CN113690164B - 一种晶圆清洗干燥装置及晶圆清洗干燥方法 - Google Patents
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Abstract
本公开提供一种晶圆清洗干燥装置及晶圆清洗干燥方法，该装置包括：传送带，传送带顺着传送方向依次包括搬入段、清洗段和搬出段；用于夹持并移动进入清洗段的晶圆的夹持部件，夹持部件在第一方向上能够往复运动，以夹持并移动晶圆至预定清洗位置，第一方向垂直于传送带的承载面；用于对预定位置处的晶圆表面吹风的吹扫器，吹扫器能够在第一方向和/或第二方向上往复移动，以移入或移出晶圆表面吹扫作业位置，第二方向垂直于第一方向；用于对晶圆表面清洗的喷淋毛刷，喷淋毛刷至少能够在第一方向和/或第二方向上往复移动，以移入或移出晶圆表里清洗作业位置。本公开提供的晶圆清洗干燥装置及晶圆清洗干燥方法能够提高清洗干燥效果。
Description
技术领域
本发明涉及晶圆加工技术领域，尤其涉及一种晶圆清洗干燥装置及晶圆清洗干燥方法。
背景技术
半导体硅材料是集成电路产业的主体功能材料，硅片的加工技术已逐步成为电子信息产业发展的重要驱动力。随着硅片直径越来越大与集成电路特征尺寸越来越小，对晶圆表面平坦度及去除速率提出了更高的要求，双面研磨加工是加快表面去除速率，提升晶圆表面平坦度最有效的技术手段之一。对于双面研磨工艺，在加快去除速率的同时，高效充分的清洗干燥过程对于保证晶圆品质意义重大，不可或缺。
相关技术中所采用的清洗干燥方式为：晶圆经双面研磨后，先使用水管向晶圆两面喷水，再启动毛刷刷洗一段时间，之后再喷水洗涤，最后一次性通过气刀完成干燥。
该过程洗涤时间长，效率低，且洗涤效果不佳；且气刀为固定位置，其固定的角度、位置、间距等都会影响干燥效果，例如，间距过大时，一次性通过气刀时干燥效果不佳，晶圆表面仍有水渍残留；间距过小，则吹扫时晶圆晃动，通过气刀会划伤晶圆表面，造成晶圆报废。
由此可见，相关技术中晶圆研磨后的清洗干燥效果不好。
发明内容
本公开实施例提供了一种晶圆清洗干燥装置及晶圆清洗干燥方法，解决了晶圆表面研磨后清洗效果差，残存污渍，干燥不彻底残存水渍等缺陷，污染测试设备，清洗干燥时间长影响产能等问题。
本公开实施例所提供的技术方案如下：
本公开实施例提供了一种晶圆清洗干燥装置，包括：
用于传送晶圆的传送带，所述传送带顺着传送方向依次包括搬入段、清洗段和搬出段；
用于夹持并移动进入所述清洗段的晶圆的夹持部件，所述夹持部件在第一方向上能够往复运动，以夹持并移动所述晶圆至预定清洗位置，所述第一方向垂直于所述传送带的承载面；
用于对所述预定位置处的晶圆表面吹风的吹扫器，所述吹扫器至少能够在第一方向和/或第二方向上往复移动，以移入或移出所述晶圆表面吹扫作业位置，所述第二方向垂直于所述第一方向；
用于对所述预定清洗位置处的晶圆表面清洗的喷淋毛刷，所述喷淋毛刷至少能够在所述第一方向和/或所述第二方向上往复移动，以移入或移出所述晶圆表里清洗作业位置。
示例性的，所述夹持部件包括至少一个第一定位柱和至少一个第二定位柱，所述第一定位柱和所述第二定位柱分别设于所述晶圆相对两侧，且能够沿所述第二方向相向运动以夹持晶圆，或者相背运动以释放晶圆；
所述第一定位柱至少在朝向所述第二定位柱的一侧设有用于卡住晶圆一侧边缘的第一卡槽，所述第二定位柱至少在朝向所述第一定位柱的一侧设有用于卡住晶圆另一侧边缘的第二卡槽。
示例性的，所述吹扫器包括至少一组吹扫单元，所述吹扫单元包括：
吹扫风刀，所述吹扫风刀为沿平行于晶圆表面方向延伸的条形风刀，且沿所述条形风刀的延伸方向设置有风口；
及，旋转轴，所述旋转轴的轴心沿所述第一方向设置，所述旋转轴驱动所述吹扫风刀在平行于所述晶圆表面的方向上旋转，以使所述风口从所述晶圆表面吹扫。
示例性的，所述风口的吹风方向朝向所述晶圆表面，且所述风口的吹风方向与所述晶圆表面之间呈预定夹角α。
示例性的，所述预定夹角α为30～45°。
示例性的，所述旋转轴连接于所述吹扫风刀的一端，所述吹扫风刀的风口延伸长度大于所述晶圆的半径，且当所述吹扫器位于所述吹扫作业位置时，所述旋转轴的轴心偏移所述晶圆的圆心。
示例性的，所述喷淋毛刷的数量有多个，且分为至少一组毛刷组，同一组所述毛刷组位于所述晶圆的同一侧，且同一组所述毛刷组中包括至少两个喷淋毛刷。
本公开实施例还提供了一种晶圆清洗干燥方法，采用本公开实施例提供的晶圆清洗干燥装置对晶圆进行清洗干燥处理，所述方法包括：
将晶圆从上一工序通过所述传送带由所述搬入段传送至所述清洗段；
通过所述夹持部件夹持，并沿第一方向移动所述清洗段的晶圆，以使所述晶圆脱离所述传送带承载面而移动至预定清洗位置；
沿第一方向和/或第二方向移动所述吹扫器，使所述吹扫器移入所述晶圆表面吹扫作业位置，对所述晶圆表面进行第一次吹扫；
第一次吹扫作业结束，将所述吹扫器移出所述晶圆表面吹扫作业位置；
在所述第一方向和/或所述第二方向上移动所述喷淋毛刷，使所述喷淋毛刷移入所述晶圆表面清洗作业位置，对所述晶圆表面进行喷淋清洗；
喷淋清洗作业结束，将所述喷淋毛刷移出所述晶圆表面清洗作业位置；
沿第一方向和/或第二方向移动所述吹扫器，使所述吹扫器移入所述晶圆表面吹扫作业位置，对所述晶圆表面进行第二次吹扫，以对晶圆表面干燥处理；
通过夹持部件将干燥处理后的晶圆放置于所述传送带上，并由所述传送带从所述清洗段传送至所述搬出段，以进行下一道工序。
示例性的，所述晶圆清洗干燥装置采用如权利要求6所述的晶圆清洗干燥装置，所述方法中，采用所述吹扫器对所述晶圆表面进行第一次吹扫和第二次吹扫时，所述吹扫器的旋转轴偏移至所述晶圆的圆心一侧，驱动所述吹扫风刀在平行于所述晶圆表面的方向上旋转，以对晶圆表面进行吹扫；其中，
第一次吹扫时，吹扫气体为温度为15～40℃的干燥惰性气体；
第二次吹扫时，吹扫气体为温度为40～45℃的干燥惰性气体。
示例性的，所述方法中，对所述晶圆表面进行喷淋清洗时，具体包括：
采用碱性溶液作为清洗液进行第一次清洗，其中所述碱性溶液各组分的体积比为：浓度为10％的NH4OH：浓度为15％的H2O2：H2O＝(1∶1∶8)，清洗时间为10～15S，清洗液的流速控制在2～3L/min；
采用超纯水作为清洗液进行第二次清洗，清洗时间为15～20S，清洗液的流速控制在20～25L/min。
示例性的，所述方法中，对所述晶圆表面进行喷淋清洗时，位于所述晶圆同一侧的同一组毛刷组中，至少两个喷淋毛刷清洗晶圆时旋转方向相反。
本公开实施例所带来的有益效果如下：
本公开实施例提供的晶圆清洗干燥装置及晶圆清洗干燥方法，在对晶圆进行清洗干燥时，可以先使用吹扫器对晶圆表面进行第一次吹扫，以将晶圆表面吸附的污渍除掉，然后再使用喷淋毛刷边喷淋液体边转动刷洗，对晶圆表面进行充分刷洗，之后再次使用吹扫器对晶圆表面进行第二次吹扫，以快速去除水渍，整套流程便捷高效，清洁干燥效果优异。
附图说明
图1表示本公开实施例中提供的晶圆清洗干燥装置的俯视图，其中晶圆位于传送带的输入段；
图2表示本公开实施例中提供的晶圆清洗干燥装置的主视图，其中晶圆进入传送带的清洗段；
图3表示本公开实施例中提供的晶圆清洗干燥装置对晶圆进行吹扫时的主视图；
图4表示本公开实施例中提供的晶圆清洗干燥装置中吹扫器的工作过程示意图；
图5表示本公开实施例中提供的晶圆清洗干燥装置中喷淋毛刷的工作过程示意图；
图6表示本公开实施例中提供的晶圆清洗干燥装置中喷淋毛刷的结构示意图；
图7表示本公开实施例中提供的晶圆清洗干燥装置中吹扫器的三种规格风口结构示意图；
图8表示本公开实施例中提供的晶圆清洗干燥装置中夹持部件中第一定位柱的结构示意图。
具体实施方式
为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”、“一”或者“该”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
本公开实施例提供了一种晶圆清洗干燥装置及晶圆清洗干燥方法，解决了晶圆表面研磨后清洗效果差，残存污渍，干燥不彻底残存水渍等缺陷，污染测试设备，清洗干燥时间长影响产能等问题。
图1和图2所示为本公开一些实施例中提供的晶圆清洗干燥装置的结构示意图。如图1和图2所示，本公开一些实施例中，所述晶圆清洗干燥装置包括：传送带100、夹持部件200、吹扫器300和喷淋毛刷400，所述传送带100用于传送晶圆10，所述传送带100顺着传送方向依次包括搬入段A、清洗段B和搬出段；所述夹持部件200用于夹持并移动进入所述清洗段B的晶圆10，所述夹持部件200在第一方向Z上能够往复运动，以夹持并移动所述晶圆10至预定清洗位置，所述第一方向Z垂直于所述传送带100的承载面；所述吹扫器300用于对所述预定位置处的晶圆10表面吹风，所述吹扫器300至少能够在第一方向Z和/或第二方向X上往复移动，以移入或移出所述晶圆10表面吹扫作业位置，所述第二方向X垂直于所述第一方向Z；所述喷淋毛刷400用于对所述预定位置处的晶圆10表面清洗，所述喷淋毛刷400至少能够在所述第一方向Z和/或所述第二方向X上往复移动，以移入或移出所述晶圆10表里清洗作业位置。
本公开实施例所提供的晶圆10清洗干燥装置，在对晶圆10进行清洗干燥时，可以当晶圆10由上一道工序(例如双面研磨工序)进入传送带100的搬入段(图1所示)，再通过所述传送带100由搬入段A进入清洗段B(图2所示)，此时，通过所述夹持部件200夹持晶圆10，并沿第一方向Z移动晶圆10，也就是，从传送带100的承载面上夹持上升晶圆10，使得晶圆10上升至设定好的预定清洗位置，该预定清洗位置为确保吹扫器300可顺利移入晶圆10上方和/或下方的位置；如图3所示，当晶圆10上升至该预定清洗位置之后，所述吹扫器300则移入晶圆10表面吹扫作业位置，对晶圆10表面进行第一次吹扫，以充分吹扫晶圆10两面吸附的污渍；第一次吹扫结束后，吹扫器300移开晶圆10表面吹扫作业位置，如图5所示，喷淋毛刷400移动至晶圆10的上方和/或下方，喷淋毛刷400喷淋出清洗液对晶圆10进行清洗，清洗完成后喷淋毛刷400复位，吹扫器300再次移入至吹扫作业位置对晶圆10进行第二次吹扫，以去除晶圆10表面水渍对晶圆10进行干燥；之后，所述夹持部件200移动晶圆10下降并释放晶圆10，晶圆10随传送带100进入搬出段，进行下一道工序。
本公开实施例提供的晶圆10清洗干燥装置，可以应用于晶圆10双面研磨后的清洗干燥，能够充分、快速、高效地对晶圆10表面进行清洗干燥，由于在晶圆10清洗之前进行了第一次吹扫以去除污渍，晶圆10清洗后进行了第二次吹扫，污渍去除充分，干燥效果好。
如图1至图5所示，在一些实施例中，所述夹持部件200包括至少一个第一定位柱210和至少一个第二定位柱220，所述第一定位柱210和所述第二定位柱220分别设于所述晶圆10相对两侧，且能够沿所述第二方向X相向运动以夹持晶圆10，或者相背运动以释放晶圆10；所述第一定位柱210至少在朝向所述第二定位柱220的一侧设有用于卡住晶圆10一侧边缘的第一卡槽211，所述第二定位柱220至少在朝向所述第一定位柱210的一侧设有用于卡住晶圆10另一侧边缘的第二卡槽。
在上述方案中，所述夹持部件200可以包括至少两个定位柱，当需要夹持晶圆10时，第一定位柱210与第二定位柱220相向运动，以减小两者之间的间距，而夹持晶圆10；当需要将晶圆10放置于传送带100上时，则控制第一定位柱210和第二定位柱220相背运动，以增大两者之间的间距，而释放晶圆10。需要说明的是，上述方案中，所述第一定位柱210和所述第二定位柱220可以在第一方向Z上运动以升降晶圆10，同时还能沿平行于晶圆10表面的第二方向X运动以实现相向或相背运动。
此外，所述第一卡槽211和所述第二卡槽的结构应与晶圆10边缘倒角结构匹配，以更好夹持晶圆10，保证晶圆10不受损伤。例如，所述第一卡槽211和所述第二卡槽上也设计有匹配的倒角结构，所述第一卡槽211和所述第二卡槽还可以为弹性可变形材料等。
还需要说明的是，所述夹持部件200也可以不限于上述采用至少两个定位柱的方式，例如，还可以采用机械手等方式，只要能够实现夹持并移动晶圆10目的，同时不干涉吹扫器300以及喷淋毛刷400运动即可。
此外，如图2、图3和图4所示，在一些示例性的实施例中，所述吹扫器300包括至少一组吹扫单元，所述吹扫单元包括：吹扫风刀310及旋转轴320，所述吹扫风刀310为沿平行于晶圆10表面方向延伸的条形风刀，且沿所述条形风刀的延伸方向设置有风口311，所述风口311的吹风方向朝向所述晶圆10表面；所述旋转轴320的轴心沿所述第一方向Z设置，所述旋转轴320驱动所述吹扫风刀310在平行于所述晶圆10表面的方向上旋转，以使所述风口311从所述晶圆10表面吹扫。
采用上述方案，所述吹扫单元的数量可以是一个或两个，可以根据晶圆10实际清洗需求来设置。当吹扫单元的数量为一个时，可以仅对晶圆10一侧表面进行清洗，或者一侧表面清洗完成之后，该吹扫单元移动至晶圆10另一侧进行另一表面清洗；所述吹扫单元的数量还可以有两个，如图所示，对晶圆10进行吹扫时，可以对晶圆10上方和下方分别移入一吹扫单元，同时对晶圆10两面吹扫。
此外，上述方案中，所述吹扫器300设计为吹风刀口能够在旋转轴320驱动下在晶圆10表面旋转一周的方式，这样，可以有效保证吹扫面积覆盖整个晶圆10表面，不易留下吹扫死角，保证吹扫效果。
在一些实施例中，所述旋转轴320连接于所述吹扫风刀310的一端，所述吹扫风刀310的风口311延伸长度大于所述晶圆10的半径，例如，所述吹扫风刀310的风口311延伸长度大于晶圆10的半径约5～10mm，且当所述吹扫器300位于所述吹扫作业位置时，所述旋转轴320的轴心偏移所述晶圆10的圆心，也就是说，所述旋转轴320位于晶圆10正上方偏一侧的位置，这样，可以进一步保证吹扫风刀310旋转时吹扫面积全部覆盖晶圆10表面。
此外，在一些实施例中，如图4所示，所述风口311的吹风方向朝向所述晶圆10表面，且所述风口311的吹风方向与所述晶圆10表面之间呈预定夹角α。示例性的，所述预定夹角α为30～45°。采用上述方案，对晶圆10表面气流方向进行了优化设计，以保证吹扫效果最佳。
此外，所述吹扫风刀310的具体结构可以有多种，例如，所述吹扫器300可以有三种规格，风口311分别设计为点状(图7中a所示)、交替弧线状(图7中b所示)和直线状(图7中c所示)。当然可以理解的是，以上仅是举例，对于所述风口311的具体结构不限于此。
此外，在一些实施例中，如图5和图6所示，所述喷淋毛刷400包括毛刷基座410、设置于所述毛刷基座410之上的刷毛420及喷淋头430，所述喷淋头430位于所述刷毛420的中央。所述喷淋毛刷400的数量有多个，且分为至少一组毛刷组，同一组所述毛刷组位于所述晶圆10的同一侧，且同一组所述毛刷组中包括至少两个喷淋毛刷400，同一组所述毛刷组中至少两个喷淋毛刷400清洗晶圆10时旋转方向相反。
采用上述方案，在晶圆10表面同一侧的同一组毛刷组中的喷淋毛刷400旋转方向相反，以图中所示方向为例，位于晶圆10上方偏左侧的喷淋毛刷400沿顺时针快速转动刷洗，右侧喷淋毛刷400沿逆时针快速转动刷洗，采用这种刷洗方式便于污渍和水流快速从晶圆10表面导出。
所述毛刷组的数量可以有1个或2个，可以根据晶圆10实际清洗需求来设置。当毛刷组的数量为一个时，可以仅对晶圆10一侧表面进行清洗，或者一侧表面清洗完成之后，该毛刷组移动至晶圆10另一侧进行另一表面清洗；所述毛刷组的数量还可以有两个，如图5所示，对晶圆10进行清洗时，可以对晶圆10上方和下方分别移入一毛刷组，同时对晶圆10两面清洗。
此外，本公开实施例还提供了一种晶圆10清洗干燥方法，采用本公开实施例提供的晶圆10清洗干燥装置对晶圆10进行清洗干燥处理，所述方法包括：
步骤S01、将晶圆10从上一工序通过所述传送带100由所述搬入段A传送至所述清洗段B；
步骤S02、通过所述夹持部件200夹持，并沿第一方向Z移动所述清洗段B的晶圆10，以使所述晶圆10脱离所述传送带100承载面而移动至预定清洗位置；
步骤S03、沿第一方向Z和/或第二方向X移动所述吹扫器300，使所述吹扫器300移入所述晶圆10表面吹扫作业位置，对所述晶圆10表面进行第一次吹扫；
步骤S04、第一次吹扫作业结束，将所述吹扫器300移出所述晶圆10表面吹扫作业位置；
步骤S05、在所述第一方向Z和/或所述第二方向X上移动所述喷淋毛刷400，使所述喷淋毛刷400移入所述晶圆10表面清洗作业位置，对所述晶圆10表面进行喷淋清洗；
步骤S06、喷淋清洗作业结束，将所述喷淋毛刷400移出所述晶圆10表面清洗作业位置；
步骤S07、沿第一方向Z和/或第二方向X移动所述吹扫器300，使所述吹扫器300移入所述晶圆10表面吹扫作业位置，对所述晶圆10表面进行第二次吹扫，以对晶圆10表面干燥处理；
步骤S08、通过夹持部件200将干燥处理后的晶圆10放置于所述传送带100上，并由所述传送带100从所述清洗段B传送至所述搬出段，以进行下一道工序。
本公开实施例提供的晶圆10清洗干燥方法，在对晶圆10进行清洗干燥时，可以先使用吹扫器300对晶圆10表面进行第一次吹扫，以将晶圆10表面吸附的污渍除掉，然后再使用喷淋毛刷400边喷淋液体边转动刷洗，对晶圆10表面进行充分刷洗，之后再次使用吹扫器300对晶圆10表面进行第二次吹扫，以快速去除水渍，整套流程便捷高效，清洁干燥效果优异。
此外，在一些示例性的实施例中，所述方法中，采用所述吹扫器300对所述晶圆表面进行第一次吹扫和第二次吹扫时，所述吹扫器300的旋转轴320偏移至所述晶圆的圆心一侧，驱动所述吹扫风刀310在平行于所述晶圆10表面的方向上旋转，以对晶圆10表面进行吹扫；其中，第一次吹扫时，吹扫气体为温度为15～40℃的干燥惰性气体；第二次吹扫时，吹扫气体为温度为40～45℃的干燥惰性气体。
上述方案中，第一次吹扫所采用的吹扫气体为常温干燥惰性气体，目的是去除晶圆10表面吸附的研磨残渣；第二次吹扫气体为40～45℃的干燥惰性气体，惰性气体可选用氮气，氩气等，廉价易得，晶圆10在这些气氛中不易氧化，惰性气体温度达到40～45℃，可加速晶圆10表面残余水分的去除与挥发，控制气体压强不低于40KPa，确保气体喷出时可形成平面状强气流，可充分去除晶圆10表面水渍。
需要说明的是，第二次吹扫时惰性气体温度达到40～45℃，可以是通过在吹扫器300上设置加热器，当气体经过与加热器之后温度达到40～45℃。
此外，在一些实施例中，所述方法中，对所述晶圆10表面进行喷淋清洗时，具体包括：
首先，采用碱性溶液作为清洗液进行第一次清洗，其中所述碱性溶液各组分的体积比为：浓度为10％的NH4OH：浓度为15％的H2O2：H2O＝(1∶1∶8)，清洗时间为10～15S，清洗液的流速控制在2～3L/min，可促使杂质氧化物等反应并溶解在碱性清洗液中；然后，采用超纯水作为清洗液进行第二次清洗，清洗时间为15～20S，清洗液的流速控制在20～25L/min，以保证清洗效果。
此外，一些实施例中，所述方法中，对所述晶圆10表面进行喷淋清洗时，位于所述晶圆10同一侧的同一组毛刷组中，至少两个喷淋毛刷400清洗晶圆10时旋转方向相反。以图中所示方向为例，位于晶圆10上方偏左侧的喷淋毛刷400沿顺时针快速转动刷洗，右侧喷淋毛刷400沿逆时针快速转动刷洗，采用这种刷洗方式便于污渍和水流快速从晶圆10表面导出。
有以下几点需要说明：
(1)本公开实施例附图只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。
(2)为了清晰起见，在用于描述本公开的实施例的附图中，层或区域的厚度被放大或缩小，即这些附图并非按照实际的比例绘制。可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”或者可以存在中间元件。
(3)在不冲突的情况下，本公开的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。
以上，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，本公开的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
Claims (11)
1.一种晶圆清洗干燥装置，其特征在于，包括：
用于传送晶圆的传送带，所述传送带顺着传送方向依次包括搬入段、清洗段和搬出段；
用于夹持并移动进入所述清洗段的晶圆的夹持部件，所述夹持部件在第一方向上能够往复运动，以夹持所述晶圆移动至预定清洗位置、或移动至所述传送带的承载面上，所述第一方向垂直于所述传送带的承载面；
用于对所述预定清洗位置处的晶圆表面吹风的吹扫器，所述预定清洗位置被配置为确保所述吹扫器可顺利移入晶圆上方和/或下方的位置，所述吹扫器至少能够在第一方向和/或第二方向上往复移动，以移入或移出所述晶圆表面上方吹扫作业位置和/或晶圆表面下方的吹扫作业位置，所述第二方向垂直于所述第一方向；
用于对所述预定清洗位置处的晶圆表面清洗的喷淋毛刷，所述喷淋毛刷至少能够在所述第一方向和/或所述第二方向上往复移动，以移入或移出所述预定清洗位置；及
控制单元，所述控制单元被配置为用于：
控制所述吹扫器沿第一方向和/或第二方向移动，以使所述吹扫器移入所述晶圆表面吹扫作业位置，对所述晶圆表面进行第一次吹扫；
当第一次吹扫作业结束时，控制所述吹扫器移出所述晶圆表面吹扫作业位置；
控制所述喷淋毛刷在所述第一方向和/或所述第二方向上移动，以使所述喷淋毛刷移入所述晶圆表面清洗作业位置，对所述晶圆表面进行喷淋清洗；
当喷淋清洗作业结束时，控制所述喷淋毛刷移出所述晶圆表面清洗作业位置；
控制所述吹扫器沿第一方向和/或第二方向移动，以使所述吹扫器移入所述晶圆表面吹扫作业位置，对所述晶圆表面进行第二次吹扫，以对晶圆表面干燥处理。
2.根据权利要求1所述的晶圆清洗干燥装置，其特征在于，
所述夹持部件包括至少一个第一定位柱和至少一个第二定位柱，所述第一定位柱和所述第二定位柱分别设于所述晶圆相对两侧，且能够沿所述第二方向相向运动以夹持晶圆，或者相背运动以释放晶圆；
所述第一定位柱至少在朝向所述第二定位柱的一侧设有用于卡住晶圆一侧边缘的第一卡槽，所述第二定位柱至少在朝向所述第一定位柱的一侧设有用于卡住晶圆另一侧边缘的第二卡槽。
3.根据权利要求2所述的晶圆清洗干燥装置，其特征在于，
所述吹扫器包括至少一组吹扫单元，所述吹扫单元包括：
吹扫风刀，所述吹扫风刀为沿平行于晶圆表面方向延伸的条形风刀，且沿所述条形风刀的延伸方向设置有风口；
及，旋转轴，所述旋转轴的轴心沿所述第一方向设置，所述旋转轴驱动所述吹扫风刀在平行于所述晶圆表面的方向上旋转，以使所述风口从所述晶圆表面吹扫。
4.根据权利要求3所述的晶圆清洗干燥装置，其特征在于，
所述风口的吹风方向朝向所述晶圆表面，且所述风口的吹风方向与所述晶圆表面之间呈预定夹角α。
5.根据权利要求4所述的晶圆清洗干燥装置，其特征在于，
所述预定夹角α为30～45°。
6.根据权利要求3所述的晶圆清洗干燥装置，其特征在于，
所述旋转轴连接于所述吹扫风刀的一端，所述吹扫风刀的风口延伸长度大于所述晶圆的半径，且当所述吹扫器位于所述吹扫作业位置时，所述旋转轴的轴心偏移所述晶圆的圆心。
7.根据权利要求1所述的晶圆清洗干燥装置，其特征在于，
所述喷淋毛刷的数量有多个，且分为至少一组毛刷组，同一组所述毛刷组位于所述晶圆的同一侧，且同一组所述毛刷组中包括至少两个喷淋毛刷。
8.一种晶圆清洗干燥方法，其特征在于，采用如权利要求1至7任一项所述的晶圆清洗干燥装置对晶圆进行清洗干燥处理，所述方法包括：
将晶圆从上一工序通过所述传送带由所述搬入段传送至所述清洗段；
通过所述夹持部件夹持并沿第一方向移动所述清洗段的晶圆，以使所述晶圆脱离所述传送带承载面而移动至预定清洗位置；
沿第一方向和/或第二方向移动所述吹扫器，使所述吹扫器移入所述晶圆表面吹扫作业位置，对所述晶圆表面进行第一次吹扫；
第一次吹扫作业结束，将所述吹扫器移出所述晶圆表面吹扫作业位置；
在所述第一方向和/或所述第二方向上移动所述喷淋毛刷，使所述喷淋毛刷移入所述晶圆表面清洗作业位置，对所述晶圆表面进行喷淋清洗；
喷淋清洗作业结束，将所述喷淋毛刷移出所述晶圆表面清洗作业位置；
沿第一方向和/或第二方向移动所述吹扫器，使所述吹扫器移入所述晶圆表面吹扫作业位置，对所述晶圆表面进行第二次吹扫，以对晶圆表面干燥处理；
通过夹持部件将干燥处理后的晶圆放置于所述传送带上，并由所述传送带从所述清洗段传送至所述搬出段，以进行下一道工序。
9.根据权利要求8所述的晶圆清洗干燥方法，其特征在于，所述晶圆清洗干燥装置采用如权利要求6所述的晶圆清洗干燥装置，所述方法中，采用所述吹扫器对所述晶圆表面进行第一次吹扫和第二次吹扫时，所述吹扫器的旋转轴偏移至所述晶圆的圆心一侧，驱动吹扫风刀在平行于所述晶圆表面的方向上旋转，以对晶圆表面进行吹扫；其中，
第一次吹扫时，吹扫气体为温度为15～40℃的干燥惰性气体；
第二次吹扫时，吹扫气体为温度为40～45℃的干燥惰性气体。
10.根据权利要求8所述的晶圆清洗干燥方法，其特征在于，所述方法中，对所述晶圆表面进行喷淋清洗时，具体包括：
采用碱性溶液作为清洗液进行第一次清洗，其中所述碱性溶液各组分的体积比为：浓度为10％的NH4OH：浓度为15％的H2O2：H2O＝(1∶1∶8)，清洗时间为10～15S，清洗液的流速控制在2～3L/min；
采用超纯水作为清洗液进行第二次清洗，清洗时间为15～20S，清洗液的流速控制在20～25L/min。
11.根据权利要求8所述的晶圆清洗干燥方法，其特征在于，采用如权利要求7所述的晶圆清洗干燥装置，所述方法中，对所述晶圆表面进行喷淋清洗时，位于所述晶圆同一侧的同一组毛刷组中，至少两个喷淋毛刷清洗晶圆时旋转方向相反。
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