JPH07328573A - 洗浄方法及び洗浄装置 - Google Patents
洗浄方法及び洗浄装置Info
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- JPH07328573A JPH07328573A JP15163794A JP15163794A JPH07328573A JP H07328573 A JPH07328573 A JP H07328573A JP 15163794 A JP15163794 A JP 15163794A JP 15163794 A JP15163794 A JP 15163794A JP H07328573 A JPH07328573 A JP H07328573A
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- cleaned
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 片面を特に再汚染することなく水平移動によ
り両面洗浄可能なメガソニック洗浄装置を提供する。 【構成】 洗浄槽１１には洗浄液１７が満杯にされてお
り、リザーブタンク１８には回収した洗浄液２４が所定
液面に入っている。パイプ１９、２０、ポンプ２１で洗
浄液１７を循環させると、洗浄液１７はオーバーフロー
層１７ｃを形成してオーバーフロー槽１５、１６へ溢れ
出る。この状態で、搬送ローラ１４でガラス板等の被洗
浄物１２をオーバーフロー層１７ｃ内を貫くように水平
移動させる。被洗浄物１２がメガソニック振動子１３の
上を通過すると、メガソニックは被浄物１２を透過して
オーバーフロー面１７ｄに達する。被洗浄物１２の両面
がメガソニック洗浄され、特に搬送ローラ１４に接しな
い被洗浄物１２の上面は、搬送ローラ１４で再汚染され
ることなく洗浄される。
り両面洗浄可能なメガソニック洗浄装置を提供する。 【構成】 洗浄槽１１には洗浄液１７が満杯にされてお
り、リザーブタンク１８には回収した洗浄液２４が所定
液面に入っている。パイプ１９、２０、ポンプ２１で洗
浄液１７を循環させると、洗浄液１７はオーバーフロー
層１７ｃを形成してオーバーフロー槽１５、１６へ溢れ
出る。この状態で、搬送ローラ１４でガラス板等の被洗
浄物１２をオーバーフロー層１７ｃ内を貫くように水平
移動させる。被洗浄物１２がメガソニック振動子１３の
上を通過すると、メガソニックは被浄物１２を透過して
オーバーフロー面１７ｄに達する。被洗浄物１２の両面
がメガソニック洗浄され、特に搬送ローラ１４に接しな
い被洗浄物１２の上面は、搬送ローラ１４で再汚染され
ることなく洗浄される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄装置、特に半導体
基板や太陽電池基板、液晶やプラズマ表示装置等の平板
表示装置を構成するガラス基板の洗浄に適用して好適な
洗浄方法及び装置に関する。
基板や太陽電池基板、液晶やプラズマ表示装置等の平板
表示装置を構成するガラス基板の洗浄に適用して好適な
洗浄方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置を構成するガラス基板の洗
浄方法として、一般に、洗浄籠の中に１０〜２０枚のガ
ラス基板をセットして洗浄するバッチ方式とガラス基板
を一枚ずつ搬送しながら洗浄する枚葉方式が知られてい
る。
浄方法として、一般に、洗浄籠の中に１０〜２０枚のガ
ラス基板をセットして洗浄するバッチ方式とガラス基板
を一枚ずつ搬送しながら洗浄する枚葉方式が知られてい
る。
【０００３】そして、前記各洗浄方式を採用するに当た
り、その洗浄方法として、粗洗浄を行うブラシ洗浄方
法、ミクロンオーダーの汚れを取り除く超音波洗浄方法
が知られている。前記ブラシ洗浄は、ガラス基板の上下
に洗剤や純水を当てながらロールブラシ又はディスクブ
ラシでこすり、汚れを取り除く方法である。このブラシ
洗浄方法は、比較的激しい汚れや、ミクロンオーダーあ
るいはそれ以上の大きさの汚れに有効な方法である。
り、その洗浄方法として、粗洗浄を行うブラシ洗浄方
法、ミクロンオーダーの汚れを取り除く超音波洗浄方法
が知られている。前記ブラシ洗浄は、ガラス基板の上下
に洗剤や純水を当てながらロールブラシ又はディスクブ
ラシでこすり、汚れを取り除く方法である。このブラシ
洗浄方法は、比較的激しい汚れや、ミクロンオーダーあ
るいはそれ以上の大きさの汚れに有効な方法である。
【０００４】このブラシ洗浄を前記枚葉方式に適用した
枚葉洗浄装置においては、ガラスを搬送している途中で
両面からブラシを当てるが、接触圧力により洗浄中にガ
ラス表面に損傷を与えることがあり、この損傷を防止す
るために、汚染状態によりブラシの材質、接触速度、接
触圧などガラス基板への損傷を考えて最適の条件を捜し
出さなければならないという煩わしさがある。
枚葉洗浄装置においては、ガラスを搬送している途中で
両面からブラシを当てるが、接触圧力により洗浄中にガ
ラス表面に損傷を与えることがあり、この損傷を防止す
るために、汚染状態によりブラシの材質、接触速度、接
触圧などガラス基板への損傷を考えて最適の条件を捜し
出さなければならないという煩わしさがある。
【０００５】一方、超音波洗浄方式においては、汚れの
大きさによって被洗浄物に照射する周波数を選択して使
用する。一般に超音波振動子を洗浄槽等の貯槽の底部に
配置し、ミクロンオーダーの汚れには、１５ｋＨｚ以上
２００ｋＨｚの未満の周波数の超音波を利用し、サブミ
クロンオーダーの汚れには０．２ＭＨｚ以上５ＭＨｚ以
下の周波数の高周波超音波（メガソニック）を利用す
る。
大きさによって被洗浄物に照射する周波数を選択して使
用する。一般に超音波振動子を洗浄槽等の貯槽の底部に
配置し、ミクロンオーダーの汚れには、１５ｋＨｚ以上
２００ｋＨｚの未満の周波数の超音波を利用し、サブミ
クロンオーダーの汚れには０．２ＭＨｚ以上５ＭＨｚ以
下の周波数の高周波超音波（メガソニック）を利用す
る。
【０００６】特に、後者の周波数の高い高周波超音波
（以下、メガソニックという。）を利用する洗浄方法と
して、サブミクロンオーダーの汚れを除去するために、
特に指向性の強い前記メガソニックを利用したメガソニ
ック洗浄方法として知られている。
（以下、メガソニックという。）を利用する洗浄方法と
して、サブミクロンオーダーの汚れを除去するために、
特に指向性の強い前記メガソニックを利用したメガソニ
ック洗浄方法として知られている。
【０００７】このメガソニック洗浄方法は、従来の超音
波洗浄がキャビテーション効果や定在波の発生で損傷が
起こりやすいという欠点があったため、この欠点を避け
るために開発された洗浄方法で、振動加速度によってサ
ブミクロンオーダーの汚染物を損傷なく除去する方法で
ある。前記メガソニック洗浄方法として、槽型メガソニ
ック洗浄と面シャワー型メガソニック洗浄が知られてい
る。
波洗浄がキャビテーション効果や定在波の発生で損傷が
起こりやすいという欠点があったため、この欠点を避け
るために開発された洗浄方法で、振動加速度によってサ
ブミクロンオーダーの汚染物を損傷なく除去する方法で
ある。前記メガソニック洗浄方法として、槽型メガソニ
ック洗浄と面シャワー型メガソニック洗浄が知られてい
る。
【０００８】槽型メガソニック洗浄は、図３の（Ａ）、
図３の（Ｂ）に模式的に示すように、洗浄槽１の側面又
は底側にメガソニック振動子２、３を取り付け、洗浄槽
１の中に洗浄液４を入れ、被洗浄物５、例えば半導体ウ
エハを図示しないウエハホルダーに、メガソニックの進
行方向に対し、その面が平行になるように固定し、前記
メガソニック振動子２、３から洗浄液４中にメガソニッ
クを照射してウエハ５の両面を洗浄する。前記メガソニ
ック洗浄方法として、例えば、米国特許第３８９３８６
９号明細書、特開昭６３ー３６５３４号公報に記載され
た発明等が知られている。
図３の（Ｂ）に模式的に示すように、洗浄槽１の側面又
は底側にメガソニック振動子２、３を取り付け、洗浄槽
１の中に洗浄液４を入れ、被洗浄物５、例えば半導体ウ
エハを図示しないウエハホルダーに、メガソニックの進
行方向に対し、その面が平行になるように固定し、前記
メガソニック振動子２、３から洗浄液４中にメガソニッ
クを照射してウエハ５の両面を洗浄する。前記メガソニ
ック洗浄方法として、例えば、米国特許第３８９３８６
９号明細書、特開昭６３ー３６５３４号公報に記載され
た発明等が知られている。
【０００９】一方、面シャワー型メガソニック洗浄とし
て、図３の（Ｃ）に模式的に示すように、例えば、ガラ
ス基板６を搬送ローラ７で搬送しながら、スリットノズ
ル９から洗浄液１０をシャワー状に吹き出し、これにメ
ガソニック振動子８が発生するメガソニックを乗せてガ
ラス基板６を片面ずつ洗浄する方法が知られている（原
理的方法として米国特許第４３２６５５３号明細書）。
て、図３の（Ｃ）に模式的に示すように、例えば、ガラ
ス基板６を搬送ローラ７で搬送しながら、スリットノズ
ル９から洗浄液１０をシャワー状に吹き出し、これにメ
ガソニック振動子８が発生するメガソニックを乗せてガ
ラス基板６を片面ずつ洗浄する方法が知られている（原
理的方法として米国特許第４３２６５５３号明細書）。
【００１０】ところで、前記槽型メガソニック洗浄は、
被洗浄物５をメガソニック進行方向に平行に配置するた
め、被洗浄物両面の洗浄及びバッチ処理には適している
が、被洗浄物を連続搬送して洗浄する場合、ホルダーや
チャックの影響などにより被洗浄物全面を一様に洗浄す
るためにはホルダーに特別の工夫を施さなければなら
ず、また、ホルダーやチャックによる再汚染にも繋が
る。
被洗浄物５をメガソニック進行方向に平行に配置するた
め、被洗浄物両面の洗浄及びバッチ処理には適している
が、被洗浄物を連続搬送して洗浄する場合、ホルダーや
チャックの影響などにより被洗浄物全面を一様に洗浄す
るためにはホルダーに特別の工夫を施さなければなら
ず、また、ホルダーやチャックによる再汚染にも繋が
る。
【００１１】一方、面シャワー型メガソニック方式は、
連続搬送により洗浄することは可能であるが、洗浄液１
０は被洗浄物６の片面にしか吹き出さないため、両面の
洗浄を必要とする被洗浄物を洗浄する場合は、一個の被
洗浄物に対して２回行わなければならず、その作業工程
に被洗浄物の反転等の工程を用意せざるを得ず、必ずし
も効率的にならない。また、洗浄液１０で被洗浄物６を
局部的にシャワーする時間が短く、被洗浄物全体の洗浄
効果を高めるには多大の時間を要することになる。さら
に、前記反転工程において洗浄の終了した面が搬送装置
に接触することになり、サブミクロン単位の汚れを除い
ても、汚れが再付着する可能性が大きくなる。
連続搬送により洗浄することは可能であるが、洗浄液１
０は被洗浄物６の片面にしか吹き出さないため、両面の
洗浄を必要とする被洗浄物を洗浄する場合は、一個の被
洗浄物に対して２回行わなければならず、その作業工程
に被洗浄物の反転等の工程を用意せざるを得ず、必ずし
も効率的にならない。また、洗浄液１０で被洗浄物６を
局部的にシャワーする時間が短く、被洗浄物全体の洗浄
効果を高めるには多大の時間を要することになる。さら
に、前記反転工程において洗浄の終了した面が搬送装置
に接触することになり、サブミクロン単位の汚れを除い
ても、汚れが再付着する可能性が大きくなる。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、メガソニッ
ク又は超音波洗浄方法における前記問題点に鑑み、連続
搬送方式を採用して好適なメガソニック又は超音波洗浄
方法及び装置を提供することを目的とする。特に、液晶
表示装置を構成するガラス基板等のように、特に片面を
精密に洗浄したい場合、洗浄中に搬送手段によって片面
が全く汚染されることがなく精密に洗浄できる洗浄方法
及び洗浄装置を提供するものである。
ク又は超音波洗浄方法における前記問題点に鑑み、連続
搬送方式を採用して好適なメガソニック又は超音波洗浄
方法及び装置を提供することを目的とする。特に、液晶
表示装置を構成するガラス基板等のように、特に片面を
精密に洗浄したい場合、洗浄中に搬送手段によって片面
が全く汚染されることがなく精密に洗浄できる洗浄方法
及び洗浄装置を提供するものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明洗浄方法は、液面
上部にオーバーフロー層を形成し、該オーバーフロー層
を貫通して板状の被洗浄物を水平に搬送し、前記被洗浄
物の下面に向けて０．２ＭＨｚ以上５ＭＨｚ以下の高周
波超音波や１５ｋＨｚ以上２００ｋＨｚ未満の超音波を
照射して前記被洗浄物の上下面を同時に洗浄することを
特徴とする。
上部にオーバーフロー層を形成し、該オーバーフロー層
を貫通して板状の被洗浄物を水平に搬送し、前記被洗浄
物の下面に向けて０．２ＭＨｚ以上５ＭＨｚ以下の高周
波超音波や１５ｋＨｚ以上２００ｋＨｚ未満の超音波を
照射して前記被洗浄物の上下面を同時に洗浄することを
特徴とする。
【００１４】本発明洗浄装置は、洗浄液を満たした洗浄
槽と、被洗浄物搬送方向の洗浄層の前後に設けたオーバ
ーフロー槽と、被洗浄物を水平に搬送する搬送手段と、
前記オーバーフロー槽からオーバーフロー液を回収貯留
するリザーブタンクと、前記洗浄槽、前記オーバーフロ
ー槽、及び前記リザーブタンク間で洗浄液を循環させる
ための洗浄液循環手段と、前記被洗浄物の下面へ向けて
０．２ＭＨｚ以上５ＭＨｚ以下の高周波超音波を照射す
る少なくとも一つの高周波超音波照射手段や１５ｋＨｚ
以上２００ｋＨｚ未満の超音波を照射する少なくとも一
つの超音波照射手段とを備えることを特徴とする。ま
た、リザーブタンクを省いて洗浄液を循環させても良
い。
槽と、被洗浄物搬送方向の洗浄層の前後に設けたオーバ
ーフロー槽と、被洗浄物を水平に搬送する搬送手段と、
前記オーバーフロー槽からオーバーフロー液を回収貯留
するリザーブタンクと、前記洗浄槽、前記オーバーフロ
ー槽、及び前記リザーブタンク間で洗浄液を循環させる
ための洗浄液循環手段と、前記被洗浄物の下面へ向けて
０．２ＭＨｚ以上５ＭＨｚ以下の高周波超音波を照射す
る少なくとも一つの高周波超音波照射手段や１５ｋＨｚ
以上２００ｋＨｚ未満の超音波を照射する少なくとも一
つの超音波照射手段とを備えることを特徴とする。ま
た、リザーブタンクを省いて洗浄液を循環させても良
い。
【００１５】
【実施例】前記したように、ガラス基板両面を連続搬送
して効率的にメガソニック方式で洗浄する場合、搬送装
置による再汚染を防止するためには、その構成に困難を
伴うことが多かったが、本発明は簡単な構成で連続搬送
によりガラス板両面を同時にしかも片面は搬送装置に全
く接触することなく洗浄できる方法及び装置を実現する
ために、メガソニック又は超音波を被洗浄物を透過させ
て利用する点に特徴がある。以下実施例に基づいて説明
する。
して効率的にメガソニック方式で洗浄する場合、搬送装
置による再汚染を防止するためには、その構成に困難を
伴うことが多かったが、本発明は簡単な構成で連続搬送
によりガラス板両面を同時にしかも片面は搬送装置に全
く接触することなく洗浄できる方法及び装置を実現する
ために、メガソニック又は超音波を被洗浄物を透過させ
て利用する点に特徴がある。以下実施例に基づいて説明
する。
【００１６】図１は、本発明の基本的構成の模式図を示
している。図１において、１１は純水等の洗浄液１７を
入れる洗浄槽、１２は板状の被洗浄物、１３は前記洗浄
槽１１の底に被洗浄物１２の搬送方向に沿って複数設置
されたメガソニックを発生させるメガソニック振動子、
１４は前記板状の被洗浄物１２を水平に搬送する搬送用
ローラ、１５及び１６は前記洗浄槽１１の被洗浄物搬入
側及び搬出側に設けられたオーバーフロー槽、１７は洗
浄槽１１を満杯にした洗浄液、１８はリザーブタンク、
１９及び２０は洗浄液１７を循環させる循環パイプ、２
１は循環ポンプである。
している。図１において、１１は純水等の洗浄液１７を
入れる洗浄槽、１２は板状の被洗浄物、１３は前記洗浄
槽１１の底に被洗浄物１２の搬送方向に沿って複数設置
されたメガソニックを発生させるメガソニック振動子、
１４は前記板状の被洗浄物１２を水平に搬送する搬送用
ローラ、１５及び１６は前記洗浄槽１１の被洗浄物搬入
側及び搬出側に設けられたオーバーフロー槽、１７は洗
浄槽１１を満杯にした洗浄液、１８はリザーブタンク、
１９及び２０は洗浄液１７を循環させる循環パイプ、２
１は循環ポンプである。
【００１７】以下、前記構成に基づく洗浄装置を利用し
た洗浄方法について説明する。前記洗浄槽１１には満杯
の洗浄液１７、例えば純水が入れられており、また前記
リザーブタンク１８にも所定の液面を保った同一の洗浄
液２４、例えば純水が入れられている。なお、前記洗浄
液１７は洗浄槽１１において図示しないヒータで所定温
度に加熱されている。
た洗浄方法について説明する。前記洗浄槽１１には満杯
の洗浄液１７、例えば純水が入れられており、また前記
リザーブタンク１８にも所定の液面を保った同一の洗浄
液２４、例えば純水が入れられている。なお、前記洗浄
液１７は洗浄槽１１において図示しないヒータで所定温
度に加熱されている。
【００１８】この状態で前記循環ポンプ２１で洗浄液１
７を前記リザーブタンク１８から循環パイプ２０を通し
て前記洗浄槽１１へ供給すると、前記洗浄槽１１の液面
は搬送方向の洗浄槽前後の槽壁（仕切り板）２２、２３
よりも高くなってオーバーフロー面１７ｄを形成し、前
記オーバーフロー槽１５及び１６へ流れ落ちてオーバー
フロー層１７ｃを形成する。特に、前記洗浄槽１１への
供給口１１ａを洗浄槽底の中央において、被洗浄物搬送
方向に対し直角の方向に線状にすると、オーバーフロー
層１７ｃは、洗浄槽１１の液面中央から搬送方向前後に
流れ落ちるようになる。そして、前記流れ落ちた洗浄液
１７ａ及び１７ｂは、前記パイプ１９を通して前記リザ
ーブタンク１８へ回収される。
７を前記リザーブタンク１８から循環パイプ２０を通し
て前記洗浄槽１１へ供給すると、前記洗浄槽１１の液面
は搬送方向の洗浄槽前後の槽壁（仕切り板）２２、２３
よりも高くなってオーバーフロー面１７ｄを形成し、前
記オーバーフロー槽１５及び１６へ流れ落ちてオーバー
フロー層１７ｃを形成する。特に、前記洗浄槽１１への
供給口１１ａを洗浄槽底の中央において、被洗浄物搬送
方向に対し直角の方向に線状にすると、オーバーフロー
層１７ｃは、洗浄槽１１の液面中央から搬送方向前後に
流れ落ちるようになる。そして、前記流れ落ちた洗浄液
１７ａ及び１７ｂは、前記パイプ１９を通して前記リザ
ーブタンク１８へ回収される。
【００１９】このような状態で、被洗浄物１２、例えば
ガラス板を前記搬送ローラ１４で水平に前記オーバーフ
ロー層１７ｃの中を貫通して移送する。
ガラス板を前記搬送ローラ１４で水平に前記オーバーフ
ロー層１７ｃの中を貫通して移送する。
【００２０】一方、複数のメガソニック振動子１３、１
３からは、前記オーバーフロー層１７ｃに向けてメガソ
ニックを照射すると、被洗浄物１２がメガソニックを照
射されたオーバーフロー層１７ｃ内を通過する際、メガ
ソニックは被洗浄物１２を透過して被洗浄物１２の上面
側にも伝達される。そして、被洗浄物１２の下面及び上
面に洗浄液１７のオーバーフロー層１７ｃが存在するた
め、被洗浄物１２の両面を連続搬送しながら洗浄するこ
とが可能となる。この時、被洗浄物１２の上面は、前記
搬送ローラ１２に接触していないため、搬送ローラ１２
による再汚染がなく精密に洗浄することができる。
３からは、前記オーバーフロー層１７ｃに向けてメガソ
ニックを照射すると、被洗浄物１２がメガソニックを照
射されたオーバーフロー層１７ｃ内を通過する際、メガ
ソニックは被洗浄物１２を透過して被洗浄物１２の上面
側にも伝達される。そして、被洗浄物１２の下面及び上
面に洗浄液１７のオーバーフロー層１７ｃが存在するた
め、被洗浄物１２の両面を連続搬送しながら洗浄するこ
とが可能となる。この時、被洗浄物１２の上面は、前記
搬送ローラ１２に接触していないため、搬送ローラ１２
による再汚染がなく精密に洗浄することができる。
【００２１】ところで、メガソニックは、前記通常の超
音波と異なり音波の指向性が強く、さらにそのエネルギ
ーは液深が浅い程大きい。したがって、その流路形状、
被洗浄物１２の下面１２ａまでの距離も制約される。前
記実施例においては、周波数としては９６３ｋＨｚ又は
９６８ｋＨｚのメガソニックを利用し、メガソニック振
動子１３の面からオーバーフロー面１７ｄまでの距離を
１２ｃｍ、メガソニック振動子面から被洗浄物１２の下
面１２ａまでの距離を１０ｃｍとして実施した結果、被
洗浄物１２の下面及び上面の汚れを十分に洗浄除去する
ことができた。
音波と異なり音波の指向性が強く、さらにそのエネルギ
ーは液深が浅い程大きい。したがって、その流路形状、
被洗浄物１２の下面１２ａまでの距離も制約される。前
記実施例においては、周波数としては９６３ｋＨｚ又は
９６８ｋＨｚのメガソニックを利用し、メガソニック振
動子１３の面からオーバーフロー面１７ｄまでの距離を
１２ｃｍ、メガソニック振動子面から被洗浄物１２の下
面１２ａまでの距離を１０ｃｍとして実施した結果、被
洗浄物１２の下面及び上面の汚れを十分に洗浄除去する
ことができた。
【００２２】さらに、メガソニックにより洗浄液表面に
約３ｃｍの盛り上がり１７ｅが生じ、前記オーバーフロ
ー層１７ｃに加えて被洗浄物１２の上面に洗浄液を効果
的に存在させることができるという相乗効果も得られ
る。また、前記洗浄液１７のオーバーフロー層１７ｃ中
を被洗浄物１２を移送しても前記搬送ローラ１４から外
れるという問題もなく、搬送ローラ１４に被洗浄物１２
ａの下面が接触し且つ上面が接触しないで水平に連続搬
送して洗浄でき、洗浄槽出口側から洗浄の終了した被洗
浄物を取り出すことができる。
約３ｃｍの盛り上がり１７ｅが生じ、前記オーバーフロ
ー層１７ｃに加えて被洗浄物１２の上面に洗浄液を効果
的に存在させることができるという相乗効果も得られ
る。また、前記洗浄液１７のオーバーフロー層１７ｃ中
を被洗浄物１２を移送しても前記搬送ローラ１４から外
れるという問題もなく、搬送ローラ１４に被洗浄物１２
ａの下面が接触し且つ上面が接触しないで水平に連続搬
送して洗浄でき、洗浄槽出口側から洗浄の終了した被洗
浄物を取り出すことができる。
【００２３】図２は、前記図１の基本的構成において、
前記オーバーフロー槽１５及び１６を搬送出入口に設置
した洗浄槽の例を示している。図２において、２５及び
２６はステンレス製の洗浄槽１１及びオーバーフロー槽
１５及び１６の側壁板を構成している。該側壁板１５及
び１６の下端には、底板２７が連続して一体に形成され
ている。前記側壁板２５、２６及び底板２７は一枚のス
テンレス板を折り曲げて形成することができる。そし
て、前記洗浄槽１１とオーバーフロー槽１５、１６は、
仕切り板２２、２３、２８及び２９で仕切られてそれぞ
れ構成される。なお、洗浄槽１１の材料は、ステンレス
以外にＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）の溶接品やＰＶＤＦ
（ポリフッ化ビニリデン）の溶接品でも良い。
前記オーバーフロー槽１５及び１６を搬送出入口に設置
した洗浄槽の例を示している。図２において、２５及び
２６はステンレス製の洗浄槽１１及びオーバーフロー槽
１５及び１６の側壁板を構成している。該側壁板１５及
び１６の下端には、底板２７が連続して一体に形成され
ている。前記側壁板２５、２６及び底板２７は一枚のス
テンレス板を折り曲げて形成することができる。そし
て、前記洗浄槽１１とオーバーフロー槽１５、１６は、
仕切り板２２、２３、２８及び２９で仕切られてそれぞ
れ構成される。なお、洗浄槽１１の材料は、ステンレス
以外にＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）の溶接品やＰＶＤＦ
（ポリフッ化ビニリデン）の溶接品でも良い。
【００２４】この際、前記仕切り板２２及び２３の高さ
は、前記側壁板２５、２６の高さよりも低く構成されて
おり、前記循環する洗浄液１７が前記仕切り板２２、２
３を越えて前記オーバーフロー槽１５、１６へ溢れ出る
ように構成されている。このような構成で図１で説明し
たように被洗浄物１２は、複数のメガソニック振動子１
３（代表的に一個しか図示していない）からメガソニッ
クを照射することによりメガソニック洗浄がなされる。
前記メガソニック振動子１３は被洗浄物に応じてその数
を増加すれば良い。
は、前記側壁板２５、２６の高さよりも低く構成されて
おり、前記循環する洗浄液１７が前記仕切り板２２、２
３を越えて前記オーバーフロー槽１５、１６へ溢れ出る
ように構成されている。このような構成で図１で説明し
たように被洗浄物１２は、複数のメガソニック振動子１
３（代表的に一個しか図示していない）からメガソニッ
クを照射することによりメガソニック洗浄がなされる。
前記メガソニック振動子１３は被洗浄物に応じてその数
を増加すれば良い。
【００２５】前記実施例では、リザーブタンク１８を洗
浄液の循環系に設けたが、このリザーブタンク１８を省
いて、図３に示すように、パイプ２０ａ及び２０ｂをそ
れぞれオーバーフロー槽１５、１６に接続してポンプ２
１で洗浄液を循環させても良い。
浄液の循環系に設けたが、このリザーブタンク１８を省
いて、図３に示すように、パイプ２０ａ及び２０ｂをそ
れぞれオーバーフロー槽１５、１６に接続してポンプ２
１で洗浄液を循環させても良い。
【００２６】また、前記図２の実施例では、洗浄槽１１
とオーバーフロー槽１５、１６を側壁板２５、２６を共
通にして、仕切り板２２、２３で洗浄液１７をオーバー
フローさせるように構成したが、他の例として、洗浄槽
とオーバーフロー槽を別体で構成し、オーバーフロー槽
内に洗浄槽を収容して実施することもできる。この場合
は、オーバーフロー液は洗浄槽を構成する側壁板全体を
越えてオーバーフロー槽へ溢れ出させることができ、洗
浄液をより効率良く循環させることができる。この実施
例においてもリザーブタンクを設け、洗浄液を循環させ
ても良いし、リザーブタンクを省いて、図３の実施例と
同様に洗浄液を循環させても良い。
とオーバーフロー槽１５、１６を側壁板２５、２６を共
通にして、仕切り板２２、２３で洗浄液１７をオーバー
フローさせるように構成したが、他の例として、洗浄槽
とオーバーフロー槽を別体で構成し、オーバーフロー槽
内に洗浄槽を収容して実施することもできる。この場合
は、オーバーフロー液は洗浄槽を構成する側壁板全体を
越えてオーバーフロー槽へ溢れ出させることができ、洗
浄液をより効率良く循環させることができる。この実施
例においてもリザーブタンクを設け、洗浄液を循環させ
ても良いし、リザーブタンクを省いて、図３の実施例と
同様に洗浄液を循環させても良い。
【００２７】前記実施例では、メガソニックを利用し、
また被洗浄物としてガラス板を例にして説明したが、本
発明において、前記実施例に限定されるものではなく、
メガソニック洗浄以外に周波数の低い前記超音波洗浄に
も適用でき、また、被洗浄物としてガラス板以外にシリ
コンウェハの洗浄、プラズマ表示装置や液晶表示装置作
製の各種洗浄工程にも適用できる。
また被洗浄物としてガラス板を例にして説明したが、本
発明において、前記実施例に限定されるものではなく、
メガソニック洗浄以外に周波数の低い前記超音波洗浄に
も適用でき、また、被洗浄物としてガラス板以外にシリ
コンウェハの洗浄、プラズマ表示装置や液晶表示装置作
製の各種洗浄工程にも適用できる。
【００２８】
【発明の効果】本発明は、洗浄液にオーバーフロー層を
形成することにより、被洗浄物を該オーバーフロー層内
を連続して水平に搬送させることが可能となり、被洗浄
物の連続水平搬送によって被洗浄物の両面を同時に洗浄
できる洗浄方法及び洗浄装置を実現できる。特に、被洗
浄物の片面を精密に洗浄する必要がある場合、洗浄中に
搬送手段に全く接触することがないため、搬送手段によ
る汚染物の再付着もなく洗浄を連続して行うことができ
る。また、洗浄液を循環させることにより、洗浄液中の
塵埃を取り除いて洗浄液を清浄に保つことが可能とな
り、より精密な洗浄を行うことができる。
形成することにより、被洗浄物を該オーバーフロー層内
を連続して水平に搬送させることが可能となり、被洗浄
物の連続水平搬送によって被洗浄物の両面を同時に洗浄
できる洗浄方法及び洗浄装置を実現できる。特に、被洗
浄物の片面を精密に洗浄する必要がある場合、洗浄中に
搬送手段に全く接触することがないため、搬送手段によ
る汚染物の再付着もなく洗浄を連続して行うことができ
る。また、洗浄液を循環させることにより、洗浄液中の
塵埃を取り除いて洗浄液を清浄に保つことが可能とな
り、より精密な洗浄を行うことができる。
【図１】本発明構成の説明図である。
【図２】本発明１実施例の説明図である。
【図３】本発明の他の構成の説明図である。
【図４】従来例の説明図である。
１１ 洗浄槽 １２ 被洗浄物 １３ メガソニック振動子 １４ 搬送ローラ １５、１６ オーバーフロー槽 １７、２４ 洗浄液 １７ａ、１７ｂ オーバーフロー液 １７ｃ オーバーフロー層 １７ｄ オーバーフロー面 １８ リザーブタンク １９、２０ 循環パイプ ２２、２３ 仕切り板
Claims (12)
- 【請求項１】 液面下の被洗浄物に０．２ＭＨｚ以上５
ＭＨｚ以下の高周波超音波を透過させて洗浄することを
特徴とする洗浄方法。 - 【請求項２】 液面下の被洗浄物に１５ｋＨｚ以上２０
０ｋＨｚ未満の超音波を透過させて洗浄することを特徴
とする洗浄方法。 - 【請求項３】 液面下の板状の被洗浄物の下面に向けて
０．２ＭＨｚ以上５ＭＨｚ以下の高周波超音波を照射し
て被洗浄物の上面を洗浄することを特徴とする洗浄方
法。 - 【請求項４】 液面下の板状の被洗浄物の下面に向けて
１５ｋＨｚ以上２００ｋＨｚ未満の超音波を照射して被
洗浄物の上面を洗浄することを特徴とする洗浄方法。 - 【請求項５】 液面上部にオーバーフロー層を形成し、
該オーバーフロー層を貫通して板状の被洗浄物を水平に
搬送し、前記被洗浄物の下面に向けて０．２ＭＨｚ以上
５ＭＨｚ以下の高周波超音波を照射して前記被洗浄物の
上下面を同時に洗浄することを特徴とする洗浄方法。 - 【請求項６】 液面上部にオーバーフロー層を形成し、
該オーバーフロー層を貫通して板状の被洗浄物を水平に
搬送し、前記被洗浄物の下面に向けて１５ｋＨｚ以上２
００ｋＨｚ未満の超音波を照射して前記被洗浄物の上下
面を同時に洗浄することを特徴とする洗浄方法。 - 【請求項７】 液面上部にオーバーフロー層を形成する
工程と、該オーバーフロー層を貫通して板状の被洗浄物
を水平に搬送する工程と、前記被洗浄物の下面に向けて
０．２ＭＨｚ以上５ＭＨｚ以下の高周波超音波を照射す
る工程とを含む被洗浄物の上面洗浄方法。 - 【請求項８】 液面上部にオーバーフロー層を形成する
工程と、該オーバーフロー層を貫通して板状の被洗浄物
を水平に搬送する工程と、前記被洗浄物の下面に向けて
１５ｋＨｚ以上２００ｋＨｚ未満の超音波を照射する工
程とを含む被洗浄物の上面洗浄方法。 - 【請求項９】 洗浄液を満たした洗浄槽と、被洗浄物搬
送方向の洗浄層の前後に設けたオーバーフロー槽と、被
洗浄物を水平に搬送する搬送手段と、前記オーバーフロ
ー槽からオーバーフロー液を回収貯留するリザーブタン
クと、前記洗浄槽、前記オーバーフロー槽、及び前記リ
ザーブタンク間で洗浄液を循環させるための洗浄液循環
手段と、前記被洗浄物の下面へ向けて０．２ＭＨｚ以上
５ＭＨｚ以下の高周波超音波を照射する少なくとも一つ
の高周波超音波照射手段とを備えることを特徴とする洗
浄装置。 - 【請求項１０】 洗浄液を満たした洗浄槽と、被洗浄物
搬送方向の洗浄層の前後に設けたオーバーフロー槽と、
被洗浄物を水平に搬送する搬送手段と、前記オーバーフ
ロー槽からオーバーフロー液を回収貯留するリザーブタ
ンクと、前記洗浄槽、前記オーバーフロー槽、及び前記
リザーブタンク間で洗浄液を循環させるための洗浄液循
環手段と、前記被洗浄物の下面へ向けて１５ｋＨｚ以上
２００ｋＨｚ未満の超音波を照射する少なくとも一つの
超音波照射手段とを備えることを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項１１】 洗浄液を満たした洗浄槽と、被洗浄物
搬送方向の洗浄層の前後に設けたオーバーフロー槽と、
被洗浄物を水平に搬送する搬送手段と、前記洗浄槽と前
記オーバーフロー槽間で洗浄液を循環させるための洗浄
液循環手段と、前記被洗浄物の下面へ向けて０．２ＭＨ
ｚ以上５ＭＨｚ以下の高周波超音波を照射する少なくと
も一つの高周波超音波照射手段とを備えることを特徴と
する洗浄装置。 - 【請求項１２】 洗浄液を満たした洗浄槽と、被洗浄物
搬送方向の洗浄層の前後に設けたオーバーフロー槽と、
被洗浄物を水平に搬送する搬送手段と、前記洗浄槽と前
記オーバーフロー槽間で洗浄液を循環させるための洗浄
液循環手段と、前記被洗浄物の下面へ向けて１５ｋＨｚ
以上２００ｋＨｚ未満の超音波を照射する少なくとも一
つの超音波照射手段とを備えることを特徴とする洗浄装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15163794A JPH07328573A (ja) | 1994-06-09 | 1994-06-09 | 洗浄方法及び洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15163794A JPH07328573A (ja) | 1994-06-09 | 1994-06-09 | 洗浄方法及び洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07328573A true JPH07328573A (ja) | 1995-12-19 |
Family
ID=15522909
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15163794A Pending JPH07328573A (ja) | 1994-06-09 | 1994-06-09 | 洗浄方法及び洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07328573A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10116811A (ja) * | 1996-10-09 | 1998-05-06 | Mitsubishi Materials Shilicon Corp | ウェット式洗浄装置 |
| JP2001044466A (ja) * | 1999-07-29 | 2001-02-16 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 集積型薄膜太陽電池の洗浄方法及びその装置 |
| US6497240B1 (en) | 1999-04-21 | 2002-12-24 | Sharp Kabushiki Kaisha | Ultrasound cleaning device and resist-stripping device |
| EP2141735A3 (en) * | 1999-07-29 | 2012-01-04 | Kaneka Corporation | Method for cleaning photovoltaic module and cleaning apparatus |
| TWI467642B (zh) * | 2006-12-19 | 2015-01-01 | Lam Res Corp | 半導體處理設備元件及零件的超高頻音波精確清洗 |
| JP2017109180A (ja) * | 2015-12-17 | 2017-06-22 | 東レエンジニアリング株式会社 | 塗布器洗浄装置及び塗布装置 |
| CN108321257A (zh) * | 2018-04-02 | 2018-07-24 | 通威太阳能（安徽）有限公司 | 一种太阳能电池片手动翻面清洗装置 |
| CN109127580A (zh) * | 2018-10-13 | 2019-01-04 | 杭州钜洲精密制造有限公司 | 一种金属板镀膜前的清洁系统 |
| CN109248877A (zh) * | 2018-12-01 | 2019-01-22 | 福建鸭嫂食品有限公司 | 咸蛋清洗机 |
| CN109647794A (zh) * | 2019-01-18 | 2019-04-19 | 福州东旭光电科技有限公司 | 连续式超声波清洗装置 |
| CN117711991A (zh) * | 2024-02-05 | 2024-03-15 | 苏州智程半导体科技股份有限公司 | 一种晶圆槽式清洗设备 |
-
1994
- 1994-06-09 JP JP15163794A patent/JPH07328573A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10116811A (ja) * | 1996-10-09 | 1998-05-06 | Mitsubishi Materials Shilicon Corp | ウェット式洗浄装置 |
| US6497240B1 (en) | 1999-04-21 | 2002-12-24 | Sharp Kabushiki Kaisha | Ultrasound cleaning device and resist-stripping device |
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| CN108321257B (zh) * | 2018-04-02 | 2023-10-13 | 通威太阳能（安徽）有限公司 | 一种太阳能电池片手动翻面清洗装置 |
| CN109127580A (zh) * | 2018-10-13 | 2019-01-04 | 杭州钜洲精密制造有限公司 | 一种金属板镀膜前的清洁系统 |
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| CN109647794A (zh) * | 2019-01-18 | 2019-04-19 | 福州东旭光电科技有限公司 | 连续式超声波清洗装置 |
| CN117711991A (zh) * | 2024-02-05 | 2024-03-15 | 苏州智程半导体科技股份有限公司 | 一种晶圆槽式清洗设备 |
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