JP3013120B2 - 洗浄・乾燥装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は洗浄・乾燥装置に関す
るもので、更に詳細には、例えば半導体ウエハ等の被処
理体を洗浄処理室に搬入・搬出する搬送手段を洗浄した
後、乾燥する洗浄・乾燥装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体製造工程において、半導
体ウエハの表面に付着した薬液や不純物等を除去するた
めに洗浄処理装置が使用されている。この洗浄装置は、
半導体ウエハに対して、例えばアンモニア処理、水洗処
理、フッ酸処理等の各処理を順次施して半導体ウエハの
表面を清浄化するものである。

【０００３】そこで、従来では、アンモニア処理槽、水
洗処理槽、フッ酸処理槽等の各処理槽を配置する複数の
処理室を配列し、被処理体である半導体ウエハを搬送手
段にて載置保持して各処理室内外に搬入・搬出してい
る。

【０００４】ところで、この種の洗浄処理装置において
は、搬送手段が雰囲気の異なる処理室に対して半導体ウ
エハを搬入・搬出するため、搬送手段に前処理で扱った
薬品が付着したり、塵埃や不純物等が付着することがあ
り、これら薬品、不純物等によって次に搬送される半導
体ウエハが汚染され、半導体回路の電気的諸特性に悪影
響を及ぼすという問題がある。

【０００５】そのため、搬送手段に付着した処理液や塵
埃等を除去する手段として、洗浄ノズルと乾燥ノズルを
用いて搬送手段に付着した処理液や塵埃等を洗浄した
後、乾燥する洗浄・乾燥装置が使用されている。この洗
浄・乾燥装置は、一般に搬送手段の全長に見合った長さ
の管に多数の洗浄ノズルや乾燥ノズルを設けて、一度に
搬送手段の被処理体保持部全体を洗浄・乾燥するように
したものである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
この種の洗浄・乾燥装置においては、洗浄ノズル及び乾
燥ノズルを固定したまま洗浄・乾燥する方式であるた
め、同時に多数のノズルから洗浄液及び乾燥気体を噴射
させることになり、大流量の洗浄液や乾燥気体を消費す
ることになるばかりか、ノズルの占有スペースが大きく
なるので、装置が大型となるという問題があった。ま
た、搬送手段の全長に渡って洗浄ノズル及び乾燥ノズル
を配列することは製作上の困難が伴うと共に、均一な噴
射状態にすることが困難であるという問題もあった。

【０００７】この問題を解決する手段として、エアーシ
リンダ等の移動手段を用いてノズルを搬送手段と平行に
移動させることも考えられるが、この構造のものでは、
構造が複雑になると共に、移動手段の配置スペースが必
要になるため、装置の大型化は免れないばかりか、設備
費が嵩むという問題がある。

【０００８】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、少ない洗浄液及び乾燥気体の消費量で搬送手段を均
一に洗浄及び乾燥し、かつ構造が簡単で小型化が図れる
洗浄・乾燥装置を提供することを目的とするものであ
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の第１の洗浄・乾燥装置は、被処理体を保
持して所定の雰囲気に搬入・搬出する搬送手段における
被処理体の保持部を洗浄した後、乾燥する洗浄・乾燥装
置において、上記被処理体を間隔をおいて配置する複数
の保持溝からなる保持部を有する搬送手段と、上記搬送
手段の保持溝の上端開口部に向って洗浄液を噴射する洗
浄ノズルと、上記搬送手段の保持溝の上端開口部に向っ
て乾燥気体を噴射する乾燥ノズルと、上記洗浄ノズル及
び乾燥ノズルを支持すると共に、これら洗浄及び乾燥ノ
ズルを洗浄・乾燥位置と待機位置とに切換える位置切換
え手段と、上記洗浄ノズル及び乾燥ノズルを上記搬送手
段の保持部に対して平行に移動する平行移動手段とを具
備してなるものである。

【００１０】また、この発明の第２の洗浄・乾燥装置
は、請求項１記載の洗浄・乾燥装置において、上記乾燥
ノズルを、搬送手段における保持部の保持溝の両端開口
側に位置する少なくとも２つのノズル体にて形成すると
共に、これらノズル体に設けられる噴口同士を移動方向
に適宜間隔をおいて設けたことを特徴とするものであ
る。

【００１１】この場合、上記搬送手段の保持部を、棒状
部を有する二又状に形成すると共に、棒状部の断面を略
三角形状に形成し、この棒状部の外側から内側に向って
下り勾配のとなる三角形の一辺に上記保持溝を形成する
方が好ましい。また、上記乾燥ノズルの一方のノズル体
の噴口を上記保持溝の上端開口側に向って乾燥気体を噴
射するように配設すると共に、他方のノズル体の噴口よ
り移動方向に先行させて配設し、他方のノズル体の噴口
を上記保持溝の下端開口側に向って乾燥気体を噴射する
ように配設する方が好ましい。

【００１２】また、この発明において、少なくとも洗浄
ノズルと乾燥ノズルを具備するものであればよいが、好
ましくは洗浄ノズル及び乾燥ノズルの近接位置に、乾燥
用加熱手段を配設する方がよい。この場合、乾燥用加熱
手段として例えば赤外線ランプを使用することができ
る。

【００１３】また、上記位置切換え手段は洗浄ノズル及
び乾燥ノズルを洗浄・乾燥位置と待機位置とに切換え動
作させるものであれば、直線状に伸縮移動やスライドさ
せるものであってもよいが、好ましくは回転移動によっ
て位置切換えを行うものである方がよい。この位置切換
え手段として、例えば基端が枢着され、先端側に洗浄ノ
ズル及び乾燥ノズルを支持する切換えアームをモータに
よって回転移動させる構造とすることができる。

【００１４】また、上記平行移動手段は上記位置切換え
手段と独立して駆動するものであってもよいが、好まし
くは位置切換え手段と連動させて平行移動手段を設ける
方がよく、例えば位置切換え用アームの自由端側に連接
されて、位置切換え用アーム側の駆動源によって搬送手
段に沿って平行移動する四節回転連鎖リンク機構等にて
形成することができる。

【００１５】また、上記洗浄ノズル及び乾燥ノズルは搬
送手段における被処理体の保持部に向って洗浄液あるい
は乾燥気体を噴射するもので、洗浄液としては、例えば
イオン化されていない純水を使用することができ、ま
た、乾燥気体としては、窒素（Ｎ2 ）ガスあるいは清浄
なドライエア等を使用することができる。

【００１６】

【作用】上記のように構成されるこの発明の洗浄・乾燥
装置によれば、洗浄ノズル及び乾燥ノズルを支持する位
置切換え手段によって洗浄ノズル及び乾燥ノズルを洗浄
・乾燥位置と待機位置とに切換えることにより、搬送手
段の被処理体の搬送移動に邪魔となることがなく、かつ
占有スペースを小さくすることができる。しかも、平行
移動手段によって洗浄ノズル及び乾燥ノズルを搬送手段
の保持部に対して平行に移動すると共に、保持溝の上端
開口部に向って洗浄液及び乾燥空気を噴射するので、ノ
ズル部の構成を簡単にすることができると共に、洗浄液
及び乾燥気体の消費量を少なくすることができる。

【００１７】また、乾燥ノズルを、搬送手段に設けられ
た保持溝の両端開口側に位置する少なくとも２つのノズ
ル体にて形成すると共に、これらノズル体に設けられる
噴口同士を移動方向に適宜間隔をおいて設けることによ
り、搬送手段の保持溝の間隔に対応した洗浄及び乾燥を
均一かつ迅速に行うことができる。

【００１８】更に、洗浄ノズル及び乾燥ノズルの近接位
置に、乾燥用加熱手段を配設することにより、搬送手段
に乾燥気体を噴射すると同時に搬送手段を加熱するの
で、より一層迅速に乾燥することができる。

【００１９】

【実施例】以下にこの発明の実施例を図面に基いて詳細
に説明する。

【００２０】図１はこの発明の洗浄・乾燥装置を有する
半導体ウエハの洗浄装置の断面図、図２は洗浄・乾燥装
置の要部の概略斜視図が示されている。

【００２１】洗浄装置は、搬送手段である回転搬送アー
ム２を配設する水密性及び耐蝕性を有する容器１と、こ
の容器１の上部に取付けられて、回転搬送アーム２の先
端部の半導体ウエハ保持用のフォーク３に向って洗浄液
（純水）を噴射する洗浄ノズル１１及び乾燥気体（Ｎ2
ガス）を噴射する乾燥ノズル１２を有するこの発明の洗
浄・乾燥装置１０と、容器１の底部に設けられて、洗浄
に使用された排液を排出する処理液排出口４とを具備し
てなる。

【００２２】この場合、回転搬送アーム２は、容器１の
底部５に設けられた取付穴６にＯリング７を介して立設
されるアーム基部２ａの上部にそれぞれ回転自在にかつ
昇降自在に取付けられる複数のアーム体２ｂとからなる
アーム本体２ｃと、最上段のアーム体２ｂの先端部に取
付けられて複数枚の半導体ウエハを適宜間隔をおいて立
設保持する保持溝３ａを設けた棒状部を有する二又状の
フォーク３（保持部）とで構成されている。この場合、
フォーク３を構成する棒状部は、図９及び図１０に示す
ように、断面略三角形状に形成され、外側から内側に向
って下り勾配の三角形の一辺に沿って上記保持溝３ａが
互いに平行に形成されている。このように構成される回
転搬送アーム２の各構成部材すなわちアーム本体２ｃと
フォーク３は耐蝕性を有する塩化ビニル製部材にて形成
されている。

【００２３】容器１は回転搬送アーム２と同様に耐蝕性
を有する塩化ビニルにて形成されており、その底部５は
外周側が内周側より低い段状となっており、外周側の周
溝８の２箇所には処理液排出口４が設けられ、この処理
液排出口４から洗浄に供された洗浄液が排出されるよう
になっている。また、容器１の側方には半導体ウエハの
出し入れのための開口部９が設けられており、この開口
部９にはシャッター９ａが開閉可能に装着されている。
したがって、シャッター９ａを閉塞することにより、隣
接する処理室（図示せず）と遮断され、処理室内の雰囲
気が容器１内に流れ込まないようになっている。

【００２４】この発明の洗浄・乾燥装置１０は、洗浄ノ
ズル１１及び乾燥ノズル１２を支持すると共に、これら
洗浄及び乾燥ノズル１１，１２を洗浄・乾燥位置Ａと待
機位置Ｂとに切換える位置切換え手段１３と、洗浄及び
乾燥ノズル１１，１２を回転搬送アーム２のフォーク３
に対して平行に移動する平行移動手段１４とで主要部が
構成されている。

【００２５】この場合、位置切換え手段１３は、容器１
の上部側壁に枢着されて垂直方向に回転可能な切換えア
ーム１３ａと、この切換えアーム１３ａの枢着部側に装
着された切換え用プーリ１３ｂとの間に切換え用ベルト
１３ｃを介して連結する位置切換え用のモータ１３ｄと
で構成されている。

【００２６】平行移動手段１４は、切換えアーム１３ａ
の先端側に回転可能に枢着される中間アーム１４ａの先
端側に枢着される先端アーム１４ｂと、この先端アーム
１４ｂの先端側に枢着される洗浄及び乾燥ノズル１１，
１２の取付プレート１４ｃと、取付プレート１４ｃと平
行に位置すべく先端アーム１４ｂの枢着側に枢着される
短リンク１４ｄと、この短リンク１４ｄの先端側と取付
プレート１４ｃの先端側にそれぞれ枢着される連接リン
ク１４ｅとからなる四節回転連鎖のリンク機構１４ｆに
よって主要部が構成されている。この場合、図３及び図
４に示すように、切換えアーム１３ａの枢着部に装着さ
れた駆動側プーリ１４ｇ、中間アーム１４ａの枢着部に
回転可能に装着された中間プーリ１４ｈ及び先端アーム
１４ｂの枢着側に装着された先端アーム１４ｂと一体の
固定プーリ１４ｉにそれぞれタイミングベルト１４ｊ，
１４ｊが掛け渡され、また、切換えアーム１３ａの先端
側方に一端が枢着される揺動リンク１４ｋの他端が短リ
ンク１４ｄと連接リンク１４ｅの枢着部に枢着されて、
駆動側プーリ１４ｇが平行移動用モータ１４ｍによって
駆動されることによって取付プレート１４ｃに取付けら
れる洗浄及び乾燥ノズル１１，１２を回転搬送アーム２
のフォーク３に沿って平行に移動することができるよう
になっている。

【００２７】したがって、図５に示す待機位置Ｂの状態
において、切換え用モータ１３ｄを駆動すると、切換え
アーム１３ａが垂直状態となって洗浄・乾燥位置Ａに切
換わる。この状態において、平行移動用モータ１４ｍを
駆動させることによって、駆動側プーリ１４ｇが回転
し、タイミングベルト１４ｊ，１４ｊを介して中間アー
ム１４ａ及び先端アーム１４ｂが回転すると共に、リン
ク機構１４ｆ及び揺動リンク１４ｋが共働して回転運動
が直線運動に変換され、そして、取付プレート１４ｃに
取付けられる洗浄及び乾燥ノズル１１，１２を回転搬送
アーム２のフォーク３に沿って平行移動することができ
る（図３及び図４参照）。この移動は平行移動用モータ
１４ｍの回転を正逆させることによって往復の平行移動
となる。また、洗浄・乾燥後に待機位置Ｂに戻すには、
切換えアーム１３ａ、中間アーム１４ａ及び先端アーム
１４ｂを同一線上に重ねた状態で切換えアーム１３ａを
待機位置Ｂへ回転すればよい（図５参照）。

【００２８】なお、切換えアーム１３ａ、中間アーム１
４ａ及び先端アーム１４ｂはそれぞれステンレス鋼製部
材にて形成されており、各連接部にはパッキング等のシ
ール部材（図示せず）が介在されて、気密維持が行われ
ている。

【００２９】一方、洗浄及び乾燥ノズル１１，１２は、
図６及び図７に示すように、上記取付プレート１４ｃに
連結されるブラケット１５に固着されるノズルブロック
１６に装着されている。この場合、ノズルブロック１６
の下面の中間位置には中央乾燥ノズル体１２ａが装着さ
れ、この中央乾燥ノズル体１２ａの両側には洗浄ノズル
１１，１１が取付けられ、更にその外側には外側乾燥ノ
ズル体１２ｂが取付けられている。このように取付けら
れる洗浄及び乾燥ノズル１１，１２はそれぞれ噴口の向
きが調節可能に取付けられ、また、洗浄ノズル１１と外
側乾燥ノズル体１２ｂは水平方向に対して位置調整が可
能に取付けられている。ここで、中央乾燥ノズル体１２
ａの両側にそれぞれ洗浄ノズル１１と外側乾燥ノズル体
１２ｂとを配設した理由は、二又状のフォーク３を同時
に洗浄及び乾燥できるようにしたためである。なおこの
場合、中央乾燥ノズル体１２ａと外側乾燥ノズル体１２
ｂに設けられる多数の噴口１２ｃ同士は移動方向に適宜
間隔をおいて設けられており、例えば図８に示すよう
に、外側乾燥ノズル体１２ｂの噴口１２ｃが移動方向に
先行し、中央乾燥ノズル体１２ａの噴口１２ｃが移動方
向に後行した状態で、フォーク３に設けられた半導体ウ
エハの保持溝３ａの間隔ｐ（図９参照）に対応した間隔
ｐが設けられている。なお、各ノズル体１２ａ，１２ｂ
における噴口１２ｃ間の間隔はｐより狭く設定されてい
る。また、外側乾燥ノズル体１２ｂの噴口１２ｃはフォ
ーク３の保持溝３ａの上端側開口部に向って乾燥気体を
噴射し、中央乾燥ノズル体１２ａの噴口１２ｃは保持溝
３ａの下端側開口部に向って乾燥気体を噴射するように
取付けられている（図１０参照）。

【００３０】したがって、洗浄及び乾燥ノズル１１，１
２を図８の矢印Ｃの方向に移動して乾燥すると、まず、
外側乾燥ノズル体１２ｂから噴射される乾燥気体が保持
溝３ａの上端側開口部に噴射されて保持溝３ａに付着す
る液滴や塵埃等を下端側開口部に流し（図１０参
照）、次に、中央乾燥ノズル体１２ａから噴射される乾
燥気体によって保持溝３ａの下端側開口部に流された液
滴、塵埃等をフォーク３の下面側に流すので（図１０
参照）フォーク３に付着した液滴や塵埃を効率良く除去
し、乾燥を十分なものにすることができる。なおこの場
合、フォーク３の下端部を鋭角状にカットしておけば、
フォーク３の下面を流れる液滴が容器１の底部５へ落下
する虞れがない。なお、洗浄ノズル１１、中央乾燥ノズ
ル体１２ａ及び外側乾燥ノズル体１２ｂはそれぞれ耐蝕
性を有する部材、例えば塩化ビニル製部材にて形成され
ている。

【００３１】また、洗浄及び乾燥ノズル１１，１２を取
付けたノズルブロック１６を保持するブラケット１５の
側面には乾燥用加熱手段である赤外線ランプ１７が取付
られている。この赤外線ランプ１７はブラケット１５に
固着される反射筒体１７ａ内に配設されて、乾燥時にフ
ォーク３に向って赤外線を照射してフォーク３の乾燥を
促進し得るようになっている。

【００３２】なお、ノズルブロック１６の上部には配管
及び配線用のマニホルド１８が固着されており、このマ
ニホルド１８に設けられた各ノズルの供給口１９ａと容
器１の側壁上部に設けられた供給口１９ｂとがフレキシ
ブルチューブ等（図示せず）によって接続され、図示し
ない洗浄液供給源及び乾燥気体供給源から洗浄液及び乾
燥気体が洗浄及び乾燥ノズル１１，１２に供給されるよ
うになっている。

【００３３】次に、この発明の洗浄・乾燥装置の作動態
様について説明する。回転搬送アーム２のフォーク３を
洗浄する場合には、図１に実線で示すように、切換え用
モータ１３ｄを駆動させて切換えアーム１３ａを垂下さ
せる。そして、平行移動用モータ１４ｍを駆動させて洗
浄ノズル１１をフォーク３に沿って平行移動させると共
に、洗浄液供給源から洗浄用純水を供給し、洗浄ノズル
１１の噴口からフォーク３の全面に向けて純水を噴射し
て、フォーク３に付着した薬品、不純物等の大部分を除
去する。

【００３４】このようにして洗浄した後、洗浄液供給源
からの供給を停止し、そして、平行移動用モータ１４ｍ
を逆回転させて乾燥ノズル１２をフォーク３に沿って移
動させると共に、乾燥気体供給源から乾燥用Ｎ2 ガスを
供給し、乾燥ノズル１２の噴口１２ｃからフォーク３の
全面に向けてＮ2 ガスを噴射し、かつ赤外線ランプ１７
から赤外線をフォーク３に照射すると、洗浄によってフ
ォーク３に付着した液滴及び洗浄で除去しきれない薬品
や塵埃等を完全に除去して乾燥することができる。

【００３５】したがって、回転搬送アーム２を常に清浄
化された状態で半導体ウエハの搬送に供することができ
る。洗浄及び乾燥が終了した後、切換えアーム１３ａ、
中間アーム１４ａ及び先端アーム１４ｂを同一線上に重
ねた後に、切換え用モータ１３ｄを逆回転して切換えア
ーム１３ａを待機位置Ｂへ回転すると、洗浄及び乾燥ノ
ズル１１，１２は容器１の上部側方へ移動して、半導体
ウエハの搬入・搬出に支障をきたさない位置で待機す
る。なおこの場合、切換えアーム１３ａの一側端には樋
状の滴受け１１ａが取付けられており、洗浄及び乾燥ノ
ズル１１，１２が待機位置に移動した際に洗浄ノズル１
１から滴下する純水を受止めることができるようになっ
ている。

【００３６】上記のように構成されるこの発明の洗浄・
乾燥装置１０を有する容器１は、例えば、図１１に示す
ように、洗浄処理装置の１ユニットとして組込まれて、
半導体ウエハの洗浄処理に利用される。

【００３７】次に、洗浄処理装置について、図１１を参
照して説明する。

【００３８】図１１は、３つの洗浄処理ユニット２１，
２２，２３にて洗浄処理装置を構成した場合で、搬入側
の洗浄処理ユニット２１にはローダ２４が接続され、搬
出側の洗浄処理ユニット２３にはアンローダ２５が接続
されており、更に洗浄処理ユニット２１，２２間及び洗
浄処理ユニット２２，２３間に、３ユニットのいずれか
に含まれている処理室の一部を構成する水中ローダ２６
が配設されている。

【００３９】搬入側の洗浄処理ユニット２１は、中心位
置に回転搬送アーム２を配設する容器１が位置し、その
周囲で容器１の左隣及びローダ２４の正面にそれぞれア
ンモニア処理室２７及び水洗処理室２８が配設されてい
る。

【００４０】中央の洗浄処理ユニット２２は、中心位置
に回転搬送アーム２を配設する容器１が位置し、その周
囲の左右両側に水中ローダ２６を配設し、その間の前後
位置にフッ酸処理室２９、水洗オーバーフロー処理室３
０を配設してなる。

【００４１】また、搬出側の洗浄処理ユニット２３は、
中心位置に回転搬送アーム２を配設した容器１が位置
し、この容器１の周囲でアンローダ２５の正面側には水
洗ファイナルリンス処理室３１を配設し、容器１の右隣
に乾燥処理室３２を配設してなる。

【００４２】なお、容器１と各処理室とは開口部９によ
って連通されており、開口部９にはシャッター９ａが開
閉自在に配設されると共に、開口部９の上部にエアー吹
出口（図示せず）が設けられて、エアーカーテンが形成
されるようになっている。

【００４３】上記のように構成される洗浄処理装置にお
いて、ローダ２４に２５枚ずつ半導体ウエハが載置され
たキャリア３３が２つ搬送されてくると、オリフラ合せ
機構３４が動作して、キャリア３３内の半導体ウエハを
整列させる。次いで、突き上げ棒（図示せず）が上方に
作動して、キャリア３３をそのままに、半導体ウエハの
みを上方に取り出した後、突き上げ棒が互いに寄合って
５０枚の半導体ウエハを等間隔で位置させる。

【００４４】次に、回転搬送アーム２が作動して水平回
転し、かつローダ２４方向に伸びて先端のフォーク３を
突き上げ棒の下側に位置させる。そして、突き上げ棒が
下降し、フォーク３上に半導体ウエハが載置位置決めさ
れる。

【００４５】次いで、フォーク３上に半導体ウエハが載
置された状態で、回転搬送アーム２が水平回転し、かつ
伸縮してアンモニア処理室２７の開口部９から半導体ウ
エハをアンモニア処理室２７の処理槽２７ａの専用ボー
ト２７ｂ上に挿入位置させる。そして、回転搬送アーム
２がアンモニア処理室２７から外に出ると、開口部９の
シャッター９ａが閉じると共に、開口部上部のエアー吹
出口からエアーが吹き出されてエアーカーテンが形成さ
れて、アンモニア処理室２７内の雰囲気が外部に漏出す
るのを確実に防止するようになっている。そして、この
状態でアンモニア処理室２７内の半導体ウエハは洗浄処
理される。

【００４６】一方、アンモニア処理室２７から回転搬送
アーム２のフォーク３が容器１内に戻ってくると、切換
え用モータ１３ｄが作動して洗浄及び乾燥ノズル１１，
１２がフォーク３の上方位置に移動した後、平行移動用
モータ１４ｍが駆動して洗浄及び乾燥ノズル１１，１２
がフォーク３に沿って平行移動する。この際、洗浄液供
給源から純水が供給され、洗浄ノズル１１からフォーク
３の全面に向けて純水が噴射されて、フォーク３に付着
したアンモニア、その他の不純物等を除去する。洗浄に
供された純水は容器１の底部５に溜り、処理液排出口４
から外部に排出される。このようにして、所定時間洗浄
した後、洗浄液供給源からの供給を停止した後に、平行
移動用モータ１４ｍが逆回転して洗浄及び乾燥ノズル１
１，１２をフォーク３に沿って平行移動すると共に、乾
燥気体供給源からＮ2 ガスを供給し、乾燥ノズル１２の
噴口１２ｃからフォーク３の全面に向けてＮ2 ガスが噴
射されて、洗浄によって濡れたフォーク３を乾燥すると
共に、フォーク３に付着した液滴や塵埃等を除去する。
乾燥が終了した後、切換えアーム１３ａ、中間アーム１
４ａ及び先端アーム１４ｂが同一線上に重ねられた状態
で、切換え用モータ１３ｄが逆回転して洗浄・乾燥装置
１０は元の待機位置に復帰する。この場合、フォーク３
の洗浄と乾燥はアンモニア処理室２７内での処理時間
（約１０分）の待機中に行われる。

【００４７】そして、アンモニア処理室２７内での洗浄
が終了した後、上述の動作と逆の動作でボート２７ｂ上
の半導体ウエハを回転搬送アーム２のフォーク３上に載
置位置決めして、半導体ウエハをアンモニア処理室２７
外に取り出し、次の水洗処理室２８内へ半導体ウエハを
搬入する。そして、水洗処理室２８から戻ってきた回転
搬送アーム２のフォーク３は上述と同様に洗浄・乾燥装
置１０によって洗浄及び乾燥されて、次の半導体ウエハ
の新たな５０枚の半導体ウエハの搬送が可能となる。し
たがって、回転搬送アーム２は半導体ウエハの搬送後の
待機中に洗浄・乾燥されるため、半導体ウエハの洗浄処
理を連続的に効率良く行うことができる。また、回転搬
送アーム２が水密性及び耐蝕性を有する容器１内に配設
されているため、回転搬送アーム２の洗浄に使用される
排液が外部に飛散することなく、安全に排出することが
できる。

【００４８】なお、搬入側の洗浄処理ユニット２１によ
る洗浄が終了した半導体ウエハは搬入側の洗浄処理ユニ
ット２１と中央の洗浄処理ユニット２２との間の水中ロ
ーダ２６によって中央の洗浄処理ユニット２２に搬送さ
れ、中央の洗浄処理ユニット２２の容器１内に配設され
た回転搬送アーム２によって上述と同様に搬送される。
そして、半導体ウエハは、順次フッ酸処理室２９内での
洗浄処理、オーバーフロー処理室３０内での水洗オーバ
ーフロー処理が行われる。この中間の洗浄処理ユニット
による洗浄処理においても、容器１内に待機中の回転搬
送アーム２のフォーク３は洗浄・乾燥装置１０によって
上述と同様に洗浄、乾燥される。

【００４９】また、中央の洗浄処理ユニット２２での洗
浄処理が行われた半導体ウエハは、中央の洗浄処理ユニ
ット２２と搬出側の洗浄処理ユニット２３との間の水中
ローダ２６にて搬出側の洗浄処理ユニット２３に搬送さ
れる。そして、搬出側の洗浄処理ユニット２３の回転搬
送アーム２によって上述と同様に搬送されて、ファイナ
ルリンスが行われた後、乾燥処理が行われる。この搬出
側の洗浄処理ユニット２３による洗浄においても、上述
と同様に回転搬送アーム２のフォーク３は洗浄・乾燥装
置１０によって洗浄乾燥され、常に清浄化された状態で
半導体ウエハの搬送に供される。

【００５０】搬出側の洗浄処理ユニット２３にて洗浄処
理された半導体ウエハはアンローダ２５に搬送され、こ
のアンローダ２５にて半導体ウエハの２５枚ずつの分
割、オリフラ合せが行われ、そして、２つのキャリアに
載置されて搬出される。

【００５１】なお、上記実施例ではこの発明の洗浄・乾
燥装置が半導体ウエハの洗浄処理装置に使用される場合
について説明したが、必ずしも半導体ウエハの洗浄処理
装置のみに使用されるものではなく、その他の例えばＬ
ＣＤガラス基板等の洗浄処理装置にも適用できることは
勿論である。また、この発明の洗浄・乾燥装置は、洗浄
処理装置以外にもウエットエッチング装置その他の腐食
性ガス雰囲気やクリーン搬送装置にも適用することがで
きる。

【００５２】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明の洗浄
・乾燥装置によれば、上記のように構成されているの
で、以下のような効果が得られる。

【００５３】１）請求項１記載の洗浄・乾燥装置によれ
ば、洗浄及び乾燥ノズルを待機位置と洗浄・乾燥位置と
に切換え移動することができるので、装置の占有スペー
スを小さくすることができ、かつ搬送手段の搬送動作に
支障をきたすことがない。また、搬送手段に沿って洗浄
及び乾燥ノズルを平行移動させると共に、保持溝の上端
開口部に向って洗浄液及び乾燥空気を噴射するので、ノ
ズル部の構造を簡単にして小型にすることができると共
に、洗浄液及び乾燥気体の消費量を低減し、コストの低
廉化を図ることができる。

【００５４】２）請求項２及び３記載の洗浄・乾燥装置
によれば、搬送手段の被処理体の各保持溝に沿って洗浄
及び乾燥することができるので、洗浄及び乾燥作業を均
一に行うことができると共に、洗浄及び乾燥作業の能率
化を図ることができる。

【００５５】３）請求項４記載の洗浄・乾燥装置によれ
ば、洗浄及び乾燥ノズルの近接位置に乾燥用加熱手段を
配設するので、更に乾燥の均一化及び乾燥速度の短縮化
を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の洗浄・乾燥装置を示す断面図であ
る。

【図２】洗浄・乾燥装置の要部を示す概略斜視図であ
る。

【図３】洗浄・乾燥状態の一例を示す概略側面図であ
る。

【図４】洗浄・乾燥状態の別の一例を示す概略側面図で
ある。

【図５】待機状態を示す概略側面図である。

【図６】この発明における洗浄及び乾燥ノズルと乾燥用
加熱手段を示す側面図である。

【図７】図６の正面図である。

【図８】この発明における乾燥ノズルを示す概略底面図
である。

【図９】乾燥ノズルの乾燥状態を示す概略平面図であ
る。

【図１０】乾燥ノズルの乾燥状態を示す概略側面図であ
る。

【図１１】この発明の洗浄・乾燥装置を有する洗浄処理
装置の全体的構成を示す断面図である。

【符号の説明】

１ 容器 ２ 回転搬送アーム（搬送手段） ３ フォーク（保持部） １１ 洗浄ノズル １２ 乾燥ノズル １２ａ 中央乾燥ノズル体 １２ｂ 外側乾燥ノズル体 １２ｃ 噴口 １３ 位置切換え手段 １３ａ 切換えアーム １３ｄ 切換え用モータ １４ 平行移動手段 １４ａ 中間アーム １４ｂ 先端アーム １４ｆ リンク機構 １４ｇ 駆動側プーリ １４ｈ 中間プーリ １４ｉ 固定プーリ １４ｊ タイミングベルト １４ｋ 揺動リンク １４ｍ 平行移動用モータ １７ 赤外線ランプ（乾燥用加熱手段） Ａ 洗浄・乾燥位置 Ｂ 待機位置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−17959（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−84119（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−35742（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B08B 3/00 - 3/14

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理体を保持して所定の雰囲気に搬入
   ・搬出する搬送手段における被処理体の保持部を洗浄し
   た後、乾燥する洗浄・乾燥装置において、上記被処理体を間隔をおいて配置する複数の保持溝から
   なる保持部を有する搬送手段と、 上記搬送手段の保持溝の上端開口部に向って洗浄液を噴
   射する洗浄ノズルと、 上記搬送手段の保持溝の上端開口部に向って乾燥気体を
   噴射する乾燥ノズルと、 上記洗浄ノズル及び乾燥ノズルを支持すると共に、これ
   ら洗浄及び乾燥ノズルを洗浄・乾燥位置と待機位置とに
   切換える位置切換え手段と、 上記洗浄ノズル及び乾燥ノズルを上記搬送手段の保持部
   に対して平行に移動する平行移動手段とを具備してなる
   ことを特徴とする洗浄・乾燥装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載の洗浄・乾燥装置におい
   て、 上記乾燥ノズルを、搬送手段における保持部の保持溝の
   両端開口側に位置する少なくとも２つのノズル体にて形
   成すると共に、これらノズル体に設けられる噴口同士を
   移動方向に適宜間隔をおいて設けたことを特徴とする洗
   浄・乾燥装置。
3. 【請求項３】 請求項２記載の洗浄・乾燥装置におい
   て、 上記搬送手段の保持部を、棒状部を有する二又状に形成
   すると共に、棒状部の断面を略三角形状に形成し、この
   棒状部の外側から内側に向って下り勾配のとなる三角形
   の一辺に上記保持溝を形成し、 上記乾燥ノズルの一方のノズル体の噴口を上記保持溝の
   上端開口側に向って乾燥気体を噴射するように配設する
   と共に、他方のノズル体の噴口より移動方向に先行させ
   て配設し、他方のノズル体の噴口を上記保持溝の下端開
   口側に向って乾燥気体を噴射するように配設してなる、
   ことを特徴とする洗浄・乾燥装置。
4. 【請求項４】 請求項１又は２記載の洗浄・乾燥装置に
   おいて、 上記洗浄ノズル及び乾燥ノズルの近接位置に、乾燥用加
   熱手段を配設してなることを特徴とする洗浄・乾燥装
   置。