JP3754905B2 - 基板乾燥装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶デバイスの製造工程において、液晶ディスプレイ（Liquid Crystal Display：ＬＣＤ）等に使用されるガラス基板に対し所定の液処理を行った後に、ガラス基板を乾燥させる基板乾燥装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＬＣＤの製造工程において、ＬＣＤ用のガラス基板上にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）の薄膜や電極パターンを形成するために、半導体デバイスの製造に用いられるものと同様のフォトリソグラフィ技術が利用される。フォトリソグラフィ技術では、フォトレジストをガラス基板に塗布し、これを露光し、さらに現像する。
【０００３】
これらレジスト塗布、露光及び現像の一連の処理は、従来から、塗布、現像あるいはベーキングや洗浄等の各処理を行う塗布現像処理システムによって行われている。
【０００４】
この塗布現像処理システムにおける現像処理及び洗浄処理では、例えば、基板をコロ式の搬送ローラによりほぼ水平に搬送させながら、現像液や洗浄液等の処理液を基板に供給して現像処理、洗浄処理を行っている。そしてその後、例えば搬送下流側に配置されたエアナイフにより、基板に対し高圧のエアを噴出させて基板上の処理液を除去して乾燥させている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、最近のガラス基板の大型化に伴い、このエアナイフから噴出されるエアの流量が莫大なものとなりつつある。従って、かかる塗布現像処理システムを工場のクリーンルーム内に設置する場合、当該工場用力の一部である高圧エアコンプレッサの負荷は増大の一途をたどっている。
【０００６】
また、エアナイフから噴出されるエアの流量は、乾燥性能において重要なパラメータの１つであることの観点から、その流量が多ければ多いほど乾燥処理チャンバ内の気流が乱れ、ミストが浮遊することにより乾燥性能が悪化するおそれがある。
【０００７】
更に、このような気流の乱れにより、例えば洗浄処理において、乾燥処理の前工程である洗浄処理による洗浄液ミストが乾燥処理チャンバ内に流入してくる場合があり、乾燥処理に更に悪影響を与えるおそれがある。
【０００８】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、工場用力の負荷を軽減することができ、しかも乾燥処理のチャンバ内の気流を制御をして乾燥性能を向上させることができる基板乾燥装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明の第１の観点は、基板を所定の方向に搬送させる搬送機構と、前記搬送される基板に対しエアを噴出して基板に付着した液体を除去し乾燥させる第１のノズルと、前記第１のノズルへエアを供給するためのブロアファンと、前記第１のノズルへ供給されるエアの供給量を計測する手段と、前記計測手段により得られた計測結果に基づいて、前記ブロアファンにより供給されるエアの供給量を調整する調整手段とを具備する。
本発明の別の観点は、基板を所定の方向に搬送させる搬送機構と、前記搬送される基板に対しエアを噴出して基板に付着した液体を除去し乾燥させる第１のノズルと、前記第１のノズルより基板の搬送下流側に配置され、搬送される基板に対しエアを噴出して基板に付着した液体を除去し乾燥させる第２のノズルと、前記第１のノズル及び前記第２のノズルへエアを供給するためのブロアファンと、前記第１のノズル及び第２のノズルへ供給されるエアの供給量を計測する手段と、前記計測手段により得られた計測結果に基づいて、前記ブロアファンにより供給されるエアの供給量を調整する調整手段とを具備する。
【００１０】
このような構成によれば、例えば、工場の高圧エアコンプレッサ等を使用する必要がなくなり、工場用力を削減し省エネルギー化を図ることができる。特に基板がガラス基板である場合において、基板の大型に伴い用力も増大する傾向にあるのでブロアファンを使用する効果は大きい。また、ブロアファンはエアコンプレッサに比べ経済的にも極めて有利である。
【００１１】
本発明によれば、第２のノズルを第１のノズルの下流側に更に配置する構成とすることにより、第１のノズルだけでは除去しきれなかった液体を第２のノズルにより除去することができるので乾燥性能は更に向上する。
【００１２】
本発明の一の形態によれば、前記第１のノズルより搬送上流側に設けられ、少なくとも前記第１のノズル及び第２のノズルから噴出されたエアを前記除去された液体とともに排気する排気部を更に具備する。また、本発明の一の形態によれば、前記第２のノズルより搬送下流側に設けられ、搬送下流側から上流側に向けてエアを供給するファンフィルタユニットを更に具備する。これにより、基板に付着した液体が基板の搬送方向と逆向きに飛ばされて除去され、つまり排気部に向かって飛ばされて除去される。このとき、ファンフィルタユニットからの搬送下流側から上流側に向けての気流制御による相乗効果により、空中に飛散したミストを効率良く排出することができる。また、このように効率良くミストを排出することができる結果、ミスト状の液体が再び基板に付着することはなく乾燥性能が飛躍的に向上する。更にこのような効果的な気流制御により、例えば、前工程で行われるスプレー洗浄による洗浄液ミストが乾燥処理室内に流入してくるのを防止することができる。
【００１３】
本発明の一の形態によれば、前記第１のノズル及び第２のノズルは、搬送される基板の表面側及び裏面側にそれぞれ２つずつ具備する。これにより、基板の両面について乾燥処理を行うことができる。
【００１４】
本発明によれば、ブロアファンと第１のノズル及び第２のノズルとの間に、例えばパーティクル等を排除するフィルタ等を設けた場合、当該フィルタの目詰まりにより第１及び第２のノズルへ供給されるエアの流量が減少した場合であっても、計測手段による計測結果をブロアファンにフィードバックすることにより、各ノズルへ常に一定の流量でエアを供給することができる。
【００１５】
本発明の第２の観点は、基板を所定の方向に搬送させる搬送機構と、少なくとも前記搬送機構の基板が搬送される空間を覆う第１の領域と、前記第１の領域より下流側に設けられ、少なくとも前記搬送機構の基板が搬送される空間を覆う第２の領域と、前記第１の領域内で搬送される基板に対しエアを噴出して基板に付着した液体を除去し乾燥させる第１のノズルと、前記第２の領域内で搬送される基板に対しエアを噴出して基板に付着した液体を除去し乾燥させる第２のノズルと、前記第１のノズル及び第２のノズルへエアを供給するためのブロアファンと、前記第１のノズル及び第２のノズルへ供給されるエアの供給量を計測する手段と、前記計測手段により得られた計測結果に基づいて、前記ブロアファンにより供給されるエアの供給量を調整する調整手段とを具備する。
【００１６】
このような構成によれば、工場の高圧エアコンプレッサを使用する必要がなくなり、工場用力を削減し省エネルギー化を図ることができるとともに、第１及び第２の両ノズルにより、第１及び第２の領域で搬送される基板に対してそれぞれエアを噴出して液体を除去することができ、乾燥効率を向上させることができる。
【００１７】
また、第２の領域より下流側に少なくとも搬送機構の基板が搬送される空間を覆う第３の領域を更に設け、前記第１の領域から第３の領域に向かうにつれて気圧を高くする気圧調整手段を設けるようにすることにより、搬出されてきた基板に付着した液体が基板の搬送方向と逆向きに飛ばされて除去される。
【００１８】
ここで、前記気圧調整手段として、少なくとも第１のノズル及び第２のノズルから噴出されたエアを基板から除去された液体とともに排気する排気部を第１の領域に配置するとともに、第３の領域から第１の領域に向けてエアを供給するファンフィルタユニットを第３の領域に配置することにより、この排気部による排気とファンフィルタによる気流制御との相乗効果により、空中に飛散したミストを効率良く排出することができる。
【００１９】
また、特に基板の大型化に伴って両ノズルからのエアの供給量も増大することより、特に第１の領域及び第２の領域の気流が乱れる傾向にあるが、本発明によればこのような事態を抑制することができる。
【００２０】
本発明の一の形態によれば、前記ファンフィルタユニットは、前記ブロアファンからのエアを取り入れる手段を具備する。これにより、外部からファンフィルタユニットへエアを取り込む場合に比べ、エアの供給量を削減でき省エネルギー化に寄与する。
【００２１】
本発明の一の形態によれば、前記排気部から排気されたエアを取り込みこのエアに混合した前記液体を除去するとともに、前記除去されたエアを前記ブロアファンへ供給する手段を更に具備する。これにより、排気エアを無駄にすることなく省エネルギー化に寄与する。また、乾燥したエアを各ブロアファンへ供給することができ、各ブロアファンや基板等に悪影響を及ぼすおそれをなくすことができる。
【００２２】
本発明の第３の観点は、基板を所定の方向に搬送させる搬送機構と、少なくとも前記搬送機構の基板が搬送される空間を覆う第１の領域と、前記第１の領域より下流側に設けられ、少なくとも前記搬送機構の基板が搬送される空間を覆う第２の領域と、前記第１の領域内で搬送される基板に対しエアを噴出して基板に付着した液体を除去し乾燥させる第１のノズルと、前記第１のノズルへエアを供給するための第１のブロアファンと、前記第２の領域内で搬送される基板に対しエアを噴出して基板に付着した液体を除去し乾燥させる第２のノズルと、前記第２のノズルへエアを供給するための第２のブロアファンと、前記第１のブロアファンと第２のブロアファンとにより供給されるエアの供給量をそれぞれ別個に調整する調整手段と、前記第１のノズル及び第２のノズルへ供給されるエアの供給量を計測する手段と、前記計測手段により得られた計測結果に基づいて前記調整手段を制御する制御手段とを具備する。
【００２３】
このような構成によれば、工場の高圧エアコンプレッサを使用する必要がなくなり、工場用力を削減し省エネルギー化を図ることができる。また、それぞれ別個独立のブロアファンにより各ノズルへエアを供給するようにしたので、例えば第１のノズルからのエア噴出量よりも第２のノズルからのそれを少なく制御することにより、エアの供給量を削減でき省エネルギー化が図れ、流量が多い場合に比べて各領域の乱気流の抑制が容易となる。
【００２４】
本発明の更なる特徴と利点は、添付した図面及び発明の実施の形態の説明を参酌することにより一層明らかになる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
【００２６】
図１は本発明の搬送装置が適用されるＬＣＤ基板の塗布現像処理システムを示す平面図であり、図２はその正面図、また図３はその背面図である。
【００２７】
この塗布現像処理システム１は、複数のガラス基板Ｇを収容するカセットＣを載置するカセットステーション２と、基板Ｇにレジスト塗布および現像を含む一連の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理部３と、露光装置３２との間で基板Ｇの受け渡しを行うためのインターフェース部４とを備えており、処理部３の両端にそれぞれカセットステーション２及びインターフェース部４が配置されている。
【００２８】
カセットステーション２は、カセットＣと処理部３との間でＬＣＤ基板の搬送を行うための搬送機構１０を備えている。そして、カセットステーション２においてカセットＣの搬入出が行われる。また、搬送機構１０はカセットの配列方向に沿って設けられた搬送路１２上を移動可能な搬送アーム１１を備え、この搬送アーム１１によりカセットＣと処理部３との間で基板Ｇの搬送が行われる。
【００２９】
処理部３には、カセットステーション２におけるカセットＣの配列方向（Ｙ方向）に垂直方向（Ｘ方向）に延設された主搬送部３ａと、この主搬送部３ａに沿って、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）を含む各処理ユニットが並設された上流部３ｂ及び現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８を含む各処理ユニットが並設された下流部３ｃとが設けられている。
【００３０】
主搬送部３ａには、Ｘ方向に延設された搬送路３１と、この搬送路３１に沿って移動可能に構成されガラス基板ＧをＸ方向に搬送する搬送シャトル２３とが設けられている。この搬送シャトル２３は、例えば支持ピンにより基板Ｇを保持して搬送するようになっている。また、主搬送部３ａのインターフェース部４側端部には、処理部３とインターフェース部４との間で基板Ｇの受け渡しを行う垂直搬送ユニット７が設けられている。
【００３１】
上流部３ｂにおいて、カセットステーション２側端部には、基板Ｇに洗浄処理を施すスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０が設けられ、このスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０の上段に基板Ｇ上の有機物を除去するためのエキシマＵＶ処理ユニット（ｅ−ＵＶ）１９が配設されている。
【００３２】
スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０の隣には、ガラス基板Ｇに対して熱的処理を行うユニットが多段に積み上げられた熱処理系ブロック２４及び２５が配置されている。これら熱処理系ブロック２４と２５との間には、垂直搬送ユニット５が配置され、搬送アーム５ａがＺ方向及び水平方向に移動可能とされ、かつθ方向に回動可能とされているので、両ブロック２４及び２５における各熱処理系ユニットにアクセスして基板Ｇの搬送が行われるようになっている。なお、上記処理部３における垂直搬送ユニット７についてもこの垂直搬送ユニット５と同一の構成を有している。
【００３３】
図２に示すように、熱処理系ブロック２４には、基板Ｇにレジスト塗布前の加熱処理を施すベーキングユニット（ＢＡＫＥ）が２段、ＨＭＤＳガスにより疎水化処理を施すアドヒージョンユニット（ＡＤ）が下から順に積層されている。一方、熱処理系ブロック２５には、基板Ｇに冷却処理を施すクーリングユニット（ＣＯＬ）が２段、アドヒージョンユニット（ＡＤ）が下から順に積層されている。
【００３４】
熱処理系ブロック２５に隣接してレジスト処理ブロック１５がＸ方向に延設されている。このレジスト処理ブロック１５は、基板Ｇにレジストを塗布するレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）と、減圧により前記塗布されたレジストを乾燥させる減圧乾燥ユニット（ＶＤ）と、基板Ｇの周縁部のレジストを除去するエッジリムーバ（ＥＲ）とが一体的に設けられて構成されている。このレジスト処理ブロック１５には、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）からエッジリムーバ（ＥＲ）にかけて移動する図示しないサブアームが設けられており、このサブアームによりレジスト処理ブロック１５内で基板Ｇが搬送されるようになっている。
【００３５】
レジスト処理ブロック１５に隣接して多段構成の熱処理系ブロック２６が配設されており、この熱処理系ブロック２６には、基板Ｇにレジスト塗布後の加熱処理を行うプリベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）が３段積層されている。
【００３６】
下流部３ｃにおいては、図３に示すように、インターフェース部４側端部には、熱処理系ブロック２９が設けられており、これには、クーリングユニット（ＣＯＬ）、露光後現像処理前の加熱処理を行うポストエクスポージャーベーキングユニット（ＰＥＢＡＫＥ）が２段、下から順に積層されている。
【００３７】
熱処理系ブロック２９に隣接して現像処理を行う現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８がＸ方向に延設されている。この現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８の隣には熱処理系ブロック２８及び２７が配置され、これら熱処理系ブロック２８と２７との間には、上記垂直搬送ユニット５と同一の構成を有し、両ブロック２８及び２７における各熱処理系ユニットにアクセス可能な垂直搬送ユニット６が設けられている。また、現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８端部の上には、ｉ線処理ユニット（ｉ―ＵＶ）３３が設けられている。
【００３８】
熱処理系ブロック２８には、クーリングユニット（ＣＯＬ）、基板Ｇに現像後の加熱処理を行うポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）が２段、下から順に積層されている。一方、熱処理系ブロック２７も同様に、クーリングユニット（ＣＯＬ）、ポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）が２段、下から順に積層されている。
【００３９】
インターフェース部４には、正面側にタイトラー及び周辺露光ユニット（Ｔｉｔｌｅｒ／ＥＥ）２２が設けられ、垂直搬送ユニット７に隣接してエクステンションクーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）３５が、また背面側にはバッファカセット３４が配置されており、これらタイトラー及び周辺露光ユニット（Ｔｉｔｌｅｒ／ＥＥ）２２とエクステンションクーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）３５とバッファカセット３４と隣接した露光装置３２との間で基板Ｇの受け渡しを行う垂直搬送ユニット８が配置されている。この垂直搬送ユニット８も上記垂直搬送ユニット５と同一の構成を有している。
【００４０】
以上のように構成された塗布現像処理システム１の処理工程については、先ずカセットＣ内の基板Ｇが処理部３部における上流部３ｂに搬送される。上流部３ｂでは、エキシマＵＶ処理ユニット（ｅ−ＵＶ）１９において表面改質・有機物除去処理が行われ、次にスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０において、基板Ｇが略水平に搬送されながら洗浄処理及び乾燥処理が行われる。続いて熱処理系ブロック２４の最下段部で垂直搬送ユニットにおける搬送アーム５ａにより基板Ｇが取り出され、同熱処理系ブロック２４のベーキングユニット（ＢＡＫＥ）にて加熱処理、アドヒージョンユニット（ＡＤ）にて疎水化処理が行われ、熱処理系ブロック２５のクーリングユニット（ＣＯＬ）による冷却処理が行われる。
【００４１】
次に、基板Ｇは搬送アーム５ａから搬送シャトル２３に受け渡される。そしてレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）に搬送され、レジストの塗布処理が行われた後、減圧乾燥処理ユニット（ＶＤ）にて減圧乾燥処理、エッジリムーバ（ＥＲ）にて基板周縁のレジスト除去処理が順次行われる。
【００４２】
次に、基板Ｇは搬送シャトル２３から垂直搬送ユニット７の搬送アームに受け渡され、熱処理系ブロック２６におけるプリベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）にて加熱処理が行われた後、熱処理系ブロック２９におけるクーリングユニット（ＣＯＬ）にて冷却処理が行われる。続いて基板Ｇはエクステンションクーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）３５にて冷却処理されるとともに露光装置にて露光処理される。
【００４３】
次に、基板Ｇは垂直搬送ユニット８及び７の搬送アームを介して熱処理系ブロック２９のポストエクスポージャーベーキングユニット（ＰＥＢＡＫＥ）に搬送され、ここで加熱処理が行われた後、クーリングユニット（ＣＯＬ）にて冷却処理が行われる。そして基板Ｇは垂直搬送ユニット７の搬送アームを介して、現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８において基板Ｇは略水平に搬送されながら現像処理、リンス処理及び乾燥処理が行われる。
【００４４】
次に、基板Ｇは熱処理系ブロック２８における最下段から垂直搬送ユニット６の搬送アーム６ａにより受け渡され、熱処理系ブロック２８又は２７におけるポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）にて加熱処理が行われ、クーリングユニット（ＣＯＬ）にて冷却処理が行われる。そして基板Ｇは搬送機構１０に受け渡されカセットＣに収容される。
【００４５】
図４（ａ）は上記スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０を示す概略側面図である。このスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０には、ガラス基板Ｇを搬送するためのコロ式の搬送ローラ３８が複数設けられている。搬送ローラ３８の両端には、昇降動作により他の処理部との間で基板の受け渡しを行う受け渡しピン３９が配置されており、この両受け渡しピン３９の間には、この基板の搬送上流側（図において左側）から、ロールブラシ洗浄室３６、スプレー洗浄室３７及び本発明に係る乾燥処理装置４０が順に配置されている。ロールブラシ洗浄室３６にはロールブラシ４５が設けられ、スプレー洗浄室３７には、洗浄液を噴出するスプレー式のノズル４６が設けられている。なお、スプレー式のノズル４６は、図示するように基板の表面側だけでなく、基板裏面側にも更に配置するようにしてもかまわない。
【００４６】
このようなスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０においては、先ずロールブラシ洗浄室３６で基板上の比較的大きいゴミを除去洗浄した後、スプレー洗浄室３７で微細なゴミを除去洗浄し、乾燥処理装置４０で乾燥処理される。
【００４７】
図４（ｂ）は、上記現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８を示す概略側面図である。この現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８には、スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０と同様に、コロ式の搬送ローラ３８及び受け渡しピン３９が配置されている。この両受け渡しピン３９の間には、搬送上流側（図において左側）から、プリウェット処理室４１、現像処理室４２、リンス処理室４３及び本発明に係る上記と同一の乾燥処理装置４０が順に配置されている。プリウェット処理室４１には、プリウェットノズル４７が、また現像処理室４２には現像液を吐出する現像液ノズル４８がそれぞれ設けられ、またリンス処理室４３にはリンスノズル４９が設けられている。
【００４８】
このような現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８においては、先ず、プリウェット処理室４１で、現像液吐出の際の基板に対するインパクト軽減のために、基板をプリウェットし、次に現像処理室４２で現像液が吐出されて現像され、そしてリンス処理室４３で現像液が洗い流され、最後に乾燥処理装置４０で乾燥処理される。
【００４９】
なお、現像処理室４２においては、現像時間を確保するために、搬送ローラ３８を逆回転させ基板Ｇを往復させながら現像処理を行っている。
【００５０】
図５、図６及び図７は、前述した乾燥処理装置４０の平断面図、側断面図及び正面図である。この乾燥処理装置４０のチャンバ５１内の空間は、搬送上流側（図５及び図６において左側）から仕切り板６３及び６４によって仕切られ、これにより第１の領域Ａ、第２の領域Ｂ及び第３の領域Ｃが形成されている。このチャンバ５１の上流端及び下流端には、それぞれ基板Ｇを搬入及び搬出するための開口部５１ａ及び５１ｂが形成されている。
【００５１】
仕切り板６３の下端切り欠き部６３ａには、第１の領域Ａ内で搬送される基板Ｇに対し清浄エアを噴出して基板Ｇを乾燥させる第１のエアナイフノズル５３ａ及び５３ｂがそれぞれ基板Ｇを挟みこむように上下に配置されている。また同様に、仕切り板６４の下端切り欠き部６４ａには、第２の領域Ｂ内で搬送される基板Ｇに対し清浄エアを噴出して基板Ｇを乾燥させる第２のエアナイフノズル５４ａ及び５４ｂがそれぞれ基板Ｇを挟みこむように上下に配置されている。
【００５２】
これら各エアナイフ５３ａ、５３ｂ、５４ａ、５４ｂは基板Ｇに対し鉛直方向から例えば４０°以上傾けて配置されており、エアが基板面の鉛直方向に対して４０°以上傾いて噴出されるようになっている。
【００５３】
各エアナイフ５３ａ、５３ｂ、５４ａ、５４ｂは同一の構成を有しており、例えば図８に示すように、内部に供給口７１から供給されたエアを一旦滞留させるバッファ室６７を有し、このバッファ室６７から基板Ｇに対して線状にエアを噴出させるためのスリット７２が形成されている。
【００５４】
図６を参照して、各エアナイフ５３ａ、５３ｂ、５４ａ、５４ｂには、ブロアファン６０から、フィルタ部５９及び供給管６６を介してエアが供給されるようになっている。このブロアファン６０は、例えばクリーンルーム内あるいは外部の空気を取り入れている。フィルタ部５９には、例えば粗いパーティクル用のプレフィルタ６１と細かいパーティクル用のＵＬＰＡフィルタ６２が設けられている。このＵＬＰＡフィルタ６２は、ＨＥＰＡフィルタであってもよい。
【００５５】
このように、ブロアファン６０を設けることにより、工場の高圧エアコンプレッサを使用する必要がなくなり、工場用力を削減し省エネルギー化を図ることができる。特に基板Ｇの大型に伴い用力も増大する傾向にあるのでブロアファンを使用する効果は大きい。また、ブロアファンはエアコンプレッサに比べ経済的にも極めて有利である。
【００５６】
制御系５０はＣＰＵ５６、メモリ５７、インバータ回路５８を有しており、ブロアファン６０は制御系５０により周波数制御されるようになっている。例えば供給管６６に設けられ当該管内のエアの流量を計測するフローメータ６５の計測結果に基づいて、ブロアファン６０から吐出されるエアの流量が制御されるようになっている。これにより、フィルタ部５９の目詰まり等により各エアナイフ５３ａ、５３ｂ、５４ａ、５４ｂに供給されるエアの流量が減少した場合であっても、フローメータ６５の計測結果をフィードバックすることにより各エアナイフへ常に一定の流量でエアを供給することができる。
【００５７】
第３の領域Ｃにおけるチャンバ５１の上部には、開口が形成されここにファンフィルタユニット５２が設置されている。このファンフィルタユニット５２は、例えばクリーンルーム内あるいは外部のエアを清浄にしてチャンバ５１内に取り入れ、この取り入れたエアを第１の領域Ａの上下両部に設けられた排気口５５ａ及び５５ｂから排気している。排気口５５ａ及び５５ｂには図示しないバキューム装置等に接続されている。これにより、チャンバ５１内の気圧を、第３の領域Ｃから第１の領域Ａに向かうにつれて低くなるように制御している。また、第１の領域Ａ内の気圧は、図示しないセンサ等の検知結果に基づいてチャンバ外の雰囲気の圧力より低くなるように制御される。更に、この気圧の制御により除去された基板Ｇ上の洗浄液Ｈをも効率良く排出することができる。
【００５８】
すなわち、図８に示すように、搬出されてきた基板Ｇに付着した例えば洗浄液Ｈが基板Ｇの搬送方向と逆向きに飛ばされて除去され、つまり排気口５５ａ及び５５ｂに向かって飛ばされて除去される。このとき、ファンフィルタユニット５２からの気流制御７５による相乗効果により、空中に飛散した洗浄液ミストを効率良く排出することができる。
【００５９】
このように効率良くミストを排出することができる結果、ミスト状の洗浄液が再び基板Ｇに付着することはなく乾燥性能が飛躍的に向上する。
【００６０】
また、特に基板Ｇの大型化に伴って各エアナイフ５３ａ、５３ｂ、５４ａ、５４ｂからのエアの供給量も増大することにより、チャンバ内、特に第１及び第２の領域の気流が乱れる傾向にあるが、本実施形態によればこのような事態を抑制することができる。
【００６１】
また、このような効果的な気流制御により、前工程で行われるスプレー洗浄による洗浄液ミストが開口部５１ａから流入してくるのを防止することができる。
【００６２】
更に、本実施形態においては、第２のエアナイフ５４ａ及び５４ｂを第１のエアナイフ５３ａ及び５３ｂの下流側に更に配置する構成としたので、第１のエアナイフ５３ａ及び５３ｂだけでは除去しきれなかった洗浄液を除去することができるので乾燥性能は更に向上する。
【００６３】
図９は、本発明の他の実施形態に係る乾燥処理装置を示す。なお、図９において、図６における構成要素と同一のものについては同一の符号を付すものとし、その説明を省略する。
【００６４】
この乾燥処理装置９０の第１のエアナイフノズル（５３ａ及び５３ｂ）と第２のエアナイフノズル（５４ａ及び５４ｂ）とには、それぞれ別個の供給管８３と８４とが接続され、各エアナイフにはそれぞれ別個のブロアファン６０ａと６０ｂとによりエアが供給されるようになっている。これにより、第１のエアナイフ第２のエアナイフとから噴出されるエアの流量を別個独立して制御できる。例えば、実際には、第１のエアナイフによるエア供給により基板Ｇ上にほとんど洗浄液が残存していない状態となるので、第２のエアナイフの流量を第１のエアナイフより少なくしても十分に乾燥処理できる。これにより、エアの供給量を削減でき省エネルギー化が図れる。しかも、流量を少なくすることにより、流量が多い場合に比べチャンバ５１内の乱気流の抑制が容易となる。
【００６５】
また、各ブロアファン６０ａ及び６０ｂからのエアは、それぞれバイパス管８５及び８６を介してファンフィルタユニット５２にも供給されるようになっており、このファンフィルタユニット５２に供給されたエアにより、上記実施形態と同様にチャンバ５１内の気流を制御するようになっている。これにより、外部からファンフィルタユニット５２へエアを取り込む場合に比べ、エアの供給量を削減でき省エネルギー化に寄与する。
【００６６】
更に、本実施形態では、排気口５５ａ及び５５ｂからの液体混じりのエアが排気管８１を介して液体除去装置８０に取り込まれるようになっている。この液体除去装置８０は、供給口７７から液体混じりのエアが供給され、例えばフィルタ７６で液体が除去され乾燥したエアが排気口７９から排気されるようになっており、更に、乾燥したエアはこの排気口７９から排気管８２を介して各ブロアファン６０ａ及び６０ｂへ戻されるようになっている。これにより、排気エアを無駄にすることなく省エネルギー化に寄与する。また、液体除去装置８０を介していることにより、乾燥したエアを各ブロアファン６０ａ及び６０ｂへ供給することができ、各ブロアファンや基板Ｇ等に悪影響を及ぼすおそれはない。
【００６７】
また、上記実施形態と同様に、工場用力の負荷の軽減、洗浄液ミストの排除の効率化による乾燥性能の向上を図ることができる。
【００６８】
本発明は以上説明した実施形態には限定されるものではなく、種々の変形が可能である。
【００６９】
例えば、上記各実施形態においては、排気口５５ａ及び５５ｂをチャンバ５１の一方側に設ける構成としたが、左右両方に設けるようにしてもよい。これにより、排気効率を更に向上させることができる。
【００７０】
また、各実施形態において、前後及び上下の４つの各エアナイフごとにブロアファンをそれぞれ設ける構成とし、それぞれ４つ別個独立にエアの噴出量を制御するようにしてもよい。これにより、例えば基板表面側に噴出されるエアを裏面側よりも多く制御するこによって搬送中の基板の浮きを防止することができる。
【００７１】
また、図９に示す乾燥処理装置において、第２のエアナイフの流量を第１のエアナイフの流量より多くしてもよく、この場合、乾燥処理の確実性を向上させることができる。
【００７２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、工場用力の負荷を軽減することができ、しかもチャンバ内の気流を制御をして乾燥性能を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明が適用される塗布現像処理システムの全体構成を示す平面図である。
【図２】図１に示す塗布現像処理システムの正面図である。
【図３】図１に示す塗布現像処理システムの背面図である。
【図４】（ａ）スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）、（ｂ）現像処理ユニット（ＤＥＶ）を示す概略側面図である。
【図５】本発明の一実施形態に係る乾燥処理装置を示す平断面図である。
【図６】図５に示す乾燥処理装置の側断面図及び概念構成図である。
【図７】図５に示す乾燥処理装置の正面図である。
【図８】乾燥処理装置の乾燥処理作用を示す側面図である。
【図９】本発明の他の実施形態に係る乾燥処理装置の側断面図及び概念構成図である。
【符号の説明】
Ｇ…ガラス基板
Ａ…第１の領域
Ｂ…第２の領域
Ｃ…第３の領域
Ｈ…洗浄液
３８…搬送ローラ
４０、９０…乾燥処理装置
５０…制御系
５１…チャンバ
５２…ファンフィルタユニット
５３ａ、５３ｂ…第１のエアナイフノズル
５４ａ、５４ｂ…第２のエアナイフノズル
５５ａ、５５ｂ…排気口
６０、６０ａ、６０ｂ…ブロアファン
６５…フローメータ
６６…供給管
８０…液体除去装置
８５…バイパス管
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶デバイスの製造工程において、液晶ディスプレイ（Liquid Crystal Display：ＬＣＤ）等に使用されるガラス基板に対し所定の液処理を行った後に、ガラス基板を乾燥させる基板乾燥装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＬＣＤの製造工程において、ＬＣＤ用のガラス基板上にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）の薄膜や電極パターンを形成するために、半導体デバイスの製造に用いられるものと同様のフォトリソグラフィ技術が利用される。フォトリソグラフィ技術では、フォトレジストをガラス基板に塗布し、これを露光し、さらに現像する。
【０００３】
これらレジスト塗布、露光及び現像の一連の処理は、従来から、塗布、現像あるいはベーキングや洗浄等の各処理を行う塗布現像処理システムによって行われている。
【０００４】
この塗布現像処理システムにおける現像処理及び洗浄処理では、例えば、基板をコロ式の搬送ローラによりほぼ水平に搬送させながら、現像液や洗浄液等の処理液を基板に供給して現像処理、洗浄処理を行っている。そしてその後、例えば搬送下流側に配置されたエアナイフにより、基板に対し高圧のエアを噴出させて基板上の処理液を除去して乾燥させている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、最近のガラス基板の大型化に伴い、このエアナイフから噴出されるエアの流量が莫大なものとなりつつある。従って、かかる塗布現像処理システムを工場のクリーンルーム内に設置する場合、当該工場用力の一部である高圧エアコンプレッサの負荷は増大の一途をたどっている。
【０００６】
また、エアナイフから噴出されるエアの流量は、乾燥性能において重要なパラメータの１つであることの観点から、その流量が多ければ多いほど乾燥処理チャンバ内の気流が乱れ、ミストが浮遊することにより乾燥性能が悪化するおそれがある。
【０００７】
更に、このような気流の乱れにより、例えば洗浄処理において、乾燥処理の前工程である洗浄処理による洗浄液ミストが乾燥処理チャンバ内に流入してくる場合があり、乾燥処理に更に悪影響を与えるおそれがある。
【０００８】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、工場用力の負荷を軽減することができ、しかも乾燥処理のチャンバ内の気流を制御をして乾燥性能を向上させることができる基板乾燥装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明の第１の観点は、基板を所定の方向に搬送させる搬送機構と、前記搬送される基板に対しエアを噴出して基板に付着した液体を除去し乾燥させる第１のノズルと、前記第１のノズルへエアを供給するためのブロアファンと、前記第１のノズルへ供給されるエアの供給量を計測する手段と、前記計測手段により得られた計測結果に基づいて、前記ブロアファンにより供給されるエアの供給量を調整する調整手段とを具備する。
本発明の別の観点は、基板を所定の方向に搬送させる搬送機構と、前記搬送される基板に対しエアを噴出して基板に付着した液体を除去し乾燥させる第１のノズルと、前記第１のノズルより基板の搬送下流側に配置され、搬送される基板に対しエアを噴出して基板に付着した液体を除去し乾燥させる第２のノズルと、前記第１のノズル及び前記第２のノズルへエアを供給するためのブロアファンと、前記第１のノズル及び第２のノズルへ供給されるエアの供給量を計測する手段と、前記計測手段により得られた計測結果に基づいて、前記ブロアファンにより供給されるエアの供給量を調整する調整手段とを具備する。
【００１０】
このような構成によれば、例えば、工場の高圧エアコンプレッサ等を使用する必要がなくなり、工場用力を削減し省エネルギー化を図ることができる。特に基板がガラス基板である場合において、基板の大型に伴い用力も増大する傾向にあるのでブロアファンを使用する効果は大きい。また、ブロアファンはエアコンプレッサに比べ経済的にも極めて有利である。
【００１１】
本発明によれば、第２のノズルを第１のノズルの下流側に更に配置する構成とすることにより、第１のノズルだけでは除去しきれなかった液体を第２のノズルにより除去することができるので乾燥性能は更に向上する。
【００１２】
本発明の一の形態によれば、前記第１のノズルより搬送上流側に設けられ、少なくとも前記第１のノズル及び第２のノズルから噴出されたエアを前記除去された液体とともに排気する排気部を更に具備する。また、本発明の一の形態によれば、前記第２のノズルより搬送下流側に設けられ、搬送下流側から上流側に向けてエアを供給するファンフィルタユニットを更に具備する。これにより、基板に付着した液体が基板の搬送方向と逆向きに飛ばされて除去され、つまり排気部に向かって飛ばされて除去される。このとき、ファンフィルタユニットからの搬送下流側から上流側に向けての気流制御による相乗効果により、空中に飛散したミストを効率良く排出することができる。また、このように効率良くミストを排出することができる結果、ミスト状の液体が再び基板に付着することはなく乾燥性能が飛躍的に向上する。更にこのような効果的な気流制御により、例えば、前工程で行われるスプレー洗浄による洗浄液ミストが乾燥処理室内に流入してくるのを防止することができる。
【００１３】
本発明の一の形態によれば、前記第１のノズル及び第２のノズルは、搬送される基板の表面側及び裏面側にそれぞれ２つずつ具備する。これにより、基板の両面について乾燥処理を行うことができる。
【００１４】
本発明によれば、ブロアファンと第１のノズル及び第２のノズルとの間に、例えばパーティクル等を排除するフィルタ等を設けた場合、当該フィルタの目詰まりにより第１及び第２のノズルへ供給されるエアの流量が減少した場合であっても、計測手段による計測結果をブロアファンにフィードバックすることにより、各ノズルへ常に一定の流量でエアを供給することができる。
【００１５】
本発明の第２の観点は、基板を所定の方向に搬送させる搬送機構と、少なくとも前記搬送機構の基板が搬送される空間を覆う第１の領域と、前記第１の領域より下流側に設けられ、少なくとも前記搬送機構の基板が搬送される空間を覆う第２の領域と、前記第１の領域内で搬送される基板に対しエアを噴出して基板に付着した液体を除去し乾燥させる第１のノズルと、前記第２の領域内で搬送される基板に対しエアを噴出して基板に付着した液体を除去し乾燥させる第２のノズルと、前記第１のノズル及び第２のノズルへエアを供給するためのブロアファンと、前記第１のノズル及び第２のノズルへ供給されるエアの供給量を計測する手段と、前記計測手段により得られた計測結果に基づいて、前記ブロアファンにより供給されるエアの供給量を調整する調整手段とを具備する。
【００１６】
このような構成によれば、工場の高圧エアコンプレッサを使用する必要がなくなり、工場用力を削減し省エネルギー化を図ることができるとともに、第１及び第２の両ノズルにより、第１及び第２の領域で搬送される基板に対してそれぞれエアを噴出して液体を除去することができ、乾燥効率を向上させることができる。
【００１７】
また、第２の領域より下流側に少なくとも搬送機構の基板が搬送される空間を覆う第３の領域を更に設け、前記第１の領域から第３の領域に向かうにつれて気圧を高くする気圧調整手段を設けるようにすることにより、搬出されてきた基板に付着した液体が基板の搬送方向と逆向きに飛ばされて除去される。
【００１８】
ここで、前記気圧調整手段として、少なくとも第１のノズル及び第２のノズルから噴出されたエアを基板から除去された液体とともに排気する排気部を第１の領域に配置するとともに、第３の領域から第１の領域に向けてエアを供給するファンフィルタユニットを第３の領域に配置することにより、この排気部による排気とファンフィルタによる気流制御との相乗効果により、空中に飛散したミストを効率良く排出することができる。
【００１９】
また、特に基板の大型化に伴って両ノズルからのエアの供給量も増大することより、特に第１の領域及び第２の領域の気流が乱れる傾向にあるが、本発明によればこのような事態を抑制することができる。
【００２０】
本発明の一の形態によれば、前記ファンフィルタユニットは、前記ブロアファンからのエアを取り入れる手段を具備する。これにより、外部からファンフィルタユニットへエアを取り込む場合に比べ、エアの供給量を削減でき省エネルギー化に寄与する。
【００２１】
本発明の一の形態によれば、前記排気部から排気されたエアを取り込みこのエアに混合した前記液体を除去するとともに、前記除去されたエアを前記ブロアファンへ供給する手段を更に具備する。これにより、排気エアを無駄にすることなく省エネルギー化に寄与する。また、乾燥したエアを各ブロアファンへ供給することができ、各ブロアファンや基板等に悪影響を及ぼすおそれをなくすことができる。
【００２２】
本発明の第３の観点は、基板を所定の方向に搬送させる搬送機構と、少なくとも前記搬送機構の基板が搬送される空間を覆う第１の領域と、前記第１の領域より下流側に設けられ、少なくとも前記搬送機構の基板が搬送される空間を覆う第２の領域と、前記第１の領域内で搬送される基板に対しエアを噴出して基板に付着した液体を除去し乾燥させる第１のノズルと、前記第１のノズルへエアを供給するための第１のブロアファンと、前記第２の領域内で搬送される基板に対しエアを噴出して基板に付着した液体を除去し乾燥させる第２のノズルと、前記第２のノズルへエアを供給するための第２のブロアファンと、前記第１のブロアファンと第２のブロアファンとにより供給されるエアの供給量をそれぞれ別個に調整する調整手段と、前記第１のノズル及び第２のノズルへ供給されるエアの供給量を計測する手段と、前記計測手段により得られた計測結果に基づいて前記調整手段を制御する制御手段とを具備する。
【００２３】
このような構成によれば、工場の高圧エアコンプレッサを使用する必要がなくなり、工場用力を削減し省エネルギー化を図ることができる。また、それぞれ別個独立のブロアファンにより各ノズルへエアを供給するようにしたので、例えば第１のノズルからのエア噴出量よりも第２のノズルからのそれを少なく制御することにより、エアの供給量を削減でき省エネルギー化が図れ、流量が多い場合に比べて各領域の乱気流の抑制が容易となる。
【００２４】
本発明の更なる特徴と利点は、添付した図面及び発明の実施の形態の説明を参酌することにより一層明らかになる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
【００２６】
図１は本発明の搬送装置が適用されるＬＣＤ基板の塗布現像処理システムを示す平面図であり、図２はその正面図、また図３はその背面図である。
【００２７】
この塗布現像処理システム１は、複数のガラス基板Ｇを収容するカセットＣを載置するカセットステーション２と、基板Ｇにレジスト塗布および現像を含む一連の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理部３と、露光装置３２との間で基板Ｇの受け渡しを行うためのインターフェース部４とを備えており、処理部３の両端にそれぞれカセットステーション２及びインターフェース部４が配置されている。
【００２８】
カセットステーション２は、カセットＣと処理部３との間でＬＣＤ基板の搬送を行うための搬送機構１０を備えている。そして、カセットステーション２においてカセットＣの搬入出が行われる。また、搬送機構１０はカセットの配列方向に沿って設けられた搬送路１２上を移動可能な搬送アーム１１を備え、この搬送アーム１１によりカセットＣと処理部３との間で基板Ｇの搬送が行われる。
【００２９】
処理部３には、カセットステーション２におけるカセットＣの配列方向（Ｙ方向）に垂直方向（Ｘ方向）に延設された主搬送部３ａと、この主搬送部３ａに沿って、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）を含む各処理ユニットが並設された上流部３ｂ及び現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８を含む各処理ユニットが並設された下流部３ｃとが設けられている。
【００３０】
主搬送部３ａには、Ｘ方向に延設された搬送路３１と、この搬送路３１に沿って移動可能に構成されガラス基板ＧをＸ方向に搬送する搬送シャトル２３とが設けられている。この搬送シャトル２３は、例えば支持ピンにより基板Ｇを保持して搬送するようになっている。また、主搬送部３ａのインターフェース部４側端部には、処理部３とインターフェース部４との間で基板Ｇの受け渡しを行う垂直搬送ユニット７が設けられている。
【００３１】
上流部３ｂにおいて、カセットステーション２側端部には、基板Ｇに洗浄処理を施すスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０が設けられ、このスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０の上段に基板Ｇ上の有機物を除去するためのエキシマＵＶ処理ユニット（ｅ−ＵＶ）１９が配設されている。
【００３２】
スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０の隣には、ガラス基板Ｇに対して熱的処理を行うユニットが多段に積み上げられた熱処理系ブロック２４及び２５が配置されている。これら熱処理系ブロック２４と２５との間には、垂直搬送ユニット５が配置され、搬送アーム５ａがＺ方向及び水平方向に移動可能とされ、かつθ方向に回動可能とされているので、両ブロック２４及び２５における各熱処理系ユニットにアクセスして基板Ｇの搬送が行われるようになっている。なお、上記処理部３における垂直搬送ユニット７についてもこの垂直搬送ユニット５と同一の構成を有している。
【００３３】
図２に示すように、熱処理系ブロック２４には、基板Ｇにレジスト塗布前の加熱処理を施すベーキングユニット（ＢＡＫＥ）が２段、ＨＭＤＳガスにより疎水化処理を施すアドヒージョンユニット（ＡＤ）が下から順に積層されている。一方、熱処理系ブロック２５には、基板Ｇに冷却処理を施すクーリングユニット（ＣＯＬ）が２段、アドヒージョンユニット（ＡＤ）が下から順に積層されている。
【００３４】
熱処理系ブロック２５に隣接してレジスト処理ブロック１５がＸ方向に延設されている。このレジスト処理ブロック１５は、基板Ｇにレジストを塗布するレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）と、減圧により前記塗布されたレジストを乾燥させる減圧乾燥ユニット（ＶＤ）と、基板Ｇの周縁部のレジストを除去するエッジリムーバ（ＥＲ）とが一体的に設けられて構成されている。このレジスト処理ブロック１５には、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）からエッジリムーバ（ＥＲ）にかけて移動する図示しないサブアームが設けられており、このサブアームによりレジスト処理ブロック１５内で基板Ｇが搬送されるようになっている。
【００３５】
レジスト処理ブロック１５に隣接して多段構成の熱処理系ブロック２６が配設されており、この熱処理系ブロック２６には、基板Ｇにレジスト塗布後の加熱処理を行うプリベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）が３段積層されている。
【００３６】
下流部３ｃにおいては、図３に示すように、インターフェース部４側端部には、熱処理系ブロック２９が設けられており、これには、クーリングユニット（ＣＯＬ）、露光後現像処理前の加熱処理を行うポストエクスポージャーベーキングユニット（ＰＥＢＡＫＥ）が２段、下から順に積層されている。
【００３７】
熱処理系ブロック２９に隣接して現像処理を行う現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８がＸ方向に延設されている。この現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８の隣には熱処理系ブロック２８及び２７が配置され、これら熱処理系ブロック２８と２７との間には、上記垂直搬送ユニット５と同一の構成を有し、両ブロック２８及び２７における各熱処理系ユニットにアクセス可能な垂直搬送ユニット６が設けられている。また、現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８端部の上には、ｉ線処理ユニット（ｉ―ＵＶ）３３が設けられている。
【００３８】
熱処理系ブロック２８には、クーリングユニット（ＣＯＬ）、基板Ｇに現像後の加熱処理を行うポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）が２段、下から順に積層されている。一方、熱処理系ブロック２７も同様に、クーリングユニット（ＣＯＬ）、ポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）が２段、下から順に積層されている。
【００３９】
インターフェース部４には、正面側にタイトラー及び周辺露光ユニット（Ｔｉｔｌｅｒ／ＥＥ）２２が設けられ、垂直搬送ユニット７に隣接してエクステンションクーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）３５が、また背面側にはバッファカセット３４が配置されており、これらタイトラー及び周辺露光ユニット（Ｔｉｔｌｅｒ／ＥＥ）２２とエクステンションクーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）３５とバッファカセット３４と隣接した露光装置３２との間で基板Ｇの受け渡しを行う垂直搬送ユニット８が配置されている。この垂直搬送ユニット８も上記垂直搬送ユニット５と同一の構成を有している。
【００４０】
以上のように構成された塗布現像処理システム１の処理工程については、先ずカセットＣ内の基板Ｇが処理部３部における上流部３ｂに搬送される。上流部３ｂでは、エキシマＵＶ処理ユニット（ｅ−ＵＶ）１９において表面改質・有機物除去処理が行われ、次にスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０において、基板Ｇが略水平に搬送されながら洗浄処理及び乾燥処理が行われる。続いて熱処理系ブロック２４の最下段部で垂直搬送ユニットにおける搬送アーム５ａにより基板Ｇが取り出され、同熱処理系ブロック２４のベーキングユニット（ＢＡＫＥ）にて加熱処理、アドヒージョンユニット（ＡＤ）にて疎水化処理が行われ、熱処理系ブロック２５のクーリングユニット（ＣＯＬ）による冷却処理が行われる。
【００４１】
次に、基板Ｇは搬送アーム５ａから搬送シャトル２３に受け渡される。そしてレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）に搬送され、レジストの塗布処理が行われた後、減圧乾燥処理ユニット（ＶＤ）にて減圧乾燥処理、エッジリムーバ（ＥＲ）にて基板周縁のレジスト除去処理が順次行われる。
【００４２】
次に、基板Ｇは搬送シャトル２３から垂直搬送ユニット７の搬送アームに受け渡され、熱処理系ブロック２６におけるプリベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）にて加熱処理が行われた後、熱処理系ブロック２９におけるクーリングユニット（ＣＯＬ）にて冷却処理が行われる。続いて基板Ｇはエクステンションクーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）３５にて冷却処理されるとともに露光装置にて露光処理される。
【００４３】
次に、基板Ｇは垂直搬送ユニット８及び７の搬送アームを介して熱処理系ブロック２９のポストエクスポージャーベーキングユニット（ＰＥＢＡＫＥ）に搬送され、ここで加熱処理が行われた後、クーリングユニット（ＣＯＬ）にて冷却処理が行われる。そして基板Ｇは垂直搬送ユニット７の搬送アームを介して、現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８において基板Ｇは略水平に搬送されながら現像処理、リンス処理及び乾燥処理が行われる。
【００４４】
次に、基板Ｇは熱処理系ブロック２８における最下段から垂直搬送ユニット６の搬送アーム６ａにより受け渡され、熱処理系ブロック２８又は２７におけるポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）にて加熱処理が行われ、クーリングユニット（ＣＯＬ）にて冷却処理が行われる。そして基板Ｇは搬送機構１０に受け渡されカセットＣに収容される。
【００４５】
図４（ａ）は上記スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０を示す概略側面図である。このスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０には、ガラス基板Ｇを搬送するためのコロ式の搬送ローラ３８が複数設けられている。搬送ローラ３８の両端には、昇降動作により他の処理部との間で基板の受け渡しを行う受け渡しピン３９が配置されており、この両受け渡しピン３９の間には、この基板の搬送上流側（図において左側）から、ロールブラシ洗浄室３６、スプレー洗浄室３７及び本発明に係る乾燥処理装置４０が順に配置されている。ロールブラシ洗浄室３６にはロールブラシ４５が設けられ、スプレー洗浄室３７には、洗浄液を噴出するスプレー式のノズル４６が設けられている。なお、スプレー式のノズル４６は、図示するように基板の表面側だけでなく、基板裏面側にも更に配置するようにしてもかまわない。
【００４６】
このようなスクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０においては、先ずロールブラシ洗浄室３６で基板上の比較的大きいゴミを除去洗浄した後、スプレー洗浄室３７で微細なゴミを除去洗浄し、乾燥処理装置４０で乾燥処理される。
【００４７】
図４（ｂ）は、上記現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８を示す概略側面図である。この現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８には、スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２０と同様に、コロ式の搬送ローラ３８及び受け渡しピン３９が配置されている。この両受け渡しピン３９の間には、搬送上流側（図において左側）から、プリウェット処理室４１、現像処理室４２、リンス処理室４３及び本発明に係る上記と同一の乾燥処理装置４０が順に配置されている。プリウェット処理室４１には、プリウェットノズル４７が、また現像処理室４２には現像液を吐出する現像液ノズル４８がそれぞれ設けられ、またリンス処理室４３にはリンスノズル４９が設けられている。
【００４８】
このような現像処理ユニット（ＤＥＶ）１８においては、先ず、プリウェット処理室４１で、現像液吐出の際の基板に対するインパクト軽減のために、基板をプリウェットし、次に現像処理室４２で現像液が吐出されて現像され、そしてリンス処理室４３で現像液が洗い流され、最後に乾燥処理装置４０で乾燥処理される。
【００４９】
なお、現像処理室４２においては、現像時間を確保するために、搬送ローラ３８を逆回転させ基板Ｇを往復させながら現像処理を行っている。
【００５０】
図５、図６及び図７は、前述した乾燥処理装置４０の平断面図、側断面図及び正面図である。この乾燥処理装置４０のチャンバ５１内の空間は、搬送上流側（図５及び図６において左側）から仕切り板６３及び６４によって仕切られ、これにより第１の領域Ａ、第２の領域Ｂ及び第３の領域Ｃが形成されている。このチャンバ５１の上流端及び下流端には、それぞれ基板Ｇを搬入及び搬出するための開口部５１ａ及び５１ｂが形成されている。
【００５１】
仕切り板６３の下端切り欠き部６３ａには、第１の領域Ａ内で搬送される基板Ｇに対し清浄エアを噴出して基板Ｇを乾燥させる第１のエアナイフノズル５３ａ及び５３ｂがそれぞれ基板Ｇを挟みこむように上下に配置されている。また同様に、仕切り板６４の下端切り欠き部６４ａには、第２の領域Ｂ内で搬送される基板Ｇに対し清浄エアを噴出して基板Ｇを乾燥させる第２のエアナイフノズル５４ａ及び５４ｂがそれぞれ基板Ｇを挟みこむように上下に配置されている。
【００５２】
これら各エアナイフ５３ａ、５３ｂ、５４ａ、５４ｂは基板Ｇに対し鉛直方向から例えば４０°以上傾けて配置されており、エアが基板面の鉛直方向に対して４０°以上傾いて噴出されるようになっている。
【００５３】
各エアナイフ５３ａ、５３ｂ、５４ａ、５４ｂは同一の構成を有しており、例えば図８に示すように、内部に供給口７１から供給されたエアを一旦滞留させるバッファ室６７を有し、このバッファ室６７から基板Ｇに対して線状にエアを噴出させるためのスリット７２が形成されている。
【００５４】
図６を参照して、各エアナイフ５３ａ、５３ｂ、５４ａ、５４ｂには、ブロアファン６０から、フィルタ部５９及び供給管６６を介してエアが供給されるようになっている。このブロアファン６０は、例えばクリーンルーム内あるいは外部の空気を取り入れている。フィルタ部５９には、例えば粗いパーティクル用のプレフィルタ６１と細かいパーティクル用のＵＬＰＡフィルタ６２が設けられている。このＵＬＰＡフィルタ６２は、ＨＥＰＡフィルタであってもよい。
【００５５】
このように、ブロアファン６０を設けることにより、工場の高圧エアコンプレッサを使用する必要がなくなり、工場用力を削減し省エネルギー化を図ることができる。特に基板Ｇの大型に伴い用力も増大する傾向にあるのでブロアファンを使用する効果は大きい。また、ブロアファンはエアコンプレッサに比べ経済的にも極めて有利である。
【００５６】
制御系５０はＣＰＵ５６、メモリ５７、インバータ回路５８を有しており、ブロアファン６０は制御系５０により周波数制御されるようになっている。例えば供給管６６に設けられ当該管内のエアの流量を計測するフローメータ６５の計測結果に基づいて、ブロアファン６０から吐出されるエアの流量が制御されるようになっている。これにより、フィルタ部５９の目詰まり等により各エアナイフ５３ａ、５３ｂ、５４ａ、５４ｂに供給されるエアの流量が減少した場合であっても、フローメータ６５の計測結果をフィードバックすることにより各エアナイフへ常に一定の流量でエアを供給することができる。
【００５７】
第３の領域Ｃにおけるチャンバ５１の上部には、開口が形成されここにファンフィルタユニット５２が設置されている。このファンフィルタユニット５２は、例えばクリーンルーム内あるいは外部のエアを清浄にしてチャンバ５１内に取り入れ、この取り入れたエアを第１の領域Ａの上下両部に設けられた排気口５５ａ及び５５ｂから排気している。排気口５５ａ及び５５ｂには図示しないバキューム装置等に接続されている。これにより、チャンバ５１内の気圧を、第３の領域Ｃから第１の領域Ａに向かうにつれて低くなるように制御している。また、第１の領域Ａ内の気圧は、図示しないセンサ等の検知結果に基づいてチャンバ外の雰囲気の圧力より低くなるように制御される。更に、この気圧の制御により除去された基板Ｇ上の洗浄液Ｈをも効率良く排出することができる。
【００５８】
すなわち、図８に示すように、搬出されてきた基板Ｇに付着した例えば洗浄液Ｈが基板Ｇの搬送方向と逆向きに飛ばされて除去され、つまり排気口５５ａ及び５５ｂに向かって飛ばされて除去される。このとき、ファンフィルタユニット５２からの気流制御７５による相乗効果により、空中に飛散した洗浄液ミストを効率良く排出することができる。
【００５９】
このように効率良くミストを排出することができる結果、ミスト状の洗浄液が再び基板Ｇに付着することはなく乾燥性能が飛躍的に向上する。
【００６０】
また、特に基板Ｇの大型化に伴って各エアナイフ５３ａ、５３ｂ、５４ａ、５４ｂからのエアの供給量も増大することにより、チャンバ内、特に第１及び第２の領域の気流が乱れる傾向にあるが、本実施形態によればこのような事態を抑制することができる。
【００６１】
また、このような効果的な気流制御により、前工程で行われるスプレー洗浄による洗浄液ミストが開口部５１ａから流入してくるのを防止することができる。
【００６２】
更に、本実施形態においては、第２のエアナイフ５４ａ及び５４ｂを第１のエアナイフ５３ａ及び５３ｂの下流側に更に配置する構成としたので、第１のエアナイフ５３ａ及び５３ｂだけでは除去しきれなかった洗浄液を除去することができるので乾燥性能は更に向上する。
【００６３】
図９は、本発明の他の実施形態に係る乾燥処理装置を示す。なお、図９において、図６における構成要素と同一のものについては同一の符号を付すものとし、その説明を省略する。
【００６４】
この乾燥処理装置９０の第１のエアナイフノズル（５３ａ及び５３ｂ）と第２のエアナイフノズル（５４ａ及び５４ｂ）とには、それぞれ別個の供給管８３と８４とが接続され、各エアナイフにはそれぞれ別個のブロアファン６０ａと６０ｂとによりエアが供給されるようになっている。これにより、第１のエアナイフ第２のエアナイフとから噴出されるエアの流量を別個独立して制御できる。例えば、実際には、第１のエアナイフによるエア供給により基板Ｇ上にほとんど洗浄液が残存していない状態となるので、第２のエアナイフの流量を第１のエアナイフより少なくしても十分に乾燥処理できる。これにより、エアの供給量を削減でき省エネルギー化が図れる。しかも、流量を少なくすることにより、流量が多い場合に比べチャンバ５１内の乱気流の抑制が容易となる。
【００６５】
また、各ブロアファン６０ａ及び６０ｂからのエアは、それぞれバイパス管８５及び８６を介してファンフィルタユニット５２にも供給されるようになっており、このファンフィルタユニット５２に供給されたエアにより、上記実施形態と同様にチャンバ５１内の気流を制御するようになっている。これにより、外部からファンフィルタユニット５２へエアを取り込む場合に比べ、エアの供給量を削減でき省エネルギー化に寄与する。
【００６６】
更に、本実施形態では、排気口５５ａ及び５５ｂからの液体混じりのエアが排気管８１を介して液体除去装置８０に取り込まれるようになっている。この液体除去装置８０は、供給口７７から液体混じりのエアが供給され、例えばフィルタ７６で液体が除去され乾燥したエアが排気口７９から排気されるようになっており、更に、乾燥したエアはこの排気口７９から排気管８２を介して各ブロアファン６０ａ及び６０ｂへ戻されるようになっている。これにより、排気エアを無駄にすることなく省エネルギー化に寄与する。また、液体除去装置８０を介していることにより、乾燥したエアを各ブロアファン６０ａ及び６０ｂへ供給することができ、各ブロアファンや基板Ｇ等に悪影響を及ぼすおそれはない。
【００６７】
また、上記実施形態と同様に、工場用力の負荷の軽減、洗浄液ミストの排除の効率化による乾燥性能の向上を図ることができる。
【００６８】
本発明は以上説明した実施形態には限定されるものではなく、種々の変形が可能である。
【００６９】
例えば、上記各実施形態においては、排気口５５ａ及び５５ｂをチャンバ５１の一方側に設ける構成としたが、左右両方に設けるようにしてもよい。これにより、排気効率を更に向上させることができる。
【００７０】
また、各実施形態において、前後及び上下の４つの各エアナイフごとにブロアファンをそれぞれ設ける構成とし、それぞれ４つ別個独立にエアの噴出量を制御するようにしてもよい。これにより、例えば基板表面側に噴出されるエアを裏面側よりも多く制御するこによって搬送中の基板の浮きを防止することができる。
【００７１】
また、図９に示す乾燥処理装置において、第２のエアナイフの流量を第１のエアナイフの流量より多くしてもよく、この場合、乾燥処理の確実性を向上させることができる。
【００７２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、工場用力の負荷を軽減することができ、しかもチャンバ内の気流を制御をして乾燥性能を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明が適用される塗布現像処理システムの全体構成を示す平面図である。
【図２】図１に示す塗布現像処理システムの正面図である。
【図３】図１に示す塗布現像処理システムの背面図である。
【図４】（ａ）スクラバ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）、（ｂ）現像処理ユニット（ＤＥＶ）を示す概略側面図である。
【図５】本発明の一実施形態に係る乾燥処理装置を示す平断面図である。
【図６】図５に示す乾燥処理装置の側断面図及び概念構成図である。
【図７】図５に示す乾燥処理装置の正面図である。
【図８】乾燥処理装置の乾燥処理作用を示す側面図である。
【図９】本発明の他の実施形態に係る乾燥処理装置の側断面図及び概念構成図である。
【符号の説明】
Ｇ…ガラス基板
Ａ…第１の領域
Ｂ…第２の領域
Ｃ…第３の領域
Ｈ…洗浄液
３８…搬送ローラ
４０、９０…乾燥処理装置
５０…制御系
５１…チャンバ
５２…ファンフィルタユニット
５３ａ、５３ｂ…第１のエアナイフノズル
５４ａ、５４ｂ…第２のエアナイフノズル
５５ａ、５５ｂ…排気口
６０、６０ａ、６０ｂ…ブロアファン
６５…フローメータ
６６…供給管
８０…液体除去装置
８５…バイパス管
Claims (19)
- 基板を所定の方向に搬送させる搬送機構と、
前記搬送される基板に対しエアを噴出して基板に付着した液体を除去し乾燥させる第１のノズルと、
前記第１のノズルへエアを供給するためのブロアファンと、
前記第１のノズルへ供給されるエアの供給量を計測する手段と、
前記計測手段により得られた計測結果に基づいて、前記ブロアファンにより供給されるエアの供給量を調整する調整手段と
を具備することを特徴とする基板乾燥装置。 - 基板を所定の方向に搬送させる搬送機構と、
前記搬送される基板に対しエアを噴出して基板に付着した液体を除去し乾燥させる第１のノズルと、
前記第１のノズルより基板の搬送下流側に配置され、搬送される基板に対しエアを噴出して基板に付着した液体を除去し乾燥させる第２のノズルと、
前記第１のノズル及び前記第２のノズルへエアを供給するためのブロアファンと、
前記第１のノズル及び第２のノズルへ供給されるエアの供給量を計測する手段と、
前記計測手段により得られた計測結果に基づいて、前記ブロアファンにより供給されるエアの供給量を調整する調整手段と
を具備することを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項２に記載の基板乾燥装置において、
前記第１のノズルより搬送上流側に設けられ、少なくとも前記第１のノズル及び第２のノズルから噴出されたエアを前記除去された液体とともに排気する排気部を更に具備することを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項２または請求項３に記載の基板乾燥装置において、
前記第２のノズルより搬送下流側に設けられ、搬送下流側から上流側に向けてエアを供給するファンフィルタユニットを更に具備することを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項２から請求項４のうちいずれか１項に記載の基板乾燥装置において、
前記第１のノズル及び第２のノズルは、搬送される基板の表面側及び裏面側にそれぞれ２つずつ具備することを特徴とする基板乾燥装置。 - 基板を所定の方向に搬送させる搬送機構と、
少なくとも前記搬送機構の基板が搬送される空間を覆う第１の領域と、
前記第１の領域より下流側に設けられ、少なくとも前記搬送機構の基板が搬送される空間を覆う第２の領域と、
前記第１の領域内で搬送される基板に対しエアを噴出して基板に付着した液体を除去し乾燥させる第１のノズルと、
前記第２の領域内で搬送される基板に対しエアを噴出して基板に付着した液体を除去し乾燥させる第２のノズルと、
前記第１のノズル及び第２のノズルへエアを供給するためのブロアファンと、
前記第１のノズル及び第２のノズルへ供給されるエアの供給量を計測する手段と、
前記計測手段により得られた計測結果に基づいて、前記ブロアファンにより供給されるエアの供給量を調整する調整手段と
を具備することを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項６に記載の基板乾燥装置において、
前記第２の領域より下流側に設けられ、少なくとも前記搬送機構の基板が搬送される空間を覆う第３の領域を更に具備し、
前記第１のノズルは、前記第１の領域と前記第２の領域との間に配置され、前記第２のノズルは、前記第２の領域と前記第３の領域との間に配置されていることを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項７に記載の基板乾燥装置において、
前記第１の領域から第３の領域に向かうにつれて気圧を高くする気圧調整手段を更に具備することを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項８に記載の基板乾燥装置において、
前記気圧調整手段は、
前記第１の領域に配置され、少なくとも前記第１のノズル及び第２のノズルから噴出されたエアを前記除去された液体とともに排気する排気部と、
第３の領域に配置され、前記第３の領域から前記第１の領域に向けてエアを供給するファンフィルタユニットと
を具備することを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項９に記載の基板乾燥装置において、
前記ファンフィルタユニットは、前記ブロアファンからのエアを取り入れる手段を具備することを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項９または請求項１０に記載の基板乾燥装置において、
前記排気部から排気されたエアを取り込みこのエアに混合した前記液体を除去するとともに、前記除去されたエアを前記ブロアファンへ供給する手段を更に具備することを特徴とする基板乾燥装置。 - 基板を所定の方向に搬送させる搬送機構と、
少なくとも前記搬送機構の基板が搬送される空間を覆う第１の領域と、
前記第１の領域より下流側に設けられ、少なくとも前記搬送機構の基板が搬送される空間を覆う第２の領域と、
前記第１の領域内で搬送される基板に対しエアを噴出して基板に付着した液体を除去し乾燥させる第１のノズルと、
前記第１のノズルへエアを供給するための第１のブロアファンと、
前記第２の領域内で搬送される基板に対しエアを噴出して基板に付着した液体を除去し乾燥させる第２のノズルと、
前記第２のノズルへエアを供給するための第２のブロアファンと、
前記第１のブロアファンと第２のブロアファンとにより供給されるエアの供給量をそれぞれ別個に調整する調整手段と、
前記第１のノズル及び第２のノズルへ供給されるエアの供給量を計測する手段と、
前記計測手段により得られた計測結果に基づいて前記調整手段を制御する制御手段と
を具備することを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項１２に記載の基板乾燥装置において、
前記調整手段により、前記第１のノズルからのエア供給量を第２のノズルからのエア供給量よりも多くすることを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項１２または請求項１３に記載の基板乾燥装置において、
前記第２の領域より下流側に設けられ、少なくとも前記搬送機構の基板が搬送される空間を覆う第３の領域を更に具備し、
前記第１のノズルは、前記第１の領域と前記第２の領域との間に配置され、前記第２のノズルは、前記第２の領域と前記第３の領域との間に配置されていることを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項１４に記載の基板乾燥装置において、
前記第１の領域から第３の領域に向かうにつれて気圧を高くする気圧調整手段を更に具備することを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項１５に記載の基板乾燥装置において、
前記気圧調整手段は、
前記第１の領域に配置され、少なくとも前記第１のノズル及び第２のノズルから噴出されたエアを前記除去された液体とともに排気する排気部と、
第３の領域に配置され、前記第３の領域から前記第１の領域に向けてエアを供給するファンフィルタユニットと
を具備することを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項１６に記載の基板乾燥装置において、
前記ファンフィルタユニットは、前記第１のブロアファン及び第２のブロアファンからのエアを取り入れる手段を具備することを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項１６または請求項１７に記載の基板乾燥装置において、
前記排気部から排気されたエアを取り込みこのエアに混合した前記液体を除去するとともに、前記除去されたエアを前記第１のブロアファン及び第２のブロアファンへ供給する手段を更に具備することを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項６から請求項１８のうちいずれか１項に記載の基板乾燥装置において、
前記第１のノズル及び第２のノズルは、搬送される基板の表面側及び裏面側にそれぞれ２つずつ具備することを特徴とする基板乾燥装置。
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