JP2562815Y2 - 基板洗浄装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本考案は、基板を洗浄するための
装置の改良に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、電子機器の普及に伴い、各種電子
機器に合わせて多種多様の基板が提供されている。この
ため、各種の基板を、それぞれ高い精度を維持して製造
することが要求されている。

【０００３】この様な基板の製造には、基板の洗浄を行
う洗浄工程が設けられている。この洗浄工程には、搬送
部１と洗浄手段２とを有する基板洗浄装置が設けられて
いる。搬送部１には、図４に示すように、駆動手段Ｍに
接続される複数本の回転軸３が配設され、各回転軸３に
一対のローラ４が取付けられている。ローラ４は、直径
の大きい大ローラ４ａと小さい小ローラ４ｂを組合わせ
て形成され、断面が略Ｔ字形となる形状となっている。
そして、回転軸３には、それぞれの小ローラ４ｂ，４ｂ
が対面する様に配設され、搬送路の幅となる大ローラ４
ａ，４ａ間の距離が、基板５の幅と略一致するように取
付けられている。

【０００４】この様な一対のローラ４，４間に基板５が
載置されて、搬送方向と一致する基板側縁部が大ローラ
４ａの側面に、また、側縁部近傍の下面が小ローラ４ｂ
に支持される。したがって、基板５は、大ローラ４ａに
よって搬送路での位置決めが行われている。そして、ロ
ーラ４の回転に伴って、基板５が水平方向に搬送され
る。この時、搬送部の上方に配設された洗浄手段２から
洗浄水を吹き付けることにより、基板５の洗浄が行われ
ている。この洗浄水として、不純物が含有されない純水
を使用する等により、基板の精度が維持されている。

【０００５】

【考案が解決しようとする課題】しかしながら、従来技
術では、以下の様な問題がある。

【０００６】すなわち、基板の種類の多様化により、基
板の幅も多種となっている。したがって、１つの搬送部
１により多種の基板の洗浄を行うためには、回転軸３を
長尺とし、図４の破線で示す様に、ローラ４ｃを基板５
の幅に合わせて移動することにより対応させている。し
かし、基板５の搬送距離に合わせてローラ４が多数配設
されているため、全ローラを基板幅に合わせて移動させ
ることは大変な手間となり、装置を長時間停止させるこ
とになる。これでは、幅の異なる基板の洗浄を連続して
行うことができず、製造効率が低下することになる。

【０００７】また、基板幅と、搬送路幅とが一致しない
ときには、基板がローラに接触することや、搬送路中で
左右或いは回転方向への位置がずれる等の問題が起こる
ことになる。基板には、高い精度が要求されるため、位
置ずれ等によっても不良品となる率が高いものとなり、
製品生産率が大幅に低下することになる。

【０００８】本考案は、上記のような従来技術の課題を
解決するために提供されたもので、その目的は、幅の異
なる基板に対してローラの移動等の操作を行うこと無く
搬送することができ、しかも、装置を停止することなく
連続して行うことのできる高効率の基板洗浄装置を提供
することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の考案で
は、基板を搬送するための搬送部と、前記搬送部上の基
板を洗浄するための洗浄部とを備えた基板洗浄装置にお
いて、前記搬送部に、駆動手段に接続された回転軸と、
前記回転軸に取付けられ、基板を側縁部下面および側面
から支持し、基板を搬送する支持ローラ、および基板の
下面の一部を保持し基板を搬送する保持ローラとが設け
られ、支持ローラに対して保持ローラを上部方向となる
ように回転軸が設けられたことを特徴とする。

【００１０】請求項２記載の考案では、請求項１記載の
回転軸に角度調節手段を設けたことを特徴とする。

【００１１】

【作用】以上のような構成を有する基板洗浄装置の作用
は次の通りとなる。

【００１２】即ち、請求項１記載の考案では、回転軸を
傾斜させ、傾斜下方の支持ローラにより基板を支持させ
ることにより、位置ずれを起こすこと無く、多様な幅の
基板に対応して搬送することができる。したがって、基
板の種類に関係無く搬送することができ、装置を停止さ
せること無く洗浄できる。

【００１３】請求項２記載の考案では、回転軸に角度調
節手段が設けられたことにより、基板や洗浄液の種類に
適宜対応することができる。

【００１４】

【実施例】以下、本考案の基板洗浄装置の一実施例を図
面に基づいて説明する。なお、本実施例において従来技
術と同様の部材に関しては同一の符号を付し、説明は省
略する。

【００１５】すなわち、本実施例の基板洗浄装置では、
図１に示すように、搬送部１の回転軸３に、直径の大き
い大ローラ６ａと小さい小ローラ６ｂを組合わせて断面
が略Ｔ字形に形成された支持用ローラ６と、前記支持用
ローラの小ローラ６ｂと同一直径の保持ローラ７とが一
定の間隔で取付けられている。搬送部１は、この様な回
転軸が、搬送開始部、第１傾斜部、洗浄部、第２傾斜
部、終了部のユニットにより構成されている。

【００１６】搬送部１のそれぞれのユニットの回転軸３
は、支持ローラ６を支点として保持ローラ７側が上方と
なるように傾斜して配設されている。各ユニットは、搬
送開始部が水平方向に対して傾斜角度が０°に、第１傾
斜部が傾斜角度０°から１５°まで緩やかな傾斜状態
に、直接洗浄に要する搬送範囲および水切りを行う範囲
の洗浄部が、１５°の一定の傾斜角度に、第２傾斜部が
傾斜角度１５°から０°まで緩やかな傾斜状態に、終了
部が傾斜角度０°に設定されている。

【００１７】なお、第１および第２傾斜部では、各回転
軸３の傾斜角度が、搬送路の基板５を円滑に搬送するこ
とができる様に調整されている。

【００１８】この様な構成を有する本実施例の基板洗浄
装置では、基板５は搬送部１の開始部上に載置され、支
持ローラ６および保持ローラ７の回転により一定方向に
搬送される。第１傾斜部から洗浄部および第２傾斜部で
は、支持ローラ６を支点として回転軸３に傾斜が設けら
れているため、基板５の側縁は傾斜の下方となる支持ロ
ーラの大ローラ６ａ側面に確実に当接することになる。
また、基板５の下面は、小ローラ６ｂおよび保持ローラ
７に保持される。この状態で傾斜角度が１５°まで搬送
された基板は、傾斜角度が１５°に維持された洗浄部の
洗浄範囲で洗浄水が吹き付けられる。さらに、この洗浄
水の吹き付け終了後は、同じく傾斜角度１５°に維持さ
れた水切り範囲で、基板上に付着する洗浄水の水滴が傾
斜に沿って流下して、水切りが行われる。この後、第２
傾斜部の回転軸３の角度とともに基板の傾斜角度が徐々
に０°に戻される。

【００１９】この様な本実施例の基板洗浄装置では、回
転軸３を傾斜させ、基板５を支持ローラ６に常時当接さ
せて、確実に支持させることにより、搬送部上の基板
が、左右および回転方向への位置ずれを起こすこと無
く、確実に位置決めされる。また、この時、小ローラ６
ｂおよび保持ローラ７により基板５の下面が保持される
ため、基板５を常に安定した状態で搬送し、洗浄するこ
とができる。

【００２０】すなわち、搬送部上の基板の位置決めが支
持ローラのみによって行われているため、基板の幅の種
類に関係無く、多種の基板に対応することができ、しか
も連続して洗浄することができる。したがって、本実施
例では、製造効率および製品生産率を大幅に向上するこ
とができる。

【００２１】なお、本考案は上述した実施例に限定され
るものではなく、具体的な各部材の形状および取付け位
置等は適宜変更可能である。

【００２２】例えば、回転軸３を傾斜された状態で設け
ることに限定されず、回転軸に角度の調整手段を設ける
ことにより、回転軸の角度を変更自在とすることができ
る。これは、例えば、図２に示すように、回転軸３の保
持部８に角度調整装置９を設けることや、また、駆動手
段Ｍに角度調整の手段を設けること等により行われる。
これにより、基板を水平状態で洗浄部まで搬送し、洗浄
範囲および水切り範囲で、その都度傾斜させることや、
洗浄範囲および水切り範囲で、傾斜と水平の状態を数回
繰り返して行う等も可能となる。さらに、洗浄のための
ユニットや水切りのためのユニットを設け、これらのユ
ニットに一定数量の基板が搬送されると角度調整装置９
等の角度の調整手段により傾斜させ、洗浄や水切りを行
うこともできる。したがって、角度の調整手段を設ける
ことにより、基板の種類や洗浄液等の条件に適宜適応す
ることができ、基板に合わせた最適な洗浄状態とするこ
とができる。

【００２３】さらに、支持ローラ６は、図３に示すよう
に、基板５を保持するための小ローラ６ａと、基板の側
縁部を支持し、且つ基板の搬送方向に回転する回転ロー
ラ１０とに分割して設けることもできる。これにより、
基板５の下面から保持する小ローラ６ａおよび保持ロー
ラ７の配設範囲が広くなるので、より多くの種類の基板
に対応することができる。この時、基板５を支持する回
転ローラ１０は、回転することによって基板側縁との摩
擦が小さくなり、基板に掛かる負担が軽くなる。これに
より、基板５の側縁部と回転ローラ１０とが接触しても
粉塵の発生が皆無となり、高い精度を維持して製造する
ことができる。

【００２４】また、１本の回転軸３に取付けられる保持
ローラ７は１個に限定されず、複数設けることにより、
広範囲の基板に、確実に対応することができる。

【００２５】さらに、回転軸３の傾斜は１５°に限定さ
れず適宜変更可能である。さらに、回転軸の傾斜は支持
ローラ６を支点とする他に、駆動手段を支点とすること
や、回転軸の保持ローラ７側端部を支点として、支持ロ
ーラ６側を下方向に傾斜させる等適宜変更可能であり、
同様の効果を得ることができる。

【００２６】ところで、基板５を支持ローラ６に当接さ
れることにより、基板の位置ずれを修正することができ
ることから、搬送部１に傾斜を設けることは洗浄時に限
定されない。例えば、搬送部に載置された基板を支持ロ
ーラに当接させて位置ずれを修正した後、再び傾斜角度
を０°として洗浄を行っても、位置ずれを起こすこと無
く搬送することができる。さらに、洗浄終了後の乾燥状
態となった基板の位置ずれを修正することにより、確実
に次工程に搬送することができる。

【００２７】

【考案の効果】本考案では、搬送される基板の洗浄を行
うときに、基板搬送用ローラの取付けられた回転軸を傾
斜させ、一方のローラに支持させることにより、基板の
幅の種類に関係無く、多種の基板を連続して円滑に洗浄
することができる。さらに、基板を左右および回転方向
への位置ずれを起こさずに、また、基板に負担を掛ける
こと無く搬送することができ、高い精度を維持して洗浄
を行うことができる。

【００２８】したがって、基板洗浄時には、幅の異なる
基板に対してローラの移動等の操作を行うこと無く搬送
されて、しかも、装置を停止することなく連続して洗浄
が行われる高効率で高生産性となる基板洗浄装置を提供
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例である基板洗浄装置の搬送部
を示す正面図。

【図２】角度調整装置の設けられた基板洗浄装置の搬送
部を示す正面図。

【図３】他の実施例の搬送部を示す正面図。

【図４】従来の基板洗浄装置を示す要部拡大正面図。

【符号の説明】

１ … 搬送部 ２ … 洗浄手段 ３ … 回転軸 ４ … ローラ ５ … 基板 ６ … 支持ローラ ７ … 保持ローラ ８ … 保持部 ９ … 角度調整装置 １０ … 回転ローラ Ｍ … 駆動手段

Claims (2)

(57)【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を搬送するための搬送部と、前記搬
   送部上の基板を洗浄するための洗浄部とを備えた基板洗
   浄装置において、 前記搬送部に、駆動手段に接続された回転軸と、前記回
   転軸に取付けられ、基板を側縁部下面および側面から支
   持し、基板を搬送する支持ローラ、および基板の下面の
   一部を保持し基板を搬送する保持ローラとが設けられ、 支持ローラに対して保持ローラを上部方向となるように
   回転軸が設けられたことを特徴とする基板洗浄装置。
2. 【請求項２】 回転軸に、角度調節手段を設けたことを
   特徴とする請求項１記載の基板洗浄装置。