基板上形成既定的膜後，塗布作為處理液之光阻劑(以下稱光阻)來形成光阻膜，接著對應於電路圖案而將光阻膜曝光，再進行顯影處理。
近年來，在該光微影製程，為了提昇產能，一邊將被處理基板以大致水平姿勢的狀態進行搬運(水平搬運)，一邊對其被處理面實施光阻的塗布、乾燥、加熱、冷卻處理等的各種處理的情況越來越多。
就搬運裝置的構造而言，為了防止光阻塗布面上發生基板支承構件(支承銷等)所造成的轉印，在載台上以大致水平姿勢的狀態讓基板上浮，而朝既定方向進行搬運的上浮式搬運開始受到矚目。
關於該上浮式搬運的裝置構造，在光阻塗布處理裝置的情況，專利文獻1揭示其構造的例子。第11圖所示之光阻塗布處理裝置的基板搬運裝置係具備：從形成於上面之複數個氣體噴射口噴射氣體，且使被處理基板之LCD基板(液晶顯示器基板)G上浮至既定高度的載台201。又具備有：鋪設於載台201的左右兩側(僅圖示出一側)之軌道202、可在軌道202上滑動之滑動件203、透過支承構件204來連接於滑動件203而用來分別吸附保持基板G的左右兩側的緣部(以下簡稱側緣部)之基板保持部205。
依據上述構造的基板搬運裝置，是在載台201上讓基板G上浮，並藉由基板保持部205來吸附保持基板G的側緣部。接著，使連接於基板保持部205之滑動件203沿著軌道202滑動，藉此讓基板G沿著第12圖所示的X方向移動。
然而，在前述基板搬運裝置，若在前述基板保持部205載置基板G，在進行吸引動作之吸附保持之前，必須進行基板G的位置對準(定心)作業之對準操作。亦即，如第12圖所示，在基板G的四個角落附近，使銷206(前後方向)、銷207(左右方向)的側面分別抵接在基板G的側端部，藉此將基板G配置在既定位置。
[專利文獻1]日本特開2007-313453號公報
然而，在上述對準機構，由於如前述般必須讓銷207的側面抵接於基板左右的側端部，如第12圖所示般之基板保持部205之沿著基板側緣部的長度，必須形成比基板側緣部的長度更短以避免和銷207產生干涉。
結果，無法保持基板側緣部之基板有效區域的長度以上的區域，會使基板面發生起伏，而使對基板面進行的處理(例如塗布處理)變得不均一。
另外，依據習知的構造，由於如前述般無法充分地保持基板側緣部，因此是藉由將基板保持部205之縱深尺寸(基板寬度方向)加長來提昇保持力，如此基板保持部205可能會侵入基板有效區域內，而成為發生異常的原因。
本發明是有鑑於前述事情而開發完成的，其目的是為了提供一種基板搬運裝置及基板搬運方法，在用來搬運被處理基板之基板搬運裝置，能將被處理基板保持成在基板面不發生起伏，且能確保基板有效區域。
為了解決前述課題，本發明之基板搬運裝置，是對被處理基板供應處理液而實施塗布處理之基板搬運裝置，其特徵在於，係具備：上浮式載台，是藉由噴射氣體或噴射氣體和吸引來使基板上浮至不同高度；一對的基板載具，是分別設置成可沿著平行配置在前述上浮式載台的左右側方之導軌進行移動；基板保持構件，是沿著基板搬運方向設置在前述基板載具的側面，至少形成前述被處理基板的側緣部之基板有效區域的長度以上，能分別將該基板的側緣部從下方吸引保持成可拆裝自如；以及對準手段，是具有設置成能從前述基板載具的側面朝向前述基板的側端部進退既定距離之定心構件，使前述定心構件抵接在前述基板保持構件上所載置之基板的側端部，而讓該基板移動至既定位置。
此外較佳為，前述對準手段係具備：讓前述定心構件進退移動之進退驅動手段，在前述基板保持構件上所載置之被處理基板的四個角落附近，前述進退驅動手段讓前述定心構件在前述基板保持構件的上方進行進退動作。
如此般，在基板保持構件的上方，藉由具有定心構件(設置成能相對於基板載具的側面進退自如)的對準手段來進行對準操作，可避免基板保持構件和定心構件發生干涉，而能將基板側緣部之至少基板有效區域的長度以上的區域予以吸附保持。因此，基板面不會發生起伏，而能對基板面進行均一地處理。
又較佳為，前述基板保持構件是由在供載置前述被處理基板的上面具有複數個孔之多孔質體所形成；並具備從形成在前述上面之複數個孔來進行吸引之吸引手段。
依據此構造，被處理基板的側緣部之基板有效區域的長度以上的區域，可利用基板保持構件的上面全體予以吸附保持，因此即使是寬度尺寸短的構造，仍能進行充分的吸附保持。因此，不僅能防止基板保持構件侵入基板有效區域的異常發生，且能使基板的有效區域擴大。
又較佳為具備：從形成在前述基板保持構件的上面之複數個孔進行供氣之供氣手段。
依據此構造，能使被處理基板無法被吸附保持在基板保持構件上，而容易進行被處理基板的搬入搬出及對準操作。
此外，為了解決前述課題，本發明的基板搬運方法，是使用前述基板搬運裝置來搬運被處理基板的基板搬運方法，其特徵在於，是執行以下的步驟：從形成在前述基板保持構件的上面之複數個孔進行供氣之步驟、將前述被處理基板載置在前述基板保持構件的上面之步驟、藉由前述對準手段將前述被處理基板移動至既定位置之步驟、從形成在前述基板保持構件的上面之複數個孔進行吸引而將前述被處理基板的左右緣部予以吸附保持之步驟、以及使前述基板載具沿著前述導軌移動之步驟。
又較佳為，在藉由前述對準手段將前述被處理基板移動至既定位置之步驟，是將前述被處理基板載置在前述基板保持構件上後，在該基板的四個角落附近，讓前述定心構件移動而從前述基板載具的側面突出，使前述定心構件抵接於該基板的側端部而移動至既定的位置。
依據此方法，能使基板保持構件和定心構件不發生干涉，而在將基板側緣部之基板有效區域的長度以上的區域予以吸附保持的狀態下進行基板搬運。因此，不致在基板面發生起伏，而能對基板面進行均一地處理。
依據本發明可獲得一種基板搬運裝置及基板搬運方法，在用來搬運被處理基板之基板搬運裝置，能將被處理基板保持成在基板面不發生起伏，且能確保基板有效區域。
以下，根據圖式來詳細說明本發明的最佳實施形態。在此是說明，將本發明的基板搬運裝置運用在光阻塗布顯影處理裝置的光阻塗布單元(CT)的情況。第1圖係光阻塗布顯影處理裝置100的概略俯視圖。
首先，簡單地說明光阻塗布顯影處理裝置100的動作流程。
在該光阻塗布顯影處理裝置100，首先，在基板匣站1的載置台12上所載置之基板匣C內的基板G，是藉由搬運裝置11的搬運臂11a而搬運至處理站2的搬運線A的上游側端部，沿著搬運線A上搬運而在準分子UV照射單元(e-UV)13進行基板G所含的有機物之除去處理。在準分子UV照射單元(e-UV)13完成有機物的除去處理後之基板G，沿著搬運線A上搬運，而在清洗洗淨單元(SCR)14實施清洗洗淨處理及乾燥處理。
在清洗洗淨單元(SCR)14完成清洗洗淨處理及乾燥處理後的基板G，沿著搬運線A上搬運，而在脫水加熱單元(DB)15實施脫水加熱。在脫水加熱單元(DB)15完成脫水加熱後的基板G，沿著搬運線A上搬運，而在附著單元(AD)16實施疏水化處理。在附著單元(AD)16完成疏水化處理後的基板G，沿著搬運線A上搬運，而在冷卻單元(COL)17進行冷卻。
在冷卻單元(COL)17進行冷卻後的基板G，沿著搬運線A上搬運，而在光阻塗布單元(CT)20形成光阻膜。該光阻塗布單元(CT)20，由於是運用本發明的基板搬運處理裝置，故針對其構造作詳細的說明。
在光阻塗布單元(CT)20形成既定的光阻膜後的基板G，沿著搬運線A上搬運，而在減壓乾燥單元(DP)21曝露於減壓環境下，藉此實施光阻膜的乾燥處理。
在減壓乾燥單元(DP)21實施光阻膜的乾燥處理後的基板G，沿著搬運線A上搬運，而在預焙單元(HT)18實施預焙處理，以除去光阻膜所含的溶劑。基板G的預焙處理，是一邊沿著搬運線A上搬運一邊進行。在預焙單元(HT)18完成加熱處理後的基板G，沿著搬運線A上搬運，而在冷卻單元(COL)19進行冷卻。
在冷卻單元(COL)19進行冷卻後的基板G，沿著搬運線A上而被搬運至下游側端部後，藉由介面站4的搬運臂43而被搬運至旋轉台(RS)44。
接著，基板G是藉由搬運臂43而搬運至外部裝置塊90的周邊曝光區域(EE)，在周邊曝光區域(EE)實施曝光處理以除去光阻膜的外周部(不要的部分)。
接下來，基板G藉由搬運臂43搬運至曝光裝置9，以對光阻膜實施既定圖案的曝光處理。
基板G，可能暫時被收容在旋轉台(RS)上的緩衝匣後，再搬運至曝光裝置9。完成曝光處理後的基板G，是藉由搬運臂43搬運至外部裝置塊90的標記機(TITLER)，而藉由標記機(TITLER)標記既定的資訊。
藉由標記機(TITLER)標記既定的資訊後之基板G，沿著搬運線B上搬運，在顯影單元(DEV)30依序實施顯影液的塗布處理、清洗處理及乾燥處理。
在顯影單元(DEV)30完成顯影液的塗布處理、清洗處理及乾燥處理後之基板G，沿著搬運線B上搬運，而在後焙單元(HT)31實施後焙處理，以除去光阻膜所含的溶劑及水分，而使圖案密合於基板G。基板G之後焙處理，是一邊藉由滾子搬運機構沿著搬運線B上搬運一邊進行。
此外，在顯影單元(DEV)30和後焙單元(HT)31之間，亦可設置用來進行顯影液的脫色處理之i線UV照射單元。在後焙單元(HT)31完成加熱處理後的基板G，沿著搬運線B上搬運，而在冷卻單元(COL)32進行冷卻。
在冷卻單元(COL)32進行冷卻後的基板G，沿著搬運線B上搬運，而在檢查單元(IP)35進行檢查。通過檢查後的基板G，是藉由設置在基板匣站1的搬運裝置11的搬運臂11a，而收容在載置台12上所載置之既定的基板匣C。
接著說明運用本發明的基板處理裝置之光阻塗布單元(CT)20。第2圖係顯示前述光阻塗布單元(CT)20的主要部分之概略立體圖。第3圖係沿著與基板搬運方向正交的方向之概略截面圖。
如圖所示，前述光阻塗布單元(CT)20係具備：藉由噴射氣體(非活性氣體)或噴射氣體和吸引來使基板G上浮至不同高度之上浮式載台22、配置在該上浮式載台22的上方而朝基板G表面呈帶狀的供應處理液(光阻液R)之光阻供應噴嘴23。
此外，在上浮式載台22的左右側方設有：可沿著配置成互相平行之導軌25滑動移動之一對滑動件26。在滑動件26的上浮式載台22側固設有：沿著基板搬運方向延伸成至少比基板側緣部的長度更長之棒狀的基板載具50。藉此，隨著滑動件26的移動，使基板載具50沿著導軌25移動。
滑動件26的驅動源，例如可藉由線性馬達來實現。在此情況，如第3圖所示，例如沿著導軌25鋪設線性馬達的定子27。另一方面，在滑動件26的側面，如第3圖所示形成線性馬達的轉子51。線性馬達的轉子51之前端部分，如第3圖所示配置成被線性馬達的定子27挾持，利用其等間的排斥力和吸引力來使線性馬達的轉子51和滑動件26一起沿著導軌25移動。
此外，配置在上浮式載台22的左右兩側之一對的基板載具50，在面向上浮式載台22的側面設有例如方棒狀的吸附墊24(基板保持構件)；該吸附墊24，是沿著基板搬運方向形成至少為基板G的側緣部之基板有效區域G1的長度以上，而將該基板G的側緣部從下方吸附保持成可拆裝自如。亦即，基板G的緣部載置在該吸附墊24的上面，而被吸附保持著。
此外，藉由形成在比吸附墊24更上方之基板載具50的側面來形成：與基板G的左右端部接觸而進行粗定位的導引部50a。
此外，前述吸附墊24，是由在上面全體具有複數個孔(例如長孔狀)的多孔質體所形成。
在第4圖，形成在前述吸附墊24的上面的孔，是透過形成在吸附墊24內的室(未圖示)來連接於氣體管61。
此外，如第4圖所示，前述氣體管61的一端部是貫穿基板載具50而連接於吸附墊24，另一端部是連接於切換器63。另一方面，該切換器63是分別連接到真空裝置62和供氣裝置64，可進行切換動作而使連接於吸附墊24之氣體管61與前述任一者連通。
因此，在氣體管61與真空裝置62連通的情況，氣體管61產生吸引管的作用，而從吸附墊24的複數個孔進行吸引動作；在氣體管61與供氣裝置64連通的情況，氣體管61產生供氣管的作用，而從吸附墊24的複數個孔進行供氣動作(噴出氣體)。
前述切換器63及真空裝置62、供氣裝置64，是分別連接於電腦所構成的控制部69，根據來自控制部69的命令，來控制連通對象的切換動作及裝置的驅動。
此外，吸附墊24所進行的供氣動作，是在要讓吸附墊24吸附保持基板G之前的基板搬入時及位置對準(對準)動作時進行。
因此，若基板G的緣部被搬到吸附墊24上而載置於既定位置，真空裝置62動作，藉此使吸附墊24的上面全體成為吸附面，而將基板側緣部之至少基板有效區域G1的長度以上的區域予以吸附保持。
如此般，藉由吸附墊24的上面全體來吸附保持基板有效區域G1的長度以上的區域，即使是其寬度尺寸較短的構造，仍能充分地進行吸附保持。因此，不僅能防止吸附墊24侵入基板有效區域G1的異常發生，且能使基板有效區域G1擴大。
另外，在比吸附墊24更上方而形成在基板載具50側面之導引部50a，如第5圖的俯視圖所示，在將基板G載置在吸附墊24上時的基板四個角落附近設有對準機構65；該等對準機構65，是藉由分別抵接在基板G的左右端部，來將基板G的位置調整成既定的位置(定心位置)。
該對準機構65係具備：形成在導引部50a之開口部66、設置成可從該開口部66往基板G側進退自如地突出之定心構件67、用來使前述定心構件67沿水平方向進退移動之進退驅動機構68(圖中僅顯示1個)。
此外，進退驅動裝置68，是連接於控制部69，根據來自控制部69的命令而驅動，以使定心構件67進退移動。
如此般在吸附墊24的上方，藉由具有定心構件67(設置成可相對於導引部50a進退自如)的對準機構65來進行對準操作，因此吸附墊24和對準機構65不會發生干涉，而能將基板側緣部之至少基板有效區域G1的長度以上的區域予以吸附保持。因此，基板面不會發生起伏，而能對基板面進行均一地塗布處理。
此外，在吸附墊24的上面之前端部附近及後端部附近，如第7圖的局部放大圖(僅顯示前端部側的一方)所示分別設有：藉由抵接於基板G的前端部及後端部來進行基板前後方向的定位之制動機構70。
該制動機構70係具備：分別形成在吸附墊24上面之前端部附近及後端部附近之開口部71、設置成可從該開口部71進退自如地往上方突出之制動構件72、用來使該制動構件72沿上下方向進退移動之進退驅動裝置73。進退驅動裝置73，是根據來自控制部69的命令來進行驅動。
依據上述制動機構70，在進行基板G的搬入時，僅使設置在吸附墊24上面的前端部側之制動構件72往上突出，藉由使制動構件72抵接在基板G的前端部來讓基板G的搬入移動動作停止。
再者，在隨後藉由前述對準機構65來進行基板G的位置調整時，是使基板後端側的制動構件72往上突出，而避免基板G偏離前後方向的既定位置。
此外，上浮式載台22，如第2圖所示，在其表面上，多數個噴射口29a及吸引孔29b例如呈交錯狀設置，藉由從噴射孔29a噴射出氣體(亦即空氣)並從吸引孔29b進行吸引，而使基板G上浮至既定的高度(例如約50μm)的位置。
此外，前述光阻供應噴嘴23，是固定在橫跨上浮式載台22的上方之門形框架(未圖示)，是用來將光阻液R(從連接於未圖示的光阻槽之供應管23a供應)朝基板G的表面呈帶狀地供應(吐出、滴下)。
接著，參照第8圖的流程圖來說明前述構造之光阻塗布單元(CT)20的動作態樣。
首先，在光阻塗布單元(CT)20有基板G搬入之前，控制部69是經由切換器63之切換而使氣體管61連接於供氣裝置64，然後驅動供氣裝置64，從形成在吸附墊24上面的孔往上噴出非活性氣體(第8圖的步驟ST1)。
接著，經由冷卻單元(COL)17冷卻後的基板G，是藉由未圖示的搬運裝置搬到上浮式載台22上。
這時，先將基板G的前端側的側緣部載置在吸附墊24(設置在基板載具50上)的後端側的上面，再沿著導引部50a將基板G推入。這時，是從吸附墊24噴出非活性氣體，因此吸附墊24未吸附住基板G，而成為基板G的側緣部容易在墊上移動的狀態。
另一方面，配合基板搬入的時點，在吸附墊24的前端部，根據控制部69的命令來驅動制動機構70的進退驅動機構73，而使制動構件72成為往上突出的狀態。
接著，藉由使基板G的前端部抵接於制動構件72，讓基板G的搬入移動動作停止，而將基板側緣部之至少基板有效區域G1的長度以上的區域載置於吸附墊24上(第8圖的步驟ST2)。
若將基板G的側緣部載置在吸附墊24上，控制部69會使對準機構65動作，而將進退驅動裝置68控制成：在基板G的四個角落附近，分別使定心構件67從開口部66往基板G的側端部突出(移動)。
此外，控制部69是將進退驅動裝置73控制成：使吸附墊24的後端部之制動構件72往上突出。如此，在基板G的前後方向的四個角落，制動構件72分別成為往上突出的狀態，而避免基板G的前後方向位置偏離既定位置。
而且，在基板的四個角落，藉由使對準機構65的定心構件67分別抵接於基板側端部，而使基板G移動至既定位置並完成對準操作(第8圖的步驟ST3)。
接著，控制部69是經由切換器63的切換而使氣體管61連接於真空裝置62，然後驅動真空裝置62，而從形成在吸附墊24上面的孔來吸引基板側緣部。如此，藉由吸附墊24來吸附保持基板G(第8圖的步驟ST4)。
若基板G被吸附墊24予以吸附保持，對準機構65的定心構件67及制動構件70的制動構件72會分別收容於開口部66、71內。
接著，使滑動件26開始沿著導軌25往X方向移動，藉此使基板G(藉由基板載具50所保持)開始朝光阻供應噴嘴23的下方移動(第8圖的步驟ST5)。
接著，在基板G通過光阻供應噴嘴23的下方時，從噴嘴口朝基板G的表面呈帶狀地供應(吐出、滴下)光阻液R(第8圖的步驟ST6)。
若基板表面之光阻塗布處理完成後，控制部69再度經由切換器63的切換而使氣體管61連接於供氣裝置64，然後驅動供氣裝置64，而從形成在吸附墊24上面的孔朝上方噴出非活性氣體(第8圖的步驟ST7)。如此將吸附墊24之吸附基板G的狀態解除，而成為基板緣部容易在墊上移動的狀態。
接著，藉由未圖示的搬出裝置，使基板G沿著導引部50a而從基板載具50取出，並從光阻塗布單元(CT)20搬出(第8圖的步驟ST8)。
如以上所說明，依據本發明的實施形態，是在吸附墊24的上方，藉由具有定心構件67(設置成相對於導引部50a(基板載具50側面)進退自如)的對準機構65來進行對準操作。因此，吸附墊24和對準機構65(定心構件67)不會發生干涉，而能將基板側緣部之至少基板有效區域G1的長度以上的區域予以吸附保持。因此，基板面不會發生起伏，而能對基板面進行均一地塗布處理。
此外，藉由吸附墊24的上面全體來吸附保持前述基板側緣部，即使是其寬度尺寸較短的構造，仍能充分地進行吸附保持。因此，不僅能防止吸附墊24侵入基板有效區域的異常發生，且能使基板G的有效區域擴大。
另外，在前述實施形態，對準機構65的定心構件67，如第5、6圖所示是沿著與基板側端部正交的方向進退移動，但本發明之基板搬運裝置並不限定於此。例如，從基板G的四個角落附近，沿著基板G的對角線方向使定心構件67進退移動的構造亦可。
另外，定心構件67所抵接之基板G的部位，並不限定於基板側端部，也可以是基板G的角部。
另外，第7圖所示的制動機構70(制動構件72)，是設置在與基板載具26一起移動之吸附墊24的前端部附近、後端部附近，但如第9圖所示在基板載具26的內側且在基板G的前後位置，使制動構件72能沿上下方向進退移動的構造亦可。或是，如第10圖所示，在基板載具26的外側且在基板G的前後位置，使制動構件72能沿上下方向進退移動的構造亦可。
另外，關於前述制動構件72，是配合上下方向的進退移動而往前後方向進退移動的構造亦可，是和對準機構65的定心構件67同時動作來進行基板G的對準操作亦可。
20．．．光阻塗布單元(基板搬運處理裝置)
22．．．上浮式載台
23．．．光阻供應噴嘴
24．．．吸附墊(基板保持構件)
25．．．導軌
50．．．基板載具
61．．．氣體管
62．．．真空裝置(吸引手段)
63．．．切換器
64．．．供氣裝置(供氣手段)
65．．．對準機構(對準手段)
66．．．開口部
67．．．定心構件
68．．．進退驅動裝置(進退驅動手段)
69．．．控制部
70．．．制動機構
71．．．開口部
72．．．制動構件
73．．．進退驅動部
100．．．光阻塗布顯影處理裝置
G．．．基板
G1．．．基板有效區域
R．．．光阻液(處理液)
第1圖係具備光阻塗布單元(運用本發明的基板搬運裝置)之光阻塗布顯影處理裝置的概略俯視圖。
第2圖係光阻塗布單元的主要部分之概略立體圖。
第3圖係第2圖的光阻塗布單元之沿著與基板搬運方向正交的方向之概略截面圖。
第4圖係第2圖的光阻塗布單元的局部放大截面圖。
第5圖係用來說明第2圖的光阻塗布單元中的對準機構之俯視圖。
第6圖係用來說明第2圖的光阻塗布單元中的對準機構的其他狀態之俯視圖。
第7圖係用來說明第2圖的光阻塗布單元中的制動機構之局部放大俯視圖。
第8圖係顯示第2圖的光阻塗布單元之動作態樣的流程圖。
第9圖係用來說明第2圖的光阻塗布單元中的制動機構之其他形態的局部放大俯視圖。
第10圖係用來說明第2圖的光阻塗布單元中的制動機構之其他形態的局部放大俯視圖。
第11圖係說明習知的上浮式基板搬運裝置的構造。
第12圖係用來說明習知的上浮式基板搬運裝置的構造中的對準操作之俯視圖。
24．．．吸附墊(基板保持構件)
26．．．滑動件
50．．．基板載具
50a．．．導引部
65．．．對準機構(對準手段)
66．．．開口部
67．．．定心構件
68．．．進退驅動裝置(進退驅動手段)
69．．．控制部
G．．．基板
G1．．．基板有效區域

Claims (6)

  1. 一種基板搬運裝置，是對被處理基板供應處理液而實施塗布處理之基板搬運裝置，其特徵在於，係具備：上浮式載台，是藉由噴射氣體或吸引來使基板上浮至不同高度；一對的基板載具，是分別設置成可沿著平行配置在前述上浮式載台的左右側方之導軌進行移動；基板保持構件，是沿著基板搬運方向設置在前述基板載具的側面，至少形成前述被處理基板的側緣部之基板有效區域的長度以上，能分別將該基板的側緣部從下方吸引保持成可拆裝自如；以及對準手段，是具有設置成能從前述基板載具的側面朝向前述基板的側端部進退既定距離之定心構件，使前述定心構件抵接在前述基板保持構件上所載置之基板的側端部，而讓該基板移動至既定位置。
  2. 如申請專利範圍第1項記載的基板搬運裝置，其中，前述對準手段係具備讓前述定心構件進退移動之進退驅動手段；在前述基板保持構件上所載置之被處理基板的四個角落附近，前述進退驅動手段讓前述定心構件在前述基板保持構件的上方進行進退動作。
  3. 如申請專利範圍第1或2項記載的基板搬運裝置，其中，前述基板保持構件，是由在供載置前述被處理基板的上面具有複數個孔之多孔質體所形成； 並具備從形成在前述上面之複數個孔來進行吸引之吸引手段。
  4. 如申請專利範圍第3項記載的基板搬運裝置，其中具備：從形成在前述基板保持構件的上面之複數個孔進行供氣之供氣手段。
  5. 一種基板搬運方法，是使用申請專利範圍第4項記載的基板搬運裝置來搬運被處理基板的基板搬運方法，其特徵在於，是執行以下的步驟：從形成在前述基板保持構件的上面之複數個孔進行供氣之步驟、將前述被處理基板載置在前述基板保持構件的上面之步驟、藉由前述對準手段將前述被處理基板移動至既定位置之步驟、從形成在前述基板保持構件的上面之複數個孔進行吸引而將前述被處理基板的左右緣部予以吸附保持之步驟、以及使前述基板載具沿著前述導軌移動之步驟。
  6. 如申請專利範圍第5項記載的基板搬運方法，其中，在藉由前述對準手段將前述被處理基板移動至既定位置之步驟，是將前述被處理基板載置在前述基板保持構件上後，在該基板的四個角落附近，讓前述定心構件移動而從前述基板載具的側面突出，使前述定心構件抵接於該基板的側 端部而移動至既定的位置。
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