JP2847808B2 - 基板自動露光機の除塵装置 - Google Patents
基板自動露光機の除塵装置Info
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、感光性を付与（プレセンシタイジング）し
たプリント配線基板などの基板に対して所定の透過画像
パターンが形成されている写真原版フィルムを密着して
パターン露光するための基板自動露光機において、基板
及び写真原版フィルム面に付着している塵、ゴミなどを
除去するための装置に関する。
たプリント配線基板などの基板に対して所定の透過画像
パターンが形成されている写真原版フィルムを密着して
パターン露光するための基板自動露光機において、基板
及び写真原版フィルム面に付着している塵、ゴミなどを
除去するための装置に関する。
（従来の技術） 基板自動露光機は、感光性を付与された基板を仮位置
決めする基板供給ステージと、CCDカメラと微調整装置
を用いて基板をパターン露光用原版フィルムに対して正
しく位置決めする基板位置出しステージと、位置出しさ
れた基板を予めプレセンシタイズされている原版フィル
ムを載置して、その上に移送して重ね合わせ、下方より
紫外線露光する露光ステージと該ステージにて露光済の
基板を搬出する搬出ステージを順次配置してある。そし
て、供給ステージから搬出ステージまで各ステージに順
に基板を、そのステージに対する相対位置を変動せず
に、平行移動式に移送する基板支持部を備えるトラバー
サ（キャリア手段）を有する。
決めする基板供給ステージと、CCDカメラと微調整装置
を用いて基板をパターン露光用原版フィルムに対して正
しく位置決めする基板位置出しステージと、位置出しさ
れた基板を予めプレセンシタイズされている原版フィル
ムを載置して、その上に移送して重ね合わせ、下方より
紫外線露光する露光ステージと該ステージにて露光済の
基板を搬出する搬出ステージを順次配置してある。そし
て、供給ステージから搬出ステージまで各ステージに順
に基板を、そのステージに対する相対位置を変動せず
に、平行移動式に移送する基板支持部を備えるトラバー
サ（キャリア手段）を有する。
ところで、プレセンシタイズされたプリント配線基板
の感光性表面や、該表面にパターン露光するための原版
フィルム表面には、空気中の微細な塵、ごみが付着し易
く、露光ムラや、ピンホールの発生の原因となるため、
従来は、エアー吸引装置を用いて手作業により１枚毎除
去していた。
の感光性表面や、該表面にパターン露光するための原版
フィルム表面には、空気中の微細な塵、ごみが付着し易
く、露光ムラや、ピンホールの発生の原因となるため、
従来は、エアー吸引装置を用いて手作業により１枚毎除
去していた。
（発明の目的） 本発明は、基板露光機により自動的に基板に対して所
定のパターンを露光するとともに、基板、原版フィルム
表面に付着している目に見えないような微細な塵、ゴミ
を自動的に且つ能率的に除去することを目的とするもの
である。
定のパターンを露光するとともに、基板、原版フィルム
表面に付着している目に見えないような微細な塵、ゴミ
を自動的に且つ能率的に除去することを目的とするもの
である。
（発明の構成） 本発明の請求項１に係る発明は、基板供給ステージ
と、基板位置出しステージと、基板露光ステージと、基
板搬出ステージとをこの順に該各々ステージ上面を面一
にして一列に併設し、該ステージ群の上側に各ステージ
上を水平に移動するトラバーサを備え、該トラバーサ
は、その順次水平移動により、基板供給ステージと基板
位置出しステージとの上側、基板位置出しステージと基
板露光ステージとの上側、基板露光ステージと基板搬出
ステージとの上側のそれぞれ対向する位置に一体に平行
移動するそれぞれ基板を吸着保持する吸着手段を有して
昇降動作する第１支持部と第２支持部とを備え、前記ト
ラバーサの第１支持部と第２支持部との間又はその近傍
には前記基板露光ステージ上面に向かって下向きに動作
する除塵手段をトラバーサ側に一体的に設け、前記基板
位置出しステージと基板露光ステージとの間又はその近
傍には前記トラバーサの第１支持部の下面に向かって上
向きに動作する除塵手段をステージ側に一体的に設けた
ことを特徴とする基板自動露光機の除塵装置である。
と、基板位置出しステージと、基板露光ステージと、基
板搬出ステージとをこの順に該各々ステージ上面を面一
にして一列に併設し、該ステージ群の上側に各ステージ
上を水平に移動するトラバーサを備え、該トラバーサ
は、その順次水平移動により、基板供給ステージと基板
位置出しステージとの上側、基板位置出しステージと基
板露光ステージとの上側、基板露光ステージと基板搬出
ステージとの上側のそれぞれ対向する位置に一体に平行
移動するそれぞれ基板を吸着保持する吸着手段を有して
昇降動作する第１支持部と第２支持部とを備え、前記ト
ラバーサの第１支持部と第２支持部との間又はその近傍
には前記基板露光ステージ上面に向かって下向きに動作
する除塵手段をトラバーサ側に一体的に設け、前記基板
位置出しステージと基板露光ステージとの間又はその近
傍には前記トラバーサの第１支持部の下面に向かって上
向きに動作する除塵手段をステージ側に一体的に設けた
ことを特徴とする基板自動露光機の除塵装置である。
次に、本発明の請求項２に係る発明は、基板供給ステ
ージと、基板位置出しステージと、基板露光ステージ
と、基板搬出ステージとをこの順に該各々ステージ上面
を面一にして一列に併設し、該ステージ群の上側に各ス
テージ上を水平に移動するトラバーサを備え、該トラバ
ーサは、その順次水平移動により、基板供給ステージと
基板露光ステージとの上側、基板位置出しステージと基
板搬出ステージとの上側のそれぞれ対向する位置に一体
に平行移動するそれぞれ基板と吸着保持する吸着手段を
有して昇降動作する第１支持部と第２支持部とを備え、
前記トラバーサの第２支持部の進行方向末端には前記基
板露光ステージ上面に向かって下向きに動作する除塵手
段をトラバーサ側に一体的に設け、前記基板位置出しス
テージと基板露光ステージとの間又はその近傍には前記
トラバーサの第１支持部の下面に向かって上向きに動作
する除塵手段をステージ側に一体的に設けたことを特徴
とする基板自動露光機の除塵装置である。
ージと、基板位置出しステージと、基板露光ステージ
と、基板搬出ステージとをこの順に該各々ステージ上面
を面一にして一列に併設し、該ステージ群の上側に各ス
テージ上を水平に移動するトラバーサを備え、該トラバ
ーサは、その順次水平移動により、基板供給ステージと
基板露光ステージとの上側、基板位置出しステージと基
板搬出ステージとの上側のそれぞれ対向する位置に一体
に平行移動するそれぞれ基板と吸着保持する吸着手段を
有して昇降動作する第１支持部と第２支持部とを備え、
前記トラバーサの第２支持部の進行方向末端には前記基
板露光ステージ上面に向かって下向きに動作する除塵手
段をトラバーサ側に一体的に設け、前記基板位置出しス
テージと基板露光ステージとの間又はその近傍には前記
トラバーサの第１支持部の下面に向かって上向きに動作
する除塵手段をステージ側に一体的に設けたことを特徴
とする基板自動露光機の除塵装置である。
（発明の作用） 本発明によれば、基板を支持部によって吸着保持し、
位置出しステージから、予め、原版フィルムをセットし
た露光ステージ上に移送するときに、その移送動作中に
同時に基板下面のセンシタイズされた表面を除塵手段に
よって除塵操作することができ、また、それと同時に露
光ステージ上に、予め載置されている原版フィルム表面
に対して除塵手段によって除塵操作を行うことができ
る。従って、基板の移送と同時に露光前の基板及び原版
フィルムの両方の除塵操作を能率的に実施できるもので
ある。
位置出しステージから、予め、原版フィルムをセットし
た露光ステージ上に移送するときに、その移送動作中に
同時に基板下面のセンシタイズされた表面を除塵手段に
よって除塵操作することができ、また、それと同時に露
光ステージ上に、予め載置されている原版フィルム表面
に対して除塵手段によって除塵操作を行うことができ
る。従って、基板の移送と同時に露光前の基板及び原版
フィルムの両方の除塵操作を能率的に実施できるもので
ある。
（実施例） 本発明の一実施例を図面第１図および第２図に従って
詳細に説明すれば、第１図、Ａはベルトコンベアなど適
宜基板搬入手段により送り込まれた基板１を前当部９に
より所定供給位置に停止させて供給する基板供給ステー
ジ、Ｂは、位置出し用の位置確認CCDカメラ４、位置出
し微調整移動定盤３などを備える基板位置出しステー
ジ、Ｃは、下部に紫外線露光用光源５を備え、原版フィ
ルム２を載置する透明板６をその上に配置する基板露光
ステージ、Ｄは、露光の終了した基板を排出して外方に
搬出するための基板搬出ステージである。Ｅは、レール
Ｆに沿って移動可能なトラバーサである。該トラバーサ
Ｅは、基板位置出しステージＢ上側に相対してもうける
第１支持部E1と、露光ステージＣの上側に相対して設け
る第２支持部E2を備える。そして、第１支持部E1および
第２支持部E2は、それぞれ下向きにエアー吸引装置など
基板吸着手段e1,e2を備え、該支持部E1,E2はそれぞれの
ステージ上に下降動作、及び上昇復帰動作が可能であ
る。前記支持部E1とE2との間、又はその近傍のE1側又は
E2側に下向きに突出する原版フィルム２表面除塵用の除
塵手段７を設ける。除塵手段７は、露光ステージＣ上の
原版フィルム２表面に接する又は近接する例えば粘着剤
を表面に施したローラー、あるいはエアー吸引機構を備
えた吸引ダクト、ノズル、ローラー、ブラシなどであ
る。該手段７は、弾力的に露光ステージ面に適宜弾力に
て押圧接触させるようにしてもよく、又、エアーシリン
ダー10などによって下降押圧動作と上昇復帰動作させる
ようにしてもよい。
詳細に説明すれば、第１図、Ａはベルトコンベアなど適
宜基板搬入手段により送り込まれた基板１を前当部９に
より所定供給位置に停止させて供給する基板供給ステー
ジ、Ｂは、位置出し用の位置確認CCDカメラ４、位置出
し微調整移動定盤３などを備える基板位置出しステー
ジ、Ｃは、下部に紫外線露光用光源５を備え、原版フィ
ルム２を載置する透明板６をその上に配置する基板露光
ステージ、Ｄは、露光の終了した基板を排出して外方に
搬出するための基板搬出ステージである。Ｅは、レール
Ｆに沿って移動可能なトラバーサである。該トラバーサ
Ｅは、基板位置出しステージＢ上側に相対してもうける
第１支持部E1と、露光ステージＣの上側に相対して設け
る第２支持部E2を備える。そして、第１支持部E1および
第２支持部E2は、それぞれ下向きにエアー吸引装置など
基板吸着手段e1,e2を備え、該支持部E1,E2はそれぞれの
ステージ上に下降動作、及び上昇復帰動作が可能であ
る。前記支持部E1とE2との間、又はその近傍のE1側又は
E2側に下向きに突出する原版フィルム２表面除塵用の除
塵手段７を設ける。除塵手段７は、露光ステージＣ上の
原版フィルム２表面に接する又は近接する例えば粘着剤
を表面に施したローラー、あるいはエアー吸引機構を備
えた吸引ダクト、ノズル、ローラー、ブラシなどであ
る。該手段７は、弾力的に露光ステージ面に適宜弾力に
て押圧接触させるようにしてもよく、又、エアーシリン
ダー10などによって下降押圧動作と上昇復帰動作させる
ようにしてもよい。
また、基板位置出しステージＢと露光ステージＣとの
間、又はその近傍の位置出しステージＢ側、又は露光ス
テージＣ側に上向きに突出する基板１下側表面除塵用の
除塵手段８を設ける。該手段８は、上方の第１支持部E1
の吸着手段e1に吸着した基板１の下側表面に接する、又
は近接する例えば、粘着剤を表面に施したローラー、あ
るいはエアー吸引機構を備えたエアー吸引ダクト、ノズ
ル、ローラー、ブラシなどである。該手段８は、弾力的
に吸着された基板１下側表面に適宜弾力にて押圧接触さ
せるようにしてもよく、又はエアーシリンダー10などに
よって上昇押圧動作と下降復帰動作させるようにしても
よい。
間、又はその近傍の位置出しステージＢ側、又は露光ス
テージＣ側に上向きに突出する基板１下側表面除塵用の
除塵手段８を設ける。該手段８は、上方の第１支持部E1
の吸着手段e1に吸着した基板１の下側表面に接する、又
は近接する例えば、粘着剤を表面に施したローラー、あ
るいはエアー吸引機構を備えたエアー吸引ダクト、ノズ
ル、ローラー、ブラシなどである。該手段８は、弾力的
に吸着された基板１下側表面に適宜弾力にて押圧接触さ
せるようにしてもよく、又はエアーシリンダー10などに
よって上昇押圧動作と下降復帰動作させるようにしても
よい。
次に上記本発明装置の動作を説明する。第１図、一方
の除塵手段７を上昇復帰させ、他方の除塵手段８を下降
復帰させた状態で、トラバーサＥをレールＦに沿って図
面左方向（点線個所）に移動させ、該トラバーサに備え
る第１支持部E1を供給ステージＡ上側に相対させ、該支
持部E1の吸着手段e1を、供給ステージＡに供給されて前
当部９にて停止している基板１に下降動作させ、該手段
e1を上昇させ、続いて、レールＦに沿ってトラバーサＥ
を右方向に移動させ、位置出しステージＢ上側の相対位
置に吸着基板１を停止させた後、第１支持部E1の吸着手
段e1に吸着されている基板１を下降させ、吸着を停止し
て位置出しステージＢ上に基板１を載置する。そして、
支持部E1の吸着手段e1,e2を上昇復帰動作させる。続い
て、位置出しステージＢのＸ−Ｙ（水平）方向、及び水
平面内での回転角度θ方向への移動調整が可能な定盤
３、CCDカメラ４によって基板１の位置出しを行い、そ
の間、露光ステージＣの透明板６上には原版フィルム２
を位置決め載置する。このように原版フィルム２と基板
１の位置決めが終了した後、第２図に示すように、支持
部E1の吸着手段e1をステージＢに下降動作させ、基板位
置出しステージＢ上の基板１を第１支持部E1の吸着手段
e1によって吸着して上昇動作させる。次に除塵手段７及
び除塵手段８を突出動作させ、それぞれ手段の先端部
（図面では粘着材を施したローラー）を原版フィルム２
表面に接する位置、及び基板１下側表面に接する位置ま
で伸出させた後、トラバーサＥをレールＦに沿って図面
右方向に徐々に移動させながら、一方の除塵手段７の先
端部の粘着材ローラーは原版フィルム２表面に、他方の
除塵手段８の先端部の粘着材ローラーは、基板１の下側
表面（プレセンシタイズされた面）に周接回転して、ロ
ーラー粘着面にフィルム面、基板面の塵、ゴミを付着さ
せ除塵することができる。基板１を吸着保持した第１支
持部E1が露光ステージＣ上側に相対した位置でトラバー
サＥを停止させ、除塵手段7,8を復帰動作させる。続い
て、第１支持部E1の基板１を保持した吸着手段e1を露光
ステージＣの原版フィルム２に下降させ、該基板１を原
版フィルム２表面に密着させた後、吸着手段e1の吸引を
停止させ、基板１の保持を解消し、手段e1を上昇させ、
トラバーサＥをレールＦに沿って左方向に復帰動作させ
る。続いて、露光ステージＣ上方にあるバキューム板11
を下降動作させ、重ね合わされている基板１と原版フィ
ルム２上側より押圧しながら、バキューム吸引にて真空
吸引して基板１と原版フィルム２との密着を確実にした
後、露光用光源５を下側より照射してパターン露光を終
了する。終了後は、バキューム板11を上昇復帰させ、図
面左方向二復帰しているトラバーサＥの第１支持部E1に
よって、基板供給ステージＡより次の基板１を吸着保持
してステージＢに移送する。そして、ステージＢ上では
基板１の位置出し動作を行い、位置出し終了後は、第１
支持部E1及び第２支持部E2のそれぞれ吸着手段e1,e2を
それぞれステージＢ、Ｃに下降動作して、位置出しされ
た基板１を一方の第１支持部E1によって、又、先にパタ
ーン露光の終了した基板１を他方の第２支持部E2によっ
てそれぞれ吸着して上昇動作し、トラバーサＥをレール
Ｆに沿って図面右方向に移動させ、第１支持部E1をステ
ージＣ上に、第２支持部E2を搬出ステージＤ上に相対さ
せた後、吸着手段e1及びe2を下降動作させて、吸着動作
を停止させ、それぞれ露光前の一方の基板１を露光ステ
ージＣ上に、露光後の他方の基板１を搬出ステージＤ上
にそれぞれ載置するものである。搬出ステージＤに載置
された基板１は、適宜排出ベルトなど排出手段によって
外方に排出される。以上の動作を繰り返し行うことによ
って、同一原版フィルム２によるプリセンシタイズされ
たプリント配線基板１に順次パターン露光を行うもので
ある。なお、原版フィルム２の露光ステージＣへの固定
は、セロファン接着テープ、バキューム吸引など適宜実
施可能である。
の除塵手段７を上昇復帰させ、他方の除塵手段８を下降
復帰させた状態で、トラバーサＥをレールＦに沿って図
面左方向（点線個所）に移動させ、該トラバーサに備え
る第１支持部E1を供給ステージＡ上側に相対させ、該支
持部E1の吸着手段e1を、供給ステージＡに供給されて前
当部９にて停止している基板１に下降動作させ、該手段
e1を上昇させ、続いて、レールＦに沿ってトラバーサＥ
を右方向に移動させ、位置出しステージＢ上側の相対位
置に吸着基板１を停止させた後、第１支持部E1の吸着手
段e1に吸着されている基板１を下降させ、吸着を停止し
て位置出しステージＢ上に基板１を載置する。そして、
支持部E1の吸着手段e1,e2を上昇復帰動作させる。続い
て、位置出しステージＢのＸ−Ｙ（水平）方向、及び水
平面内での回転角度θ方向への移動調整が可能な定盤
３、CCDカメラ４によって基板１の位置出しを行い、そ
の間、露光ステージＣの透明板６上には原版フィルム２
を位置決め載置する。このように原版フィルム２と基板
１の位置決めが終了した後、第２図に示すように、支持
部E1の吸着手段e1をステージＢに下降動作させ、基板位
置出しステージＢ上の基板１を第１支持部E1の吸着手段
e1によって吸着して上昇動作させる。次に除塵手段７及
び除塵手段８を突出動作させ、それぞれ手段の先端部
（図面では粘着材を施したローラー）を原版フィルム２
表面に接する位置、及び基板１下側表面に接する位置ま
で伸出させた後、トラバーサＥをレールＦに沿って図面
右方向に徐々に移動させながら、一方の除塵手段７の先
端部の粘着材ローラーは原版フィルム２表面に、他方の
除塵手段８の先端部の粘着材ローラーは、基板１の下側
表面（プレセンシタイズされた面）に周接回転して、ロ
ーラー粘着面にフィルム面、基板面の塵、ゴミを付着さ
せ除塵することができる。基板１を吸着保持した第１支
持部E1が露光ステージＣ上側に相対した位置でトラバー
サＥを停止させ、除塵手段7,8を復帰動作させる。続い
て、第１支持部E1の基板１を保持した吸着手段e1を露光
ステージＣの原版フィルム２に下降させ、該基板１を原
版フィルム２表面に密着させた後、吸着手段e1の吸引を
停止させ、基板１の保持を解消し、手段e1を上昇させ、
トラバーサＥをレールＦに沿って左方向に復帰動作させ
る。続いて、露光ステージＣ上方にあるバキューム板11
を下降動作させ、重ね合わされている基板１と原版フィ
ルム２上側より押圧しながら、バキューム吸引にて真空
吸引して基板１と原版フィルム２との密着を確実にした
後、露光用光源５を下側より照射してパターン露光を終
了する。終了後は、バキューム板11を上昇復帰させ、図
面左方向二復帰しているトラバーサＥの第１支持部E1に
よって、基板供給ステージＡより次の基板１を吸着保持
してステージＢに移送する。そして、ステージＢ上では
基板１の位置出し動作を行い、位置出し終了後は、第１
支持部E1及び第２支持部E2のそれぞれ吸着手段e1,e2を
それぞれステージＢ、Ｃに下降動作して、位置出しされ
た基板１を一方の第１支持部E1によって、又、先にパタ
ーン露光の終了した基板１を他方の第２支持部E2によっ
てそれぞれ吸着して上昇動作し、トラバーサＥをレール
Ｆに沿って図面右方向に移動させ、第１支持部E1をステ
ージＣ上に、第２支持部E2を搬出ステージＤ上に相対さ
せた後、吸着手段e1及びe2を下降動作させて、吸着動作
を停止させ、それぞれ露光前の一方の基板１を露光ステ
ージＣ上に、露光後の他方の基板１を搬出ステージＤ上
にそれぞれ載置するものである。搬出ステージＤに載置
された基板１は、適宜排出ベルトなど排出手段によって
外方に排出される。以上の動作を繰り返し行うことによ
って、同一原版フィルム２によるプリセンシタイズされ
たプリント配線基板１に順次パターン露光を行うもので
ある。なお、原版フィルム２の露光ステージＣへの固定
は、セロファン接着テープ、バキューム吸引など適宜実
施可能である。
本発明の他の実施例としては、第３図に示すように、
トラバーサＥの進行方向相当の露光ステージＣの幅Ｌ相
当の空隙部を設けて、その空隙部の前後にそれぞれ第１
支持部、第２支持部を設けるようにしてもよい。この場
合は、一方の除塵手段７は、第２支持部E2の末端部側に
設け、他方の除塵手段８は、基板位置出しステージＢと
露光ステージＣとの間、又はその近傍のステージＢ側又
はステージＣ側に設けるものである。
トラバーサＥの進行方向相当の露光ステージＣの幅Ｌ相
当の空隙部を設けて、その空隙部の前後にそれぞれ第１
支持部、第２支持部を設けるようにしてもよい。この場
合は、一方の除塵手段７は、第２支持部E2の末端部側に
設け、他方の除塵手段８は、基板位置出しステージＢと
露光ステージＣとの間、又はその近傍のステージＢ側又
はステージＣ側に設けるものである。
（発明の効果） 本発明によれば、プリント配線用基板など感光性を付
与した基板に対して原版フィルムのパターンを露光し
て、プリント配線板にフォトレジストパターンなどを施
す場合、露光前の基板表面及び原版フィルムに付着して
いる塵、ゴミなどを自動的に除去しながら、能率的に露
光処理でき、基板への配線パターンの製造能率の向上、
及び品質の向上に顕著な効果を発揮するものである。
与した基板に対して原版フィルムのパターンを露光し
て、プリント配線板にフォトレジストパターンなどを施
す場合、露光前の基板表面及び原版フィルムに付着して
いる塵、ゴミなどを自動的に除去しながら、能率的に露
光処理でき、基板への配線パターンの製造能率の向上、
及び品質の向上に顕著な効果を発揮するものである。
【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の一実施例の側面図、第２図は本発明の
動作説明図、第３図は本発明の他の実施例の側面図であ
る。 １……基板、２……原版フィルム、３……微調整定盤、
４……CCDカメラ、５……光源、６……透明板、7,8……
除塵手段、９……前当部、10……エアーシリンダー、11
……バキューム板、Ａ……基板供給ステージ、Ｂ……位
置出しステージ、Ｃ……露光ステージ、Ｄ……搬出ステ
ージ、Ｅ……トラバーサ、E1……第１支持部、E2……第
２支持部、Ｆ……レール
動作説明図、第３図は本発明の他の実施例の側面図であ
る。 １……基板、２……原版フィルム、３……微調整定盤、
４……CCDカメラ、５……光源、６……透明板、7,8……
除塵手段、９……前当部、10……エアーシリンダー、11
……バキューム板、Ａ……基板供給ステージ、Ｂ……位
置出しステージ、Ｃ……露光ステージ、Ｄ……搬出ステ
ージ、Ｅ……トラバーサ、E1……第１支持部、E2……第
２支持部、Ｆ……レール
Claims (2)
- 【請求項１】基板供給ステージと、基板位置出しステー
ジと、基板露光ステージと、基板搬出ステージとをこの
順に該各々ステージ上面を面一にして一列に併設し、該
ステージ群の上側に各ステージ上を水平に移動するトラ
バーサを備え、該トラバーサは、その順次水平移動によ
り、基板供給ステージと基板位置出しステージとの上
側、基板位置出しステージと基板露光ステージとの上
側、基板露光ステージと基板搬出ステージとの上側のそ
れぞれ対向する位置に一体に平行移動するそれぞれ基板
を吸着保持する吸着手段を有して昇降動作する第１支持
部と第２支持部とを備え、前記トラバーサの第１支持部
と第２支持部との間又はその近傍には前記基板露光ステ
ージ上面に向かって下向きに動作する除塵手段をトラバ
ーサ側に一体的に設け、前記基板位置出しステージと基
板露光ステージとの間又はその近傍には前記トラバーサ
の第１支持部の下面に向かって上向きに動作する除塵手
段をステージ側に一体的に設けたことを特徴とする基板
自動露光機の除塵装置。 - 【請求項２】基板供給ステージと、基板位置出しステー
ジと、基板露光ステージと、基板搬出ステージとをこの
順に該各々ステージ上面を面一にして一列に併設し、該
ステージ群の上側に各ステージ上を水平に移動するトラ
バーサを備え、該トラバーサは、その順次水平移動によ
り、基板供給ステージと基板露光ステージとの上側、基
板位置出しステージと基板搬出ステージとの上側のそれ
ぞれ対向する位置に一体に平行移動するそれぞれ基板を
吸着保持する吸着手段を有して昇降動作する第１支持部
と第２支持部とを備え、前記トラバーサの第２支持部の
進行方向末端には前記基板露光ステージ上面に向かって
下向きに動作する除塵手段をトラバーサ側に一体的に設
け、前記基板位置出しステージと基板露光ステージとの
間又はその近傍には前記トラバーサの第１支持部の下面
に向かって下向きに動作する除塵手段をステージ側に一
体的に設けたことを特徴とする基板自動露光機の除塵装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1272031A JP2847808B2 (ja) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | 基板自動露光機の除塵装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1272031A JP2847808B2 (ja) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | 基板自動露光機の除塵装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03132759A JPH03132759A (ja) | 1991-06-06 |
| JP2847808B2 true JP2847808B2 (ja) | 1999-01-20 |
Family
ID=17508164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1272031A Expired - Fee Related JP2847808B2 (ja) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | 基板自動露光機の除塵装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2847808B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008298870A (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-11 | Orc Mfg Co Ltd | 描画装置 |
| JP2009157248A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Orc Mfg Co Ltd | 露光装置の反転部 |
| KR20150021515A (ko) | 2013-06-18 | 2015-03-02 | 베아크 가부시끼가이샤 | 노광 장치 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03280060A (ja) * | 1990-03-29 | 1991-12-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版の供給方法 |
| JP2007025436A (ja) * | 2005-07-20 | 2007-02-01 | Adtec Engineeng Co Ltd | 露光装置 |
| CN114654094A (zh) * | 2022-04-18 | 2022-06-24 | 深圳泰德激光技术股份有限公司 | 激光去除氧化膜设备 |
-
1989
- 1989-10-19 JP JP1272031A patent/JP2847808B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008298870A (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-11 | Orc Mfg Co Ltd | 描画装置 |
| JP2009157248A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Orc Mfg Co Ltd | 露光装置の反転部 |
| KR20150021515A (ko) | 2013-06-18 | 2015-03-02 | 베아크 가부시끼가이샤 | 노광 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03132759A (ja) | 1991-06-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |