JPH0377276B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、プリント回路基板や液晶用ガラス基
板等を製造するためのの枚葉の薄板状素材、ある
いはリードフレームいシヤドウマスク等を製造す
るためのウエブ状素材（以下、基板と総称する）
の表面に、所要のレジストパターンを形成した
後、揺動するスプレイノズルにより表面処理液を
供給して、エツチング処理あるいは現像処理等の
表面処理を行なう表面処理方法及びその装置に関
する。

［従来の技術］ 被処理基板の表面に、揺動するスプレイノズル
から処理液を撒布供給して、表面処理をするため
に、従来、たとえば第３図に示すような表面処理
装置が知られている。第３図は、被処理基板の搬
送方向に直角な断面を示す概略図で、被処理基板
１は、搬送路に沿つて等速度で回転する複数本の
搬送ローラーを適宜のピツチで列設したコンベア
装置により、水平方向（第３図で紙面に垂直な方
向）に搬送される。各搬送ローラーは、ローラー
軸２に複数個のローラー３を嵌着し、これらのロ
ーラー３は、基板１との接触面積を小さくするた
めに、周縁を細幅とした「そろばん玉」状に形成
してある。

基板搬送路の上下両側には、それぞれ複数本の
スプレイ管４，５が配設される。各スプレイ管
４，５は、それぞれ複数個のスプレイノズルを、
紙面に垂直な長手方向に所要ピツチで付設してあ
り、図示を省略した処理液供給管を介して、ポン
プから圧送される処理液を、各ノズルから被処理
基板１の面に向けて撒布する。

また、処理ムラを防止するために、各スプレイ
管４，５は、適宜の駆動手段により、図示矢印の
ように往復揺動させることにより、被処理基板１
の全面に対する処理液の供給を平均化するように
なつている。

［発明が解決しようとする問題点］ 第３図示の従来装置では、処理液を撒布供給す
るスプレイノズルが、一方向にのみ揺動するよう
に構成されているため、処理結果にスプレイの揺
動方向に関連する不均一さが生じる。

たとえば第４図示のように、矢印Ｎで示すスプ
レイの揺動方向に平行な細線パターン６と、これ
に直角な方向の細線パターン７とがある場合、レ
ジストパターンとしては、パターン６の幅「t₁」
とパターン７の幅「t₂」とが等寸法であつても、
エツチング処理により基板１に形成されるリツト
状透孔の幅に変動が生じて、スプレイの揺動方向
Ｎに直角な方向のパターン７の幅が大きくなる傾
向がある。

第５図は、この状態をやや誇張して示した模式
図で、Ａはスプレイの揺動方向に平行に形成され
たスリツト状透孔６′の断面、Ｂは同じく直角な
方向に形成されたスリツト状透孔７′の断面で、
透孔６′の幅「t₁′」よりも透孔７′の幅「t₂′」が
大きくなつていることを示す。なお、第４図の白
抜きの矢印Ｔは、基板１の搬送方向を示すもので
あるが、搬送速度が比較的低速であるために、実
用上、搬送方向による差は認められず、処理結果
には影響しない。

かかる処理ムラは、第５図示のように被処理基
板を貫通する透孔を加工する場合のみならず、プ
リント回路基板など、耐蝕性材料の表面に重畳し
た金属薄膜をエツチングする場合にも、同様にス
プレイの揺動方向に基づく方向性を持つたムラが
発生する。

スプレイの揺動方向により、上述のような処理
ムラが発生することは、基板に微細なパターンを
加工する作業においては、不良率が高くなる原因
になるため、改善が要望されているところであ
る。

［問題を解決するための手段］ 本発明は、スプレイノズルから処理液が撒布供
給される領域を、被処理基板が通過する通過にお
いて、基板面に対するスプレイノズルの揺動方向
を、少なくとも１回、相当的にほぼ直角に変化さ
せて、基板面とスプレイノズルの揺動方向との相
対角度を、上記変化の前後において所要角度変化
させることにより、スプレイノズルの揺動方向に
基づく処理ムラを解消するものである。

処理過程中に、基板面とスプレイノズルの揺動
方向とを、相対的に回転させる手段としては、基
板の搬送経路に沿つて、複数組のスプレイ管群を
列設して、基板搬送方向に対する揺動方向が異な
る組、たとえば搬送方向に対して、直角な方向に
揺動する組と平行な方向に揺動する組とを、交互
に配置する手段や、あるいは、スプレイ管群は一
方向のみに揺動させ、搬送経路の所要個所におい
て基板を水平面内で90度旋回させる手段を適用す
る。

［作用］ 基板の表面に、スプレイノズルから処理液を撒
布供給して表面処理を行なう過程中に、たとえ
ば、前半部ではスプレイノズルが搬送方向に直角
な方向に揺動し、後半部では平行な方向に揺動す
る等、基板面とスプレイノズルの揺動方向とが、
相対的に回転するため、前述従来装置における方
向性を持つた処理ムラの発生が防止できる。

［第１実施例］ 第１図は、本発明の１実施例装置の要部を示す
斜視図である。

被処理基板１１は、適宜ピツチで搬送ローラー
を列設したコンベア装置により、水平に保持され
て矢印方向に移送される。各搬送ローラーは、前
記従来手段と同様に、周縁を細幅とした「そろば
ん玉」状のローラー１２を、ローラー軸１３に適
宜の感覚で装着してあり、軸１３の一端に、それ
ぞれウオーム歯車１４を固着する。各ウオーム歯
車１４は、共通の駆動軸１６に装着された対応す
るウオーム１５に係合して、図示を省略した駆動
手段により駆動軸１６を回転させることにより、
各搬送ローラーを同期的に回転させて、基板１１
を移送する。

基板１１の搬送経路に沿つて、複数組の揺動ス
プレイ管群を列設配置する。第１図には、上面側
の２組のみを示しているが、表面処理の仕様に応
じてさらに多数組を配設し、また、基板１１の表
裏両面を処理する場合には、搬送ローラー列の下
方にも同様の揺動スプレイ管群を配置する。

第１の揺動スプレイ管群は、基板１１の移送
方向に平行な方向に揺動し、第２の群は、これ
に直角な方向に揺動するように、向きを異ならせ
て設置されるが、構成は同一であるので、第２の
群について説明する。

複数本（本実施例では８本）のスプレイ管１７
には、それぞれ複数個のノズル１８が所要ピツチ
で下向きに列設され、両端部が支持板１９の下端
部に支持される。各支持板１９は、上端に外方へ
向かつて突設した軸２０により、図示しない軸受
に枢着され、スプレイ管１７をその軸線に垂直な
方向に揺動可能に支承する。スプレイ管１７の一
端２１は、支持板１９を貫通して外面に開口し
て、他端は閉塞してある。

各支持板１９の中段部に、それぞれ外方に向け
て１本のピン２２を立設し、前後一対の連結バー
２３に枢着する。各連結バー２３の一端は、それ
ぞれクランクロツド２４を介して、駆動軸２５に
形成したクランク２６に連接してある。駆動軸２
５は軸受２７に支承され、減速機構を付設したモ
ーター２８により回転駆動される。

かくしてモーター２８により、駆動軸２５を回
転させると、クランク２６、クランクロツド２４
を介して、一対の連結バー２３が長手方向に往復
駆動され、各支持板１９が往復揺動して、その下
端に支持された複数本のスプレイ管１７が、同期
的に揺動する。

各スプレイ管１７の開口端２１には、鎖線で示
すフレキシブルな送液管２９が接続され、図示し
ないポンプにより、所要の表面処理液を圧送し
て、各ノズル１８から移送される基板１１の面に
向けて噴射させる。このとき、各スプレイ管１７
とともに、各ノズル１８が基板１１の移送方向に
直角に揺動するため、基板１１の面に対する噴射
位置が移送方向に直角に周期的に揺動する。

一方、第１の揺動スプレイ管群は、上述の第
２の群と同一構成であるが、各部品を第２の群
と着国の位置関係で配置してあるため、各スプレ
イ管が基板１１の移送方向に平行な方向に揺動
し、噴射位置が移送方向に平行に揺動する。

すなわち基板１１は、第１の揺動スプレイ管群
の領域を通過する間は、移送方向に平行に揺動
するスプレイにより処理され、第２の揺動スプレ
イ管群の領域では、移送方向に直角に揺動する
スプレイにより処理される。したがつて、スプレ
イノズルら処理液の撒布供給による表面処理が行
なわれる過程中の、前半部と後半部におけるスプ
レイの揺動方向が、それぞれ直交するように変化
するため、１方向のみに揺動するスプレイで処理
した場合に発生する方向性を持つた処理ムラを防
止することができる。

なお、第１図では、揺動スプレイ管群を２組だ
け示したが、前述のとおり、要求される表面処理
作業に応じて、さらに多数組の揺動スプレイ管群
を、表面処理を行なう各領域ごとに、交互に揺動
方向を変えて列設してもよく、また、複数個の処
理領域を連接配置して、それぞれの領域ごとのス
プレイ管群を、交互に揺動方向を変えておくよう
にしてもよい。

さらにまた、基板の表裏両面を処理するため
に、第１図示のものと上下反転した構成の揺動ス
プレイ管群を、搬送経路の下方に配置してもよ
い。

また、図示実施例では、スプレイ管群を基板の
移送方向に、直角な方向と平行な方向とに配置し
たが、他の角度でもよく、たとえば各組のスプレ
イ管群を、移送方向に対して、それぞれ逆方向
に、たとえば45度の角度で配置してもよい。

［第２実施例］ 第２図は、本発明の他の１実施例装置の要部を
示す斜視図である。この実施例に適用するスプレ
イ装置は、第１図示の揺動スプレイ管群と同様の
構成のものを、１方向にのみ揺動するように設置
すればよいので、図示を省略する。

被処理基板３１は、第１図示と同様に、周縁を
細幅としたローラー３２を適宜ピツチでローラー
軸３３に嵌着して搬送ローラーを列設したコンベ
ア装置により、矢印方向に搬送され、揺動スプレ
イ管群のノズルから、その表めもしくは表裏両面
に処理液が供給される。

搬送経路の適所に、基板３１を搬送ローラーに
載置された位置から上昇させて、水平面内で回転
させる基板旋回手段を設置する。これは、垂直軸
３４と、その上端に装着した十字形の腕３５とか
ら構成され、腕３５の上面には、基板３１を支持
するための複数個の突起３６が立設してある。腕
３５の厚みと突起３６の高さは、それらを加算し
た寸法が、ローラー３２の半径からローラー軸３
３の半径を差し引いた寸法より小さくなるように
設置してあり、４本の腕３５が実線示のように各
ローラー３２の間に収まり、ローラー軸３３に当
接した状態では、各突起３６の先端は、搬送され
る基板３１の下面には接触しな位置に沈下する。

垂直軸３４は、図示を省略した駆動装置によ
り、十字形の腕３５が上記沈下位置から、少なく
とも腕３５の下面がローラー３２の上端よりも高
位になる高さまで上昇させられ、かつ、この上昇
位置で軸回りに90度ずつ回転するように駆動され
る。

また、基板３１の搬送面の上方の適宜の個所
に、光センサ等の基板検出手段３７が配設してあ
る。すなわち、基板３１が十字形の腕３５の上部
に搬送されてきたとき、基板検出手段３７、たと
えば光電スイツチ等により、基板３１中心が垂直
軸３４による回転中心にほぼ整合したことを検出
し、その検出信号により駆動装置を作動させて垂
直軸３４及び腕３５を上奏させ、基板３１を突起
３６で支持してローラー３２に支持された移送面
から浮上させ、次いで、垂直軸３４を回転させて
基板３１を水平面内で旋回させる。

90度旋回した位置で回転を停止して、垂直軸３
４及び腕３５を下降させると、十字形の腕３５
は、旋回前に移送方向に平行であつた腕が直角方
向となり、直角であつた腕が平行方向となつて、
各ローラー３２の間の沈下し、基板３１は直角に
旋回してローラー３２に載置され、再び搬送され
る。

したがつて、旋回の前後において、基板３１と
スプレイの揺動方向とが相対的に直角に回転させ
られるので、スプレイの揺動方向に基づく方向性
を持つた処理ムラの発生を防止することがてき
る。

この実施例装置は、全部のスプレイ管をすべて
一定方向に揺動させる構造とすることができるた
め、処理装置全体として前記第１実施例装置より
も簡単な構成とすることができる。

上記垂直軸３４及び十字形の腕３５とで構成さ
れる基板旋回装置は、必要に応じて、スプレイに
よる基板３１の表面処理を行なう領域中の複数個
所に設置して、基板３１の向きを複数回90度ずつ
旋回させてもよく、また、同一方向に揺動するス
プレイ管群を複数組連接した表面処理装置の、各
スプレイ管群の境界部にそれぞれ配置するように
してもよい。また、旋回角度は、90度に限定され
るものではなく、他の角度、たとえば45度ずつ旋
回させてもよい。

［発明の効果］ 引処理基板面に処理液を撒布するスプレイの揺
動方向を、互いに直交する方向に周期的に変化さ
せて、表面処理を行なうため、スプレイの揺動方
向に基づく方向を持つた処理ムラの発生が防止さ
れ、均一な処理結果を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の１実施例装置の要部を示す斜
視図、第２図は同じく第２実施例装置の要部を示
す斜視図、第３図は従来の表面処理装置の概略構
成を示す断面図、第４図は被処理基板の１例を示
す平面図、第５図は従来の表面処理装置により第
４図示の基板を処理した場合に生じる、方向性を
持つた処理ムラを説明する部分断面図である。 １……被処理基板、２……ローラー軸、３……
ローラー、４，５……スプレイ管、６，７……細
線パターン、６′，７′……６，７に基づくスリツ
ト状透孔、１１……被処理基板、１２……ローラ
ー、１３……軸、１４……ウオーム歯車、１５…
…ウオーム、１６……駆動軸、１７……スプレイ
管、１８……ノズル、１９……支持板、２０……
軸、２１……開口端、２２……ピン、２３……連
結バー、２４……クランクロツド、２５……駆動
軸、２６……クランク、２７……軸受、２８……
モーター、３１……被処理基板、３２……ローラ
ー、３３……ローラー軸、３４……垂直軸、３５
……腕、３６……突起、３７……基板検出手段
（光電スイツチ）。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 被処理基板を搬送手段により搬送しながら、
   該搬送手段に沿つて配設した揺動スプレイ装置に
   より表面処理液を基板の面に撒布供給して、表面
   処理を行なう方法において、 被処理基板が、揺動スプレイ装置からの表面処
   理液が供給される領域を通過する間に、揺動スプ
   レイ装置の揺動方向と被処理基板の搬送方向との
   相対角度を、少なくとも１回、所要角度変化させ
   ることを特徴とする基板の表面処理方法。 ２ 被処理基板を水平に保持して、水平方向に移
   送する搬送装置と、 該搬送装置の移送経路に沿つて列設配置され、
   被処理基板面に表面処理液を撒布供給する複数組
   の揺動スプレイ管群とよりなり、 前記複数組の揺動スプレイ管群が、それぞれ、
   被処理基板面に向けて表面処理液を噴射するノズ
   ルを備えた複数本のスプレイ管を平行に、かつ、
   揺動可能に装着し、適宜の駆動手段により周期的
   に揺動させるように構成され、かつ、各揺動スプ
   レイ管群の揺動方向が、交互に所要角度異なるよ
   うに配置してなる基板の表面処理装置。 ３ 被処理基板を搬送装置により水平方向に搬送
   しながら、該搬送装置に沿つて配置され、かつ、
   一方向に揺動するスプレイ管群により被処理基板
   面に表面処理液を撒布供給する基板の表面処理装
   置において、 前記搬送装置の少なくとも１個所に、その個所
   に到達した被処理基板を搬送面から上昇離間さ
   せ、かつ、水平面内でほぼ所要角度旋回させた
   後、搬送面に下降させて移送させる基板旋回装置
   を設置してなる基板の表面処理装置。