JP2006024696A - 洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】搬送ローラから被洗浄物へと汚れが転移することがない洗浄装置を提供する。
【解決手段】板状被洗浄物1は、各搬送ローラ3により搬送されつつ、まず各シャワーノズル4により洗浄され、引き続いて超音波洗浄装置5により洗浄され、再び各シャワーノズル6により洗浄され、この後に各エアナイフ7により乾燥される。また、各搬送ローラ3の下側にそれぞれの受け皿21を設け、各受け皿21に洗浄液を溜めて、各搬送ローラ3をそれぞれの受け皿21の洗浄液に浸し、各受け皿21の洗浄液により各搬送ローラ3を洗浄している。
【選択図】図1
【解決手段】板状被洗浄物1は、各搬送ローラ3により搬送されつつ、まず各シャワーノズル4により洗浄され、引き続いて超音波洗浄装置5により洗浄され、再び各シャワーノズル6により洗浄され、この後に各エアナイフ7により乾燥される。また、各搬送ローラ3の下側にそれぞれの受け皿21を設け、各受け皿21に洗浄液を溜めて、各搬送ローラ3をそれぞれの受け皿21の洗浄液に浸し、各受け皿21の洗浄液により各搬送ローラ3を洗浄している。
【選択図】図1
Description
本発明は、液晶パネル、液晶表示装置用のガラス、ICウエハ等の被洗浄物を洗浄する洗浄装置に関する。
洗浄装置としては、被洗浄物の搬送経路に沿って複数の搬送ローラを配置し、各搬送ローラにより被洗浄物を搬送しつつ、洗浄液により被洗浄物を洗浄するというものがある。特に、被洗浄物が、液晶パネル、液晶表示装置用のガラス、ICウエハ等の板状のものである場合は、各搬送ローラによる搬送を適用することが多い。
ところで、液晶パネル、液晶表示装置用のガラス、ICウエハ等の被洗浄物は、僅かな汚れであっても不良となる。このため、各搬送ローラが汚れていると、各搬送ローラから被洗浄物へと僅かでも汚れが転移すると、液晶パネル、液晶表示装置用のガラス、ICウエハ等にとっては問題視される。
そこで、例えば特許文献1では、各搬送ローラにより板状パネルの端部のみを支持して、板状パネルを搬送し、これにより搬送ローラの汚れが板状パネル中央部には転移しない様にしている。また、板状パネルの端部のみを支持していることから、板状パネルがその自重により下方に撓み易く、このために下方から板状パネル中央部へと洗浄液を噴射して、板状パネル中央部に上向きの力を加え、これにより板状パネルの撓みを防止している。
特開平9−141192号公報
しかしながら、特許文献1の様に下方から板状パネル中央部へと洗浄液を噴射して、板状パネルの撓みを防止するには、多量の洗浄液を必要とするので、コストの上昇を招いた。また、乾燥後の板状パネルには、適用することができなかった。
更に、各搬送ローラにより板状パネルの端部を支持することから、各搬送ローラの汚れが板状パネルの端部には付着する。このため、複数の板状パネルを積層収容した場合は、上側の板状パネルの端部の汚れが飛散して下側の板状パネル表面に撒き散らされ、下側の板状パネル表面が汚染されることがあった。このため、例えば液晶パネル、液晶表示装置用のガラス、ICウエハ等の場合は、レジストパターン形成時の露光が不良となって、パターン不良が発生し、歩留まりが低下した。
そこで、本発明は、上記従来の問題に鑑みてなされたものであり、搬送ローラから被洗浄物へと汚れが転移することがない洗浄装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明は、複数の搬送ローラにより被洗浄物を搬送しつつ、洗浄液により被洗浄物を洗浄する洗浄装置において、各搬送ローラを洗浄する搬送ローラ洗浄手段を備えている。
また、本発明においては、搬送ローラ洗浄手段は、洗浄液を溜めて、搬送ローラを洗浄液に浸す受け皿である。
更に、本発明においては、受け皿の側部もしくは底部に、小孔を形成している。
また、本発明においては、受け皿の側部もしくは底部に、スリットを形成している。
更に、本発明においては、受け皿を傾斜させている。
また、本発明においては、受け皿の縁に、洗浄液を受けて該受け皿に導く洗浄液収集片を設けている。
更に、本発明においては、搬送ローラを乾燥させる乾燥手段を備えている。
また、本発明においては、搬送ローラ洗浄手段は、搬送ローラに洗浄液を噴射している。
本発明の洗浄装置によれば、各搬送ローラを洗浄する搬送ローラ洗浄手段を備えている。このため、各搬送ローラにより被洗浄物を搬送しつつ、洗浄液により被洗浄物を洗浄しているときには、各搬送ローラも洗浄され、各搬送ローラが汚れず、各搬送ローラの汚れが被洗浄物に転移することもない。従って、各搬送ローラにより被洗浄物の全体を支持しても差し支えなく、被洗浄物がその自重により下方に撓むことがなく、被洗浄物の撓みを防止するための格別な機構が必要とされない。
搬送ローラ洗浄手段は、例えば洗浄液を溜めて、搬送ローラを洗浄液に浸す受け皿である。この場合は、被洗浄物の洗浄液が受け皿に溜まる様に、該受け皿を配置すれば良く、簡単な構成でありながら、絶大な効果を達成することができる。
受け皿の側部もしくは底部に、小孔やスリットを形成すれば、受け皿の洗浄液を小孔やスリットを通じて徐々に流出させて、受け皿の洗浄液の滞留を防止し、洗浄液のバクテリアの発生並びに繁殖を抑制することができる。これにより、受け皿による搬送ローラの洗浄能力が維持される。
あるいは、受け皿を傾斜させても、受け皿の洗浄液を徐々に流出させて、受け皿の洗浄液の滞留を防止し、洗浄液のバクテリアの発生並びに繁殖を抑制することができる。
また、受け皿の縁に、洗浄液を受けて該受け皿に導く洗浄液収集片を設けている。このため、より多くの洗浄液を受け皿に導くことができ、受け皿による搬送ローラの洗浄能力が高められ、また受け皿の洗浄液の滞留が防止されて、洗浄液のバクテリアの発生並びに繁殖が抑制される。
更に、搬送ローラを乾燥させる乾燥手段を備えている。各搬送ローラを被洗浄物に接触する直前に乾燥させておけば、被洗浄物を乾燥してからも、被洗浄物を汚さずに、各搬送ローラにより被洗浄物を搬送することができる。
また、搬送ローラ洗浄手段は、搬送ローラに洗浄液を噴射するので、搬送ローラの汚れをより確実に除去することができる。
以下、本発明の実施形態を添付図面を参照しつつ詳細に説明する。
図1は、本発明の洗浄装置の実施例1を示す側面図である。この洗浄装置は、液晶パネル、液晶表示装置用のガラス、ICウエハ等の板状被洗浄物1を洗浄するためのものであり、洗浄槽2内で被洗浄物1を搬送しつつ洗浄液により洗浄する。
この洗浄装置の洗浄槽2においては、複数の搬送ローラ3を順次配列し、板状被洗浄物1を各搬送ローラ3に載せ、各搬送ローラ3を矢印A方向に回転させて、板状被洗浄物1を矢印B方向に搬送している。また、各搬送ローラ3による板状被洗浄物1の搬送経路に沿って、各シャワーノズル4、超音波洗浄装置5、各シャワーノズル6、及び各エアナイフ7を順次配置している。
洗浄槽2の底面に排水配管11を設け、この排水配管11を経由して、洗浄液タンク12に洗浄液を溜めている。洗浄液タンク12の洗浄液は、ポンプ13に導かれる。ポンプ13は、洗浄液をフィルター15及び洗浄液供給パイプ14を通じて各シャワーノズル4、超音波洗浄装置5、及び各シャワーノズル6へと圧送する。
各シャワーノズル4は、板状被洗浄物1の搬送経路の上下に分散配置されており、ポンプ13から圧送されてきた洗浄液を板状被洗浄物1の表裏に噴射して、板状被洗浄物1の表裏を洗浄する。
超音波洗浄装置5は、板状被洗浄物1の搬送経路の上方に配置されており、ポンプ13から圧送されてきた洗浄液を板状被洗浄物1の表裏に噴射しつつ超音波を発して、板状被洗浄物1の表を超音波洗浄する。
各シャワーノズル6も、各シャワーノズル4と同様に、板状被洗浄物1の搬送経路の上下に分散配置されており、ポンプ13から圧送されてきた洗浄液を板状被洗浄物1の表裏に噴射して、板状被洗浄物1の表裏を洗浄する。
更に、各エアナイフ7は、板状被洗浄物1の搬送経路の上下に分けて配置されており、エアーポンプ(図示せず)から圧縮空気を供給され、この圧縮空気を板状被洗浄物1の表裏に噴射して、板状被洗浄物1の表裏の洗浄液を吹き飛ばし、板状被洗浄物1を乾燥させる。
従って、板状被洗浄物1は、各搬送ローラ3により搬送されつつ、まず各シャワーノズル4により洗浄され、引き続いて超音波洗浄装置5により洗浄され、更に各シャワーノズル6により洗浄され、この後に各エアナイフ7により乾燥される。
こうして洗浄され乾燥された板状被洗浄物1は、ロボット(図示せず)等により洗浄槽2から持ち出される。
尚、各シャワーノズル4、6、及び超音波洗浄装置5の代わりに、高圧スプレーやスリットシャワー等を用いても良い。
ところで、板状被洗浄物1は、液晶パネル、液晶表示装置用のガラス、ICウエハ等であることから、僅かな汚れであっても不良となる。このため、仮に各搬送ローラ3が汚れていると、各搬送ローラ3の汚れが板状被洗浄物1に転移して、板状被洗浄物1が汚染されてしまい、板状被洗浄物1の歩留まりが低下する。
そこで、本実施例の洗浄装置では、各搬送ローラ3の下側にそれぞれの受け皿21を設け、各受け皿21に洗浄液を溜めて、各搬送ローラ3をそれぞれの受け皿21の洗浄液に浸し、各受け皿21の洗浄液により各搬送ローラ3を洗浄している。
各受け皿21は、図2(a)、(b)の平面図及び側面図に示す様に受け皿21本体の縁に洗浄液収集片22を突設したものである。これらの受け皿21は、各搬送ローラ3下側に配置されているので、板状被洗浄物1から垂れ落ちた洗浄液を受けて溜めることができる。また、洗浄液収集片22は、各搬送ローラ3の矢印A方向の回転に伴い、各搬送ローラ3の周面に流れる多くの洗浄液を受け止めて受け皿21へと導く。これにより、各受け皿21には多くの洗浄液が流れ込んで溜まる。
各搬送ローラ3は、回転しているので、それぞれの受け皿21の洗浄液により該各搬送ローラ3の周面を均一に洗浄され、それらの周面の汚れを除去される。
この様に各受け皿21の洗浄液により各搬送ローラ3を洗浄すれば、各搬送ローラ3が汚れず、各搬送ローラ3の汚れが板状被洗浄物1に転移することもなく、板状被洗浄物1の歩留まりが向上する。
図3は、各受け皿21を設けない状態と各受け皿21を設けた状態とで、洗浄済みの板状被洗浄物1表面の汚染程度をそれぞれ調べて示す実験データである。詳しくは、各受け皿21を設けない状態、及び各受け皿21を設けた状態別に、多数の板状被洗浄物1を順次洗浄して行き、洗浄された11枚目の板状被洗浄物1表面に付着していた10μm以上の異物の個数、及び洗浄された1001枚目の板状被洗浄物1表面に付着していた10μm以上の異物の個数を計測している。
この実験データから明らかな様に各受け皿21を設けない状態では、板状被洗浄物1表面に付着していた異物の個数が多い。また、洗浄液が徐々に汚れるので、板状被洗浄物1の洗浄枚数が多くなる程、板状被洗浄物1表面に付着していた異物の個数が多くなる。
また、各受け皿21を設けた状態では、板状被洗浄物1表面に付着していた異物の個数が少なく、板状被洗浄物1の洗浄枚数が多くなっても、板状被洗浄物1表面に付着していた異物の個数が殆ど変化しない。
従って、各受け皿21を設けたことにより、板状被洗浄物1の洗浄能力が飛躍的に向上し、この洗浄能力が維持され続けると言える。
一方、各受け皿21に洗浄液が滞留してしまうと、各受け皿21の洗浄液にバクテリアが発生し繁殖する可能性がある。このため、図2(a)、(b)に示す様に受け皿21の底に2つの小孔21aを形成し、受け皿21の洗浄液を該受け皿21の底の各小孔21aから流出させて、受け皿21の洗浄液の滞留を防止し、洗浄液にバクテリアが発生しない様にしている。
受け皿21へと導き入れられる洗浄液の流量が、受け皿21の底の各小孔21aから流出する洗浄液の流量以上になる様に、各小孔21aのサイズを決定する。例えば、受け皿21の洗浄液のレベルが低くなり過ぎて、搬送ローラ3が洗浄液に浸らなければ、受け皿21の底の各小孔21aを小さくする。
あるいは、1本の支軸3a当たりの搬送ローラ3の個数と、板状被洗浄物1に対する洗浄液の噴出量とに応じて、受け皿21の底の各小孔21aのサイズを決定する。例えば、1本の支軸3a当たりの搬送ローラ3の個数が4個であり、板状被洗浄物1の1m2当たりに対する洗浄液の噴出量が20リットル/分である場合は、各小孔21aをφ5mm以下に設定すると、受け皿21に適量の洗浄液が溜まり、各小孔21aをφ1mmに設定したときに最適量の洗浄液が溜まった。
更に、受け皿21の洗浄液収集片22を広くする程、受け皿21へと導き入れられる洗浄液の流量が多くなる。これに伴い、受け皿21の底の各小孔21aを大きくして、各小孔21aから流出する洗浄液の流量を多くすることができる。これにより、受け皿21の洗浄液が効率的に循環され、バクテリアが発生し難くなる。ただし、受け皿21の洗浄液収集片22を広くし過ぎると、洗浄装置全体における洗浄液の循環経路が塞がれて、洗浄装置全体での洗浄液の循環効率が低下するので、受け皿21の洗浄液収集片22の広さを適宜に設定する必要がある。
受け皿21の底に各小孔21aを形成する代わりに、図4(a)、(b)の平面図及び正面図に示す様に受け皿21Aの側壁にスリット21bを形成し、受け皿21Aの洗浄液をスリット21bから流出させても良い。この場合は、スリット21bの幅xや長さ等を変更することにより、スリット21bから流出する洗浄液の流量を調節することができる。
例えば、1本の支軸3a当たりの搬送ローラ3の個数が4個であり、板状被洗浄物1の1m2りに対する洗浄液の噴出量が20リットル/分である場合は、スリット21bの幅xを3mm以下に設定すると、受け皿21Aに適量の洗浄液が溜まり、幅xを0.2mmに設定したときに最適量の洗浄液が溜まった。
尚、小孔21a及びスリット21bの位置は、受け皿21の底や側壁のいずれでも良く、その位置に応じたサイズに設定すれば良い。
受け皿21の各小孔21aや受け皿21Aのスリット21bを形成せず、この代わりに、図5に示す様に各受け皿21Bを水平に対して10度程傾斜させて、各受け皿21Bの洗浄液を流出させても良い。この場合は、各受け皿21Bの傾斜角度が大きくなる程、各受け皿21Bから洗浄液が流出し易くなる。
図6は、受け皿に小孔やスリットを形成したり、受け皿を傾斜させたりして、受け皿の洗浄液の循環効率を向上させた状態、及び受け皿の洗浄液の循環効率を向上させなかった状態別に、10日後と20日後で受け皿の洗浄液のバクテリアの発生有無をそれぞれ調べて示す実験データである。
この実験データから明らかな様に受け皿の洗浄液の循環効率を向上させた状態では、少なくとも10日間はバクテリアが発生しない。また、受け皿の小孔の数を多くしたり、受け皿の傾斜角を大きくして、洗浄液の循環効率をより高めると、20日まではバクテリアが発生しない。これに対して受け皿の洗浄液の循環効率を向上させなかった状態では、10日間でバクテリアが発生する。
尚、本発明は、上記実施例に限定されるものではなく、多様に変形することができる。
例えば、板状被洗浄物1を洗浄し乾燥させた後で、各搬送ローラ3により板状被洗浄物1を搬送する場合は、板状被洗浄物1から垂れ落ちた洗浄液を受け皿21に受けて溜めることができない。そこで、図7に示す様にそれぞれの洗浄液供給パイプ23を通じて各受け皿21へと洗浄液を供給し、各受け皿21に洗浄液を溜めて、各受け皿21の洗浄液により各搬送ローラ3を洗浄する。また、搬送ローラ3を矢印A方向に回転させるならば、受け皿21よりも矢印A方向下流側で、かつ搬送ローラ3と板状被洗浄物1の接触箇所よりも矢印A方向上流側で、乾燥機24から搬送ローラ3の周面部分へと空気を吹き付けて、搬送ローラ3の周面部分を乾燥させ、搬送ローラ3の乾燥した周面部分を板状被洗浄物1に接触させ、これにより洗浄液が板状被洗浄物1に付着しない様にする。
搬送ローラ3の周面部分の乾燥方法としては、乾燥機24からの空気の吹き付けだけではなく、他に、搬送ローラ3の周面部分に付着している洗浄液を吸引したり、搬送ローラ3の周面部分に付着している洗浄液を布やゴム等により擦り取ったり、これらを複合して用いたりする方法等がある。
また、各搬送ローラ3をそれぞれの受け皿21の洗浄液に浸す代わりに、図8に示す様にそれぞれのシャワーノズル25から各搬送ローラ3へと洗浄液を噴射することにより、各搬送ローラ3を洗浄しても良い。
更に、本発明は、板状被洗浄物1表面の異物の除去だけではなく、有機膜状汚染物の除去、イオン性汚染物の除去、レジスト膜の剥離、金属エッチングやガラスエッチングの残留物の除去等にも適用することができる。
1 板状被洗浄物
2 洗浄槽
3 搬送ローラ
4、6、25 シャワーノズル
5 超音波洗浄装置
7 エアナイフ
11 ホッパー
12 フィルター
13 ポンプ
14、23 洗浄液供給パイプ
21 受け皿
22 洗浄液収集片
24 乾燥機
2 洗浄槽
3 搬送ローラ
4、6、25 シャワーノズル
5 超音波洗浄装置
7 エアナイフ
11 ホッパー
12 フィルター
13 ポンプ
14、23 洗浄液供給パイプ
21 受け皿
22 洗浄液収集片
24 乾燥機
Claims (8)
- 複数の搬送ローラにより被洗浄物を搬送しつつ、洗浄液により被洗浄物を洗浄する洗浄装置において、
各搬送ローラを洗浄する搬送ローラ洗浄手段を備えることを特徴とする洗浄装置。 - 搬送ローラ洗浄手段は、洗浄液を溜めて、搬送ローラを洗浄液に浸す受け皿であることを特徴とする請求項1に記載の洗浄装置。
- 受け皿の側部もしくは底部に、小孔を形成したことを特徴とする請求項2に記載の洗浄装置。
- 受け皿の側部もしくは底部に、スリットを形成したことを特徴とする請求項2に記載の洗浄装置。
- 受け皿を傾斜させたことを特徴とする請求項2に記載の洗浄装置。
- 受け皿の縁に、洗浄液を受けて該受け皿に導く洗浄液収集片を設けたことを特徴とする請求項2に記載の洗浄装置。
- 搬送ローラを乾燥させる乾燥手段を備えることを特徴とする請求項2に記載の洗浄装置。
- 搬送ローラ洗浄手段は、搬送ローラに洗浄液を噴射することを特徴とする請求項1に記載の洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004200687A JP2006024696A (ja) | 2004-07-07 | 2004-07-07 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004200687A JP2006024696A (ja) | 2004-07-07 | 2004-07-07 | 洗浄装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006024696A true JP2006024696A (ja) | 2006-01-26 |
Family
ID=35797764
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004200687A Pending JP2006024696A (ja) | 2004-07-07 | 2004-07-07 | 洗浄装置 |
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JP (1) | JP2006024696A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020173091A (ja) * | 2020-06-25 | 2020-10-22 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板処理装置 |
-
2004
- 2004-07-07 JP JP2004200687A patent/JP2006024696A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020173091A (ja) * | 2020-06-25 | 2020-10-22 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板処理装置 |
JP7055839B2 (ja) | 2020-06-25 | 2022-04-18 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板処理装置 |
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