KR102056857B1 - 셔틀 및 이를 가지는 기판처리장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판을 반송하는 셔틀 및 이를 가지는 장치를 제공한다. 셔틀은 베이스, 상기 베이스를 제1방향으로 반송하는 베이스구동부재, 그리고 상기 베이스 상에 고정결합되고, 기판을 제1방향으로 반송하는 기판반송부재를 포함하되, 상기 기판반송부재는 상기 제1방향을 따라 복수 개가 나란히 배열되고, 길이방향이 상기 제1방향과 수직한 제2방향을 향하는 반송샤프트들, 상기 반송샤프트들의 양단을 지지하고, 상기 베이스에 결합되는 프레임, 그리고 상기 반송샤프트를 회전시키는 샤프트구동기를 포함한다. 이로 인해 기판을 안정적으로 반송할 수 있다.

Description

셔틀 및 이를 가지는 기판처리장치{shuttle and Apparatus for treating substrate with the shuttle}
본 발명은 기판을 반송하는 셔틀 및 이를 가지는 장치에 관한 것이다.
최근 들어, 정보 처리 기기는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. 이러한 정보 처리 장치는 가동된 정보를 표시하는 표시 패널(display panel)을 가진다. 최근에는 기술의 급속한 발전에 따라 액정 디스플레이(LCD)와 같은 평판 표시 패널의 사용이 급격히 증대하고 있으며, 그 크기 및 무게 또한 증대되고 있다.
평판 표시 패널을 제조하기 위해서는 사진, 식각, 그리고 증착 등 다양한 공정들을 수행하며, 이 같은 공정들을 수행하기 전후 단계에는 세정 공정을 수행한다. 세정공정은 기판을 경사진 상태로 반송하고, 그 기판 상으로 약액을 공급하는 공정을 수행한다. 기판을 반송하기 위해 기판의 저면은 반송롤러에 지지되고, 기판을 반송방향을 가이드하기 위해 기판의 측부는 가이드롤러에 지지된다.
그러나 기판은 가이드롤러 간 마찰로 인해 파티클이 발생하거나, 가이드롤러의 잦은 손상으로 인해 유지보수의 횟수가 증가한다. 또한 기판을 반송하기 위해 복수 개의 반송롤러들이 사용되며, 반송롤러들 간에 편심이 발생될 시 기판이 슬립된다.
한국 특허 공개번호 제2006-0000969호
본 발명은 기판을 안정적으로 반송할 수 있는 셔틀 및 이를 가지는 기판처리장치를 제공하고자 한다.
또한 본 발명은 가이드롤러의 손상을 최소화할 수 있는 셔틀 및 이를 가지는 기판처리장치를 제공하고자 한다.
또한 본 발명은 기판의 슬립을 최소화할 수 있는 셔틀 및 이를 가지는 기판처리장치를 제공하고자 한다.
본 발명의 실시예는 기판을 반송하는 셔틀 및 이를 가지는 장치를 제공한다. 셔틀은 베이스, 상기 베이스를 제1방향으로 반송하는 베이스구동부재, 그리고 상기 베이스 상에 고정결합되고, 기판을 제1방향으로 반송하는 기판반송부재를 포함하되, 상기 기판반송부재는 상기 제1방향을 따라 복수 개가 나란히 배열되고, 길이방향이 상기 제1방향과 수직한 제2방향을 향하는 반송샤프트들, 상기 반송샤프트들의 양단을 지지하고, 상기 베이스에 결합되는 프레임, 그리고 상기 반송샤프트를 회전시키는 샤프트구동기를 포함한다.
상기 기판반송부재는 상기 반송샤프트들의 양단의 높이가 서로 상이하도록 상기 반송샤프트들의 일단을 상하 이동시키는 승강부재 및 상기 반송샤프트들에 지지된 기판의 측부를 지지하는 가이드롤러를 포함할 수 있다. 상기 베이스구동부재는 길이방향이 상기 제1방향으로 제공되는 레일 및 상기 베이스가 상기 레일을 따라 상기 제1방향으로 반송되도록 구동력을 제공하는 베이스구동기를 포함할 수 있다.
기판처리장치는 일부가 제1그룹에 속하고, 다른 일부가 제2그룹에 속하는 복수 개의 챔버들, 상기 제1그룹의 챔버들 간에 기판을 반송하거나, 상기 제2그룹의 챔버으로 기판을 반송하는 제1셔틀, 그리고 상기 제2그룹의 챔버들 간에 기판을 반송하거나, 상기 제2그룹의 챔버로부터 기판을 반출하는 제2셔틀을 포함하되, 상기 제1셔틀 및 상기 제2셔틀 각각은 베이스, 상기 베이스를 상기 제1방향으로 반송하는 베이스구동부재, 그리고 상기 베이스에 고정결합되고, 기판을 상기 제1방향으로 반송하는 기판반송부재를 포함하되, 상기 기판반송부재는 상기 제1방향을 따라 복수 개가 나란히 배열되고, 길이방향이 상기 제1방향과 수직한 제2방향을 향하는 반송샤프트들, 상기 반송샤프트들의 양단을 지지하고, 상기 베이스에 결합되는 프레임, 그리고 상기 반송샤프트를 회전시키는 샤프트구동기를 포함하되, 상기 제1그룹의 챔버와 상기 제2그룹의 챔버는 일렬로 배치된다. 상기 기판반송부재는 상기 반송샤프트들의 양단의 높이가 서로 상이하도록 상기 반송샤프트들의 일단을 상하 이동시키는 승강부재 및 상기 반송샤프트들에 지지된 기판의 측부를 지지하는 가이드롤러를 포함할 수 있다. 상기 베이스구동부재는 길이방향이 상기 제1방향을 향하는 레일 및 상기 베이스가 제1방향으로 반송되도록 상기 레일을 구동하는 베이스구동기를 포함할 수 있다. 상기 레일은 상기 제1그룹의 챔버 및 상기 제2그룹의 챔버의 외측에 위치되고, 상기 제1그룹의 챔버 및 상기 제2그룹의 챔버 각각에는 측벽에 슬릿 형상의 홀들이 형성되며, 상기 베이스의 가장자리는 상기 홀들을 관통하도록 제공될 수 있다. 상기 제1셔틀의 레일은 상기 제1그룹의 전단에서 후단까지 제공되고, 상기 제2셔틀의 레일은 상기 제2그룹의 전단에서 후단까지 제공될 수 있다. 상기 샤프트구동기와 상기 베이스구동기를 제어하는 제어기를 더 포함하되, 상기 제어기는 상기 샤프트구동기와 상기 베이스구동기 중 어느 하나만 구동되도록 제어할 수 있다. 상기 제1그룹에 속하는 챔버는 1개 또는 복수 개로 제공되고, 상기 제2그룹에 속하는 챔버는 1개 또는 복수 개로 제공될 수 있다. 상기 제1그룹에 속하는 챔버의 수와 상기 제2그룹에 속하는 챔버의 수는 서로 상이하게 제공될 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 기판은 챔버 내에서 셔틀에 의해 반송되므로, 기판을 안정적으로 반송할 수 있다.
또한 본 발명의 실시예에 의하면, 셔틀은 롤러의 회전을 최소화하여 기판을 반송하므로, 롤러의 손상을 최소화할 수 있다.
의 실시예에 의하면, 셔틀은 롤러의 회전을 최소화하여 기판을 반송하므로, 기판의 슬립을 최소화할 수 있다.
도1은 본 발명의 기판 처리 장치의 일 예를 개략적으로 보여주는 블럭도이다.
도2는 도1의 실시예에 따른 기판처리장치의 단면도이다.
도3은 도2의 셔틀의 일 예를 보여주는 단면도이다.
도4는 도3의 셔틀의 평면도이다.
도5는 도3의 셔틀의 사시도이다.
도6은 도3에서 경사위치로 이동된 셔틀을 보여주는 단면도이다.
도7 내지 도9은 제1셔틀 및 제2셔틀을 이용하여 기판을 반송하는 과정을 보여주는 도면이다.
도10은 도2의 기판처리장치의 다른 실시예를 보여주는 단면도이다.
도11은 도2의 기판처리장치의 또 다른 실시예를 보여주는 단면도이다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도1 내지 도11을 참조하면서 상세히 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장된 것이다.
본 실시예에서 기판(S)은 평판 표시 패널 제조에 사용되는 기판(S)을 예로 들어 설명한다. 또한 본 실시예에는 기판(S)을 세정 처리하는 공정에 대해 설명한다. 그러나 본 발명은 롤러를 포함한 반송부재를 이용하여 기판(S)을 반송하는 다양한 공정의 장치에 적용될 수 있다.
기판처리장치는 기판(S)을 세정 처리하는 공정을 수행한다. 일 예에 의하면, 도1은 본 발명의 기판 처리 장치의 일 예를 개략적으로 보여주는 블럭도이고, 도2는 도1의 기판처리장치의 단면도이다. 도1 및 도2를 참조하면, 기판처리장치는 챔버(100), 세정유닛(200), 셔틀, 그리고 제어기를 포함한다. 챔버(100)는 복수 개로 제공되며, 일부는 제1그룹에 속하고, 나머지는 제2그룹에 속한다. 제1그룹은 1 개 또는 복수 개의 챔버(100)일 수 있고, 제2그룹은 1 개 또는 복수 개의 챔버(100)일 수 있다. 챔버(100)는 반입챔버(10), 세정챔버(35), 그리고 반출챔버(50)를 포함한다. 반입챔버(10)는 외부로부터 기판(S)을 반송받아 이를 세정챔버(35)에 반입하고, 반출챔버(50)는 기판(S)을 세정챔버(35)로부터 반출하여 이를 반송한다. 세정챔버(35)는 기판(S)을 세정 처리한다. 일 예에 의하면, 세정챔버(35)는 브러쉬챔버(20), 약액챔버(30), 그리고 건조챔버(40)를 포함할 수 있다. 반입챔버(10) 및 브러쉬챔버(20)는 제1그룹에 속하고, 약액챔버(30), 건조챔버(40), 그리고 반출챔버(50)는 제2그룹에 속할 수 있다. 반입챔버(10), 브러쉬챔버(20), 약액챔버(30), 건조챔버(40), 그리고 반출챔버(50)는 제1방향(12)을 따라 순차적으로 배치된다. 반입챔버(10), 브러쉬챔버(20), 약액챔버(30), 건조챔버(40), 그리고 반출챔버(50)는 서로 인접하게 배치된다. 반입챔버(10), 브러쉬챔버(20), 약액챔버(30), 건조챔버(40), 그리고 반출챔버(50)는 대체로 직육면체의 형상을 가진다. 각각의 챔버는 바닥벽(22), 측벽, 그리고 상부벽(23)을 포함한다. 바닥벽(22)은 직사각의 형상을 가진다. 측벽은 바닥벽(22)의 장변 및 단변으로부터 수직한 방향으로 연장된다. 측벽은 제1벽(26), 제2벽(27), 제3벽(24), 그리고 제4벽(25)을 포함한다. 제1벽(26) 및 제2벽(27)은 서로 대향되게 위치되고, 제3벽(24)과 제4벽(25)은 서로 대향되게 위치된다. 일 예에 의하면, 제1벽(26) 및 제2벽(27)은 바닥벽(22)의 장변으로부터 수직하게 연장되고, 제3벽(24) 및 제4벽(25)은 바닥벽(22)의 단변으로부터 수직하게 연장된다. 상부벽(23)은 바닥벽(22)과 동일한 형상을 가지며, 측벽으로부터 수직한 방향으로 연장되게 제공된다. 제1벽(26) 및 제2벽(27)에는 슬릿 형상의 홀(21)들이 형성된다. 슬릿(21)은 그 길이방향이 제1방향(12)을 향하도록 제공된다. 제3벽(24)에는 기판(S)이 반입되는 입구(28)가 제공되고, 제4벽(25)에는 기판(S)이 반출되는 출구(29)가 제공된다. 입구(28)와 출구(29)는 서로 대향되게 위치된다. 일 예에 의하면, 서로 인접한 챔버들의 제3벽(24) 및 제4벽(25)이 서로 대향되게 위치될 수 있다. 이로 인해 서로 인접한 챔버들은 그 내부가 서로 통하도록 제공된다.
세정유닛(200)은 기판(S)을 단계별로 세정하기 위한 복수 개의 세정부재들을 포함한다. 세정부재는 챔버(100) 별로 상이하게 제공될 수 있다. 세정부재는 롤브러쉬부재(220). 액공급부재(240), 그리고 건조부재(260)를 포함한다.
롤브러쉬부재(220)는 기판(S)의 상면과 물리적으로 접촉되어 기판(S)을 세정한다. 롤브러쉬부재(220)는 브러쉬챔버(20) 내에 위치된다. 롤브러쉬부재(220)는 몸체(222) 및 브러쉬모(224)를 포함한다. 몸체(222)는 원통 형상을 가지도록 제공된다. 몸체(222)는 그 길이방향이 제1방향(12)과 수직한 제2방향(14)을 향하도록 제공된다. 몸체(222)는 기판(S)의 폭과 동일하거나, 이보다 길게 제공된다. 몸체(222)는 그 중심축을 중심으로 회전 가능하도록 제공된다. 브러쉬모(224)는 몸체(222)의 외주면을 감싸도록 제공된다. 브러쉬모(224)는 반송되는 기판(S)의 상면과 접촉되어 기판(S) 상에 부착된 이물 및 파티클을 제거한다.
액공급부재(240)는 기판(S) 상에 액을 공급하여 기판(S)을 세정한다. 액공급부재(240)는 약액챔버(30) 내에 위치된다. 액공급부재(240)는 몸체(242) 및 노즐(244)을 포함한다. 몸체(242)는 바 형상을 가지며, 그 길이방향이 제2방향(14)을 향하도록 제공된다. 몸체(242)의 길이는 기판(S)의 폭과 동일하거나 이보다 길게 제공된다. 몸체(242)의 저면에는 제2방향(14)을 따라 복수의 홀들이 형성된다. 각각의 홀에는 노즐들(244)이 장착된다. 각각의 노즐(244)은 액을 분사할 수 있다. 예컨대, 액은 탈이온수일 수 있다. 탈이온수는 가스와 혼합되어 스프레이 형태로 분사될 수 있다.
건조부재(260)는 기판(S) 상에 잔류하는 액을 회수한다. 건조부재(260)는 건조챔버(40) 내에 위치된다. 건조부재(260)는 기판(S) 상에 가압가스를 분사하여 기판(S)을 건조한다. 예컨대, 가압가스는 대기 중의 공기이거나 비활성 가스일 수 있다. 건조부재(260)는 몸체(262) 및 노즐(264)을 포함한다. 몸체(262)는 바 형상을 가지며, 그 길이방향이 제2방향(14)을 향하도록 제공된다. 몸체(262)는 그 길이가 기판(S)의 폭과 동일하거나 이보다 길게 제공된다. 몸체(262)의 저면에는 제2방향(14)을 따라 복수의 홀들이 형성된다. 각각의 홀에는 노즐들(264)이 장착된다. 각각의 노즐(264)은 하향 경사지게 제공된다. 노즐(264)은 기판(S) 상에 잔류되는 약액이 기판(S)의 반송방향과 반대되는 방향으로 흐르도록 가압가스를 분사한다.
셔틀(300)은 챔버들(100) 간에, 그리고 각각의 챔버(100) 내에서 기판(S)을 반송한다. 셔틀(300)은 세정유닛(200) 아래에서 기판(S)을 제1방향(12)으로 반송한다. 도3은 도2의 셔틀의 일 예를 보여주는 단면도이고, 도4는 도3의 셔틀의 평면도이며, 도5는 도3의 셔틀의 사시도이다. 도3 내지 도5를 참조하면, 셔틀(300)은 제1셔틀(300a)과 제2셔틀(300b)을 포함한다. 제1셔틀(300a)은 반입챔버(10)와 브러쉬챔버(20) 간을 이동 가능하고, 제2셔틀(300b)은 약액챔버(30), 건조챔버(40), 그리고 반출챔버(50) 간을 이동 가능하다. 또한 제1셔틀(300a)에 의해 반송된 기판(S)은 제2셔틀(300b)로 인계될 수 있다.
제1셔틀(300a)은 베이스구동부재(320), 베이스(340), 그리고 기판반송부재(360)를 포함한다. 베이스구동부재(320)는 베이스(340)를 제1방향(12)으로 이동시킨다. 베이스구동부재(320)는 제1레일(322), 제2레일(324), 그리고 베이스구동기(미도시)를 포함한다. 제1레일(322)은 반입챔버(10) 및 브러쉬챔버(20)의 일측 외부에 위치된다. 제1레일(322)은 그 길이방향이 제1방향(12)을 향하도록 제공된다. 제1레일(322)은 반입챔버(10)의 입구(28)와 인접한 위치에서 브러쉬챔버(20)의 출구(29)와 인접한 위치까지 연장된다. 제2레일(324)은 반입챔버(10) 및 브러쉬챔버(20)의 타측 외부에 위치된다. 제2레일(324)은 그 길이방향이 제1레일(322)과 평행하도록 제공된다. 제2레일(324)은 반입챔버(10)의 입구(28)와 인접한 위치에서 브러쉬챔버(20)의 출구(29)와 인접한 위치까지 연장된다. 제1레일(322) 및 제2레일(324)은 베이스구동기(미도시)에 의해 구동 가능하다.
베이스(340)는 기판반송부재(360)를 지지한다. 베이스(340)는 사각의 판 형상으로 제공되며, 기판반송부재(360)는 베이스(340)에 고정결합된다. 베이스(340)의 길이는 기판(S)보다 길게 제공되며, 폭은 챔버(100)의 제1벽(26)과 제2벽(27) 간의 거리보다 길게 제공될 수 있다. 베이스(340)의 가장자리부는 챔버에 형성된 슬릿형상의 홀을 관통하도록 제공된다. 이로 인해 베이스(340)의 중앙부는 챔버(100) 내에 위치되고, 베이스(340)의 가장자리부는 반입챔버(10) 및 브러쉬챔버(20)의 양 외측에 위치된다. 챔버들(100)의 외측에 위치된 베이스(340)의 가장자리부는 제1레일(322) 및 제2레일(324)에 연결되어 제1방향(12)으로 이동 가능하다.
기판반송부재(360)는 반송샤프트(362), 프레임(370), 승강부재(366), 가이드롤러(368), 그리고 샤트프구동기(미도시)를 포함한다. 반송샤프트(362)는 복수 개로 제공된다. 반송샤프트(362)들은 제1방향(12)을 따라 나란히 배치된다. 반송샤프트(362)들은 서로 간에 이격되게 배치된다. 각각의 반송샤프트(362)는 그 길이방향이 제2방향(14)을 향하도록 제공된다. 반송샤프트(362)는 챔버의 입구(28) 및 출구(29)에 대응되는 높이에 위치된다. 반송샤프트(362)들 각각에는 반송롤러(364)들이 장착되고, 반송롤러(364)는 기판(S)의 저면을 지지한다. 반송롤러(364)는 각각의 반송샤프트(362)에 복수 개로 제공된다. 반송롤러(364)는 그 중심축에 홀이 형성되며, 그 홀에 반송샤프트(362)가 강제 끼움된다. 반송롤러(364)는 반송샤프트(362)와 함께 회전 가능하다.
프레임(370)은 반송샤프트(362)들이 그 중심축을 중심으로 회전 가능하도록 반송샤프트(362)들의 양단을 지지한다. 프레임(370)은 반송샤프트(362)의 양측에 각각 위치되고, 그 하단이 베이스(340)에 고정결합된다.
도6은 도3에서 경사위치로 이동된 셔틀을 보여주는 단면도이다. 도6을 참조하면, 승강부재(366)는 반송샤프트(362)를 수평위치와 경사위치로 이동시킨다. 수평위치는 반송샤프트(362)의 상면이 지면과 평행한 위치이고, 경사위치는 반송샤프트(362)의 상면이 지면과 경사진 위치이다. 승강부재(366)는 반송샤프트(362)의 일단을 지지하는 프레임(370)을 상하로 이동시킨다. 프레임(370)이 상하 이동됨에 따라 반송샤프트(362)는 수평위치와 경사위치로 이동될 수 있다.
가이드롤러(368)는 기판(S)이 반송되는 중에 슬립되는 것을 방지한다. 가이드롤러(368)는 반송샤프트(362)들 사이에 위치된다. 가이드롤러(368)는 프레임(370)에 고정결합되어 반송롤러(364)에 지지된 기판(S)의 양 측부를 지지한다. 가이드롤러(368)는 그 중심축을 중심으로 회전 가능하도록 제공된다. 가이드롤러(368)는 기판(S)과의 마찰에 의해 회전 가능하다. 선택적으로 가이드롤러(368)는 기판(S)의 양 측부 중 높이가 낮은 기판(S)의 일측부만을 지지하도록 제공될 수 있다.
샤프트구동기(미도시)는 반송샤프트(362)들이 회전되도록 반송샤프트(362)를 구동한다. 샤프트구동기(미도시)는 베이스(340)에 고정결합된다.
제2셔틀(300b)은 제2셔틀(300b)과 모두 동일한 형상을 가질 수 있다. 제2셔틀(300b)의 제1레일(322b)은 약액챔버(30), 건조챔버(40), 그리고 반출챔버(50)의 일측 외부에 위치된다. 제2셔틀(300b)의 제2레일(324b)은 약액챔버(30), 건조챔버(40), 그리고 반출챔버(50)의 타측 외부에 위치된다. 제2셔틀(300b)의 베이스(340) 및 기판반송부재(360)는 제2셔틀(300b)의 제1레일(322b) 및 제2레일(324b)을 따라 제1방향(12)으로 이동가능하며, 제1셔틀(300a)과 중복되는 설명은 생략한다.
제어기(미도시)는 기판(S)이 반입챔버(10)에서 반출챔버(50)로 반송되도록 제1셔틀(300a) 및 제2셔틀(300b)을 제어한다. 제어기(미도시)는 베이스구동기(미도시)와 샤프트구동기(미도시)를 제어한다.
다음은 챔버(100) 내에서 기판(S)이 반송되는 과정을 설명한다. 도7 내지 도9는 제1셔틀 및 제2셔틀을 이용하여 기판(S)을 반송하는 과정을 보여주는 도면이다. 도7 내지 도9를 참조하면, 제1셔틀(300a)에 기판(S)이 놓여지면, 제1셔틀(300a)이 반입챔버(10)의 입구(28)에서 브러쉬챔버(20)의 출구(29)까지 이동되도록 제1셔틀(300a)의 베이스구동기(미도시)를 구동한다. 이때 제2셔틀(300b)은 약액챔버(30)의 입구(28)에 인접하게 위치된다. 제1셔틀(300a)이 제2셔틀(300b)에 인접하게 위치되면, 제1셔틀(300a)의 베이스구동기(미도시)를 중지하고, 제1셔틀(300a)의 샤프트구동기(미도시) 및 제2셔틀(300b)의 샤프트구동기(미도시)를 구동한다. 기판(S)은 반송샤프트(362)의 회전에 의해 제1셔틀(300a)에서 제2셔틀(300b)으로 반송된다. 기판(S)이 제2셔틀(300b)에 놓여지면, 제1셔틀(300a)의 샤프트구동기 및 제2셔틀(300b)의 샤프트구동기(미도시)를 중지한다. 이후 제2셔틀(300b)의 베이스구동기(미도시)를 구동하여 제2셔틀(300b)을 세정챔버(35)의 입구(28)에서 반출챔버(50)의 출구(29)까지 반송한다.
상술한 실시예에서는 챔버(100) 내에 2 개의 셔틀(300)이 제공되는 것으로 설명하였다. 그러나 셔틀(300)은 1 개로 제공될 수 있다. 1 개의 셔틀(300)은 기판(S)을 반입챔버(10)의 입구(28)에서 반출챔버(50)의 출구(29)까지 반송할 수 있다. 셔틀(300)에 제공된 반송샤프트(362) 및 반송롤러(364)는 외부의 반송로봇으로부터 기판(S)을 반송받거나, 외부의 반송로봇으로 기판(S)을 반송하기 위해 사용된다.
또한 제1셔틀(300a)과 제2셔틀(300b)이 이동 가능한 구간은 본 발명의 실시예와 상이하게 제공될 수 있다. 도10을 참조하면, 제1셔틀(300a)은 반입챔버(10), 브러쉬챔버(20), 그리고 약액챔버(30) 간을 이동 가능하고, 제2셔틀(300b)은 건조챔버(40) 및 반출챔버(50) 간을 이동 가능할 수 있다.
또한 셔틀은 3 개 이상으로 제공될 수 있다. 도11을 참조하면, 제1셔틀(300a)은 반입챔버(10)와 브러쉬챔버(20) 간을 이동 가능하고, 제2셔틀(300b)은 약액챔버(30) 간을 이동 가능하며, 제3셔틀(300c)은 건조챔버(40)와 반출챔버(50) 간을 이동 가능할 수 있다.
이와 달리 반입챔버(10), 브러쉬챔버(20), 약액챔버(30), 건조챔버(40), 그리고 반출챔버(50) 각각에는 셔틀이 제공될 수 있다.
또한 승강부재(366)는 프레임(370)의 일측을 승강시키지 않고, 베이스(340)의 일측을 승강시켜 반송샤프트(362)를 경사위치와 수평위치로 이동시킬 수 있다.
100: 챔버 200: 세정유닛
300a: 제1셔틀 300b: 제2셔틀
340: 베이스 360: 기판반송부재
362: 반송샤프트들 370: 프레임

Claims (11)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1챔버와;
    제1방향을 따라 상기 제1챔버와 나란하게 배열되는 제2챔버와;
    상기 제1챔버 내에서 기판을 반송하는 제1셔틀과;
    상기 제2챔버 내에서 기판을 반송하는 제2셔틀과;
    상기 제1셔틀 및 상기 제2셔틀을 제어하는 제어기를 포함하되,
    상기 제1셔틀 및 상기 제2셔틀 각각은
    베이스와;
    상기 베이스를 상기 제1방향으로 반송하는 베이스구동부재와;
    상기 베이스에 고정결합되고, 기판을 상기 제1방향으로 반송하는 기판반송부재를 포함하되,
    상기 기판반송부재는
    상기 제1방향을 따라 복수 개가 나란히 배열되고, 길이방향이 상기 제1방향과 수직한 제2방향을 향하는 반송샤프트들과;
    상기 반송샤프트들의 양단을 지지하고, 상기 베이스에 결합되는 프레임과;
    기판이 상기 제1방향으로 반송되도록 상기 반송샤프트를 회전시키는 샤프트구동기를 포함하되,
    상기 제어기는 상기 샤프트구동기와 상기 베이스구동부재 중 어느 하나만 구동되도록 상기 제1셔틀 및 상기 제2셔틀을 제어하고,
    상기 제어기는 상기 제1챔버의 내부에서, 그리고 상기 제2챔버의 내부에서 기판을 반송할 때에 상기 베이스구동 부재를 구동하고,
    상기 제어기는 상기 제1챔버에서 상기 제2챔버로 기판을 반송할 때에 상기 샤프트구동기를 구동하는 기판처리장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 기판반송부재는
    상기 반송샤프트들의 양단의 높이가 서로 상이하도록 상기 반송샤프트들의 일단을 상하 이동시키는 승강부재와;
    상기 반송샤프트들에 지지된 기판의 측부를 지지하는 가이드롤러를 포함하는 기판처리장치.
  6. 제4항 또는 제5항에 있어서,
    상기 베이스구동부재는,
    길이방향이 상기 제1방향을 향하는 레일과;
    상기 베이스가 제1방향으로 반송되도록 상기 레일을 구동하는 베이스구동기를 포함하는 기판처리장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 레일은 상기 제1챔버 및 상기 제2챔버의 외측에 위치되고,
    상기 제1챔버 및 상기 제2챔버 각각에는 측벽에 슬릿 형상의 홀들이 형성되며,
    상기 베이스의 가장자리는 상기 홀들을 관통하도록 제공되는 기판처리장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제1셔틀의 레일은 상기 제1챔버의 전단에서 후단까지 제공되고,
    상기 제2셔틀의 레일은 상기 제2챔버의 전단에서 후단까지 제공되는 기판처리장치.
  9. 제6항에 있어서,
    상기 샤프트구동기와 상기 베이스구동기를 제어하는 제어기를 더 포함하되,
    상기 제어기는 상기 샤프트구동기와 상기 베이스구동기 중 어느 하나만 구동되도록 제어하는 기판처리장치.
  10. 제7항에 있어서,
    상기 제1챔버는 복수 개로 제공되며 상기 제1방향을 따라 서로 간에 인접하게 위치되고,
    상기 제2챔버는 복수 개로 제공되며, 상기 제1방향을 따라 서로 간에 인접하게 위치되는 기판처리장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 제1챔버의 수와 상기 제2챔버의 수는 서로 상이하게 제공되는 기판처리장치.
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JP2007158005A (ja) * 2005-12-05 2007-06-21 Tokyo Electron Ltd 基板搬送装置及び基板処理装置

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