KR100974937B1 - 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 설비 - Google Patents

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Abstract

기판 오염을 개선할 수 있는 기판 이송 장치가 개시된다. 기판 이송 장치는 기판이 놓여지는 기판 지지부와, 기판 지지부와 연결되고 기판 지지부를 상, 하로 이동시키는 승강부, 그리고 기판 지지부의 양측부에 배치되고 기판 지지부의 이동에 의해 그 주변에 발생되는 기류를 기판으로부터 멀어지도록 유도하여 기류에 의해 기판이 오염되는 것을 방지하기 위한 가이드부들을 포함한다. 따라서, 기판 이송 중 발생되는 기류에 의한 기판 오염을 개선할 수 있다.

Description

기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 설비{APPARATUS FOR TRANSFERRING SUBSTRATE AND FACILITY FOR PROCESSING SUBSTRATE HAVING THE SAME}
본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 평판 디스플레이 장치의 제조 공정에서 기판을 이송하는 장치 및 이를 사용하는 기판 처리 설비에 관한 것이다.
일반적으로 평판 디스플레이 장치는 액정을 이용하는 액정 표시 장치(LCD), 플라즈마를 이용하는 플라즈마 표시 장치(PDP), 유기 발광 소자를 이용하는 유기 발광 표시 장치(OLED) 등을 들 수 있다.
이와 같은 평판 디스플레이 장치는 실질적으로 영상을 표시하는 표시 패널을 포함하여 이루어진다. 상기 표시 패널의 대면적의 기판에 증착 공정, 식각 공정, 포토리소그래피 공정, 세정 공정, 검사 공정 등의 다양한 처리 공정을 반복적으로 수행하여 제조된다. 이와 같은 처리 공정들은 복수의 공정을 순차적으로 수행하는 공정라인 또는 기판 처리 설비에 의해서 행해질 수 있다.
이러한, 기판 처리 설비는 공정을 위한 복수의 처리조 또는 복수의 처리부가 일렬로 배치되는데, 최근에는 설비의 설치 공간을 최소화하기 위하여 복수의 층들 로 이루어진 구조의 설비가 이용되고 있다. 복수의 층들로 이루어진 기판 설비에서는 층들간 기판의 이송을 위해 이송 장치가 구비되어 사용된다. 이러한, 이송 장치는 통상 기판을 수평 상태로 지지한 상태에서 상, 하로 이송하게 되는데, 이 경우 이송되는 기판의 주변에는 기류가 발생하게 된다.
이처럼, 층들간에 기판을 이송하는 경우에 발생되는 기류는 설비 내에 잔류하는 파티클 등의 오염물질을 비산시키게 되고, 이렇게 비산되는 오염물질은 기류를 타고 기판에 부착되어 기판을 오염시키는 문제점을 갖는다. 이는 생산 수율을 저하시키는 문제점이기도 하다.
본 발명의 실시예들을 통해 해결하고자 하는 일 과제는 기판에 대한 처리 과정에서 층들간 이송을 위해 기판을 상, 하로 이송시킬 때 기판 주변에 발생되는 기류에 의해 파티클 등의 오염물질이 비산되어 기판에 부착됨에 따른 기판 오염을 개선할 수 있는 기판 이송 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 실시예들을 통해 해결하고자 하는 다른 과제는 언급한 기판 이송 장치를 부재로 포함하는 기판 처리 설비를 제공하는 것이다.
상기 일 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치는 기판 지지부, 승강부 및 가이드부들을 포함한다. 상기 기판 지지부에는 기판이 놓여진다. 상기 승강부는 상기 기판 지지부와 연결되고, 상기 기판 지지부를 상, 하로 이동시킨다. 상기 가이드부들은 상기 기판 지지부의 양측부에 배치되고, 상기 기판 지지부의 이동에 의해 그 주변에 발생되는 기류를 상기 기판으로부터 멀어지도록 유도하여 상기 기류에 의해 기판이 오염되는 것을 방지한다.
언급한 본 발명의 일 실시예에서, 상기 가이드부들은 상기 기판 지지부의 측부 길이에 대응하는 길이를 갖고 상기 기판 지지부에 지지된 기판에 대하여 폭 방향으로 경사도를 갖는 플레이트 형상을 가질 수 있다.
언급한 본 발명의 다른 실시예에서, 상기 가이드부들은 상기 기판 지지부의 상부 및 하부 각각에 위치할 수 있다.
언급한 본 발명의 또 다른 실시예에서, 상기 기판 지지부는 지지판을 포함하며, 상기 가이드부들은 상기 기판 지지부의 지지판에 설치될 수 있다.
언급한 본 발명의 또 다른 실시예에서, 상기 기판 지지부의 일측부 하부에 배치되고, 상기 기판 지지부를 수평 상태 또는 기울어진 상태로 변환시켜주는 경사변환부를 더 포함할 수 있다.
상기 다른 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 설비는 제1 처리부, 제2 처리부 및 기판 이송부를 포함한다. 상기 제1 처리부 및 제2 처리부에서는 기판에 대하여 처리가 이루어지며, 상기 제2 처리부는 상기 제1 처리부의 상부에 설치된다. 상기 기판 이송부는 상기 제1 처리부와 상기 제2 처리부에 연결되고, 상기 제1 처리부와 제2 처리부 사이의 기판 이송을 수행한다. 이러한, 상기 기판 이송부는 기판 지지부, 승강부 및 가이드부들을 포함한다. 상기 기판 지지부에는 이송할 기판이 놓여진다. 상기 승강부는 상기 기판 지지부와 연결되고, 상기 제1 처리부와 상기 제1 처리부에 대응하도록 상기 기판 지지부를 상, 하로 이동시킨다. 상기 가이드부들은 상기 기판 지지부의 양측부에 위치하고, 상기 기판 지지부의 이동에 의해 그 주변에 발생되는 기류가 상기 기판으로부터 멀어지도록 유도하여 상기 기류에 의해 기판이 오염되는 것을 방지하는 역할을 수행한다.
이와 같이 구성된 본 발명에 따른 기판 이송 장치 및 이를 갖는 기판 처리 설비는 처리부가 복수의 층으로 이루어진 구성에서 층들간 기판 이송을 수행하기 위하여 기판을 상, 하로 이송시킬 때 기판의 주변에 발생되는 기류가 기판으로부터 멀어지도록 유도됨으로써, 상기 기류에 의해 파티클 등의 오염물질이 비산되어 기판에 부착되는 것을 방지하여 기판 오염을 개선할 수 있게 된다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 설비에 대하여 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 발명의 명확성을 기하기 위해 실제보다 확대하거나, 개략적인 구성을 설명하기 위하여 실제보다 축소하여 도시한 것이다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지 다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
한편, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
실시예
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치의 구성을 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 2는 언급한 기판 이송 장치의 개략적인 동작을 설명하기 위한 도면이며, 도 3은 도 1의 기판 이송 장치에 포함된 경사 변환부의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 1과 도 2, 그리고 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치(100)는 기판(G)이 놓여지는 기판 지지부(110)와, 기판 지지부(110)를 상, 하로 이동시키는 승강부(120), 그리고 기판(G) 오염을 개선하기 위해 기판 지지부(110)가 이동할 때 발생되는 기류를 가이드 하기 위한 가이드부(130)들을 포함한 다.
이러한 기판 이송 장치(100)는 기판(G)에 대하여 처리가 이루어지는 처리 공간이 복수의 층들로 이루어진 구성에서 층들간에 기판(G)을 이송하기 위하여 사용될 수 있다. 여기서, 기판(G)은 평판 디스플레이(Flat Panel Display: FPD) 소자를 제조하기 위한 것으로, 평판 디스플레이 소자의 대표적인 예로는 액정 표시 장치(Liquid Crystal Dispaly: LCD), 플라즈마 표시 패널(Plasma Display Panel: PDP), 유기발광소자(Organic Light Emitting Diodes: OLED)를 들 수 있다. 이와 달리, 기판(G)은 실리콘웨이퍼와 같은 반도체 소자를 제조하기 위한 기판(G)일 수도 있다.
한편, 통상적으로 기판(G)은 제조 과정 중에 일정 공정 조건(예컨대 청정도)을 유지하기 위하여 기판(G)을 수용하는 챔버(110a) 내에서 처리 및 이송이 이루어짐에 따라서, 본 실시예에 따른 기판 이송 장치(100)는 기판(G)의 이송을 위한 이송 챔버(100a) 내부에 설치될 수 있는 것으로 이해될 수 있다.
상기 기판 지지부(110)는 그 상부에 기판(G)이 놓여진다. 즉, 기판 지지부(110)는 이송할 기판(G)의 하부에 직접 접촉하여 기판(G)을 지지하게 된다. 기판 지지부(110)는 지지판(112)과, 지지판(112) 상에 설치되는 지지부재를 포함하며, 예를 들면, 지지판(112) 상에 설치되는 지지부재로는 복수의 이송축(114)들을 포함할 수 있다.
지지판(112)은 통상 기판(G)의 형상에 대응하는 형상을 가지며, 평판 디스플레이 소자를 제조하기 위한 기판(G)이 일반적으로 사각 형상을 가짐에 따라서 지지 판(112)은 사각 형상을 가질 수 있다. 그러나, 지지판(112)의 형상이 사각 형상으로 한정되는 것은 아니며, 기판(G)을 지지하기 위하여 유효한 다양한 형상을 가질 수도 있다. 아울러, 지지판(112)의 상부 양측부에는 복수의 이송축(114)들을 고정하기 위한 브래킷(112a)이 설치될 수 있다.
이송축(114)들은 지지판(112) 상에 설치된다. 즉, 이송축(114)들은 브래킷(112a)을 지지대로 하여 회전 가능하도록 설치된다. 각각의 이송축(114)들은 기판(G)과 직접적으로 접촉하는 적어도 하나의 롤러(114a)를 포함한다. 이송축(114)들은 기판(G)을 층들간 이송할 때 기판(G)을 지지함과 아울러 기판(G)을 기판 지지부(110)에 로딩/언로딩 할 때 회전동작을 통해서 기판(G)을 이송시키는 역할을 한다. 즉, 회전 동작함에 의해 롤러(114a)를 회전시키게 되고 롤러(114a)의 회전에 의해 기판(G)을 이송함으로써, 기판(G)의 로딩/언로딩 구동하게 된다. 이에, 이송축(114)들은 기판(G)의 이송 방향을 따라서 평행하게 배치되며, 각각의 이송축(114)에는 풀리가 설치되어 외부의 구동원(미도시)으로부터 구동력을 제공받아 회전 동작하게 된다. 이처럼, 이송축(114)의 회전동작으로 기판(G)을 이송시켜 로딩/언로딩 하는 방식은 예를 들면, 기판(G)의 처리 공간에서 기판(G)의 이송이 컨베이어 부재 등에 의해 이송하는 경우에 적용될 수 있다.
한편, 기판 지지부(110)로 기판(G)을 로딩/언로딩 하기 위한 수단으로 이송 암(예컨대 이송 로봇)이 사용될 수 있으며, 이 경우 이송축(114)을 생략하고 기판(G)의 지지하기 위한 지지부재로 복수의 지지핀(미도시) 등이 구비될 수 있다.
상기 승강부(120)는 기판 지지부(110)와 연결되고, 기판 지지부(110)를 상, 하로 이동시킨다. 즉, 이동부(120)는 기판 지지부(110)를 수직 상승시키거나, 수직 하강시키는 동작을 수행한다. 결과적으로 이동부(120)에 의한 기판 지지부(110)가 상, 하로 이동됨에 따라서 기판 지지부(110)에 지지되는 기판(G)의 층들간 이송이 이루어지게 된다.
이동부(120)는 기판 지지부(110)의 하부에 배치되어 기판 지지부(110)를 지지하는 베이스(122), 그리고 베이스(122)의 양측부에 연결되고, 베이스(122)를 상, 하로 이동시키는 승강부재(124)를 포함할 수 있다. 베이스(122)는 기판 지지부(110)에 대응하는 형상을 갖게 된다. 승강부재(124)는 벨트 방식, 레일 방식 등 통상적인 승강 구동이 가능한 구성으로 적용 가능하다.
한편, 이동부(120)와 기판 지지부(110)의 연결에 있어서 기판 지지부(110)의 적어도 일단부는 힌지 결합될 수 있다. 이러한 힌지 결합은 이하에서 설명하게될 기판 지지부(110)의 경사 변환 동작을 위한 구성이다.
상기 가이드부(130)들은 기판 지지부(110)의 양측부에 위치하며, 층들간 기판(G)의 이송 중에 발생되는 기류에 의한 기판(G)의 오염을 개선하기 위하여 구비된다. 즉, 가이드부(130)들은 기판(G)의 오염을 개선하기 위하여 기판(G)을 상, 하로 이송 중에 발생되는 기류의 방향이 기판(G)으로 향하지 않고, 기판(G)으로부터 멀어지도록 유도하는 역할을 한다.
가이드부(130)들은 기판 지지부(110)의 측부 길이에 대응하는 길이를 갖는다. 또한, 가이드부(130)들은 기판 지지부(110)에 대하여 폭 방향으로 경사도를 갖는 플레이트 형상, 정확하게는 기판 지지부(110)에 지지된 기판(G)에 대하여 폭 방 향으로 경사도를 갖는 플레이트 형상을 갖는다. 예를 들면, 가이드부(130)들은 각각 그 일측부가 기판 지지부(110)의 일측부에 대응하여 접하도록 설치되며, 기판 지지부(110)의 측부로부터 중심부로 갈수록 기판 지지부(110)에 놓여지는 기판(G)으로부터 멀어지는 구조로 설치된다. 즉, 블레이드(132)는 기판 지지부(110)의 측부로부터 중심부로 갈수록 기판 지지부(110)와의 이격거리가 증가되는 구조를 갖는다. 또한, 가이드부(130)들은 기판 지지부(110)의 상부 및 하부에 각각 위치하여 상호 대칭되는 구조를 갖도록 설치될 수도 있다.
여기서, 가이드부(130)들은 기판 지지부(110)의 지지판(112)에 설치될 수 있다. 이에, 가이드부(130)들은 기판(G)이나 이송축(114)의 동작에 대한 영향을 줄일 수 있게 된다. 하지만, 가이드부(130)들은 지지판(112) 이외의 장소에 설치되는 것도 가능하다. 또한, 가이드부(130)들은 도 1 및 도 2의 도면에서와 같이 기판 지지부(110), 예컨대 지지판(112)의 평면에 대하여 수직 방향으로 소정 길이 만큼 연장된 후, 그 선단으로부터 기판 지지부(110)에 지지된 기판(G)에 대하여 폭 방향으로 경사도를 갖도록 절곡된 플레이트 구조를 가질 수 있다. 이처럼, 가이드부(130)들이 지지판(112)과 소정 간격 수직하게 연장됨에 따라서, 기판 지지부(110)에 놓여지는 기판(G)과 가이드부(130) 사이의 이격 공간이 형성되어 기판(G)의 안정적 이송에 유리하다. 한편, 가이드부(132)의 형태는 언급한 절곡형 이외에도, 곡선형 또는 직선형 등 기류를 가이드 하기에 유효한 다양한 형상을 가질 수도 있으며, 경우에 따라서는 홀 등의 가공이 이루어질 수도 있다.
이러한, 가이드부(130)들에 의해서 층들간 기판(G)의 이송 중에 발생되는 기 류는 도 2의 도면에서와 같이 기판(G)으로부터 멀어지는 방향으로 유도된다. 예를 들면, 기판 지지부(110)를 하강시키는 경우에 기판(G) 상부 영역의 압력이 낮아지게 되고, 이에 따라 상대적으로 고압을 갖는 기판 지지부(110)의 양측부로부터 중심부 방향으로 기류가 발생하게 되고, 이 기류는 기판(G) 중심부의 평면을 향하게 된다. 하지만, 가이드부(130)들에 의해 기판 지지부(110)의 측부로부터 중심부로 발생되는 기류는 기판(G)을 향하지 않고 기판(G)과 멀어지는 방향으로 유도된다. 따라서, 가이드부(130)들에 의해 파티클 등의 오염물질이 기류를 타고 기판(G)에 부착되는 것을 방지하여 기판(G)의 이송 중 오염을 개선시킬 수 있게 된다.
한편, 일반적으로 기판(G)의 처리 과정에서 기판(G)은 소정 각도로 경사진(기울어진) 상태에서 이송되면서 처리가 이루어질 수 있다. 이에, 본 발명의 실시예에 따른 기판 이송 장치(100)는 언급한 기판(G) 처리 과정에 대응하도록 기판(G)의 경사를 변화시키는 경사변환부(140)를 더 포함할 수 있다.
상기 경사변환부(140)는 기판 지지부(110)의 경사를 변화시킴에 의해 기판(G)의 경사를 변환시킨다. 경사변환부(140)는 기판 지지부(110)의 일측부를 승강시키거나 하강시킬 수 있는 실린더(142)를 포함할 수 있다. 실린더(142)는 이동부(120)에 힌지 결합된 기판 지지부(110) 일측부의 반대편에 위치하는 기판 지지부(110)의 타측부에 설치된다. 즉, 실린더(142)는 베이스(120)에 힌지 결합된 지지판(112) 일측부의 반대편에 위치하는 지지판(112)의 타측부에 배치된다. 또한, 실린더(142)는 베이스(122)의 타측부에 고정되어 기판 지지부(110)와 연결될 수 있다.
이와 같이, 본 기판 이송 장치(100)는 층들간 기판(G)을 이송할 때 그 주변에 발생되는 기류를 제어함으로써, 이송 중에 기류에 의해 파티클 등의 오염물질이 비산되어 기판(G)에 부착되어 나타나는 기판(G) 오염을 개선시킬 수 있다.
이하, 언급한 기판 이송 장치(100)를 부재로 포함하는 기판 처리 설비에 대하여 설명하기로 한다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 설비를 개략적으로 보여주는 블록도이다.
도 4를 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 처리 설비(200)는 적층 구조로 배치되는 제1 처리부(210) 및 제2 처리부(220), 제1 처리부(210)와 제2 처리부(220) 사이에서 기판(G)의 이송을 수행하는 기판 이송부(230), 그리고 기판(G)을 처리 공간으로 입장시키기 위한 인덱스부(240)를 포함할 수 있다.
상기 인덱스부(240)는 기판(G)을 제2 처리부(220)로 입장시키며, 이를 위해 카세트, 인덱스 로봇, 인덱스 로봇 이송로 등을 구비할 수 있다.
상기 제2 처리부(220)는 제1 처리부(210)의 상층에 위치한다. 제2 처리부(220)는 인덱스부(240)로부터 기판(G)을 제공받는 입구영역과, 기판(G)에 대하여 처리 공정이 이루어지는 적어도 하나의 처리영역을 포함할 수 있다. 이와 달리, 제2 처리부(220)는 입구영역과, 처리 공정의 진행을 위한 기판(G)들이 대기 상태로 존재하면서, 처리 영역으로의 제공을 위해 이송되는 영역으로 구성될 수도 있다.
상기 제1 처리부(210)는 제2 처리부(220)의 하층에 위치한다. 제1 처리부(210)는 실질적으로 기판(G)에 대하여 소정의 처리 공정이 이루어지는 적어도 하 나의 처리 영역과, 처리 영역을 통과하면서 소정의 처리 공정이 완료된 기판(G)을 인덱스부(240)로 제공하기 위한 출구영역을 포함할 수 있다.
상기 기판 이송부(230)는 상기 제1 처리부(210) 및 제2 처리부(220)와 연결되고, 제1 처리부(210)와 제2 처리부(220) 사이에서 기판(G)을 층간 이송시키는 역할을 한다. 즉, 공정 흐름에 따라서 상층(예컨대 2층)에 위치하는 제2 처리부(220)로부터 기판(G)을 인계 받아, 하층(예컨대 1층)에 위치하는 제1 처리부(210)로 기판(G)을 인계하는 기판(G)의 이송을 담당한다. 이를 위해, 기판 이송부(230)에는 앞서 도 1을 참조하여 설명한 기판 이송 장치(100)가 구비된다. 이송부(230)에 구비되는 기판 이송 장치(100)에 대해서는 앞서 상세히 설명하였으므로 구체적인 설명은 생략하기로 한다.
이처럼, 본 기판 처리 설비(200)에 구비되는 기판 이송 장치(100)는 기판(G)의 이송 중에 발생되는 기판(G)의 오염을 개선시킴으로써, 기판(G)의 생산 수율을 향상시키게 된다.
한편, 언급한 구성에 제1 처리부(210)와 제2 처리부(220)에서 이루어지는 기판(G)에 대한 처리 공정은 평판 디스플레이 소자의 제조에 이용되는 다양한 공정이 적용될 수 있다. 일 예로, 본 기판 처리 설비(100)는 기판(G)에 대한 세정 공정을 수행하기 위한 설비일 수 있으며, 이 경우 제1 처리부(210) 및 제2 처리부(220)에는 식각, 수세공정, 건조공정을 수행하기 위한 처리 영역들이 구비될 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 기판 처리 설비(200)에서 제1 처리부(210) 및 제2 처리부(220)에 적용되는 처리 공정은 평판 디스플레이 소자의 제조에 필요한 다양한 공정이 적용될 수 있으므로, 내부적인 구성에 있어서도 이미 공지되어 있는 다양한 형태의 처리 영역의 구성을 취할 수도 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 설비는 기판을 처리하는 처리부가 복수의 층으로 이루어진 구성에서 층들간 기판의 이송을 위하여 기판을 상, 하로 이송시킬 때 발생되는 기류가 기판 지지부의 양측부에 위치한 가이드부들에 의해서 기판으로부터 멀어지도록 유도된다. 따라서, 기판의 이송 중 발생되는 기류에 의해서 파티클 등의 오염물질이 비산되어 기판에 부착되는 것을 방지할 수 있어, 이송 중에 발생할 수 있는 기판의 오염을 개선할 수 있게 된다.
이로 인해서, 공정 중 기판의 청정도를 개선시킬 수 있어 생산 수율을 개선할 수 있으며, 간단한 구성에 의해서 기판의 상, 하 이송 중에 발생되는 오염을 개선할 있게 되므로 기판의 청정도 유지에 소요되는 관리비용을 절감할 수 있게 되고, 결과적으로, 생산 원가의 절감까지 가능하게 된다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치의 구성을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 2는 언급한 기판 이송 장치의 개략적인 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 도 1의 기판 이송 장치에 포함된 경사변환부의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 설비를 개략적으로 보여주는 블록도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
100: 기판 이송 장치 110: 기판 지지부
112: 지지판 112a: 브래킷
114: 이송축 114a: 롤러
120: 이동부 122: 베이스
124: 승강부재 130: 가이드부
140: 경사변환부 142: 실린더
200: 기판 처리 설비 210: 제1 처리부
220: 제2 처리부 230: 기판 이송부
240: 인덱스부

Claims (6)

  1. 기판이 놓여지는 기판 지지부;
    상기 기판 지지부와 연결되고, 상기 기판 지지부를 상, 하로 이동시키는 승강부; 및
    상기 기판 지지부의 상부면의 양측부에 각각 배치되고, 상기 기판 지지부의 이동에 의해 그 주변에 발생되는 기류를 상기 기판으로부터 멀어지도록 유도하여 상기 기류에 의해 기판이 오염되는 것을 방지하기 위한 가이드부들을 포함하는 기판 이송 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 가이드부들은 상기 기판 지지부의 측부 길이에 대응하는 길이를 갖고 상기 기판 지지부에 지지된 기판에 대하여 폭 방향으로 경사도를 갖는 플레이트 형상인 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 기판 지지부의 상부면의 양측부에 각각 배치되는 가이드부들과 다른, 상기 기판 지지부의 하부면의 양측부에 각각 배치되는 가이드부들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 기판 지지부는 지지판을 포함하며,
    상기 가이드부들은 상기 기판 지지부의 지지판에 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 기판 지지부의 일측부 하부에 배치되고, 상기 기판 지지부를 수평 상태 또는 기울어진 상태로 변환시켜주는 경사변환부를 더 포함하는 것을 특징으로 히는 기판 이송 장치.
  6. 기판에 대하여 처리가 이루어지는 제1 처리부;
    상기 제1 처리부의 상부에 설치되고, 상기 기판에 대하여 처리가 이루어지는 제2 처리부; 및
    상기 제1 처리부와 상기 제2 처리부에 연결되고, 상기 제1 처리부와 제2 처리부 사이의 기판 이송을 수행하기 위한 기판 이송부를 포함하며,
    상기 기판 이송부는
    이송할 기판이 놓여지는 기판 지지부;
    상기 기판 지지부와 연결되고, 상기 제1 처리부와 상기 제2 처리부에 대응하도록 상기 기판 지지부를 상, 하로 이동시키는 승강부; 및
    상기 기판 지지부의 상부면의 양측부에 각각 배치되고, 상기 기판 지지부의 이동에 의해 그 주변에 발생되는 기류가 상기 기판으로부터 멀어지도록 유도하여 상기 기류에 의해 기판이 오염되는 것을 방지하기 위한 가이드부들을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000146241A (ja) 1998-11-10 2000-05-26 Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd Ａｇｖおよび気流の整流方法
KR20050019457A (ko) * 2003-08-19 2005-03-03 삼성전자주식회사 반도체 제조 장치 및 반도체 제조 장치의 로드락 챔버
KR20050080308A (ko) * 2004-02-09 2005-08-12 세메스 주식회사 기판 반송 장치
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Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000146241A (ja) 1998-11-10 2000-05-26 Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd Ａｇｖおよび気流の整流方法
KR20050019457A (ko) * 2003-08-19 2005-03-03 삼성전자주식회사 반도체 제조 장치 및 반도체 제조 장치의 로드락 챔버
KR20050080308A (ko) * 2004-02-09 2005-08-12 세메스 주식회사 기판 반송 장치
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