JP2001170583A - 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は搬送される基板の上面を効率よく
確実に超音波洗浄することができるようにした超音波洗
浄装置を提供することにある。 【解決手段】 超音波振動が伝播される洗浄液によって
基板を洗浄処理する超音波洗浄装置において、一端に搬
入口２、他端に搬出口３が形成された洗浄槽１と、上記
基板を上記搬入口から搬入して上記搬出口から搬出する
搬送ローラ１４と、上記洗浄槽に洗浄液を供給してその
液面を上記搬送手段によって搬送される基板の上面より
も高く維持するとともに上記搬入口と搬出口とから流出
した洗浄液を回収する洗浄液の循環ポンプ５と、上記搬
送ローラによって搬送される基板の上面側に配置されこ
の基板の上面側の洗浄液に一部を浸漬して設けられた超
音波振動を発振する超音波発振器２２とを具備したこと
を特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は例えば太陽電池モ
ジュールの基板を洗浄するための超音波洗浄装置及び超
音波洗浄方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、薄膜タイプの太陽電池モジュー
ルを製造する場合、第１の電極となる透明導電膜が成膜
されたガラスなどの材料からなる基板に半導体膜を成膜
し、さらにその上に第２の電極となる裏面電極膜を形成
するようにしている。

【０００３】基板に透明導電膜、半導体膜及び裏面電極
膜の薄膜を成膜する際、その基板にパーティクルが付着
していると欠陥の発生原因となる。とくに、薄膜タイプ
の太陽電池モジュールは、基板のほぼ全面にわたって形
成された各薄膜を順次溝加工して複数のセルに分割する
ようにしている。そのため、溝加工時に発生する切り滓
やばりなどのパーティクルが次の薄膜を成膜するときに
その薄膜に入り込んで欠陥の発生原因になり易いという
ことがあった。

【０００４】したがって、所定の薄膜の溝加工が終了し
たならば、次の薄膜を成膜する前に、上記基板を洗浄
し、パーティクルの残留に基づく欠陥の発生を防止する
ようにしている。

【０００５】上記基板を洗浄するには、ブラシ洗浄や超
音波洗浄などの手段があり、通常、ブラシ洗浄によって
基板に付着した比較的大きなパーティクルを除去し、つ
いで超音波洗浄によって微小なパーティクルを除去する
ようにしている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】基板を超音波洗浄する
従来の超音波洗浄装置は、洗浄液が供給される洗浄槽を
有する。この洗浄槽には、一端に搬入口、他端に搬出口
が形成され、基板を搬送ローラによって上記搬入口から
搬入し、搬出口から搬出するようになっている。

【０００７】上記洗浄槽の内底部には超音波振動を発振
する超音波発振器が設けられている。それによって、超
音波発振器を作動させれば、超音波振動が洗浄液を伝播
して洗浄槽内を搬送される上記基板の下面に到達するか
ら、この基板が超音波洗浄されることになる。

【０００８】上記基板を搬送ローラによって搬送する場
合、基板は薄膜が形成された面を上にして搬送される。
つまり、薄膜が搬送ローラに接触すると、汚れや傷の発
生原因となるため、薄膜が形成された面を上にして搬送
するようにしている。

【０００９】薄膜が形成された面を上にして搬送される
基板に、洗浄液を介して超音波振動を下面から伝播する
と、その下面で超音波振動の一部が反射し、上面への伝
達効率が低下する。そのため、薄膜が形成された基板の
上面が確実に洗浄され難くなるということがある。

【００１０】この発明は、搬送手段によって搬送される
基板の上面を確実に洗浄することができるようにした超
音波洗浄装置及び超音波洗浄方法を提供することにあ
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、超音
波振動が伝播される洗浄液によって基板を洗浄処理する
超音波洗浄装置において、一端に搬入口、他端に搬出口
が形成された洗浄槽と、上記基板を上記搬入口から搬入
して上記搬出口から搬出する搬送手段と、上記洗浄槽に
洗浄液を供給してその液面を上記搬送手段によって搬送
される基板の上面よりも高く維持するとともに上記搬入
口と搬出口とから流出した洗浄液を回収する洗浄液の循
環手段と、上記搬送手段によって搬送される基板の上面
側に配置されこの基板の上面側の洗浄液に一部を浸漬し
て設けられた超音波振動を発振する超音波発振器とを具
備したことを特徴とする超音波洗浄装置にある。

【００１２】請求項２の発明は、上記搬入口と搬出口と
には、基板が通るときにはこれら搬入口と搬出口とを開
放し、通らないときには閉塞することで洗浄液の流出量
を制限する規制手段が設けられていることを特徴とする
請求項１記載の超音波洗浄装置にある。

【００１３】請求項３の発明は、上記洗浄槽の液面を検
出し、上記循環手段による洗浄液の供給量を制御する制
御手段が設けられていることを特徴とする請求項１記載
の超音波洗浄装置にある。

【００１４】請求項４の発明は、上記搬送手段によって
搬送される基板の向きを矯正する矯正手段が設けられて
いることを特徴とする請求項１記載の超音波洗浄装置に
ある。

【００１５】請求項５の発明は、超音波振動が伝播され
る洗浄液によって基板を洗浄処理する超音波洗浄方法に
おいて、基板を所定方向に沿って搬送する工程と、洗浄
液の液面を搬送される上記基板の上面よりも高く維持す
る工程と、搬送される基板の上面を覆う洗浄液を介して
上記基板の上面に超音波振動を伝播する工程とを具備し
たことを特徴とする超音波洗浄方法にある。

【００１６】請求項１と請求項５の発明によれば、洗浄
液の液面を搬送される基板の上面よりも高く維持し、こ
の基板の上面に洗浄液を介して超音波振動を伝播するよ
うにしたので、基板の上面を確実に超音波洗浄すること
が可能となる。

【００１７】請求項２と請求項３の発明によれば、洗浄
槽内の洗浄液の液面を所定の高さに維持できるから、超
音波振動を洗浄液を介して基板の上面に確実に伝播する
ことができる。

【００１８】請求項４の発明によれば、搬送される基板
の向きを矯正するようにしたので、基板が洗浄液中を搬
送されることで向きがずれても、その向きを正すことが
できる。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面を参照して説明する。

【００２０】図１はこの発明の一実施の形態に係る超音
波洗浄装置を示し、この超音波洗浄装置は上面が開放し
た箱型状の洗浄槽１を備えている。この洗浄槽１の一側
壁には搬入口２が形成され、他側壁には搬出口３が形成
されている。

【００２１】上記洗浄槽１の底部には洗浄液Ｌの供給管
４の一端が接続されている。この供給管４の中途部には
ポンプ５とフィルタ６とが設けられ、他端は洗浄液Ｌの
タンク７に連通している。このタンク７内にはヒータ８
が設けられ、タンク７内の洗浄液を例えば４０度の温度
に維持するようになっている。この実施の形態では、洗
浄液として純水が用いられている。上記タンク７内の洗
浄液は上記ポンプ６によって上記洗浄槽１に供給され
る。

【００２２】洗浄槽１内に供給された洗浄液Ｌは、上記
搬入口２と搬出口３とから流出する。洗浄槽１から流出
した洗浄液Ｌは、洗浄槽１の外側に形成された受け樋９
に流入する。この受け樋９の底部には複数の流出管１１
の一端が接続されている。これらの流出管１１の他端は
上記タンク７に連通している。

【００２３】したがって、上記搬入口２と搬出口３とか
ら流出した洗浄液Ｌは上記タンク７に回収され、ここで
ヒータ８によって温度調整されてからフィルタ６でパー
ティクルが除去されて再循環するようになっている。つ
まり、上記供給管４、ポンプ５、タンク７及び流出管１
１によって洗浄液Ｌの循環手段を構成している。

【００２４】上記洗浄槽１には、太陽電池モジュールを
形成するためのガラス製の基板１２が搬送手段１３によ
って搬入口２から搬入され、搬出口３から搬出されるよ
うになっている。その際、基板１２は透明導電膜、半導
体膜あるいは裏面電極膜などの薄膜が形成された面を上
にして搬送される。なお、上記搬入口２と搬出口３との
高さ方向の寸法は、上記基板１２の厚さ寸法よりも最大
で５ｍｍ程度大きく設定されている。

【００２５】上記搬送手段１３は複数の搬送ローラ１４
からなる。これらの搬送ローラ１４は、上記洗浄槽１内
及びこの洗浄槽１の搬入口２側、つまり洗浄槽１の上流
側と搬出口３側である下流側とにそれぞれ同じ高さで、
しかも所定の間隔で配置されている。そして、搬送ロー
ラ１４は図示せぬ駆動手段によって所定方向に回転駆動
されるようになっている。それによって、基板１２を所
定方向、つまり搬入口２側から搬出口３側に搬送するよ
うになっている。

【００２６】上記受け樋９には上記搬入口２と搬出口３
とに対応する位置にそれぞれ搬送手段１３によって搬送
されてきた基板１２を通過させるための第１の通孔１４
及び第２の通孔１５が形成されている。

【００２７】基板１２は上流の処理工程で例えばブラシ
洗浄などの洗浄処理がなされてから搬送手段１３によっ
て洗浄槽１に供給される。基板１２は、搬入口２から洗
浄槽１内に搬入される前に一対の第１のエアーナイフ１
６によって上下面に付着した液体が除去されるようにな
っている。また、搬出口３から搬出された基板１２は一
対の第２のエアーナイフ１７によって上下面に付着した
洗浄液Ｌが除去されて次工程に搬送されるようになって
いる。

【００２８】上記洗浄槽１には、薄膜が形成された面を
上にして搬送される基板１２の上方に下端面を対向させ
た複数の超音波発振器２２が保持具２１によって基板１
２の搬送方向に沿って所定間隔で保持されている。各超
音波発振器２２は下端側を洗浄槽１内に供給された洗浄
液Ｌに浸漬させている。つまり、洗浄槽１内の洗浄液Ｌ
の液面は、超音波発振器２２が所定寸法浸漬するよう、
後述するごとく維持制御されるようになっている。

【００２９】なお、上記保持具２１は洗浄槽１に対して
高さ調整自在に設けられている。それによって、超音波
発振器２２と基板１２の上面との対向間隔は調整可能と
なっている。この対向間隔は、たとえば洗浄槽１の深さ
が３０ｃｍのとき、１〜２５ｃｍの範囲で調整できるよ
うになっている。また、超音波発振器２２の周波数はＦ
Ｍ変調する装置を使うこともできる。

【００３０】洗浄槽１内の洗浄液Ｌの液面は、上記搬入
口２と搬出口３からの洗浄液Ｌの流出量を制限する規制
手段３１と、洗浄槽１内の液面を検出して制御する制御
手段３２とによって維持制御される。

【００３１】上記規制手段３１は、基板１２が通過する
ときに上記搬入口２と搬出口３を開放し、通過し終わる
と閉塞することで、これら搬入口２と搬出口３からの洗
浄液Ｌの流出量を制限している。つまり、規制手段３１
は、図２に示すように上記搬送ローラ１４よりも大径な
遊動ローラ３３を有する。この遊動ローラ３３は芯軸３
３ａの外周面にＰＶＡ（ポリビニルアルコール）などの
スポンジ材料によって筒状に形成された弾性部材３３ｂ
が装着されてなる。

【００３２】上記芯軸３３ａは洗浄槽１の内面に設けら
れた図示しないガイドによって上下方向にスライド可能
に支持されている。また、芯軸３３ａの両端にはばね３
４（一方のみ図示）の一端が連結されている。各ばね３
４の他端は洗浄槽１内面の上記搬入口２及び搬出口３よ
りも上方の位置に連結されている。

【００３３】それによって、上記ばね３４は上記遊動ロ
ーラ３３を上方向に付勢している。上方向に付勢された
遊動ローラ３３は、外周面を洗浄槽１の一側壁の内面に
接触させるとともに、一側壁の内面に上記搬入口２及び
搬出口３の上側部分を覆うように設けられた遮蔽板３５
の下端に当接して上昇方向の位置が規制されている。

【００３４】それによって、搬入口２及び搬出口３は上
記遊動ローラ３３と遮蔽板３５とによって閉塞されるか
ら、洗浄槽１内に供給された洗浄液Ｌが上記搬入口２及
び搬出口３から流出するのが規制されることになる。

【００３５】搬送手段１３によって搬入口２及び搬出口
３に基板１２が搬送されてくると、その基板１２は遊動
ローラ３３の外周面の軸心よりも上の部分に当接する。
それによって、遊動ローラ３３は図２に鎖線で示すよう
にばね３４の付勢力に抗して下方へ弾性的に変位するか
ら、搬入口２及び搬出口３が開放されて基板１２が同じ
く鎖線で示すように洗浄槽１内に搬入されることにな
る。

【００３６】このとき、基板１２には遊動ローラ３３を
介してばね３４の復元力が作用するが、ばね３４の力を
十分に弱く設定することで、基板１２が遊動ローラ３３
によって上昇させられるのを防止できる。それによっ
て、上記遮蔽板３５の下端が上記基板１２の上面に接触
することはない。

【００３７】なお、上記遊動ローラ３３と、この遊動ロ
ーラ３３の隣に位置する搬送ローラ１４とには図示しな
いベルトが掛けられ、遊動ローラ３３が搬送ローラ１４
とともに回転駆動されるようになっている。

【００３８】すなわち、搬入口２及び搬出口３は基板１
２が通過するときだけ開放され、それ以外のときには閉
塞されているため、洗浄液Ｌは洗浄槽１の搬入口２と搬
出口３とから常時流出することがないよう、その流出量
が規制されている。

【００３９】上記制御手段３２は洗浄槽１内の洗浄液Ｌ
の液面の上限と下限とを一類の電極棒４１ａによって検
出するレベルセンサ４１を有する。このレベルセンサ４
１によって検出される洗浄液Ｌの液面の下限は、図３に
示すように超音波発振器２２の下端面が液面から露出し
ない高さＨ_１ で、上限Ｈ_２ は下限Ｈ_１ から所定寸
法上方で、洗浄液Ｌが洗浄槽１の上端からオーバフロー
しない高さである。

【００４０】上記レベルセンサ４１からの検出信号は図
１に示す制御装置４２に入力される。制御装置４２はレ
ベルセンサ４１からの検出信号に応じて洗浄液Ｌを洗浄
槽１に供給する上記ポンプ５の発停を制御する。

【００４１】つまり、洗浄液Ｌの液面が下限Ｈ_１ に達
したことが検出されると、上記ポンプ５を作動させて洗
浄液Ｌをタンク７から洗浄槽１に供給し、超音波発振器
２２の下端面が液面から露出するのを防止する。洗浄槽
１内の液面が上限Ｈ_２ に達したことが検出されると、
上記ポンプ５が停止し、洗浄液Ｌが洗浄槽１の上端から
オーバフローするのを防止する。それによって、洗浄槽
１内の洗浄液Ｌの液面の高さが所定の範囲内に維持され
ることになる。

【００４２】なお、レベルセンサ４１が検出する液面に
よって制御装置４２によりポンプ５を発停制御するよう
にしたが、上記ポンプ５の回転数を比例制御すること
で、液面を所定の高さに維持するようにしてもよい。

【００４３】規制手段３１及び制御手段３２によって洗
浄槽１内の液面を所定の高さに維持制御するようにした
ことで、ポンプ５により洗浄液Ｌの循環量を少なくする
ことができる。それによって、洗浄槽１内を循環させる
洗浄液Ｌの量を少なくできるから、気泡の発生による洗
浄むらを防止することができるばかりか、洗浄槽１内で
搬送ローラ１４によって搬送される基板１２の搬送方向
がずれにくくなるなどのことがある。

【００４４】上記洗浄槽１の搬出口３から搬出された基
板１２は、洗浄槽１内で洗浄液Ｌに浸漬されているた
め、搬送方向に対して向きがずれてしまうことがある。
そのため、搬出口３から搬出された基板１２は、矯正手
段５１によって搬送方向を所定方向に矯正するようにな
っている。

【００４５】上記矯正手段５１は、図４に示すように平
行に離間対向した帯状の一対の規制板６２を有する。こ
の規制板６２は、搬送ローラ１４の軸方向両端部を回転
自在に保持した一対の保持板６１の内側に設けられてい
る。

【００４６】各規制板６２の長手方向両端部の下端には
それぞれスライダ６３が設けられ、このスライダ６３は
一対の規制板６２の離間方向に沿って設けられたレール
６４にスライド自在に係合している。

【００４７】一対の規制板６２の長手方向中途部にはそ
れぞれアーム６５の一端が回動自在に連結されている。
各アーム６５の他端はこま６６に回動可能に連結され、
逆八の字状をなしている。このこま６６は軸線をほぼ水
平にして固定的に配置された駆動シリンダ６７のロッド
６７ａに連結されている。

【００４８】上記駆動シリンダ６７のロッド６７ａが突
出方向に駆動されると、規制板６２に連結された一対の
アーム６５は一端側が開く方向に回動する。それによっ
て、一対の規制板６２は離反方向にスライドし、対向間
隔が基板１２の幅寸法よりも広くなる。

【００４９】上記駆動シリンダ６７のロッド６７ａが図
４に矢印Ｘで示す没入方向に駆動されると、一対のアー
ム６５は矢印Ｙで示すように一端側が閉じる方向に回動
する。それによって、一対の規制板６２は矢印Ｚで示す
ように対向間隔が狭まる方向にスライドする。

【００５０】上記基板１２が上記矯正手段５１が設けら
れた箇所に搬送されてくると、この基板１２の姿勢が一
対のセンサ６８によって検出される。一対のセンサ６８
は、基板１２が真っ直ぐに搬送されてきたときに、この
基板１２の幅方向両端を検出するよう配置されている。

【００５１】図６（ａ）に示すように基板１２の向きが
搬送方向に対してずれた状態で搬送されてくると、その
ことが上記センサ６７によって検出されるから、その検
出信号で上記駆動シリンダ６６が作動して図６（ｂ）に
示すように一対の規制板６２をこれらの間隔を狭める方
向に駆動する。それによって、基板１２の搬送方向は真
っ直ぐに矯正されることになる。ついで、図６（ｃ）に
示すように一対の矯正板６２が離反する方向に駆動され
ることで、基板１２は所定方向に搬送されることにな
る。

【００５２】上記構成の超音波洗浄装置によれば、基板
１２は薄膜が形成された面を上にして搬送されるととも
に、洗浄槽１には、基板１２の上面に対向して超音波発
振器２２を設けるようにした。そして、洗浄槽１内の洗
浄液Ｌは、その液面が基板１２の上面よりも高く、しか
も超音波発振器２２が液面から露出することのない高さ
で維持制御されている。

【００５３】そのため、超音波発振器２２から発振出力
された超音波振動は、基板１２の上面よりも高いレベル
で保持された洗浄液Ｌを伝播して上記基板１２の上面に
到達することになるから、この基板１２の薄膜が形成さ
れた上面を確実に超音波洗浄することができる。

【００５４】洗浄槽１の搬入口２と搬出口３とからは洗
浄液Ｌが流出するものの、規制手段３１によって流出量
が規制されている。そのため、上記洗浄槽１内における
液面の低下速度が緩やかになるから、ポンプ５による洗
浄液Ｌの循環量を少なくすることができる。

【００５５】洗浄液Ｌの循環量が少ないと、洗浄槽１内
に気泡が発生し難くなるから、気泡の影響を受けて洗浄
むらが発生するのを防止でき、さらに洗浄液Ｌの液面が
波立ち難くなることで、洗浄槽１内で搬送ローラ１４に
よって搬送される基板１２の搬送方向が大きくずれるの
を防止できる。

【００５６】洗浄槽１内の洗浄液Ｌの液面はレベルセン
サ４１によって検出され、その検出結果に応じてポンプ
５の駆動が制御されて液面が所定の範囲内の高さになる
よう維持される。

【００５７】そのため、液面が低下し過ぎて超音波発振
器２２の下端面が洗浄液Ｌから露出して超音波振動が基
板１２に伝播しなくなるのを防止できるばかりか、液面
が高くなり過ぎて洗浄液Ｌが洗浄槽１の上面からオーバ
フローするのを防止できる。

【００５８】とくに、超音波発振器２２の下端面が洗浄
液Ｌから露出した状態で作動（空焚き）すると、発熱に
よって超音波発振器２２が損傷する虞があるが、レベル
センサ４１によって液面が制御されることで、空焚きを
確実に防止することができる。

【００５９】さらに、洗浄槽１内において、基板１２は
洗浄液Ｌ中に浸漬した状態で超音波洗浄される。そのた
め、基板１２は搬送方向がずれた状態で洗浄槽１から搬
出されることがある。

【００６０】基板１２の方向がずれて搬出口３から搬出
されると、そのことが矯正制段５１のセンサ６８によっ
て検出される。そして、センサ６８の検出信号によって
駆動シリンダ６７が作動し、一対の規制板６２が間隔を
狭める方向に駆動されるから、これら規制板６２によっ
て基板１２の方向が搬送方向に対して真っ直ぐになるよ
う矯正されることになる。

【００６１】したがって、洗浄槽１から搬出された基板
１２は、矯正手段５１によって姿勢が正されてから搬送
されることになるため、搬送路から外れるようなことな
く確実に搬送することができる。

【００６２】この発明は上記一実施の形態に限定され
ず、種々変形可能である。たとえば、洗浄槽１の搬入口
２と搬出口３とから洗浄液Ｌが流出するのを規制する規
制手段５１としては遊動ローラ３３と遮蔽板３５に代わ
り、図７に示すように搬入口２は洗浄槽１の内面に下端
を固定した弾性材料からなる第１の遮蔽シート７１によ
って閉塞し、搬出口３は洗浄槽１の外面に下端を固定し
た同じく弾性材料からなる第２の遮蔽シート７２によっ
て閉塞するようにしてもよい。

【００６３】このような構成によれば、搬入口２及び搬
出口３は通常は上記遮蔽シート７１，７２によって閉塞
されているから、洗浄液Ｌが搬入口２及び搬出口３から
流出するのを制限している。

【００６４】基板１２が搬送されてきて搬入口２を閉塞
した第１の遮蔽シート７１に当たると、この第１の遮蔽
シート７１は図９に鎖線で示すように下端を支点として
洗浄槽１の内方へ弾性的に倒伏する。それによって、搬
入口２が開放されるから、基板１２は洗浄槽１内へ搬入
されることになる。

【００６５】基板１２が搬出口３に到達して第２の遮蔽
シート７２を押圧すると、この第２の遮蔽シート７２が
外方へ弾性的に倒伏する。それによって、搬出口３が開
放されるから、基板１２が洗浄槽１から搬出されること
になる。

【００６６】すなわち、このような構成であっても、基
板１２の搬入と搬出とに支障がないよう、搬入口２と搬
出口３とを基板１２を通過させるときだけ開放すること
ができるから、洗浄槽１から洗浄液Ｌが流出するのを規
制することができる。

【００６７】しかも、第１の遮蔽シート７１と第２の遮
蔽シート７２は基板１２の薄膜が形成された上面に接触
することがないから、各シート７１、７２によって薄膜
を汚したり、傷つけるようなことも防止できる。

【００６８】

【発明の効果】請求項１と請求項５の発明によれば、洗
浄液の液面を搬送される基板の上面よりも高く維持し、
この基板の上面に洗浄液を介して超音波振動を伝播する
ようにした。

【００６９】そのため、搬送時に汚染を防止したい面を
上にして基板を搬送した場合、基板の上面に洗浄液を介
して超音波振動が伝播されるため、下面側から超音波振
動を上面側へ透過伝播する場合のように、反射などによ
り損失が発生するのを防止できるから、洗浄効率を向上
させることができる。

【００７０】請求項２と請求項３の発明によれば、洗浄
槽内の洗浄液の液面を所定の高さに維持制御できるよう
にした。

【００７１】そのため、洗浄液の循環量を少なくできる
ことで、洗浄槽内に気泡が発生し難くなるから、気泡の
発生による洗浄むらを招くのを防止でき、さらには超音
波発振器の下端が液面から露出することがないから、超
音波発振器からの超音波振動を洗浄液を介して基板の上
面に確実に伝播することができるばかりか、超音波発振
器の空焚きによる損傷を防止できるなどの利点を有す
る。

【００７２】請求項４の発明によれば、搬送される基板
の向きを矯正するようにした。

【００７３】そのため、基板が洗浄槽内の洗浄液中を搬
送されることで向きがずれても、その向きを正すことが
できるから、洗浄槽から搬出された基板を確実に搬送す
ることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施の形態を示す超音波洗浄装置
の概略的構成図。

【図２】同じく搬入口と搬出口とに設けられた洗浄液の
流出を規制する規制手段の拡大図。

【図３】同じく洗浄槽内の洗浄液の液面制御の説明図。

【図４】同じく洗浄槽から搬出された基板の向きを矯正
する矯正装置の平面図。

【図５】同じくスライド可能に設けられた規制板の取り
付け構造を示す側面図。

【図６】同じく矯正装置によって基板の搬送方向を強制
する状態を示す説明図。

【図７】この発明の他の実施の形態を示す規制手段の構
成図。

【符号の説明】

１…洗浄槽 ２…搬入口 ３…搬出口 ４…供給管（循環手段） ５…ポンプ（循環手段） １１…流出管（循環手段） １４…搬送ローラ（搬送手段） ２２…超音波発振器 ３１…規制手段 ３３…遊動ローラ（規制手段） ４１…レベルセンサ（制御手段） ４２…制御装置（制御手段） ５１…矯正手段 ６２…矯正板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４８ Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４８Ｆ 21/68 21/68 Ａ

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 超音波振動が伝播される洗浄液によって
   基板を洗浄処理する超音波洗浄装置において、 一端に搬入口、他端に搬出口が形成された洗浄槽と、 上記基板を上記搬入口から搬入して上記搬出口から搬出
   する搬送手段と、 上記洗浄槽に洗浄液を供給してその液面を上記搬送手段
   によって搬送される基板の上面よりも高く維持するとと
   もに上記搬入口と搬出口とから流出した洗浄液を回収す
   る洗浄液の循環手段と、 上記搬送手段によって搬送される基板の上面側に配置さ
   れこの基板の上面側の洗浄液に一部を浸漬して設けられ
   た超音波振動を発振する超音波発振器とを具備したこと
   を特徴とする超音波洗浄装置。
2. 【請求項２】 上記搬入口と搬出口とには、基板が通る
   ときにはこれら搬入口と搬出口とを開放し、通らないと
   きには閉塞することで洗浄液の流出量を制限する規制手
   段が設けられていることを特徴とする請求項１記載の超
   音波洗浄装置。
3. 【請求項３】 上記洗浄槽の液面を検出し、上記循環手
   段による洗浄液の供給量を制御する制御手段が設けられ
   ていることを特徴とする請求項１記載の超音波洗浄装
   置。
4. 【請求項４】 上記搬送手段によって搬送される基板の
   向きを矯正する矯正手段が設けられていることを特徴と
   する請求項１記載の超音波洗浄装置。
5. 【請求項５】 超音波振動が伝播される洗浄液によって
   基板を洗浄処理する超音波洗浄方法において、 基板を所定方向に沿って搬送する工程と、 洗浄液の液面を搬送される上記基板の上面よりも高く維
   持する工程と、 搬送される基板の上面を覆う洗浄液を介して上記基板の
   上面に超音波振動を伝播する工程とを具備したことを特
   徴とする超音波洗浄方法。