JP3999552B2 - 処理装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は液晶用ガラス基板や半導体ウエハなどの被処理物を複数の処理部によって順次処理する処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
たとえば、液晶用ガラス基板や半導体ウエハなどの被処理物に回路パタ−ンを形成する製造工程においては、その被処理物に対して種々の処理を行うことが要求され、その処理の１つに上記被処理物を高い清浄度で洗浄することが要求される工程がある。
【０００３】
被処理物の洗浄には、その被処理物に紫外線を照射し有機物を分解して除去する紫外線照射手段、搬送される被処理物に薬液などを吹き付けながらブラシで洗浄するブラシ洗浄手段、被処理物をテ−ブルに保持して回転させながら薬液などを吹き付けるスピン洗浄手段など、種々の洗浄手段（処理部）が知られており、複数の洗浄手段を用いて被処理物を洗浄処理する場合には、それらの洗浄手段に対して被処理物を搬入、搬出処理する搬送手段（処理部）も設けられる。
【０００４】
被処理物の清浄度を高めるためには、上述した複数の洗浄手段のうち、できるだけ多くの洗浄手段によって被処理物を洗浄するようにしている。その場合、ユニット化された各洗浄手段をクリ−ンル−ムに平面的に並設し、洗浄する被処理物を複数の洗浄手段に対して搬送手段で順次搬入、搬出するということが行なわれている。
【０００５】
しかしながら、複数の洗浄手段や上記搬送手段を平面的に配置すると、クリ−ンル−ムにおいて各洗浄手段や搬送手段が占めるスペ−スが大きくなるということがあった。クリ−ンル−ムにおいてはスペ−スをできるだけ有効に活用することが要求されている。したがって、被処理物を洗浄する場合、複数の洗浄手段や搬送手段が占有するスペ−スを小さくすることが望まれている。
【０００６】
上記被処理物を並設された洗浄手段間で搬送するには、その洗浄手段における洗浄処理が連続的に行なえる場合にはコンベアによって連続搬送すればよい。しかしながら、洗浄手段における洗浄処理が、たとえばスピン洗浄などのように連続的に行なえない場合には、上記被処理物を処理部の１つである上述した搬送手段を構成するロボット装置によって搬送するということが行なわれている。
【０００７】
搬送手段としてロボット装置を用いると、このロボット装置を並設された洗浄手段に沿って走行させるということが行なわれる。その場合、上記ロボット装置の走行範囲にわたって軌道を設けるようにしている。
【０００８】
しかしながら、上記ロボット装置によって洗浄された被処理物を搬入、搬出すると、被処理物から滴下する洗浄液が上記軌道に滴下するということがある。洗浄液としては純水以外にたとえば酸性度の高い薬液などが用いられることがある。そのため、被処理物から滴下した薬液が軌道を腐食させたり、上記ロボット装置を制御するためのケ−ブルを損傷させるなどのことがあった。
【０００９】
さらに、ロボット装置によって被処理物を所定の洗浄手段に搬入する場合、その洗浄手段での被処理物の洗浄が終了するまで、前工程で洗浄された被処理物を保持して待機しなければならないことがある。その場合、待機時間が長くなると、前工程で上記被処理物に付着した洗浄液が乾燥し、その被処理物に染みなどが付いてしまうということもあった。
【００１０】
なお、上述したスペ−スの問題は被処理物を洗浄処理する場合だけに発生するものでなく、種々の工程でも問題になる。たとえば被処理物に対してレジストを塗布する場合には、塗布装置、加熱装置、予備加熱装置などの複数の処理部を設けることになるから、同様の問題が発生することになる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
このように、従来は被処理物を複数の処理部で処理する場合、その複数の処理部を平面的に配置していたので、配置スペ−スが大きくなるということがあり、とくにクリ−ンル−ムにおいて配置スペ−スが大きくなるとそのクリ−ンル−ムの有効活用が阻害される。
【００１２】
複数の処理部間における被処理物の受け渡しを行う手段がロボット装置で、そのロボット装置を並設された処理部に沿って走行させる場合、その軌道やロボット装置を制御するためのケ−ブルなどに洗浄液を滴下させ、これらを早期に損傷させるということがある。
【００１３】
さらに、ロボット装置がつぎの処理部に供給する被処理物を保持した状態で待機すると、たとえばその被処理物が前工程で洗浄された場合、その被処理物に付着した洗浄液が乾燥して染みなどができるということもある。
【００１４】
この発明の目的は、複数の処理部を少ないスペ−スに設置できるようにした処理装置を提供することにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
この発明は、被処理物を処理するための処理装置において、
二列に並設された複数の処理ユニットと、
一方の列の処理ユニットの上部に配置された洗浄ユニット及び下部に配置された搬入搬出機構と、
上記洗浄ユニットに未処理の被処理物を供給する第１の受け渡し手段と、
上記洗浄ユニットで洗浄処理された被洗浄物を受けて上記搬入搬出機構に受け渡す第２の受け渡し手段と、
上記一方の列の処理ユニットと隣り合う他方の列の処理ユニットの下部に配置され上記第２の受け渡し手段から被処理物を受けた上記搬入搬出機構によってその被処理物が搬入及び搬出されるスピン処理装置と
を具備したことを特徴とする処理装置にある。
【００１８】
一方の列の処理ユニットの下部の一端には第１の受け渡し手段によって上記洗浄ユニットに供給される未処理の被処理物を収容したローダ部が設けられ、他方の列の処理ユニットの下部の一端には上記スピン処理装置によって処理されて上記搬入搬出機構によって取り出された被処理物を格納するアンローダ部が上記ローダ部と並んで設けられていることが好ましい。
【００１９】
上記第１の受け渡し手段と第２の受け渡し手段は、それぞれ上下方向に駆動されるローラユニットに回転駆動されるローラを備えていることが好ましい。
【００２０】
複数のスピン処理装置が直列に設けられていることが好ましい。
【００２１】
上記第２の受け渡し手段は、上記ローラユニットによって搬送される被処理物に向けて乾燥防止用の液体を供給する液体供給手段と、上記ローラユニットの下面側に設けられ上記液体供給手段から供給された液体を集積するとともに上記ローラユニットと一体的に上下駆動されるドレンパンと、このドレンパンに接続されドレンパンに集積された液体を排出する可動パイプと、この可動パイプがスライド自在に挿入され可動パイプから排出される液体が導入される固定パイプとからなることが好ましい。
【００２２】
上記洗浄ユニットの搬出側には所定の高さで配置されるとともにその洗浄ユニットから搬出された被処理物を受ける固定式ロ−ラユニットが設けられ、
上記第２の受け渡し手段は、上下方向に駆動されるとともに上昇位置で上記固定式ロ−ラユニットに搬出された被処理物を受けて下降する可動式ロ−ラユニットからなり、
上記可動式ロ−ラユニットが上昇したときに隣り合う上記固定式ロ−ラユニットと可動式ロ−ラユニットとの一側には、各ロ−ラユニットの内方に向かって低く傾斜した傾斜部を有する第１の防水カバ−と第２の防水カバ−とが設けられ、上記可動式ローラユニットに設けられた第２の防水カバ−の傾斜部は、この可動式ローラユニットが上昇したときに上記固定式ロ−ラユニットの防水カバ−の傾斜部の下方に位置することが好ましい。
【００２３】
上記搬入搬出機構は、その移動方向に沿って設けられたガイド部と、このガイド部と平行かつ所定の間隔を介して設けられた駆動装置と、上記ガイド部と駆動装置との間に配置されるとともにこれらガイド部と駆動装置とによって走行自在に支持されかつ駆動装置によってその走行方向に沿って駆動されるロボットと、このロボットの走行方向両側に沿って上記ガイド部と駆動装置とを覆う状態で設けられたカバー体とからなることが好ましい。
【００２４】
上記搬入搬出機構はロボットを有し、このロボットは、複数のリンクを回動自在に連結するとともに先端に被処理物を保持するためのセッタが設けられて伸縮駆動される第１のアーム体と第２のアーム体とを備え、
上記第１のアーム体のセッタは、上記第２のアーム体のセッタよりも上方に位置するとともに、この第２のアーム対のセッタにはここに保持された被処理物に向けて液体を噴射するノズル体が設けられていることが好ましい。
【００２５】
上記他方の列の処理ユニットの上部には上記スピン処理装置に清浄空気を導入するクリーンユニットが設けられ、このクリーンユニットからの清浄空気の一部はガイド体によって上記一方の列の下部に配置された上記搬入搬出機構に導かれることが好ましい。
【００２６】
この発明によれば、洗浄ユニットとスピン処理装置とを上下二段に配置したことで、平面的に配置する場合に比べて占有面積を小さくすることができる。
【００３４】
【発明の実施形態】
以下、この発明の一実施形態を図面を参照して説明する。
【００３５】
図１に示すこの発明の処理装置は被洗浄物としての液晶用ガラス基板を洗浄処理するための洗浄処理装置１を示す。この洗浄処理装置１は同図に鎖線で示す複数の処理ユニット、この実施形態では第１乃至第５の処理ユニット１ａ〜１ｅ有し、第１乃至第３の処理ユニット１ａ〜１ｃと、第４、第５の処理ユニット１ｄ、１ｅが二列に並設されている。なお、図中２は電装ユニットである。
【００３６】
上記第１の処理ユニット１ａ内には架台３上に設置されたロ−ダ部４を有する。このロ−ダ部４には複数の液晶用ガラス基板５が積層保持されていて、上記架台３に設けられた図示しない搬出機構によって液晶用ガラス基板５が下方から順次一枚ずつ搬出されるようになっている。
【００３７】
上記ロ−ダ部４から搬出された液晶用ガラス基板５は第１の受け渡し手段としての第１の受け渡し機構６によって第２の処理ユニット１ｂに送り込まれるようになっている。上記第１の受け渡し機構６は垂直に立設された支柱７を有する。この支柱７にはロ−ラユニット８が図示しない駆動源によって上下駆動自在に設けられている。このロ−ラユニット８はフレ−ム９を有し、このフレ−ム９には複数のロ−ラ１１が軸線を平行にして回転自在に架設されている。フレ−ム９の一側には上記ロ−ラ１１を回転駆動するための駆動源１２が設けられている。
【００３８】
上記ロ−ラユニット８は、その上面を上記ロ−ダ部４から搬出される液晶用ガラス基板５と同じ高さに下降して待機している。上記ロ−ダ部４から搬出された液晶用ガラス基板５は上記ロ−ラユニット８上に供給される。液晶用ガラス基板５を受けたロ−ラユニット８は上昇し、第２の処理ユニット１ｂ内に所定の高さで設けられた紫外線照射装置１５に液晶用ガラス基板５を供給する。
【００３９】
上記紫外線照射装置１５は一側に供給口１６が形成されていて、上記ロ−ラユニット８はその上面に載置された液晶用ガラス基板５が上記供給口１６と同じ高さになる位置まで上昇する。ついで、ロ−ラ１１が駆動源１２によって回転駆動されることで、上記液晶用ガラス基板５が上記紫外線照射装置１５内へ供給される。
【００４０】
上記紫外線照射装置１５は、詳細は図示しないが、その内部に、液晶用ガラス基板５を搬送する搬送ロ−ラおよびこの搬送ロ−ラによって搬送される液晶用ガラス基板５に紫外線を照射する紫外線ランプを有し、紫外線によって照射されることで、液晶用ガラス基板５に付着した有機物が分解除去されるようになっている。
【００４１】
上記第２の処理ユニット１ｂには、上記紫外線照射装置１５と隣接しかつ同じ高さでブラシ洗浄ユニット２０が配置されていて、この内部には上記紫外線照射装置１５で処理された液晶用ガラス基板５を連続して搬送する図示しない搬送手段が設けられている。
【００４２】
上記ブラシ洗浄ユニット２０は、一側に上記液晶用ガラス基板５が供給される供給口２１が形成されるとともにその内部には不活性ガスが供給されて内部雰囲気が中性に維持されるニュ−トラル室２２と、このニュ−トラル室２２を通過した液晶用ガラス基板５に薬液などの洗浄液を吹き付けながらブラシ洗浄するブラシ洗浄室２３と、このブラシ洗浄室２３で洗浄された液晶用ガラス基板５を純水でシャワ−洗浄するシャワ−室２４とが順次並設されている。このシャワ−室２４にはシャワ−洗浄された液晶用ガラス基板５が搬出される図示しない搬出口が形成されている。
【００４３】
上記シャワ−室２４の搬出口から搬出された液晶用ガラス基板５は、受け渡し用ロ−ラユニット３０（固定式ロ−ラユニット）を介して上記第１の受け渡し機構６とほぼ同じ構成の第２の受け渡し手段としての第２の受け渡し機構３１によって受け取られる。この第２の受け渡し機構３１は支柱３２を有する。この支柱３２には可動式ロ−ラユニット３３が図示しない駆動源によって上下駆動自在に設けられている。この可動式ロ−ラユニット３３は上面が開口した有底状の筐体３４（ドレンパン）を有し、この筐体３４には複数のロ−ラ３５が軸線を平行にして回転自在に架設されている。上記筐体３４の一側には駆動源３４ａ（図２に示す）が設けられ、この駆動源によって上記ロ−ラ３５が回転駆動されるようになっている。
【００４４】
上記可動式ロ−ラユニット３３はその上面を上記シャワ−室２４の搬出口から送り出される液晶用ガラス基板５とほぼ同じ高さに上昇して待機している。上記シャワ−室２４から搬出された液晶用ガラス基板５を上記可動式ロ−ラユニット３３が受けると、この可動式ロ−ラユニット３３は下降する。
【００４５】
可動式ロ−ラユニット３３に載置された液晶用ガラス基板５はロボット装置である搬入搬出機構４０（処理部の１つである）を構成するロボット４１によって取り出され、上記第４の処理ユニット１ｄに並設された第１のスピン処理装置４２と第２のスピン処理装置４３のどちらか一方に供給される。
【００４６】
上記第２の受け渡し機構３１の可動式ロ−ラユニット３３に受け渡された液晶用ガラス基板５は、上記搬入搬出機構４０のロボット４１に受け渡される前に乾燥すると、染みなどができるから、それを防止するために乾燥防止用の液体として純水が散布される。
【００４７】
つまり、可動式ロ−ラユニット３３は図２に示すようにドレンパンとしての上述した有底箱状の筐体３４を有し、この筐体３４の上部両側にはパイプ状のシャワ−ノズル３７が配置されている。各シャワ−ノズル３７からは上記可動式ロ−ラユニット３３に保持された液晶用ガラス基板５に向けて純水が噴射されるようになっている。
【００４８】
上記筐体３４の底部には可動パイプ３８の上端が接続されている。この可動パイプ３８は垂設され、これよりも大径な固定パイプ３９にスライド自在に挿通されている。この固定パイプ３９は中途部が第２の受け渡し機構３１の架台３１ａに固定され、下端部は図示しない廃液部に連通している。それによって、可動式ロ−ラユニット３３に保持された液晶用ガラス基板５に向けて噴射された純水はユニット本体３６から可動パイプ３８および固定パイプ３９を通って排出されるようになっている。
【００４９】
ユニット本体３６に可動パイプ３８を接続し、この可動パイプ３８を固定パイプ３９に挿通したことで、可動式ロ−ラユニット３３が上下動しても、ユニット本体３６からのドレンの排出を確実に行うことができる。
【００５０】
すなわち、通常、可動部からドレンを排出する場合、可動部の動きに対応できるようにするため、フレキシブルチュ−ブが用いられる。その場合、フレキシブルチュ−ブは可動部が上昇できる長さに設定されているから、下降したときには屈曲して側方へ突出する。そのため、上記フレキシブルチュ−ブを側方へ屈曲させるためのスペ−スを確保しなければならなかったり、可動部の上下動によってフレキシブルチュ−ブが屈曲を繰り返すことで、その屈曲部分が早期に損傷するということがあった。
【００５１】
しかしながら、この発明では、フレキシブルチュ−ブを用いず、ユニット本体３６に可動パイプ３８を接続し、この可動パイプ３８を固定パイプ３９にスライド自在に挿通した。そのため、ユニット本体３６の上下動によって可動パイプ３８が固定パイプ３９内をスライドするから、固定パイプ３９を設置するに必要なスペ−スを確保するだけですみ、しかもフレキシブルチュ−ブのように屈曲により早期に損傷するということもない。
【００５２】
図６に示すように、上記受け渡し用ロ−ラユニット３０は、上記可動式ロ−ラユニット３３と同様、筐体１３１を有する。この筐体１３１には、中心部に向かって低く傾斜した底部の中心部に排液管１３２が設けられ、対向する一対の側壁間には複数のロ−ラ１３３が軸線を平行にして所定間隔で回転自在に架設されている。このロ−ラ１３３は図示しない駆動源によって回転駆動されるようになっている。
【００５３】
したがって、上記シャワ−室２４から上記受け渡し用ロ−ラユニット３０のロ−ラ１３３上に搬出された液晶用ガラス基板５は、そのロ−ラ１３３が回転駆動されることで、上記可動式ロ−ラユニット３３のロ−ラ３５上に受け渡される。
【００５４】
上記可動式ロ−ラユニット３３が上昇位置にあるときに隣り合う、上記受け渡し用ロ−ラユニット３０と上記可動式ロ−ラユニット３３の筐体１３１，３４の側壁には、それぞれ第１の防水カバ−１３４と第２の防水カバ−１３５とが設けられている。
【００５５】
各防水カバ−１３４、１３５は垂直部１３４ａ、１３５ａと、傾斜部１３４ｂ、１３５ｂとを有し、垂直部１３４ａ、１３５ａの下端部が上記側壁の内面にスペ−サ１３６を介して取付けられている。それによって、各防水カバ−１３４、１３５の傾斜部１３４ｂ、１３５ｂは各筐体１３１、３４の側壁から外方に向かって突出するとともに、各筐体１３１、３４の内方に向かって低く傾斜している。
【００５６】
さらに、可動式ロ−ラユニット３３が上昇した状態において、液晶用ガラス基板５の搬送方向上流側となる受け渡しロ−ラユニット３０に設けられた第１の防止カバ−１３４の傾斜部１３４ｂは、可動式ロ−ラユニット３３に設けられた第２の防水カバ−１３５の上方に重合位置する用になっている。
【００５７】
それによって、シャワ−室２４で洗浄された液晶用ガラス基板５が受け渡し用ロ−ラユニット３０から可動式ロ−ラユニット３３へ受け渡される場合、そのガラス基板５から滴下する洗浄液は各防水カバ−１３４、１３５の傾斜部１３４ｂ、１３５ｂに滴下し、その傾斜に沿って各筐体１３１、３４内へ流入する。そのため、液晶用ガラス基板５から滴下する洗浄液が周囲に飛散するのが防止される。
【００５８】
しかも、一対の防水カバ−１３４、１３５の傾斜部１３４ｂ、１３５ｂは重合しているから、洗浄液が各ロ−ラユニット３０、３３の隙間から飛散するということもない。
【００５９】
さらに、洗浄液が仮に防水カバ−１３４、１３５の下面に付着し、傾斜部１３４ｂ、１３５ｂから垂直部１３４ａ、１３５ａへと流れても、垂直部１３４ａ、１３５ａの下端はスペ−サ１３６を介して筐体３４、１３１の側壁内面に取着されている。そのため、防水カバ−１３４、１３５の下面に沿って流れた洗浄液が筐体１３１、３４の外部に滴下するということもない。
【００６０】
上記ロボット４１は並設された複数、この実施形態では一対のスピン処理装置４２、４３の側方で、上記紫外線照射装置１５とブラシ洗浄装置２０の下方、つまり図５に示すように第２の処理ユニット１ｂに、上記第４の処理ユニット１ｄに配置された上記一対のスピン処理装置４２、４３の並設方向に沿って移動自在に設けられている。すなわち、図３に示すように上記スピン処理装置４２、４３の側方にはガイド部を形成するガイドレ−ル４４およびこのガイドレ−ル４４と所定間隔で平行に離間して駆動装置としてのリニアモ−タ４５が設けられている。
【００６１】
上記ガイドレ−ル４４にはスライダ４６がスライド自在に設けられ、このスライダ４６の上面には第１の水平部材４７が設けられている。この第１の水平部材４７には第１の垂直部材４８が垂設されている。
【００６２】
上記リニアモ−タ４５は固定部４５ａと、この固定部４５ａに沿って駆動される可動部４５ｂとからなり、この可動部４５ｂには第２の水平部材４９が取着されている。この第２の水平部材４７には第２の垂直部材５１が垂設されている。
【００６３】
上記第１の垂直部材４８と第２の垂直部材５１との下端間には載置板５２が水平に架設されていて、この載置板５２上に上記ロボット４１が設置固定されている。このロボット４１は柱状の本体部４１ａを有し、この本体部４１ａは一対の垂直部材４８、４９の間隔よりも小さな径寸法に形成されている。
【００６４】
上記ガイドレ−ル４４とリニアモ−タ４５の固定部４５ａとはそれぞれ耐蝕性の高い金属や合成樹脂等の材料からなるカバ−体５３ａ、５３ｂによって覆われている。
【００６５】
各カバ−体５３ａ、５３ｂは上端が上記ロボット４１の走行方向に沿って設けられたフレ−ム５４に固定され、中途部がロボット４１に向かって低く傾斜し、かつそれぞれが上記ガイドレ−ル４４とリニアモ−タ４５の固定部４５ａを覆い、下端部は各垂直部材４８、５１とロボット４１との間に挿入されている。
【００６６】
上記一対のカバ−体５３ａ、５３ｂの下端側には、上記ロボット４１の走行範囲の全長にわたって耐蝕性の高い材料からなるドレンパン５５が設けられている。このドレンパン５５には、後述するように上記ロボット４１からカバ−体５３ａ、５３ｂに滴下したドレンが集積されるようになっている。
【００６７】
上記ロボット４１は図４に示すようにツインア−ムロボットで、その本体部４１ａ内には図示しない駆動源が設けられている。上記本体部４１ａの上面には第１のア−ム体５６と第２のア−ム体５７とが設けられている。第１のア−ム体５６は、第１のリンク５６ａと第２のリンク５６ｂとからなっており、第２のア−ム体５７は第３のリンク５７ａと第４のリンク５７ｂからなっており、第１のリンク５６ａと第３のリンク５７ａの一端が上記駆動源の駆動軸に連結されている。
【００６８】
第１のリンク５６ａの他端には第２のリンク５６ｂの一端が第１のリンクの回動に連動して回動するよう連結されている。各第３のリンク５７ａの他端には第４のリンク５７ｂの一端が第３のリンク５７ａの回動に連動して回動するように連結されている。第２のリンク５６ｂと第４のリンク５６ｂの他端にはそれぞれ第１のセッタ５６ｃと、第２のセッタ５７ｃの一端が第２のリンク５６ｂと第４のリンク５７ｂの回動に連動して回動するよう連結されている。
【００６９】
したがって、一対の第１、第２のア−ム体５６、５７は、第１のリンク５６ａと第３のリンク５７ａが回動されることで、第２のリンク５６ｂおよび第４のリンク５７ｂと、第１のセッタ５６ｃおよび第２のセッタ５７ｃとがそれぞれ連動し、伸縮運動するようになっている。さらに、第１、第２のア−ム体５６、５７は伸縮する方向を変えたり、上下駆動されるようになっている。図４は第１のア−ム体５６が縮小し、第２のア−ム体５７が伸長している状態を示している。
【００７０】
一対のア−ム体５６、５７が縮小したとき、第２のリンク５６ａと第３のリンク５７ａとが、また第１のセッタ５６ｃと第２のセッタ５７ｃとが夫々干渉するのを防止するため、これらは高さを違えて設けられている。この実施形態では第２のア−ム体５７が第１のア−ム体５６よりも低く設けられている。
【００７１】
第１のア−ム体５６はドライ状態にある液晶用ガラス基板５を専用に搬送し、第２のア−ム体５７はウエット状態にある液晶用ガラス基板５を専用に搬送するようになっている。
【００７２】
各ア−ム体５６、５７の第１のセッタ５６ｃと第２のセッタ５７ｃには所定の大きさの液晶用ガラス基板５を位置決め保持するための複数の保持部材６１が設けられている。また、第２のア−ム体５７の第２のセッタ５７ｃの基端部上面には一対のノズル体６２が設けられている。各ノズル体６２からは第２のセッタ５７ｃに保持された液晶用ガラス基板５が乾燥するのを防止するための液体としてたとえば純水が噴射されるようになっている。
【００７３】
つまり、ブラシ洗浄装置２０で洗浄されて第２の受け渡し機構３１に受け渡されたウエット状態にある液晶用ガラス基板５は第２のア−ム体５７の第２のセッタ５７ｃによって受け取られる。ついで、その液晶用ガラス基板５は第１あるいは第２のスピン処理装置４２、４３に供給される。その際、各スピン処理装置４２、４３はバッチ処理であるから、ウエット状態の液晶用ガラス基板５を供給する間、所定時間待機しなければならない。待機中には上記ノズル体６２から液晶用ガラス基板５に向けて純水が噴射される。それによって、ウエット状態にある液晶用ガラス基板５が乾燥するのが防止されるから、乾燥による染みなどができるのが防止される。
【００７４】
一対のスピン処理装置４２、４３は液晶用ガラス基板５に対して同じ処理を行うようになっている。つまり、液晶用ガラス基板５を保持して高速度で回転させるとともに、その上面に超音波振動が付与された薬液を薬液供給ノズル６５から供給して薬液洗浄したのち、純水を純水供給ノズル６６から供給してすすぎ洗浄する。ついで、液晶用ガラス基板５に薬液や純水を供給せずに高速回転させることで、乾燥処理する。
【００７５】
上記紫外線照射装置１５およびブラシ洗浄ユニット２０は液晶用ガラス基板５を連続的に処理する。それに対してスピン処理装置４２、４３による液晶用ガラス基板５の処理はバッチ処理である。そのため、液晶用ガラス基板５の流れが不連続となってタクトタイムが長くなる。
【００７６】
しかしながら、上述したごとく、液晶ガラス基板５に対して同じ処理を行う一対のスピン処理装置４２、４３を並設して設け、これらスピン処理装置に対してブラシ洗浄ユニット２０からの液晶ガラス基板５を交互に供給するようにした。そのため、１つのスピン処理装置で１枚の液晶ガラス基板５を順次処理する場合に比べ、洗浄処理装置１全体としてのタクトタイムを短くすることが可能となる。
【００７７】
各スピン処理装置４２、４３で乾燥処理されてドライ状態にある液晶ガラス基板５はロボット４１の第１のア−ム体５６の第１のセッタ５６ｃによって取り出され、第５の処理ユニット１ｅへ搬送される。
【００７８】
なお、ロボット４１による液晶ガラス基板５の各スピン処理装置４２、４３に対する着脱は、図１と図５に示すように第２の処理ユニット１ｂと第４の処理ユニット１ｄとを連通する開口部６３を介して行われる。この開口部６３は図示しないゲ−トによって開閉されるようにしてもよい。
【００７９】
上記ロボット４１は、ウエット状態にある液晶ガラス基板５を第２のア−ム体５７で受け渡し、洗浄処理が完了してドライ状態にある液晶ガラス基板５を第１のア−ム体５６で受け渡すようにしている。そのため、第１のア−ム体５６の第１のセッタ５６ｃにはウエット状態にある液晶ガラス基板５の汚れが付着するということがないから、上記第１のセッタ５６ｃで受け渡しする清浄な状態の液晶ガラス基板５がロボット４１での受け渡しによって汚損されることがない。
【００８０】
しかも、第１のア−ム体５６は第２のア−ム体の５７の上方に位置するから、第２のア−ム体５７の第２のセッタ５７ｃに保持されたウエット状態の液晶ガラス基板５から滴下する液体などによって第１のア−ム体５６の第１のセッタ５６ｃやここに保持された液晶ガラス基板５が汚されるということもない。
【００８１】
上記ロボット４１の第２のア−ム体５７がウエット状態にある液晶ガラス基板５を一対のスピン処理装置４２、４３のいずれか一方に供給する場合、リニアモ−タ４５によって駆動され、ガイドレ−ル４４に沿って走行する。その際、ウエット状態にある液晶ガラス基板５からは一対のカバ−体５３ａ、５３ｂの中間部上面に処理液などのドレンが滴下する。
【００８２】
上記カバ−体５３ａ、５３ｂの中間部はロボット４１に向かって低く傾斜しているから、カバ−体５３ａ、５３ｂの中間部に滴下した処理液は図３に矢印で示すようにその中間部から下端部を経てドレンパン５５に集積される。
【００８３】
つまり、ウエット状態の液晶ガラス基板５から滴下した処理液がロボット４１の走行をガイドするガイドレ−ル４４に滴下してこのガイドレ−ル４４を早期に腐食させたり、リニアモ−タ４５に滴下してこれを損傷させるなどのことが防止される。
【００８４】
上記第５の処理ユニット１ｅは図１に示すように複数のロ−ラからなる搬出部７１を有する。この搬出部７１の一端側には上記ロボット４１の第１のア−ム体５６の第１のセッタ５６ｃに保持された液晶ガラス基板５を受け取るプッシャ７２が上下動自在に設けられている。
【００８５】
上記プッシャ７２が上昇して第１のセッタ５６ｃから液晶ガラス基板５を受け取ると、下降してその液晶ガラス基板５を上記搬出部７１へ受け渡す。搬出部７１の他端にはアンロ−ダ部７３が配設されていて、上記搬出部７１を搬送されてきた液晶ガラス基板５はこのアンロ−ダ部７３に積層収容される。なお、洗浄装置１における液晶ガラス基板５の流れは図１に矢印で示す。
【００８６】
上記洗浄処理装置１はクリ−ンル−ムに設置されるとともに、各処理ユニット１ａ〜１ｅの上部外面には図５に示すようにクリ−ンユニット７５が設けられている。クリ−ンユニット７５はクリ−ンル−ム内の空気を清浄化して各処理ユニット１ａ〜１ｅへ導入する。
【００８７】
第２の処理ユニット１ｂにおいては、上記ロボット４１がブラシ洗浄ユニット２０の下方に配置されている。そのため、第２の処理ユニット１ｂの上部のクリ−ンユニット７５から供給された清浄空気はブラシ洗浄ユニット２０に遮られ、上記ロボット４１に保持された液晶ガラス基板５の清浄度を維持することが難しくなる。
【００８８】
そこで、上記第２の処理ユニット１ｂに並設された第４の処理ユニット１ｄの上部には、クリ−ンユニット７５からの清浄空気の一部を分流するための第１のガイド体７６が設けられている。同図に矢印で示すように第１のガイド体７６で分流された清浄空気は上記第４の処理ユニット１ｄと第２の処理ユニット１ｂとを連通する通孔７７へガイドされる。
【００８９】
第２の処理ユニット１ｂには上記通孔７７から流入した清浄空気を下方へ向かってガイドする第２のガイド体７８が設けられている。それによって、その清浄空気はロボット４１に向かって流れるから、このロボット４１に保持された液晶ガラス基板５の清浄度を維持することができる。
【００９０】
上記構成の洗浄処理装置１によれば、液晶ガラス基板５を処理するための処理部としての紫外線照射装置１５とブラシ洗浄ユニット２０とを上段に配置し、これらの下段に同じく処理部としてのロボット４１を配置した。
【００９１】
そのため、洗浄処理装置１全体としての幅寸法は、上記ロボット装置４０を紫外線照射装置１５とブラシ洗浄ユニット２０に対して横方向に並設した場合よりも小さくできるから、その分、クリ−ンル−ムを占有するスペ−スも小さくすることができる。
【００９２】
上記紫外線照射装置１５およびブラシ洗浄ユニット２０と、ロボット４１とを上下二段に配置するとともに、上段の紫外線照射装置１５の入口側には第１の受け渡し機構６を設け、ブラシ洗浄ユニット２０の出口側には第２の受け渡し機構３１を設けるようにした。
【００９３】
そのため、複数の処理部を上下二段に配置しても、液晶ガラス基板５のロ−ダ部４から紫外線照射装置１５への受け渡しやブラシ洗浄ユニット２０からロボット４１への受け渡しを確実に行うことが可能である。
【００９４】
上段に紫外線照射装置１５およびブラシ洗浄ユニット２０を配置し、下段にロボット４１を配置したことで、第２の処理ユニット１ｂの上部からのダウンフロ−が上段の処理部によって遮られる。
【００９５】
しかしながら、上記第２の処理ユニット１ｂに並設された第４の処理ユニット１ｄからのダウンフロ−の一部は、第１のガイド体７６によって分流され、第２、第４の処理ユニット１ｂ、１ｄを連通する通孔７７を通って第２のガイド体７８によりロボット４１に向かってガイドされる。
【００９６】
したがって、ロボット４１に保持された洗浄処理後の液晶ガラス基板５は第２の処理ユニット１ｂに隣接する第４の処理ユニット１ｄからの清浄空気によって清浄度が維持される。つまり、複数の処理部を上下二段に配置しても、下段に配置された処理部の清浄度をクリ−ンユニット７５からの清浄空気によって確実に維持することができる。
【００９７】
この発明は上記一実施形態に限定されず、種々変形可能である。たとえば、上記一実施形態では処理装置として洗浄処理装置を挙げたが、それ以外の処理を行う装置であっても、複数の処理部を有するものであれば、この発明を適用することができる。
【００９８】
たとえば被処理物としての半導体ウエハや液晶ガラス基板に回路パタ−ンを形成するために行われる現像処理、エッチング処理、薄膜形成処理などを行う処理部を備えた処理装置であってもよく、要は処理部の種類や組み合わせ、さらには被処理物の種類なども限定されるものでない。
【００９９】
さらに、上記一実施形態ではロ−ダ部に収容された被処理物を第１の受け渡し機構で上段の処理部に供給し、上段の最後の処理部で処理された被処理物を第２の受け渡し機構で下段の処理部に受け渡すようにしたが、処理部の配置状態によってはロ−ダ部の被処理物を第１の受け渡し機構によって下段の処理部に受け渡し、第２の受け渡し機構によって下段の処理部で処理された被処理物を上段の処理部に受け渡すようにしてもよい。その場合、ロ−ダ部と下段の処理部とが同じ高さであれば、第１の受け渡し機構を上下動自在な構成としなくてもよい。
【０１００】
また、一対のスピン処理装置を１つの処理ユニットに配置したが、別々の処理ユニットに配置するようにしてもよく、その点は処理部の大きさや処理ユニットの大きさなどによって設計変更できることである。
【０１０１】
また、上記一実施形態では、紫外線照射装置およびブラシ洗浄ユニットを上方に配置し、その下方にロボットを配置し、スピン処理装置は上記ロボットの側方で、上記紫外線照射装置およびブラシ洗浄ユニットの斜め下方に配置したが、上記ロボットおよびスピン処理装置を、上記紫外線照射装置およびブラシ洗浄ユニットの真下に配置するようにしてもよいこと勿論である。その場合、ロ−ダ部とアンロ−ダ部も上下方向に配置すればよい。
【０１０３】
【発明の効果】
この発明によれば、洗浄ユニットとスピン処理装置とを上下二段に配置したから、複数の処理部を平面的に配置する場合に比べて装置を設置するに要する占有面積を小さくすることができ、それによってたとえばクリーンルーム内のスペースを有効に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施形態を示す全体構成図。
【図２】同じく第２の受け渡し機構を示す側面図。
【図３】同じくロボットの配置状態の側面図。
【図４】同じくロボットの斜視図。
【図５】同じくロボットへ清浄空気を導入する構成の説明図。
【図６】同じく可動ロ−ラユニットと固定ロ−ラユニットを示す断面図。
【符号の説明】
４…ロ−ダ部
５…液晶ガラス基板（被処理物）
６…第１の受け渡し手段
１５…紫外線照射装置（処理部）
２０…ブラシ洗浄ユニット（処理部）
３１…第２の受け渡し手段
３３…ロ−ラユニット（搬送機構）
３４…筐体（ドレンパン）
３７…シャワ−ノズル（液体供給手段）
３８…可動パイプ
３９…固定パイプ
４１…ロボット（処理部）
４２…第１のスピン処理装置（処理部）
４３…第２のスピン処理装置（処理部）
４４…ガイドレ−ル（ガイド部）
４５…リニアモ−タ
５３ａ、５３ｂ…カバ−体
６２…ノズル体
７３…アンロ−ダ部
【発明の属する技術分野】
この発明は液晶用ガラス基板や半導体ウエハなどの被処理物を複数の処理部によって順次処理する処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
たとえば、液晶用ガラス基板や半導体ウエハなどの被処理物に回路パタ−ンを形成する製造工程においては、その被処理物に対して種々の処理を行うことが要求され、その処理の１つに上記被処理物を高い清浄度で洗浄することが要求される工程がある。
【０００３】
被処理物の洗浄には、その被処理物に紫外線を照射し有機物を分解して除去する紫外線照射手段、搬送される被処理物に薬液などを吹き付けながらブラシで洗浄するブラシ洗浄手段、被処理物をテ−ブルに保持して回転させながら薬液などを吹き付けるスピン洗浄手段など、種々の洗浄手段（処理部）が知られており、複数の洗浄手段を用いて被処理物を洗浄処理する場合には、それらの洗浄手段に対して被処理物を搬入、搬出処理する搬送手段（処理部）も設けられる。
【０００４】
被処理物の清浄度を高めるためには、上述した複数の洗浄手段のうち、できるだけ多くの洗浄手段によって被処理物を洗浄するようにしている。その場合、ユニット化された各洗浄手段をクリ−ンル−ムに平面的に並設し、洗浄する被処理物を複数の洗浄手段に対して搬送手段で順次搬入、搬出するということが行なわれている。
【０００５】
しかしながら、複数の洗浄手段や上記搬送手段を平面的に配置すると、クリ−ンル−ムにおいて各洗浄手段や搬送手段が占めるスペ−スが大きくなるということがあった。クリ−ンル−ムにおいてはスペ−スをできるだけ有効に活用することが要求されている。したがって、被処理物を洗浄する場合、複数の洗浄手段や搬送手段が占有するスペ−スを小さくすることが望まれている。
【０００６】
上記被処理物を並設された洗浄手段間で搬送するには、その洗浄手段における洗浄処理が連続的に行なえる場合にはコンベアによって連続搬送すればよい。しかしながら、洗浄手段における洗浄処理が、たとえばスピン洗浄などのように連続的に行なえない場合には、上記被処理物を処理部の１つである上述した搬送手段を構成するロボット装置によって搬送するということが行なわれている。
【０００７】
搬送手段としてロボット装置を用いると、このロボット装置を並設された洗浄手段に沿って走行させるということが行なわれる。その場合、上記ロボット装置の走行範囲にわたって軌道を設けるようにしている。
【０００８】
しかしながら、上記ロボット装置によって洗浄された被処理物を搬入、搬出すると、被処理物から滴下する洗浄液が上記軌道に滴下するということがある。洗浄液としては純水以外にたとえば酸性度の高い薬液などが用いられることがある。そのため、被処理物から滴下した薬液が軌道を腐食させたり、上記ロボット装置を制御するためのケ−ブルを損傷させるなどのことがあった。
【０００９】
さらに、ロボット装置によって被処理物を所定の洗浄手段に搬入する場合、その洗浄手段での被処理物の洗浄が終了するまで、前工程で洗浄された被処理物を保持して待機しなければならないことがある。その場合、待機時間が長くなると、前工程で上記被処理物に付着した洗浄液が乾燥し、その被処理物に染みなどが付いてしまうということもあった。
【００１０】
なお、上述したスペ−スの問題は被処理物を洗浄処理する場合だけに発生するものでなく、種々の工程でも問題になる。たとえば被処理物に対してレジストを塗布する場合には、塗布装置、加熱装置、予備加熱装置などの複数の処理部を設けることになるから、同様の問題が発生することになる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
このように、従来は被処理物を複数の処理部で処理する場合、その複数の処理部を平面的に配置していたので、配置スペ−スが大きくなるということがあり、とくにクリ−ンル−ムにおいて配置スペ−スが大きくなるとそのクリ−ンル−ムの有効活用が阻害される。
【００１２】
複数の処理部間における被処理物の受け渡しを行う手段がロボット装置で、そのロボット装置を並設された処理部に沿って走行させる場合、その軌道やロボット装置を制御するためのケ−ブルなどに洗浄液を滴下させ、これらを早期に損傷させるということがある。
【００１３】
さらに、ロボット装置がつぎの処理部に供給する被処理物を保持した状態で待機すると、たとえばその被処理物が前工程で洗浄された場合、その被処理物に付着した洗浄液が乾燥して染みなどができるということもある。
【００１４】
この発明の目的は、複数の処理部を少ないスペ−スに設置できるようにした処理装置を提供することにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
この発明は、被処理物を処理するための処理装置において、
二列に並設された複数の処理ユニットと、
一方の列の処理ユニットの上部に配置された洗浄ユニット及び下部に配置された搬入搬出機構と、
上記洗浄ユニットに未処理の被処理物を供給する第１の受け渡し手段と、
上記洗浄ユニットで洗浄処理された被洗浄物を受けて上記搬入搬出機構に受け渡す第２の受け渡し手段と、
上記一方の列の処理ユニットと隣り合う他方の列の処理ユニットの下部に配置され上記第２の受け渡し手段から被処理物を受けた上記搬入搬出機構によってその被処理物が搬入及び搬出されるスピン処理装置と
を具備したことを特徴とする処理装置にある。
【００１８】
一方の列の処理ユニットの下部の一端には第１の受け渡し手段によって上記洗浄ユニットに供給される未処理の被処理物を収容したローダ部が設けられ、他方の列の処理ユニットの下部の一端には上記スピン処理装置によって処理されて上記搬入搬出機構によって取り出された被処理物を格納するアンローダ部が上記ローダ部と並んで設けられていることが好ましい。
【００１９】
上記第１の受け渡し手段と第２の受け渡し手段は、それぞれ上下方向に駆動されるローラユニットに回転駆動されるローラを備えていることが好ましい。
【００２０】
複数のスピン処理装置が直列に設けられていることが好ましい。
【００２１】
上記第２の受け渡し手段は、上記ローラユニットによって搬送される被処理物に向けて乾燥防止用の液体を供給する液体供給手段と、上記ローラユニットの下面側に設けられ上記液体供給手段から供給された液体を集積するとともに上記ローラユニットと一体的に上下駆動されるドレンパンと、このドレンパンに接続されドレンパンに集積された液体を排出する可動パイプと、この可動パイプがスライド自在に挿入され可動パイプから排出される液体が導入される固定パイプとからなることが好ましい。
【００２２】
上記洗浄ユニットの搬出側には所定の高さで配置されるとともにその洗浄ユニットから搬出された被処理物を受ける固定式ロ−ラユニットが設けられ、
上記第２の受け渡し手段は、上下方向に駆動されるとともに上昇位置で上記固定式ロ−ラユニットに搬出された被処理物を受けて下降する可動式ロ−ラユニットからなり、
上記可動式ロ−ラユニットが上昇したときに隣り合う上記固定式ロ−ラユニットと可動式ロ−ラユニットとの一側には、各ロ−ラユニットの内方に向かって低く傾斜した傾斜部を有する第１の防水カバ−と第２の防水カバ−とが設けられ、上記可動式ローラユニットに設けられた第２の防水カバ−の傾斜部は、この可動式ローラユニットが上昇したときに上記固定式ロ−ラユニットの防水カバ−の傾斜部の下方に位置することが好ましい。
【００２３】
上記搬入搬出機構は、その移動方向に沿って設けられたガイド部と、このガイド部と平行かつ所定の間隔を介して設けられた駆動装置と、上記ガイド部と駆動装置との間に配置されるとともにこれらガイド部と駆動装置とによって走行自在に支持されかつ駆動装置によってその走行方向に沿って駆動されるロボットと、このロボットの走行方向両側に沿って上記ガイド部と駆動装置とを覆う状態で設けられたカバー体とからなることが好ましい。
【００２４】
上記搬入搬出機構はロボットを有し、このロボットは、複数のリンクを回動自在に連結するとともに先端に被処理物を保持するためのセッタが設けられて伸縮駆動される第１のアーム体と第２のアーム体とを備え、
上記第１のアーム体のセッタは、上記第２のアーム体のセッタよりも上方に位置するとともに、この第２のアーム対のセッタにはここに保持された被処理物に向けて液体を噴射するノズル体が設けられていることが好ましい。
【００２５】
上記他方の列の処理ユニットの上部には上記スピン処理装置に清浄空気を導入するクリーンユニットが設けられ、このクリーンユニットからの清浄空気の一部はガイド体によって上記一方の列の下部に配置された上記搬入搬出機構に導かれることが好ましい。
【００２６】
この発明によれば、洗浄ユニットとスピン処理装置とを上下二段に配置したことで、平面的に配置する場合に比べて占有面積を小さくすることができる。
【００３４】
【発明の実施形態】
以下、この発明の一実施形態を図面を参照して説明する。
【００３５】
図１に示すこの発明の処理装置は被洗浄物としての液晶用ガラス基板を洗浄処理するための洗浄処理装置１を示す。この洗浄処理装置１は同図に鎖線で示す複数の処理ユニット、この実施形態では第１乃至第５の処理ユニット１ａ〜１ｅ有し、第１乃至第３の処理ユニット１ａ〜１ｃと、第４、第５の処理ユニット１ｄ、１ｅが二列に並設されている。なお、図中２は電装ユニットである。
【００３６】
上記第１の処理ユニット１ａ内には架台３上に設置されたロ−ダ部４を有する。このロ−ダ部４には複数の液晶用ガラス基板５が積層保持されていて、上記架台３に設けられた図示しない搬出機構によって液晶用ガラス基板５が下方から順次一枚ずつ搬出されるようになっている。
【００３７】
上記ロ−ダ部４から搬出された液晶用ガラス基板５は第１の受け渡し手段としての第１の受け渡し機構６によって第２の処理ユニット１ｂに送り込まれるようになっている。上記第１の受け渡し機構６は垂直に立設された支柱７を有する。この支柱７にはロ−ラユニット８が図示しない駆動源によって上下駆動自在に設けられている。このロ−ラユニット８はフレ−ム９を有し、このフレ−ム９には複数のロ−ラ１１が軸線を平行にして回転自在に架設されている。フレ−ム９の一側には上記ロ−ラ１１を回転駆動するための駆動源１２が設けられている。
【００３８】
上記ロ−ラユニット８は、その上面を上記ロ−ダ部４から搬出される液晶用ガラス基板５と同じ高さに下降して待機している。上記ロ−ダ部４から搬出された液晶用ガラス基板５は上記ロ−ラユニット８上に供給される。液晶用ガラス基板５を受けたロ−ラユニット８は上昇し、第２の処理ユニット１ｂ内に所定の高さで設けられた紫外線照射装置１５に液晶用ガラス基板５を供給する。
【００３９】
上記紫外線照射装置１５は一側に供給口１６が形成されていて、上記ロ−ラユニット８はその上面に載置された液晶用ガラス基板５が上記供給口１６と同じ高さになる位置まで上昇する。ついで、ロ−ラ１１が駆動源１２によって回転駆動されることで、上記液晶用ガラス基板５が上記紫外線照射装置１５内へ供給される。
【００４０】
上記紫外線照射装置１５は、詳細は図示しないが、その内部に、液晶用ガラス基板５を搬送する搬送ロ−ラおよびこの搬送ロ−ラによって搬送される液晶用ガラス基板５に紫外線を照射する紫外線ランプを有し、紫外線によって照射されることで、液晶用ガラス基板５に付着した有機物が分解除去されるようになっている。
【００４１】
上記第２の処理ユニット１ｂには、上記紫外線照射装置１５と隣接しかつ同じ高さでブラシ洗浄ユニット２０が配置されていて、この内部には上記紫外線照射装置１５で処理された液晶用ガラス基板５を連続して搬送する図示しない搬送手段が設けられている。
【００４２】
上記ブラシ洗浄ユニット２０は、一側に上記液晶用ガラス基板５が供給される供給口２１が形成されるとともにその内部には不活性ガスが供給されて内部雰囲気が中性に維持されるニュ−トラル室２２と、このニュ−トラル室２２を通過した液晶用ガラス基板５に薬液などの洗浄液を吹き付けながらブラシ洗浄するブラシ洗浄室２３と、このブラシ洗浄室２３で洗浄された液晶用ガラス基板５を純水でシャワ−洗浄するシャワ−室２４とが順次並設されている。このシャワ−室２４にはシャワ−洗浄された液晶用ガラス基板５が搬出される図示しない搬出口が形成されている。
【００４３】
上記シャワ−室２４の搬出口から搬出された液晶用ガラス基板５は、受け渡し用ロ−ラユニット３０（固定式ロ−ラユニット）を介して上記第１の受け渡し機構６とほぼ同じ構成の第２の受け渡し手段としての第２の受け渡し機構３１によって受け取られる。この第２の受け渡し機構３１は支柱３２を有する。この支柱３２には可動式ロ−ラユニット３３が図示しない駆動源によって上下駆動自在に設けられている。この可動式ロ−ラユニット３３は上面が開口した有底状の筐体３４（ドレンパン）を有し、この筐体３４には複数のロ−ラ３５が軸線を平行にして回転自在に架設されている。上記筐体３４の一側には駆動源３４ａ（図２に示す）が設けられ、この駆動源によって上記ロ−ラ３５が回転駆動されるようになっている。
【００４４】
上記可動式ロ−ラユニット３３はその上面を上記シャワ−室２４の搬出口から送り出される液晶用ガラス基板５とほぼ同じ高さに上昇して待機している。上記シャワ−室２４から搬出された液晶用ガラス基板５を上記可動式ロ−ラユニット３３が受けると、この可動式ロ−ラユニット３３は下降する。
【００４５】
可動式ロ−ラユニット３３に載置された液晶用ガラス基板５はロボット装置である搬入搬出機構４０（処理部の１つである）を構成するロボット４１によって取り出され、上記第４の処理ユニット１ｄに並設された第１のスピン処理装置４２と第２のスピン処理装置４３のどちらか一方に供給される。
【００４６】
上記第２の受け渡し機構３１の可動式ロ−ラユニット３３に受け渡された液晶用ガラス基板５は、上記搬入搬出機構４０のロボット４１に受け渡される前に乾燥すると、染みなどができるから、それを防止するために乾燥防止用の液体として純水が散布される。
【００４７】
つまり、可動式ロ−ラユニット３３は図２に示すようにドレンパンとしての上述した有底箱状の筐体３４を有し、この筐体３４の上部両側にはパイプ状のシャワ−ノズル３７が配置されている。各シャワ−ノズル３７からは上記可動式ロ−ラユニット３３に保持された液晶用ガラス基板５に向けて純水が噴射されるようになっている。
【００４８】
上記筐体３４の底部には可動パイプ３８の上端が接続されている。この可動パイプ３８は垂設され、これよりも大径な固定パイプ３９にスライド自在に挿通されている。この固定パイプ３９は中途部が第２の受け渡し機構３１の架台３１ａに固定され、下端部は図示しない廃液部に連通している。それによって、可動式ロ−ラユニット３３に保持された液晶用ガラス基板５に向けて噴射された純水はユニット本体３６から可動パイプ３８および固定パイプ３９を通って排出されるようになっている。
【００４９】
ユニット本体３６に可動パイプ３８を接続し、この可動パイプ３８を固定パイプ３９に挿通したことで、可動式ロ−ラユニット３３が上下動しても、ユニット本体３６からのドレンの排出を確実に行うことができる。
【００５０】
すなわち、通常、可動部からドレンを排出する場合、可動部の動きに対応できるようにするため、フレキシブルチュ−ブが用いられる。その場合、フレキシブルチュ−ブは可動部が上昇できる長さに設定されているから、下降したときには屈曲して側方へ突出する。そのため、上記フレキシブルチュ−ブを側方へ屈曲させるためのスペ−スを確保しなければならなかったり、可動部の上下動によってフレキシブルチュ−ブが屈曲を繰り返すことで、その屈曲部分が早期に損傷するということがあった。
【００５１】
しかしながら、この発明では、フレキシブルチュ−ブを用いず、ユニット本体３６に可動パイプ３８を接続し、この可動パイプ３８を固定パイプ３９にスライド自在に挿通した。そのため、ユニット本体３６の上下動によって可動パイプ３８が固定パイプ３９内をスライドするから、固定パイプ３９を設置するに必要なスペ−スを確保するだけですみ、しかもフレキシブルチュ−ブのように屈曲により早期に損傷するということもない。
【００５２】
図６に示すように、上記受け渡し用ロ−ラユニット３０は、上記可動式ロ−ラユニット３３と同様、筐体１３１を有する。この筐体１３１には、中心部に向かって低く傾斜した底部の中心部に排液管１３２が設けられ、対向する一対の側壁間には複数のロ−ラ１３３が軸線を平行にして所定間隔で回転自在に架設されている。このロ−ラ１３３は図示しない駆動源によって回転駆動されるようになっている。
【００５３】
したがって、上記シャワ−室２４から上記受け渡し用ロ−ラユニット３０のロ−ラ１３３上に搬出された液晶用ガラス基板５は、そのロ−ラ１３３が回転駆動されることで、上記可動式ロ−ラユニット３３のロ−ラ３５上に受け渡される。
【００５４】
上記可動式ロ−ラユニット３３が上昇位置にあるときに隣り合う、上記受け渡し用ロ−ラユニット３０と上記可動式ロ−ラユニット３３の筐体１３１，３４の側壁には、それぞれ第１の防水カバ−１３４と第２の防水カバ−１３５とが設けられている。
【００５５】
各防水カバ−１３４、１３５は垂直部１３４ａ、１３５ａと、傾斜部１３４ｂ、１３５ｂとを有し、垂直部１３４ａ、１３５ａの下端部が上記側壁の内面にスペ−サ１３６を介して取付けられている。それによって、各防水カバ−１３４、１３５の傾斜部１３４ｂ、１３５ｂは各筐体１３１、３４の側壁から外方に向かって突出するとともに、各筐体１３１、３４の内方に向かって低く傾斜している。
【００５６】
さらに、可動式ロ−ラユニット３３が上昇した状態において、液晶用ガラス基板５の搬送方向上流側となる受け渡しロ−ラユニット３０に設けられた第１の防止カバ−１３４の傾斜部１３４ｂは、可動式ロ−ラユニット３３に設けられた第２の防水カバ−１３５の上方に重合位置する用になっている。
【００５７】
それによって、シャワ−室２４で洗浄された液晶用ガラス基板５が受け渡し用ロ−ラユニット３０から可動式ロ−ラユニット３３へ受け渡される場合、そのガラス基板５から滴下する洗浄液は各防水カバ−１３４、１３５の傾斜部１３４ｂ、１３５ｂに滴下し、その傾斜に沿って各筐体１３１、３４内へ流入する。そのため、液晶用ガラス基板５から滴下する洗浄液が周囲に飛散するのが防止される。
【００５８】
しかも、一対の防水カバ−１３４、１３５の傾斜部１３４ｂ、１３５ｂは重合しているから、洗浄液が各ロ−ラユニット３０、３３の隙間から飛散するということもない。
【００５９】
さらに、洗浄液が仮に防水カバ−１３４、１３５の下面に付着し、傾斜部１３４ｂ、１３５ｂから垂直部１３４ａ、１３５ａへと流れても、垂直部１３４ａ、１３５ａの下端はスペ−サ１３６を介して筐体３４、１３１の側壁内面に取着されている。そのため、防水カバ−１３４、１３５の下面に沿って流れた洗浄液が筐体１３１、３４の外部に滴下するということもない。
【００６０】
上記ロボット４１は並設された複数、この実施形態では一対のスピン処理装置４２、４３の側方で、上記紫外線照射装置１５とブラシ洗浄装置２０の下方、つまり図５に示すように第２の処理ユニット１ｂに、上記第４の処理ユニット１ｄに配置された上記一対のスピン処理装置４２、４３の並設方向に沿って移動自在に設けられている。すなわち、図３に示すように上記スピン処理装置４２、４３の側方にはガイド部を形成するガイドレ−ル４４およびこのガイドレ−ル４４と所定間隔で平行に離間して駆動装置としてのリニアモ−タ４５が設けられている。
【００６１】
上記ガイドレ−ル４４にはスライダ４６がスライド自在に設けられ、このスライダ４６の上面には第１の水平部材４７が設けられている。この第１の水平部材４７には第１の垂直部材４８が垂設されている。
【００６２】
上記リニアモ−タ４５は固定部４５ａと、この固定部４５ａに沿って駆動される可動部４５ｂとからなり、この可動部４５ｂには第２の水平部材４９が取着されている。この第２の水平部材４７には第２の垂直部材５１が垂設されている。
【００６３】
上記第１の垂直部材４８と第２の垂直部材５１との下端間には載置板５２が水平に架設されていて、この載置板５２上に上記ロボット４１が設置固定されている。このロボット４１は柱状の本体部４１ａを有し、この本体部４１ａは一対の垂直部材４８、４９の間隔よりも小さな径寸法に形成されている。
【００６４】
上記ガイドレ−ル４４とリニアモ−タ４５の固定部４５ａとはそれぞれ耐蝕性の高い金属や合成樹脂等の材料からなるカバ−体５３ａ、５３ｂによって覆われている。
【００６５】
各カバ−体５３ａ、５３ｂは上端が上記ロボット４１の走行方向に沿って設けられたフレ−ム５４に固定され、中途部がロボット４１に向かって低く傾斜し、かつそれぞれが上記ガイドレ−ル４４とリニアモ−タ４５の固定部４５ａを覆い、下端部は各垂直部材４８、５１とロボット４１との間に挿入されている。
【００６６】
上記一対のカバ−体５３ａ、５３ｂの下端側には、上記ロボット４１の走行範囲の全長にわたって耐蝕性の高い材料からなるドレンパン５５が設けられている。このドレンパン５５には、後述するように上記ロボット４１からカバ−体５３ａ、５３ｂに滴下したドレンが集積されるようになっている。
【００６７】
上記ロボット４１は図４に示すようにツインア−ムロボットで、その本体部４１ａ内には図示しない駆動源が設けられている。上記本体部４１ａの上面には第１のア−ム体５６と第２のア−ム体５７とが設けられている。第１のア−ム体５６は、第１のリンク５６ａと第２のリンク５６ｂとからなっており、第２のア−ム体５７は第３のリンク５７ａと第４のリンク５７ｂからなっており、第１のリンク５６ａと第３のリンク５７ａの一端が上記駆動源の駆動軸に連結されている。
【００６８】
第１のリンク５６ａの他端には第２のリンク５６ｂの一端が第１のリンクの回動に連動して回動するよう連結されている。各第３のリンク５７ａの他端には第４のリンク５７ｂの一端が第３のリンク５７ａの回動に連動して回動するように連結されている。第２のリンク５６ｂと第４のリンク５６ｂの他端にはそれぞれ第１のセッタ５６ｃと、第２のセッタ５７ｃの一端が第２のリンク５６ｂと第４のリンク５７ｂの回動に連動して回動するよう連結されている。
【００６９】
したがって、一対の第１、第２のア−ム体５６、５７は、第１のリンク５６ａと第３のリンク５７ａが回動されることで、第２のリンク５６ｂおよび第４のリンク５７ｂと、第１のセッタ５６ｃおよび第２のセッタ５７ｃとがそれぞれ連動し、伸縮運動するようになっている。さらに、第１、第２のア−ム体５６、５７は伸縮する方向を変えたり、上下駆動されるようになっている。図４は第１のア−ム体５６が縮小し、第２のア−ム体５７が伸長している状態を示している。
【００７０】
一対のア−ム体５６、５７が縮小したとき、第２のリンク５６ａと第３のリンク５７ａとが、また第１のセッタ５６ｃと第２のセッタ５７ｃとが夫々干渉するのを防止するため、これらは高さを違えて設けられている。この実施形態では第２のア−ム体５７が第１のア−ム体５６よりも低く設けられている。
【００７１】
第１のア−ム体５６はドライ状態にある液晶用ガラス基板５を専用に搬送し、第２のア−ム体５７はウエット状態にある液晶用ガラス基板５を専用に搬送するようになっている。
【００７２】
各ア−ム体５６、５７の第１のセッタ５６ｃと第２のセッタ５７ｃには所定の大きさの液晶用ガラス基板５を位置決め保持するための複数の保持部材６１が設けられている。また、第２のア−ム体５７の第２のセッタ５７ｃの基端部上面には一対のノズル体６２が設けられている。各ノズル体６２からは第２のセッタ５７ｃに保持された液晶用ガラス基板５が乾燥するのを防止するための液体としてたとえば純水が噴射されるようになっている。
【００７３】
つまり、ブラシ洗浄装置２０で洗浄されて第２の受け渡し機構３１に受け渡されたウエット状態にある液晶用ガラス基板５は第２のア−ム体５７の第２のセッタ５７ｃによって受け取られる。ついで、その液晶用ガラス基板５は第１あるいは第２のスピン処理装置４２、４３に供給される。その際、各スピン処理装置４２、４３はバッチ処理であるから、ウエット状態の液晶用ガラス基板５を供給する間、所定時間待機しなければならない。待機中には上記ノズル体６２から液晶用ガラス基板５に向けて純水が噴射される。それによって、ウエット状態にある液晶用ガラス基板５が乾燥するのが防止されるから、乾燥による染みなどができるのが防止される。
【００７４】
一対のスピン処理装置４２、４３は液晶用ガラス基板５に対して同じ処理を行うようになっている。つまり、液晶用ガラス基板５を保持して高速度で回転させるとともに、その上面に超音波振動が付与された薬液を薬液供給ノズル６５から供給して薬液洗浄したのち、純水を純水供給ノズル６６から供給してすすぎ洗浄する。ついで、液晶用ガラス基板５に薬液や純水を供給せずに高速回転させることで、乾燥処理する。
【００７５】
上記紫外線照射装置１５およびブラシ洗浄ユニット２０は液晶用ガラス基板５を連続的に処理する。それに対してスピン処理装置４２、４３による液晶用ガラス基板５の処理はバッチ処理である。そのため、液晶用ガラス基板５の流れが不連続となってタクトタイムが長くなる。
【００７６】
しかしながら、上述したごとく、液晶ガラス基板５に対して同じ処理を行う一対のスピン処理装置４２、４３を並設して設け、これらスピン処理装置に対してブラシ洗浄ユニット２０からの液晶ガラス基板５を交互に供給するようにした。そのため、１つのスピン処理装置で１枚の液晶ガラス基板５を順次処理する場合に比べ、洗浄処理装置１全体としてのタクトタイムを短くすることが可能となる。
【００７７】
各スピン処理装置４２、４３で乾燥処理されてドライ状態にある液晶ガラス基板５はロボット４１の第１のア−ム体５６の第１のセッタ５６ｃによって取り出され、第５の処理ユニット１ｅへ搬送される。
【００７８】
なお、ロボット４１による液晶ガラス基板５の各スピン処理装置４２、４３に対する着脱は、図１と図５に示すように第２の処理ユニット１ｂと第４の処理ユニット１ｄとを連通する開口部６３を介して行われる。この開口部６３は図示しないゲ−トによって開閉されるようにしてもよい。
【００７９】
上記ロボット４１は、ウエット状態にある液晶ガラス基板５を第２のア−ム体５７で受け渡し、洗浄処理が完了してドライ状態にある液晶ガラス基板５を第１のア−ム体５６で受け渡すようにしている。そのため、第１のア−ム体５６の第１のセッタ５６ｃにはウエット状態にある液晶ガラス基板５の汚れが付着するということがないから、上記第１のセッタ５６ｃで受け渡しする清浄な状態の液晶ガラス基板５がロボット４１での受け渡しによって汚損されることがない。
【００８０】
しかも、第１のア−ム体５６は第２のア−ム体の５７の上方に位置するから、第２のア−ム体５７の第２のセッタ５７ｃに保持されたウエット状態の液晶ガラス基板５から滴下する液体などによって第１のア−ム体５６の第１のセッタ５６ｃやここに保持された液晶ガラス基板５が汚されるということもない。
【００８１】
上記ロボット４１の第２のア−ム体５７がウエット状態にある液晶ガラス基板５を一対のスピン処理装置４２、４３のいずれか一方に供給する場合、リニアモ−タ４５によって駆動され、ガイドレ−ル４４に沿って走行する。その際、ウエット状態にある液晶ガラス基板５からは一対のカバ−体５３ａ、５３ｂの中間部上面に処理液などのドレンが滴下する。
【００８２】
上記カバ−体５３ａ、５３ｂの中間部はロボット４１に向かって低く傾斜しているから、カバ−体５３ａ、５３ｂの中間部に滴下した処理液は図３に矢印で示すようにその中間部から下端部を経てドレンパン５５に集積される。
【００８３】
つまり、ウエット状態の液晶ガラス基板５から滴下した処理液がロボット４１の走行をガイドするガイドレ−ル４４に滴下してこのガイドレ−ル４４を早期に腐食させたり、リニアモ−タ４５に滴下してこれを損傷させるなどのことが防止される。
【００８４】
上記第５の処理ユニット１ｅは図１に示すように複数のロ−ラからなる搬出部７１を有する。この搬出部７１の一端側には上記ロボット４１の第１のア−ム体５６の第１のセッタ５６ｃに保持された液晶ガラス基板５を受け取るプッシャ７２が上下動自在に設けられている。
【００８５】
上記プッシャ７２が上昇して第１のセッタ５６ｃから液晶ガラス基板５を受け取ると、下降してその液晶ガラス基板５を上記搬出部７１へ受け渡す。搬出部７１の他端にはアンロ−ダ部７３が配設されていて、上記搬出部７１を搬送されてきた液晶ガラス基板５はこのアンロ−ダ部７３に積層収容される。なお、洗浄装置１における液晶ガラス基板５の流れは図１に矢印で示す。
【００８６】
上記洗浄処理装置１はクリ−ンル−ムに設置されるとともに、各処理ユニット１ａ〜１ｅの上部外面には図５に示すようにクリ−ンユニット７５が設けられている。クリ−ンユニット７５はクリ−ンル−ム内の空気を清浄化して各処理ユニット１ａ〜１ｅへ導入する。
【００８７】
第２の処理ユニット１ｂにおいては、上記ロボット４１がブラシ洗浄ユニット２０の下方に配置されている。そのため、第２の処理ユニット１ｂの上部のクリ−ンユニット７５から供給された清浄空気はブラシ洗浄ユニット２０に遮られ、上記ロボット４１に保持された液晶ガラス基板５の清浄度を維持することが難しくなる。
【００８８】
そこで、上記第２の処理ユニット１ｂに並設された第４の処理ユニット１ｄの上部には、クリ−ンユニット７５からの清浄空気の一部を分流するための第１のガイド体７６が設けられている。同図に矢印で示すように第１のガイド体７６で分流された清浄空気は上記第４の処理ユニット１ｄと第２の処理ユニット１ｂとを連通する通孔７７へガイドされる。
【００８９】
第２の処理ユニット１ｂには上記通孔７７から流入した清浄空気を下方へ向かってガイドする第２のガイド体７８が設けられている。それによって、その清浄空気はロボット４１に向かって流れるから、このロボット４１に保持された液晶ガラス基板５の清浄度を維持することができる。
【００９０】
上記構成の洗浄処理装置１によれば、液晶ガラス基板５を処理するための処理部としての紫外線照射装置１５とブラシ洗浄ユニット２０とを上段に配置し、これらの下段に同じく処理部としてのロボット４１を配置した。
【００９１】
そのため、洗浄処理装置１全体としての幅寸法は、上記ロボット装置４０を紫外線照射装置１５とブラシ洗浄ユニット２０に対して横方向に並設した場合よりも小さくできるから、その分、クリ−ンル−ムを占有するスペ−スも小さくすることができる。
【００９２】
上記紫外線照射装置１５およびブラシ洗浄ユニット２０と、ロボット４１とを上下二段に配置するとともに、上段の紫外線照射装置１５の入口側には第１の受け渡し機構６を設け、ブラシ洗浄ユニット２０の出口側には第２の受け渡し機構３１を設けるようにした。
【００９３】
そのため、複数の処理部を上下二段に配置しても、液晶ガラス基板５のロ−ダ部４から紫外線照射装置１５への受け渡しやブラシ洗浄ユニット２０からロボット４１への受け渡しを確実に行うことが可能である。
【００９４】
上段に紫外線照射装置１５およびブラシ洗浄ユニット２０を配置し、下段にロボット４１を配置したことで、第２の処理ユニット１ｂの上部からのダウンフロ−が上段の処理部によって遮られる。
【００９５】
しかしながら、上記第２の処理ユニット１ｂに並設された第４の処理ユニット１ｄからのダウンフロ−の一部は、第１のガイド体７６によって分流され、第２、第４の処理ユニット１ｂ、１ｄを連通する通孔７７を通って第２のガイド体７８によりロボット４１に向かってガイドされる。
【００９６】
したがって、ロボット４１に保持された洗浄処理後の液晶ガラス基板５は第２の処理ユニット１ｂに隣接する第４の処理ユニット１ｄからの清浄空気によって清浄度が維持される。つまり、複数の処理部を上下二段に配置しても、下段に配置された処理部の清浄度をクリ−ンユニット７５からの清浄空気によって確実に維持することができる。
【００９７】
この発明は上記一実施形態に限定されず、種々変形可能である。たとえば、上記一実施形態では処理装置として洗浄処理装置を挙げたが、それ以外の処理を行う装置であっても、複数の処理部を有するものであれば、この発明を適用することができる。
【００９８】
たとえば被処理物としての半導体ウエハや液晶ガラス基板に回路パタ−ンを形成するために行われる現像処理、エッチング処理、薄膜形成処理などを行う処理部を備えた処理装置であってもよく、要は処理部の種類や組み合わせ、さらには被処理物の種類なども限定されるものでない。
【００９９】
さらに、上記一実施形態ではロ−ダ部に収容された被処理物を第１の受け渡し機構で上段の処理部に供給し、上段の最後の処理部で処理された被処理物を第２の受け渡し機構で下段の処理部に受け渡すようにしたが、処理部の配置状態によってはロ−ダ部の被処理物を第１の受け渡し機構によって下段の処理部に受け渡し、第２の受け渡し機構によって下段の処理部で処理された被処理物を上段の処理部に受け渡すようにしてもよい。その場合、ロ−ダ部と下段の処理部とが同じ高さであれば、第１の受け渡し機構を上下動自在な構成としなくてもよい。
【０１００】
また、一対のスピン処理装置を１つの処理ユニットに配置したが、別々の処理ユニットに配置するようにしてもよく、その点は処理部の大きさや処理ユニットの大きさなどによって設計変更できることである。
【０１０１】
また、上記一実施形態では、紫外線照射装置およびブラシ洗浄ユニットを上方に配置し、その下方にロボットを配置し、スピン処理装置は上記ロボットの側方で、上記紫外線照射装置およびブラシ洗浄ユニットの斜め下方に配置したが、上記ロボットおよびスピン処理装置を、上記紫外線照射装置およびブラシ洗浄ユニットの真下に配置するようにしてもよいこと勿論である。その場合、ロ−ダ部とアンロ−ダ部も上下方向に配置すればよい。
【０１０３】
【発明の効果】
この発明によれば、洗浄ユニットとスピン処理装置とを上下二段に配置したから、複数の処理部を平面的に配置する場合に比べて装置を設置するに要する占有面積を小さくすることができ、それによってたとえばクリーンルーム内のスペースを有効に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施形態を示す全体構成図。
【図２】同じく第２の受け渡し機構を示す側面図。
【図３】同じくロボットの配置状態の側面図。
【図４】同じくロボットの斜視図。
【図５】同じくロボットへ清浄空気を導入する構成の説明図。
【図６】同じく可動ロ−ラユニットと固定ロ−ラユニットを示す断面図。
【符号の説明】
４…ロ−ダ部
５…液晶ガラス基板（被処理物）
６…第１の受け渡し手段
１５…紫外線照射装置（処理部）
２０…ブラシ洗浄ユニット（処理部）
３１…第２の受け渡し手段
３３…ロ−ラユニット（搬送機構）
３４…筐体（ドレンパン）
３７…シャワ−ノズル（液体供給手段）
３８…可動パイプ
３９…固定パイプ
４１…ロボット（処理部）
４２…第１のスピン処理装置（処理部）
４３…第２のスピン処理装置（処理部）
４４…ガイドレ−ル（ガイド部）
４５…リニアモ−タ
５３ａ、５３ｂ…カバ−体
６２…ノズル体
７３…アンロ−ダ部
Claims (9)
- 被処理物を処理するための処理装置において、
二列に並設された複数の処理ユニットと、
一方の列の処理ユニットの上部に配置された洗浄ユニット及び下部に配置された搬入搬出機構と、
上記洗浄ユニットに未処理の被処理物を供給する第１の受け渡し手段と、
上記洗浄ユニットで洗浄処理された被洗浄物を受けて上記搬入搬出機構に受け渡す第２の受け渡し手段と、
上記一方の列の処理ユニットと隣り合う他方の列の処理ユニットの下部に配置され上記第２の受け渡し手段から被処理物を受けた上記搬入搬出機構によってその被処理物が搬入及び搬出されるスピン処理装置と
を具備したことを特徴とする処理装置。 - 一方の列の処理ユニットの下部の一端には第１の受け渡し手段によって上記洗浄ユニットに供給される未処理の被処理物を収容したローダ部が設けられ、他方の列の処理ユニットの下部の一端には上記スピン処理装置によって処理されて上記搬入搬出機構によって取り出された被処理物を格納するアンローダ部が上記ローダ部と並んで設けられていることを特徴とする請求項１記載の処理装置。
- 上記第１の受け渡し手段と第２の受け渡し手段は、それぞれ上下方向に駆動されるローラユニットに回転駆動されるローラを備えていることを特徴とする請求項１記載の処理装置。
- 複数のスピン処理装置が直列に設けられていることを特徴とする請求項１記載の処理装置。
- 上記第２の受け渡し手段は、上記ローラユニットによって搬送される被処理物に向けて乾燥防止用の液体を供給する液体供給手段と、上記ローラユニットの下面側に設けられ上記液体供給手段から供給された液体を集積するとともに上記ローラユニットと一体的に上下駆動されるドレンパンと、このドレンパンに接続されドレンパンに集積された液体を排出する可動パイプと、この可動パイプがスライド自在に挿入され可動パイプから排出される液体が導入される固定パイプとからなることを特徴とする請求項３記載の処理装置。
- 上記洗浄ユニットの搬出側には所定の高さで配置されるとともにその洗浄ユニットから搬出された被処理物を受ける固定式ロ−ラユニットが設けられ、
上記第２の受け渡し手段は、上下方向に駆動されるとともに上昇位置で上記固定式ロ−ラユニットに搬出された被処理物を受けて下降する可動式ロ−ラユニットからなり、
上記可動式ロ−ラユニットが上昇したときに隣り合う上記固定式ロ−ラユニットと可動式ロ−ラユニットとの一側には、各ロ−ラユニットの内方に向かって低く傾斜した傾斜部を有する第１の防水カバ−と第２の防水カバ−とが設けられ、上記可動式ローラユニットに設けられた第２の防水カバ−の傾斜部は、この可動式ローラユニットが上昇したときに上記固定式ロ−ラユニットの防水カバ−の傾斜部の下方に位置することを特徴とする請求項１記載の処理装置。 - 上記搬入搬出機構は、その移動方向に沿って設けられたガイド部と、このガイド部と平行かつ所定の間隔を介して設けられた駆動装置と、上記ガイド部と駆動装置との間に配置されるとともにこれらガイド部と駆動装置とによって走行自在に支持されかつ駆動装置によってその走行方向に沿って駆動されるロボットと、このロボットの走行方向両側に沿って上記ガイド部と駆動装置とを覆う状態で設けられたカバー体とからなることを特徴とする請求項１記載の処理装置。
- 上記搬入搬出機構はロボットを有し、このロボットは、複数のリンクを回動自在に連結するとともに先端に被処理物を保持するためのセッタが設けられて伸縮駆動される第１のアーム体と第２のアーム体とを備え、
上記第１のアーム体のセッタは、上記第２のアーム体のセッタよりも上方に位置するとともに、この第２のアーム対のセッタにはここに保持された被処理物に向けて液体を噴射するノズル体が設けられていることを特徴とする請求項１記載の処理装置。 - 上記他方の列の処理ユニットの上部には上記スピン処理装置に清浄空気を導入するクリーンユニットが設けられ、このクリーンユニットからの清浄空気の一部はガイド体によって上記一方の列の下部に配置された上記搬入搬出機構に導かれることを特徴とする請求項１記載の処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002105436A JP3999552B2 (ja) | 2002-04-08 | 2002-04-08 | 処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002105436A JP3999552B2 (ja) | 2002-04-08 | 2002-04-08 | 処理装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28837696A Division JP3360001B2 (ja) | 1996-10-30 | 1996-10-30 | 処理装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003037150A JP2003037150A (ja) | 2003-02-07 |
| JP2003037150A5 JP2003037150A5 (ja) | 2004-10-28 |
| JP3999552B2 true JP3999552B2 (ja) | 2007-10-31 |
Family
ID=19193802
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002105436A Expired - Fee Related JP3999552B2 (ja) | 2002-04-08 | 2002-04-08 | 処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3999552B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6919001B2 (en) * | 2000-05-01 | 2005-07-19 | Intevac, Inc. | Disk coating system |
| JP2006110896A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Asahi Matsushita Electric Works Ltd | 樹脂板加熱装置 |
| JP2015082570A (ja) * | 2013-10-22 | 2015-04-27 | 株式会社ディスコ | ウエーハ加工システム |
| JP6196534B2 (ja) * | 2013-11-08 | 2017-09-13 | 株式会社東京精密 | 半導体基板の研削装置 |
-
2002
- 2002-04-08 JP JP2002105436A patent/JP3999552B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2003037150A (ja) | 2003-02-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070515 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070711 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070807 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070809 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100817 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110817 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110817 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120817 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120817 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130817 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |